JPH1116764A - 電子部品およびその製造方法 - Google Patents
電子部品およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH1116764A JPH1116764A JP9171426A JP17142697A JPH1116764A JP H1116764 A JPH1116764 A JP H1116764A JP 9171426 A JP9171426 A JP 9171426A JP 17142697 A JP17142697 A JP 17142697A JP H1116764 A JPH1116764 A JP H1116764A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- internal electrode
- electronic component
- conductor
- manufacturing
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 40
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 83
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 51
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 22
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 230000008961 swelling Effects 0.000 claims description 7
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 abstract description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 62
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 31
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 23
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 21
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 18
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 17
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 7
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/228—Terminals
- H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/42—Piezoelectric device making
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/43—Electric condenser making
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/43—Electric condenser making
- Y10T29/435—Solid dielectric type
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49169—Assembling electrical component directly to terminal or elongated conductor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
と外部電極とを接続するための積層焼結体の研磨工程の
削減、および、内部電極の薄層化に対応した外部電極と
の電気的接続性の向上、を図ることを目的とする。 【解決手段】 基体内に設けられた内部電極12の露出
端部側にのみ基体の焼成時に選択的に、内部電極12と
は異なる導体材料の蒸気を捕集させながら導体部13を
形成し、焼結体の側面へ膨出させることによって、外部
電極14との電気的接続を容易にさせている。
Description
品等に用いられる電子部品およびその製造方法に関す
る。
子部品は、図4のような構成を有しており、セラミック
層1と内部電極2とを交互に積層して積層成形体3を作
り、それを焼成することにより製造していた。
積層セラミック電子部品は、セラミック層1と内部電極
2との焼結収縮の差、あるいは、電極材料の蒸発によっ
て、焼成後、内部電極2の端面2aがセラミック層1の
端面1aから引っ込むことが多く、従って、積層焼結体
3aをそのままの状態で外部電極(図示せず)を塗布し
ようとすると、内部電極2との接続が不完全になり、所
望の電気性能が得られなくなるという課題があった。
層焼結体3aのセラミック層1の端面1aを研磨し、内
部電極2の端面2aを露出させてから外部電極を塗布す
る方法が用いられているが、製造工程が増え製造時間が
長くなり、製造原価が高くなるという課題があった。
2の厚みを薄くすればするほど、積層焼結体3aのセラ
ミック層1の端面1aを研磨して内部電極2の端面2a
を露出させても、露出面積が小さくなるため、内部電極
2と外部電極との接続が十分に確保できず、所望の電気
性能が得られなくなるとともに、積層数を増やすにも限
界があるという課題があった。
であり、焼成後の研磨工程をなくすとともに、内部電極
の薄層化が可能な電子部品およびその製造方法を実現す
ることを目的とする。
に、本発明の電子部品は、基体内に設けられた内部電極
の露出端部側にのみ選択的に、前記内部電極とは異なる
導体材料の蒸気を捕集して形成された導体部を設けた構
成を有しており、さらに、この導体部を介して、基体に
設けられた外部電極と接続されている構成を有してお
