JP5089204B2 - 加熱装置 - Google Patents
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Description
λ=(13A+λc・D)/100
で表されるλの値が4ppm/K以上7.5ppm/K以下であることが好ましい。このλは、耐食層の平均的な熱膨張係数を意味し、このλの値が4ppm/K以上7.5ppm/K以下であることにより、耐食層がAlN基体としっかりと密着し、耐食層にクラックの発生がなくなる。したがって、λの値が4ppm/K以上7.5ppm/K以下となるように、フッ化物及び低熱膨張セラミックスの種類及び割合を調整して混合した耐食層とすることが好ましい。
2 基体
3 抵抗発熱体
11 耐食層
Claims (8)
- AlNを主成分とするセラミックスからなり、平面的な上面を有する基体と、
この基体の少なくとも上面を含む表面を覆って形成された耐食層とを備え、
この耐食層は、アルカリ土類元素のフッ化物及び希土類元素のフッ化物から選ばれるフッ化物を二種以上と、前記基体のAlNよりも熱膨張係数が低い低熱膨張セラミックス微粒子とを含むことを特徴とする加熱装置。 - 前記耐食層のフッ化物が、MgF2、CaF2、SrF2、YF3、LaF3及びCeF3から選ばれるフッ化物の2種以上の混合物であることを特徴とする請求項1に記載の加熱装置。
- 前記低熱膨張セラミックスが、コージェライト、黒鉛、ジルコン及びSiCから選ばれる1種又は2種以上の混合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の加熱装置。
- 前記耐食層の厚さが、10〜300μmである請求項1〜3のいずれか1項に記載の加熱装置。
- 前記耐食層は、フッ化物を20〜50体積%の割合で含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の加熱装置。
- 前記耐食層は、フッ化物の体積%をA(%)、低熱膨張セラミックス微粒子の熱膨張係数をλc(ppm/K)、低熱膨張セラミックス微粒子の体積%をD(%)としたとき、次式
λ=(13A+λc・D)/100
で表されるλの値が4ppm/K以上7.5ppm/K以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の加熱装置。 - 前記λの値が4ppm/K以上5.5ppm/K以下であることを特徴とする請求項6に記載の加熱装置。
- 平面的な上面を有する基体を用意し、
アルカリ土類元素のフッ化物及び希土類元素のフッ化物から選ばれるフッ化物を二種以上と、前記基体のAlNよりも熱膨張係数が低い低熱膨張セラミックス微粒子とを含む釉材を用意し、
この釉材を前記基体の少なくとも上面を含む表面に塗布し、不活性ガス中で加熱することを特徴とする加熱装置の製造方法。
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