JPH11163242A - リード成形装置及びリード成形方法 - Google Patents

リード成形装置及びリード成形方法

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JPH11163242A
JPH11163242A JP9326685A JP32668597A JPH11163242A JP H11163242 A JPH11163242 A JP H11163242A JP 9326685 A JP9326685 A JP 9326685A JP 32668597 A JP32668597 A JP 32668597A JP H11163242 A JPH11163242 A JP H11163242A
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forming punch
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Toshichika Yaake
利親 八明
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

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  • Bending Of Plates, Rods, And Pipes (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】半導体装置のリードを金型で成形する際、成形
パンチに半田めっき屑が付着し、リードに転写され不良
の原因となることを防ぐ。 【解決手段】上型ダイセット1にプレート7を介して設
けられた成形パンチ6の側面の下部に、付着物を除去す
る為のエアブロー穴8を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームを
ダイとパンチで加圧成形する半導体装置のリード成形装
置及びリード成型方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】リードフレーム上に半導体ペレットが搭
載され樹脂封止された半導体装置は、リード加工装置に
よりリード成形が行われる。以下特開平1−32102
6号公報に開示されたリード加工装置について図6の断
面図を用いて説明する。
【0003】図6において28はリードフレーム及びダ
イ24の上面の付着物を除去するための圧縮空気が吹き
出されるエアーノズルで、このエアーノズル28はダイ
24の上面にエアーを吹きつけるための吹き出し口28
Aと、セットされたリードフレーム3の表、裏面にエア
ーを吹きつけるための吹き出し口28B、28Cとを備
え、下型ダイセット22に立設されている。
【0004】なお、30はこのエアーノズル28に圧縮
空気を供給するためのホースで、このホース30は空気
圧縮機等に接続されている。すなわち、リードフレーム
をダイ24上に搬送させた後であって、加圧成形前に、
換言すればストリッパー25をリードフレームに圧接さ
せる前にエアブローすることによって、リードフレーム
の表、裏面、及びダイ24の上面に付着した異物等が除
去される。
【0005】尚図1において21は上型ダイセット、2
3はガイドポスト、26はパンチ、27はプレート、2
9はガイドレールである。
【0006】付着物を除去する為に清掃ブラシを設けた
装置も特開平5−109961号公報に開示されてい
る。以下このリード加工装置を示す図7の側断面図を用
いて説明する。
【0007】半導体装置31は押えダイ32と受けダイ
33とによって固定されており、半導体装置31のリー
ド34を清掃する清掃用ブラシとしてローラブラシ35
が、半導体装置31の左右の上下に合計4つ設けられて
いる。ローラブラシ35は、帯電を防止し、確実に半導
体装置31のリード34に付着しためっき屑や樹脂屑を
除去するために、導電性材料から構成されている。これ
らのローラブラシ34を図7(a)の矢符Cで示される
ように、水平方向に往復移動させながら半導体装置31
のリード34に接触させた状態で回転駆動し、リード3
4に付着しためっき屑や樹脂屑を除去するものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】第1の問題点は、従来
技術においては、加工用のパンチに堆積するめっき屑等
を除去することができないので、堆積した大きなめっき
屑等が半導体装置のリードに転写され不良となる。
【0009】その理由は、従来技術では半導体装置その
ものやリードフレームに付着した屑を除去することを目
的としているため、パンチに付着する屑は除去すること
ができないからである。
【0010】本発明の目的は、リード成形パンチに堆積
する半田めっき屑を除去し、半導体装置のリードへの転
写を防止できるリード成形装置及びリード成形方法を提
供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】第1の発明のリード成形
装置は、上型ダイセットと、この上型ダイセットの下面
にプレートを介して設けられ、少なくとも上下方向に可
動なシェダーと成形パンチと、下型ダイセットと、この
下型ダイセット上に設けられた曲げダイとガイドポスト
とを備えたリード成形装置において、前記成形パンチに
は付着物を除去する為のエアブロー穴が設けられている
ことを特徴とするものである。
【0012】第2の発明のリード成形方法は、半導体装
置が搭載されたリードフレームのリードを曲げダイと成
形パンチで加圧成形するリード成形方法において、加圧
成形前に成形パンチから圧縮空気を吹き出させ、前記成
形パンチに付着した付着物を除去することを特徴とする
ものである。
【0013】
【作用】成形パンチに堆積する半田めっき屑を、パンチ
そのものに設けたエアブロー穴からのエアーにより除去
する。従来のように半導体装置に付着した半田めっき屑
等を除去するのではなく、半導体装置に付着する前に除
去するので効果的に半田めっき屑を除去することができ
る。
【0014】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。図1は本発明の第1の実施の形態を説明す