り、これにより、基体内に設けられた内部電極の露出端
部側に、異種の導体材料が捕集されながら内部電極の焼
結が進むことによって、内部電極の露出端部側に導体部
が形成され、膨出していくため、基体に設けられる外部
電極との接続が容易になる。
は、基体内に設けられた内部電極の露出端部側に、前記
基体の焼成時に前記露出端部側にのみ、前記内部電極と
は異なる導体材料の蒸気を捕集して形成された導体部を
設けた電子部品であり、この構成によれば、基体の焼成
時に基体内に設けられた内部電極の露出端部側から導体
部を膨出させることができるため、焼成後に基体側面を
研磨せずとも、他の電子部品や配線基板などとの電気的
接続性に優れた電子部品を得ることができるという作用
を有する。
に設けられた内部電極の側端部に、前記内部電極とは異
なる導体材料を含み、結晶成長により前記基体側面に膨
出した導体部を設けた電子部品であり、これにより、内
部電極の側端部から基体側面に導体部を膨出させること
ができるため、他の電子部品や配線基板との電気的接続
をより確実に行うことができるという作用を有する。
1または2において、内部電極がPdを主成分とし、異
種の導体材料がPtを主成分とすることを特徴とする電
子部品であり、この構成によれば、基体内に設けられた
Pdを主成分とする内部電極の露出端部側に、Ptを主
成分とする導体部を速やかに、かつ膨出させて形成する
ことができるため、焼成後に基体側面を研磨せずとも、
他の電子部品や配線基板などとの電気的接続性に優れた
電子部品を容易に得ることができるという作用を有す
る。
に設けられたPdを主成分とする内部電極の露出端部側
に、Ptを含む導体部を介して外部電極を設けた電子部
品であり、この構成によれば、基体内に設けられたPd
を主成分とする内部電極の露出端部側に、Ptを含む導
体部を速やかに、かつ膨出させて形成することができる
ため、焼成後に基体側面を研磨せずとも、内部電極と外
部電極との電気的接続性に優れた電子部品を容易に得る
ことができるという作用を有する。
1または2において、基体に設けられた外部電極と導体
部を介して接続されていることを特徴とする電子部品で
あり、この構成によれば、基体に設けられた内部電極の
露出端部側に導体部を膨出させることができるため、焼
成後に基体側面を研磨せずとも、内部電極と外部電極と
の電気的接続性に優れた電子部品を得ることができると
いう作用を有する。
4または5において、導体部が内部電極の露出端部側と
の接触面積よりも外部電極との接触面積の方が大きいこ
とを特徴とする電子部品であり、この構成によれば、よ
り内部電極と外部電極との電気的接続を確実にすること
ができるという作用を有する。
4または5において、外部電極が導体材料と樹脂とを主
成分とすることを特徴とする電子部品であり、この構成
によれば、内部電極と外部電極との電気的接続を確保し
つつ、安価な電子部品を簡単に得ることができるという
作用を有する。
極を有する基体を焼成する際に、内部電極の露出端部側
に選択的に捕集される蒸気を発生する材料とともに前記
基体を焼成することにより、前記内部電極の露出端部側
から前記基体側面に膨出する導体部を形成した電子部品
の製造方法であり、この方法によれば、基体を焼成する
過程で、内部電極の露出端部側に選択的に蒸気が捕集さ
れて導体部が形成され、基体側面から膨出するため焼成
後に基体側面を研磨せずとも、他の電子部品や配線基板
などとの電気的接続性に優れた電子部品を製造すること
ができるという作用を有する。
極を有する基体を焼成する際に、前記内部電極とは異な
る導体材料とともに前記基体を焼成することにより、前
記内部電極の露出端部側から前記基体側面に膨出する導
体部を形成した電子部品の製造方法であり、この方法に
よれば、請求項8と同様の作用を有する。
項8または9において、焼成後、焼結体に導体部との電
気的接続を図るための外部電極を形成することを特徴と
する電子部品の製造方法であり、この方法によれば、焼
成後に焼結体側面を研磨せずとも、内部電極と外部電極
との電気的接続性に優れた電子部品を歩留まり良く製造
することができるという作用を有する。
項10において、外部電極が導体材料と樹脂とを主成分
とすることを特徴とする電子部品の製造方法であり、こ
の方法によれば、焼成後に焼結体側面を研磨して外部電
極を高温で焼き付けなくとも、未研磨の焼結体側面に導
体材料と樹脂とを主成分とする外部電極を形成するだけ
で、内部電極と外部電極との電気的接続性の良好な電子
部品を安価に製造することができるという作用を有す
る。
項8または9において、内部電極の露出端部側に選択的
に捕集される蒸気を発生する材料または前記内部電極と
は異なる材料を粉末に担持させたことを特徴とする電子
部品の製造方法であり、この方法によれば、基体を焼成
する過程で、内部電極の露出端部側に形成される導体部
を速やかに、かつ均一に内部電極の露出端部側に供給す
ることができるとともに、焼成時の基体同志のひっつき
を防止することができるという作用を有する。
項8または9において、内部電極がPdを主成分とし、
前記内部電極の露出端部側に選択的に捕集される蒸気を
発生する材料または前記内部電極とは異なる材料がPt
を主成分とすることを特徴とする電子部品の製造方法で
あり、この方法によれば、Pdを主成分とする内部電極
の露出端部側に、Ptを主成分とする蒸気が効率良く捕
集されるため、導体部の形成を速やかに、かつ膨出しや
すくさせることができるという作用を有する。
項13において、焼成時の雰囲気を、大気中の酸素濃度
よりも高濃度の酸素雰囲気にすることを特徴とする電子
部品の製造方法であり、この方法によれば、基体を焼成
する過程で、Ptを主成分とする材料が大気中の酸素濃
度よりも高濃度の酸素雰囲気下では極めて速やかに蒸発
するため、Pdを主成分とする内部電極の露出端部側に
導体部を速やかに形成し、基体側面に膨出させることが
できるという作用を有する。
を主成分とする内部電極を有するセラミック成形体を脱
脂した後、Ptを主成分とする材料とともに耐熱容器中
で撹拌または回転しながら焼成することにより、前記内
部電極の露出端部側から前記セラミック成形体の側面に
膨出する導体部を形成した電子部品の製造方法であり、
この方法によれば、撹拌または回転によって焼成過程で
の熱的、雰囲気的な均一性が向上するため、Pdを主成
分とする内部電極の露出端部側での、Ptを主成分とす
る蒸気の捕集による導体部の形成をムラなく進ませるこ
とができるという作用を有する。
項15において、焼成後、焼結体に導体部との電気的接
続を図るための外部電極を形成することを特徴とする電
子部品の製造方法であり、この方法によれば、焼成後に
焼結体側面を研磨せずとも、内部電極と外部電極との電
気的接続性に優れた電子部品を歩留まりよく製造するこ
とができるという作用を有する。
項16において、外部電極が導体材料と樹脂とを主成分
とすることを特徴とする電子部品の製造方法であり、こ
の方法によれば、焼成後に焼結体側面を研磨して外部電
極を高温で焼き付けなくても、未研磨の焼結体側面に導
体材料と樹脂とを主成分とする外部電極を形成するだけ
で、内部電極と外部電極との電気的接続性の良好な電子
部品を安価に製造することができるという作用を有す
る。
項15において、Ptを主成分とする材料を粉末に担持
させたことを特徴とする電子部品の製造方法であり、こ
の方法によれば、セラミック成形体を焼成する過程で、
Ptを主成分とする材料が速やかに、かつ均一に蒸発
し、Pdを主成分とする内部電極の露出端部側に、Pt
を主成分とする蒸気がムラなく、素早く捕集されて、導
体部の形成が迅速、かつ均一に行なわれるとともに、焼
成時の焼結体同志のひっつきや、焼結体表面の損傷を抑
制することができるという作用を有する。
項15において、耐熱容器をPtを含む材料で構成した
ことを特徴とする電子部品の製造方法であり、この方法
によれば、耐熱容器がPtを主成分とする材料から構成
されているため、脱脂されたセラミック成形体だけを耐
熱容器に入れることにより、Pdを主成分とする内部電
極の露出端部側での、Ptを主成分とする蒸気の捕集に
よる導体部の形成を均一に進ませることができるという
作用を有する。
項15において、Ptを主成分とする材料が蒸発する温
度領域を含む温度領域で、撹拌または回転の操作を行う
ことを特徴とする電子部品の製造方法であり、この方法
によれば、撹拌または回転する温度領域をPtを主成分
とする材料が蒸発する温度領域としているため、セラミ
ック成形体の損傷を抑制することができるという作用を
有する。
項15において、脱脂後のセラミック成形体の機械的強
度が増加する温度領域で、撹拌または回転の操作を行う
ことを特徴とする電子部品の製造方法であり、この方法
によれば、撹拌または回転する温度領域を、脱脂後のセ
ラミック成形体の機械的強度が増加する温度領域として
いるため、セラミック成形体の損傷を確実に防ぐことが
できるという作用を有する。
項15において、焼成時の雰囲気を、大気中の酸素濃度
よりも高濃度の酸素雰囲気にすることを特徴とする電子
部品の製造方法であり、この方法によれば、セラミック
成形体を焼成する過程で、Ptを主成分とする材料が大
気中の酸素濃度よりも高濃度の酸素雰囲気下では極めて
速やかに蒸発するため、Pdを主成分とする内部電極の
側端部に導体部を速やかに形成し、セラミック成形体側
面に膨出させることができるという作用を有する。
項15において、耐熱容器に通気孔を設けたことを特徴
とする電子部品の製造方法であり、この方法によれば、
大気の流通によりPtを主成分とする材料の蒸発が加速
されるため、Pdを主成分とする内部電極の露出端部側
に、Ptを主成分とする蒸気が速やかに供給されること
から、導体部の形成を極めて迅速に行なうことができる
という作用を有する。
参照しながら説明する。 (実施の形態1)図1は実施の形態1における、積層セ
ラミックコンデンサの概略構成を示した断面図である。
図1において、11はセラミック層、12は内部電極、
13は内部電極の露出端部側に形成された導体部、14
は外部電極である。
は、まず、Pdペースト(内部電極12)をスクリーン
印刷した誘電体グリーンシート(セラミック層11)を
積層した後、圧着により積層成形体を作製し、所望の大
きさのチップに切断して350〜400℃で脱脂してか
ら、それらをPtメッシュ上に置いて、1300〜13
50℃の大気中で焼成した。得られた焼結体20を研磨
せずに、内部電極12から焼結体20の側面に膨出した
導体部13を覆うようにAg電極を焼き付けて外部電極
14を形成した。
済みのチップをPtメッシュを用いずに磁器製のサヤだ
けを用いて、上記と同じ温度条件で焼成した後、上記と
同様にAg電極を焼き付けた。
デンサの場合、内部電極12と外部電極14との接続不
良に起因する静電容量の減少、および、誘電体損失の増
大に関する不良は1/10000以下であった。これに
対して、従来の磁器製のサヤだけを用いて焼成した積層
セラミックコンデンサの場合には、前記不良率は20%
以上になった。
デンサの場合、図2に示すように、焼成後に内部電極2
2の露出端部側に形成された導体部23が焼結体20の
側面から完全に突き出しており、極めて容易に内部電極
22と外部電極14との電気的接続が図れる状態になっ
ている。これに対して、従来の磁器製のサヤだけを用い
て焼成した積層セラミックコンデンサの場合には、図4
(b)に示すように、焼成後に内部電極2の端面2aが
セラミック層1の端面1aから、最も大きいもので10
μm程度引っ込んでおり、このままの状態でAgペース
トを塗布しても、内部電極2との接続ができないものが
多発するものと考えられる。
成中に内部電極2の端面2aからのPdの蒸発が進む結
果、従来の磁器製のサヤだけを用いて焼成した積層セラ
ミックコンデンサの場合には、図4(b)に示すよう
に、内部電極2の端面2aがセラミック表面から引っ込
んでしまい、一方、本実施の形態1による積層セラミッ
クコンデンサの場合、Ptメッシュと共に焼成するた
め、Pt蒸気がPdに選択的に捕集されることから、焼
成中にPtメッシュから蒸発したPt蒸気が、Pdを主
成分とする内部電極22の露出端部側に捕集されてPd
の蒸発を防ぎ、さらなるPtの供給によって露出端部側
から導体部23が膨出して内部電極22の露出端部側が
焼結体20の側面に完全に突き出すのである。