る為のリード成形装置の構成図、図2(a),(b)は
第1の実施の形態で用いられる成形パンチ下部の正面図
及び側面図である。
【0015】図1及び図2を参照するとリード成形装置
は、上型ダイセット1と、この上型ダイセット1の下面
にプレート7を介して設けられ、少なくとも上下方向に
可動なシェダー5と成形パンチ6と、下型ダイセット2
と、この下型ダイセット2上に設けられた曲げダイ4と
ガイドポスト3とから主に構成されているが、特にこの
成形パンチ6側面の下部には、半田めっき屑等の付着物
を除去する為の複数のエアブロー穴8が設けられてい
る。穴の数は半導体装置のリードの数程度で、その径は
約1mmである。
【0016】次にこのように構成されたリード成形装置
を用いて半導体装置のリードを成形する方法について図
1及び図4を用いて説明する。
【0017】まず、リードフレームのアイランド上に半
導体チップを搭載し樹脂封止してなるパッケージ10を
曲げダイ4上にセットする。次で上型ダイセット1を下
降させると共に、図4(a)に示すように、シェダー5
を下降させリード11の根元をクランプする。
【0018】次に図4(b)の矢印Aで示すように、成
形パンチ6を下降させる。成形パンチ6の軌跡は曲げ点
の軌跡と同一である。次で図4(c)に示すように、成
形パンチ6を下死点までおろし、リード11を成形す
る。このリード成形の動作(セクター曲げ)中に成形パ
ンチ6の下部側面にリード表面からの半田めっき屑9が
付着する。
【0019】次に上型ダイセット1を上昇させ、リード
成形が完了した半導体装置を排出させる。そして成形パ
ンチ6の側面に形成したエアブロー穴8よりエアを5k
g/cm2 程度の圧力で噴出させ、成形パンチ6の側面
に付着した半田めっき屑9を除去する。以降はこれらの
動作をくり返し、リード成形を行う。
【0020】このように本発明のリード成形方法によれ
ば、成形パンチに付着した半田めっき屑を除去できる
為、半田めっき屑の付着により不良が発生することはな
くなる。
【0021】図3(a)〜(c)は本発明の第2の実施
の形態を説明する為の成形パンチ下部の正面図、側面図
及び下面図である。
【0022】本第2の実施の形態のリード成形装置は図
1に示した第1の実施の形態とほぼ同一であるが、エア
ーブロー穴8が成形パンチ6の下面部に設けられている
所が異っている。以下このリード成形装置を用いてリー
ド成形する場合を図1及び図5を併用して説明する。
【0023】まず図5(a)に示すように、パッケージ
10を曲げダイ4上にセットしたのち上型ダイセット1
を下降させると共に、シェダー5を下降させリード11
の根元をクランプする。
【0024】次に図5(b)に示すように、成形パンチ
6Aを矢印Bで示すように下降させ、次で図5(c)に
示すように、成形パンチ6Aを下死点までおろし、リー
ド11を成形する。このリード成形の動作(しごき曲
げ)中に成形パンチ6Aの下面部にリード表面からの半
田めっき屑9が付着する。
【0025】次に上型ダイセット1を上昇させ、リード
成形が完了した半導体装置を排出させる。そして成形パ
ンチ6Aの下面部に設けたエアブロー穴8よりエアを噴
出させ、成形パンチ6Aの下面部に付着した半田めっき
屑9を除去する。以降この動作をくり返しリード成形を
行う。
【0026】尚、上記実施の形態においては、エアブロ
ー穴を成形パンチの側面下部又は下面部に形成した場合
について説明したが、側面の下部及び下面部の両方に設
けてもよい。
【0027】
【発明の効果】第1の効果は、成形パンチに半田めっき
屑が付着しないということである。これにより半導体装
置への半田めっき屑の転写がなくなり、半田めっき屑等
の付着による不良がなくなる。
【0028】その理由は、成形パンチに設けたエアブロ
ー穴により、半田めっき屑等を除去できるからである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を説明する為のリー
ド成形装置の構成図。
【図2】実施の形態で用いられる成形パンチ下部の正面
図及び側面図。
【図3】実施の形態で用いられる成形パンチ下部の正面
図、側面図及び下面図。
【図4】リード成形方法を説明する為の金型の断面図。
【図5】他のリード成形方法を説明する為の金型の断面
図。
【図6】従来のリード加工装置の断面図。
【図7】他の従来のリード加工装置の要部を示す図。
【符号の説明】
1 上型ダイセット 2 下型ダイセット 3 ガイドポスト 4 曲げダイ 5 シェダー 6 成形パンチ 7 プレート 8 エアブロー穴 9 半田めっき屑 10 パッケージ 11 リード 21 上型ダイセット 22 下型ダイセット 23 ガイドポスト 24 ダイ 25 ストリッパー 26 パンチ 27 プレート 28 エアノズル 28A〜28C 吹き出し口 29 ガイドレール 30 ホース

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上型ダイセットと、この上型ダイセット
    の下面にプレートを介して設けられ、少なくとも上下方
    向に可動なシェダーと成形パンチと、下型ダイセット
    と、この下型ダイセット上に設けられた曲げダイとガイ
    ドポストとを備えたリード成形装置において、前記成形
    パンチには付着物を除去する為のエアブロー穴が設けら
    れていることを特徴とするリード成形装置。
  2. 【請求項2】 エアブロー穴は成形パンチ側面の下部に
    設けられている請求項1記載のリード成形装置。
  3. 【請求項3】 エアブロー穴は成形パンチの下面部に設
    けられている請求項1記載のリード成形装置。
  4. 【請求項4】 エアブロー穴は成形パンチ側面の下部及
    び成形パンチの下面部に設けられている請求項1記載の
    リード成形装置。
  5. 【請求項5】 半導体装置が搭載されたリードフレーム
    のリードを曲げダイと成形パンチで加圧成形するリード
    成形方法において、加圧成形前に成形パンチから圧縮空
    気を吹き出させ、前記成形パンチに付着した付着物を除
    去することを特徴とするリード成型方法。
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