Platinum Recovery in Ammonia Oxidation Plants, Pla
tinum Metals Review, 17(No.4),pp.118-129(1973)で明
らかなように、硝酸製造時に使用されるPt触媒から揮
発するPt蒸気がPdメッシュに選択的に捕集されるこ
とを応用している。
ラミックコンデンサの場合、Pdを主成分とする内部電
極12の露出端部側にPtを含む導体部13が形成さ
れ、この導体部13を介して外部電極14が接続される
ことになる。この導体部13が焼結体20の側面に突き
出すことによって、外部電極14との接触面積が増大
し、内部電極12と外部電極14との電気的接続性が著
しく向上する。
との組合せだけに限らずとも、特定導体材料と、特定導
体材料の蒸気を選択的に捕集する電極材料との組合せで
あれば同様の効果が得られることは言うまでもない。
クコンデンサの場合、外部電極14としてAgペースト
を焼き付けずに、Agと樹脂を主成分とする電極を塗
布、乾燥した外部電極14を設けても、静電容量の減
少、および、誘電体損失の増大に関する不良は、1/1
0000以下であった。これに対して、従来の磁器製の
サヤだけを用いて焼成した積層セラミックコンデンサの
場合、同様の条件で実験をした結果、静電容量の減少、
および、誘電体損失の増大に関する不良は、99%以上
に達した。
ックコンデンサの場合、内部電極12の厚みが薄くなっ
ても、内部電極12の露出端部側にPtを含む導体部1
3が形成されるため、内部電極12と外部電極14との
電気的接続性は殆ど影響を受けない。内部電極12の厚
みを1.5μmから0.8μmに薄層化し、外部電極1
4としてAg電極を焼き付けて静電容量の減少、およ
び、誘電体損失の増大に関する不良を調べた結果、やは
り1/10000以下であった。
成した積層セラミックコンデンサの場合でも、内部電極
2の厚みを1.5μmにして、積層焼結体3aの側面を
研磨して内部電極2を露出させてから外部電極(図示せ
ず)を焼き付けることにより、静電容量の減少、およ
び、誘電体損失の増大に関する不良を1/10000以
下にすることができた。しかし、内部電極2の厚みを
0.8μmにすると、前記の不良は15/10000に
増加した。これは、積層焼結体3aの側面を研磨して内
部電極2を露出させてから外部電極を焼き付ける従来の
方法では、内部電極2の薄層化が、そのまま外部電極と
の接触面積の減少につながることによるものと考えられ
る。
デンサの場合、焼成時の雰囲気が重要であり、例えば、
酸素濃度が100%の場合、前述の静電容量の減少、お
よび、誘電体損失の増大に関する不良は5/10000
0に減少したが、酸素濃度が1%の窒素気流中では20
%以上に急増した。焼成後の内部電極22の露出端部側
に形成された導体部23を観察した結果、前者の場合
は、大気中焼成の場合と比べて焼結体20の側面からの
突き出し量が増えているのに対して、後者の場合は焼結
体20の側面から引っ込んでいた。本実施の形態1で用
いたPtメッシュの高温での重量減少について、酸素濃
度を変えて調べた結果を図3に示す。図3から解るよう
に、Ptの蒸発量は、酸素濃度が高い場合は増加する
が、低くなれば殆ど蒸発しないようになる。従って、焼
成中の酸素濃度が高いとPt蒸気の供給量が増え、内部
電極22の露出端部側から導体部23が膨出するが、酸
素濃度が低い場合にはPt蒸気が供給されないため、P
dの蒸発が進んで内部電極22の露出端部側からの導体
部23の形成が行なわれず、このことが前述の結果の原
因と考えられる。
施の形態について、図1および2を用いて説明する。ま
ず、Pdペースト(内部電極12)をスクリーン印刷し
た誘電体グリーンシート(セラミック層11)を積層し
た後、圧着により積層成形体を作製し、所望の大きさの
チップに切断して350〜400℃で脱脂する。別途、
粒径約20μmのジルコニア粉末25mlに対して、Pt
20mg相当分の塩化白金酸溶液を滴下し、撹拌した後こ
れを乾燥して、Ptを担持したジルコニア粉末を作製す
る。このジルコニア粉末を、見かけ容積25ml相当分の
脱脂済みのチップにまぶしながら、磁器製サヤに詰め込
んだ後、実施の形態1と同じ温度条件で焼成してから、
外部電極14としてAg電極を焼き付けた。
として、脱脂済みのチップを、Ptを担持していないジ
ルコニア粉末でまぶして、上記と同じ温度条件で焼成
し、外部電極を焼き付けた。また、第2の比較例とし
て、ジルコニア粉末を全く用いずに焼成することも行っ
た。
デンサの場合、内部電極12と外部電極14との接続不
良に基づく静電容量の減少、および、誘電体損失の増大
に関する不良は5/100000であった。これに対し
て、第一の比較例で作製した積層セラミックコンデンサ
の場合は、前記不良率は20%以上になった。今回の結
果は、実施の形態1で得られた結果と同じであり、焼成
時にPtメッシュを用いても、Ptを担持した粉末を用
いても、全く同じ効果が得られることが確認された。即
ち、焼成時にPt成分が混在しておれば、Pdを主成分
とする内部電極12の露出端部側に形成された導体部1
3が、実施の形態1で述べた原理に基づき、焼結体20
の側面から突き出すのである。尚、静電容量の減少、お
よび、誘電体損失の増大に関する不良が、実施の形態1
よりもさらに減少したのは、Ptを担持したジルコニア
粉末でチップをまぶすことで、内部電極12の露出端部
側へのPt蒸気の供給がより均一に進んだものと考えら
れる。
ックコンデンサの場合、外部電極14としてAgペース
トを焼き付けずに、Agと樹脂を主成分とする電極を塗
布、乾燥した外部電極14を設けても、静電容量の減
少、および、誘電体損失の増大に関する不良は3/10
0000以下であり、実施の形態1の場合よりも不良は
さらに減少した。
内部電極12の露出端部側へのPt蒸気の供給をさらに
増やすためには、実施の形態1で述べたように、焼成中
の雰囲気を空気から酸素に変えるのが効果的であり、こ
の方法によって静電容量の減少、および、誘電体損失の
増大に関する不良をより一層抑制することができる。
クコンデンサの場合には、焼成後の焼結体同志のひっつ
き不良は、2/10000〜3/10000程度であっ
たが、第2の比較例の場合は、前記不良は15%以上に
なった。従って、Ptを担持したジルコニア粉末でチッ
プをまぶすことは、Pt蒸気の均一供給と、チップ同志
のひっつき防止の両面から効果的であることが解る。
法で作製した、脱脂したチップとPtを担持したジルコ
ニア粉末を、両端に通気孔を有する円筒形磁器製サヤに
入れて、炉芯管が水平に保持された管状炉に前記サヤを
挿入した後、900℃以上の高温領域で前記サヤを1分
間に0.5回転の割合で回転させながら、実施の形態1
と同じ温度条件で、空気を流通させて焼成し、次いで、
外部電極14としてAg電極を焼き付けた。
デンサの場合、静電容量の減少、および、誘電体損失の
増大に関する不良は1/100000であり、実施の形
態2による積層セラミックコンデンサと比べて不良はさ
らに減少した。これは、円筒形磁器製サヤの回転によっ
て焼成中の熱的、雰囲気的な均一性が向上したことによ
って、Ptの蒸発、および、内部電極12の露出端部側
へのPt蒸気の供給が均一、かつ迅速に進んだことによ
るものと思われる。従って、円筒形磁器製サヤの回転
は、ジルコニア粉末に担持されたPtが蒸発を始める温
度以上の温度領域で行うのが好ましい。
内部電極12の露出端部側へのPt蒸気の供給をさらに
増やすためには、実施の形態1で述べたように、焼成中
の雰囲気を空気から酸素に変えるのが効果的であり、こ
の方法によって静電容量の減少、および、誘電体損失の
増大に関する不良をより一層抑制することができる。
コンデンサの場合、外部電極14としてAgペーストを
焼き付けずに、Agと樹脂を主成分とする電極を塗布、
乾燥した外部電極を設けても、静電容量の減少、およ
び、誘電体損失の増大に関する不良は1/100000
以下であり、実施の形態2の場合よりも不良はさらに減
少した。
/100000以下となって、実施の形態2による積層
セラミックコンデンサと比べて減少した。これは、円筒
形磁器製サヤの回転によってチップが回転し、適度の衝
撃を受けながら焼成されることで、ひっつきが防止され
たものと考えられる。焼結体同志のひっつき防止の上で
は、円筒形磁器製サヤは低温から回転させる方が良い
が、脱脂後のチップはもろく破損されやすいので、回転
の開始温度は、脱脂後のチップの機械的強度が増加し始
める温度以上の方が好ましい。本実施の形態3では、焼
成後の焼結体の欠け、割れ、などの外観不良は1/10
000以下であった。
tを担持したジルコニア粉末を、両端に通気孔を有する
円筒形磁器製サヤに入れて回転させながら焼成したが、
ルツボ中でスクリューなどの撹拌治具で撹拌しながら焼
成しても、同様の効果が得られることは言うまでもな
い。
法で作製した脱脂したチップを、両端にPtメッシュの
蓋をした円筒形磁器製サヤに入れて、炉芯管が水平に保
持された管状炉に前記サヤを挿入した後、900℃以上
の高温領域で前記サヤを1分間に0.5回転の割合で回
転させながら、実施の形態1と同じ温度条件で、空気を
流通させて焼成し、次いで、外部電極14としてAg電
極を焼き付けた。
デンサの場合、静電容量の減少、および、誘電体損失の
増大に関する不良は5/100000であり、実施の形
態1による積層セラミックコンデンサと比べて不良は減
少した。これは、実施の形態3と同じく、円筒形磁器製
サヤの回転によって焼成中の熱的、雰囲気的な均一性が
向上したことによるものと思われる。
コンデンサの場合、外部電極14としてAgペーストを
焼き付けずに、Agと樹脂を主成分とする電極を塗布、
乾燥した外部電極14を設けても、静電容量の減少、お
よび、誘電体損失の増大に関する不良は8/10000
0であり、実施の形態1の場合よりも不良は減少した。
デンサの場合、焼成後の焼結体同志のひっつき不良は1
/100000以下であり、焼成後の焼結体の欠け、割
れ、などの外観不良は5/10000で、実施の形態3
による積層セラミックコンデンサと比べて不良は増加し
た。実施の形態4では、ジルコニア粉末を加えずに回転
させるため、回転中の焼結体同志の衝撃が増加すること
が原因と考えられる。
の蓋をした円筒形磁器製サヤを用いたが、円筒形磁器製
サヤの代わりにPtチューブを用いても、内壁をPtメ
ッキした円筒形磁器製サヤを用いて良いことは言うまで
もない。
て、Pdを主成分とする内部電極12を有する積層セラ
ミックコンデンサを対象にした製造方法について述べた
が、Pdを主成分とする内部電極が基板表面に露出端部
を有するセラミック電子部品であれば、例えば、積層圧
電アクチュエータ、積層チップサーミスタ、セラミック
配線基板などに対しても、全く同じ効果が得られる。さ
らに、内部電極がPdで、その露出端部側に捕集される
蒸気がPtでなくとも、特定導体材料と、特定導体材料
の蒸気を選択的に捕集する電極材料との組合せであれば
同様の効果が得られることは明らかである。
内に設けられた内部電極の露出端部側にのみ選択的に、
前記内部電極とは異なる導体材料の蒸気を捕集して形成
された導体部を設けた構成を有しており、さらには、こ
の導体部を介して、基体に設けられた外部電極と接続さ
れており、内部電極が薄層化した場合でも、焼成後に焼
結体側面を研磨せずとも、内部電極と外部電極との電気
的接続が確保できるものである。
ックコンデンサの概略構成を示す断面図
サ焼結体の概略構成を示す断面図
の酸素濃度依存性を示す特性図
前の概略構成を示す断面図 (b)同焼成後の概略構成を示す断面図
Claims (23)
- 【請求項1】 基体内に設けられた内部電極の露出端部
側に、前記基体の焼成時に前記露出端部側にのみ前記内
部電極とは異なる導体材料の蒸気を捕集して形成された
導体部を設けた電子部品。 - 【請求項2】 基体内に設けられた内部電極の露出端部
側に、前記内部電極とは異なる導体材料を含み、結晶成
長により前記基体側面に膨出した導体部を設けた電子部
品。 - 【請求項3】 内部電極がPdを主成分とし、異種の導
体材料がPtを主成分とすることを特徴とする請求項1
または2に記載の電子部品。 - 【請求項4】 基体内に設けられたPdを主成分とする
内部電極の露出端部側に、Ptを含む導体部を介して外
部電極を設けた電子部品。 - 【請求項5】 基体に設けられた外部電極と導体部を介
して接続されていることを特徴とする請求項1または2
に記載の電子部品。 - 【請求項6】 導体部が内部電極の露出端部側との接触
面積よりも外部電極との接触面積の方が大きいことを特
徴とする請求項4または5に記載の電子部品。 - 【請求項7】 外部電極が導体材料と樹脂とを主成分と
することを特徴とする請求項4または5に記載の電子部
品。 - 【請求項8】 内部電極を有する基体を焼成する際に、
前記内部電極の露出端部側に選択的に捕集される蒸気を
発生する材料とともに前記基体を焼成することにより、
前記内部電極の露出端部側から前記基体側面に膨出する
導体部を形成した電子部品の製造方法。 - 【請求項9】 内部電極を有する基体を焼成する際に、
前記内部電極とは異なる導体材料とともに前記基体を焼
成することにより、前記内部電極の露出端部側から前記
基体側面に膨出する導体部を形成した電子部品の製造方
法。 - 【請求項10】 焼成後、焼結体に導体部との電気的接
続を図るための外部電極を形成することを特徴とする請
求項8または9に記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項11】 外部電極が導体材料と樹脂とを主成分
とすることを特徴とする請求項10に記載の電子部品の
製造方法。 - 【請求項12】 内部電極の露出端部側に選択的に捕集
される蒸気を発生する材料または前記内部電極とは異な
る導体材料を粉末に担持させたことを特徴とする請求項
8または9に記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項13】 内部電極がPdを主成分とし、前記内
部電極の露出端部側に選択的に捕集される蒸気を発生す
る材料または前記内部電極とは異なる導体材料がPtを
主成分とすることを特徴とする請求項8または9に記載
の電子部品の製造方法。 - 【請求項14】 焼成時の雰囲気を、大気中の酸素濃度
よりも高濃度の酸素雰囲気にすることを特徴とする請求
項13に記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項15】 Pdを主成分とする内部電極を有する
セラミック成形体を脱脂した後、Ptを主成分とする材
料とともに耐熱容器中で撹拌または回転しながら焼成す
ることにより、前記内部電極の露出端部側から前記セラ
ミック成形体の側面に膨出する導体部を形成した電子部
品の製造方法。 - 【請求項16】 焼成後、焼結体に導体部との電気的接
続を図るための外部電極を形成することを特徴とする請
求項15に記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項17】 外部電極が導体材料と樹脂とを主成分
とすることを特徴とする請求項16に記載の電子部品の
製造方法。 - 【請求項18】 Ptを主成分とする材料を粉末に担持
させたことを特徴とする請求項15に記載の電子部品の
製造方法。 - 【請求項19】 耐熱容器をPtを含む材料で構成した
ことを特徴とする請求項15に記載の電子部品の製造方
法。 - 【請求項20】 Ptを主成分とする材料が蒸発する温
度領域を含む温度領域で、撹拌または回転の操作を行う
ことを特徴とする請求項15に記載の電子部品の製造方
法。 - 【請求項21】 脱脂後のセラミック成形体の機械的強
度が増加する温度領域で、撹拌または回転の操作を行う
ことを特徴とする請求項15に記載の電子部品の製造方
法。 - 【請求項22】 焼成時の雰囲気を、大気中の酸素濃度
よりも高濃度の酸素雰囲気にすることを特徴とする請求
項15に記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項23】 耐熱容器に通気孔を設けたことを特徴
とする請求項15に記載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9171426A JP3067698B2 (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
DE69833756T DE69833756T2 (de) | 1997-06-27 | 1998-06-26 | Elektronisches bauelement und verfahren zu seiner herstellung |
PCT/JP1998/002881 WO1999000808A1 (fr) | 1997-06-27 | 1998-06-26 | Composant electronique et son procede de fabrication |
EP98929719A EP0953997B1 (en) | 1997-06-27 | 1998-06-26 | Electronic part and method for producing the same |
US09/242,129 US6118647A (en) | 1997-06-27 | 1998-06-26 | Electronic part and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9171426A JP3067698B2 (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1116764A true JPH1116764A (ja) | 1999-01-22 |
JP3067698B2 JP3067698B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=15922922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9171426A Expired - Lifetime JP3067698B2 (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6118647A (ja) |
EP (1) | EP0953997B1 (ja) |
JP (1) | JP3067698B2 (ja) |
DE (1) | DE69833756T2 (ja) |
WO (1) | WO1999000808A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008235698A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
JP2008258481A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
US10418180B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-09-17 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Electronic component and manufacturing method for the same |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118731A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Murata Mfg Co Ltd | チップ型複合電子部品およびその製造方法 |
US7054136B2 (en) * | 2002-06-06 | 2006-05-30 | Avx Corporation | Controlled ESR low inductance multilayer ceramic capacitor |
US7859823B2 (en) * | 2007-06-08 | 2010-12-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multi-layered ceramic electronic component |
DE102007043098A1 (de) * | 2007-09-10 | 2009-03-12 | Epcos Ag | Verfahren zur Herstellung eines Vielschichtbauelements |
US8468664B2 (en) * | 2008-05-22 | 2013-06-25 | Greatbatch Ltd. | Process for manufacturing EMI filters utilizing counter-bored capacitors to facilitate solder re-flow |
JP5444944B2 (ja) * | 2009-08-25 | 2014-03-19 | Tdk株式会社 | 活物質及び活物質の製造方法 |
US20110052473A1 (en) * | 2009-08-25 | 2011-03-03 | Tdk Corporation | Method of manufacturing active material |
JP5482062B2 (ja) * | 2009-09-29 | 2014-04-23 | Tdk株式会社 | 薄膜コンデンサ及び薄膜コンデンサの製造方法 |
KR101922863B1 (ko) * | 2011-05-31 | 2018-11-28 | 삼성전기 주식회사 | 적층형 세라믹 전자부품 및 그 제조방법 |
US9076600B2 (en) * | 2012-03-27 | 2015-07-07 | Tdk Corporation | Thin film capacitor |
US9030800B2 (en) | 2012-03-29 | 2015-05-12 | Tdk Corporation | Thin film capacitor |
DE102012105318A1 (de) * | 2012-06-19 | 2013-12-19 | Epcos Ag | Verfahren zur Herstellung eines keramischen Bauelements und ein keramisches Bauelement |
JP6520085B2 (ja) | 2014-12-05 | 2019-05-29 | Tdk株式会社 | 薄膜キャパシタ |
JP6487364B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2019-03-20 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
TWI628678B (zh) * | 2016-04-21 | 2018-07-01 | Tdk 股份有限公司 | 電子零件 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58173823A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | 株式会社村田製作所 | 積層コンデンサ |
JPH03129809A (ja) * | 1989-10-16 | 1991-06-03 | Tdk Corp | 積層型セラミックチップコンデンサおよびその製造方法 |
JPH0670936B2 (ja) * | 1990-03-19 | 1994-09-07 | 三菱マテリアル株式会社 | 積層セラミックコンデンサ |
JP2970110B2 (ja) * | 1991-09-13 | 1999-11-02 | 松下電器産業株式会社 | 積層セラミックコンデンサの製造方法 |
DE19542365A1 (de) * | 1995-11-14 | 1997-05-15 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur Herstellung eines vielschichtigen keramischen Elektronikbauteils |
KR100202500B1 (ko) * | 1995-11-29 | 1999-06-15 | 모리시타 요이치 | 세라믹전자부품 및 그 제조방법 |
-
1997
- 1997-06-27 JP JP9171426A patent/JP3067698B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-06-26 US US09/242,129 patent/US6118647A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-26 WO PCT/JP1998/002881 patent/WO1999000808A1/ja active IP Right Grant
- 1998-06-26 DE DE69833756T patent/DE69833756T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-26 EP EP98929719A patent/EP0953997B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008235698A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
JP2008258481A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法 |
US10418180B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-09-17 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Electronic component and manufacturing method for the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1999000808A1 (fr) | 1999-01-07 |
EP0953997B1 (en) | 2006-03-08 |
DE69833756T2 (de) | 2006-11-02 |
JP3067698B2 (ja) | 2000-07-17 |
EP0953997A1 (en) | 1999-11-03 |
DE69833756D1 (de) | 2006-05-04 |
US6118647A (en) | 2000-09-12 |
EP0953997A4 (en) | 2004-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH1116764A (ja) | 電子部品およびその製造方法 | |
US6270906B1 (en) | Monolithic ceramic electronic component | |
CN111128549B (zh) | 层叠陶瓷电子元件 | |
EP1594146A1 (en) | Electronic parts and method for manufacture thereof | |
CN115621043A (zh) | 陶瓷电子部件 | |
JP4182009B2 (ja) | 導電性粒子、導電性ペースト、電子部品、積層セラミックコンデンサおよびその製造方法 | |
US6690572B2 (en) | Single layer electronic capacitors with very thin dielectrics and methods to produce same | |
JPH09106925A (ja) | 積層セラミックコンデンサの製造方法 | |
JP7388088B2 (ja) | 積層セラミック電子部品とその製造方法 | |
JP2005101317A (ja) | セラミック電子部品及びその製造方法 | |
JP2000182883A (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP4867948B2 (ja) | 導電性粒子、導電性ペースト、電子部品、積層セラミックコンデンサおよびその製造方法 | |
JP7151048B2 (ja) | キャパシタ、キャパシタ用固体電解質粒子の製造方法、及び、キャパシタの製造方法 | |
JP2006041134A (ja) | 遠心力場を利用した脱脂方法およびその装置 | |
JP2019067827A (ja) | 積層電子部品 | |
JP3196713B2 (ja) | セラミック電子部品の製造方法 | |
JP3470651B2 (ja) | セラミック電子部品の製造方法 | |
JP2004071493A (ja) | 導電性ペーストおよび電子部品 | |
JP2002043713A (ja) | 配線基板 | |
JPH03220711A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JPH07297556A (ja) | 多層セラミック電子部品の製造方法 | |
JPH05152726A (ja) | セラミツク配線基板の修理方法 | |
JP2006049653A (ja) | コンデンサの製造方法 | |
JP3483240B2 (ja) | セラミック電子部品の製造方法 | |
JP2003282352A (ja) | 積層セラミックコンデンサの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090519 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 10 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 10 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 10 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 10 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110519 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140519 Year of fee payment: 14 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |