JPH09260562A - リード成形方法、リード成形装置、リード成形装置の異物除去方法、リード切断装置、外部リードの取り付け方法、外部リード加工装置、及び外部リードの異物除去方法 - Google Patents

リード成形方法、リード成形装置、リード成形装置の異物除去方法、リード切断装置、外部リードの取り付け方法、外部リード加工装置、及び外部リードの異物除去方法

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JPH09260562A
JPH09260562A JP8068179A JP6817996A JPH09260562A JP H09260562 A JPH09260562 A JP H09260562A JP 8068179 A JP8068179 A JP 8068179A JP 6817996 A JP6817996 A JP 6817996A JP H09260562 A JPH09260562 A JP H09260562A
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JP
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lead
forming
external
molding
semiconductor device
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JP8068179A
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Kenta Matsunaga
健太 松永
Shoji Suwahara
昭二 諏訪原
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

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  • Punching Or Piercing (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ハンダメッキクズの外部リードへの再付着を
改善する。 【解決手段】 上型ダイセット11はその上部から加圧
装置(図示せず)により加圧され、ポスト11外周のバ
ネ15bを圧縮させながら下降していく。上型ダイセッ
ト11のダイホルダー5に固定されたカム8は回転ロー
ラー9を外側から内側へと移動させつつ下降する。成形
パンチ7はパンチホルダー12に対して回転可能な固定
ピン13により取り付けられているので、バネ15aを
圧縮させながら閉動作を行い、リード押え14上に装着
されている半導体装置1の外部リード3の成形加工が行
われる。半導体装置1の外部リード3成形を上向きに実
施し、成形パンチ7及び成形ダイ4に付着・堆積し、脱
落するハンダメッキクズ24を下方に落下させ、外部リ
ード3への再付着を回避する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、外装メッキが施
された外部リードを持つ半導体装置及び、この半導体装
置の製造方法、並びにこの半導体装置のリード成形金型
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造は、一般に半導体チッ
プをリードフレーム上にダイボンディングした後、ワイ
ヤーボンディング及び樹脂封止を行い、つづいてリード
フレームに外装メッキを施した後、このリードフレーム
から外部リードを切り出し、外部リードの曲げ加工によ
りリード成形をして完了する。完了した半導体装置は、
テスト用ソケット内に装着させて、種々の電気的特性試
験を受けた後、製品として出荷される。
【0003】図38及び図39は、従来のリード成形方
法を実施するための外部リード成形装置2を示す断面図
である。図38はリード成形前を、図39はリード成形
後を、それぞれ示している。
【0004】半導体装置1の外部リード3は成形ダイ4
及び成形パンチ7によって成形加工される。成形ダイ4
は、ダイホルダー5を介して下型ダイセット6に固定さ
れている。成形パンチ7は回転ローラー9を内蔵してい
る。ダイホルダー5にはカム8が固定され、回転ローラ
ー9がこれにガイドされて移動することにより成形パン
チ7が開閉動作する。
【0005】ポスト10は下型ダイセット6から直立
し、ポスト10を介して上下動作可能に上型ダイセット
11が設けられている。ポスト10の外周には、バネ1
5bが設置されている。上型ダイセット11にはパンチ
ホルダー12が設けられており、これに対して回転可能
な固定ピン13によって成形パンチ7が取り付けられて
いる。パンチホルダー12にはリード押え14が設けら
れており、これに対して成形パンチ7がバネ15aを介
して開閉可能に取付けられている。
【0006】このように構成された外部リード成形装置
2は、上型ダイセット11が上部から、加圧装置(図示
せず)により加圧され、ポスト11外周のバネ15bを
圧縮させながら、下降していく。成形パンチ7はパンチ
ホルダー12に対して回転可能な固定ピン13により取
り付けられているので、成形パンチ7に内蔵された回転
ローラー9は下降動作中、まず下型ダイセット6のダイ
ホルダー5に固定されたカム8に接触し、そのカム形状
にならって移動する。
【0007】回転ローラー9は外側から内側へと移動す
るようにカム8によって導かれるので、バネ15aを圧
縮させながら成形パンチ7は閉動作を行い、成形ダイ4
上に装着されている半導体装置1の外部リード3の成形
加工が行われる。
【0008】図40乃至図42は外部リード3の成形加
工の様子を詳細に示す断面図である。まず図40におい
て成形パンチ7が下降しつつ外部リード3に近接する。
次に図41において成形パンチ7が下降しつつ外部リー
ド3に接触し、外部リード3を屈曲させ始める。この
際、回転ローラー9がカム8に沿って移動し、しかも成
形パンチ7が固定ピン13によりパンチホルダー12に
回転可能に固定されているので、成形パンチ7は円弧を
描きつつ下降する。そして図42において成形パンチ7
が外部リード3を成形加工する。
【0009】前記加圧装置(図示せず)を減圧する事
で、ポスト外周のバネ15bの復元力により上型ダイセ
ット11は上昇していき、バネ15aの復元力により成
形パンチ7の開動作が行われる。以上のような動作が複
数の半導体装置1に対して施される。
【0010】図43はこのようにして外部リード3が加
工された半導体装置1の外部リード3近傍を示す斜視図
である。外部リード3は複数のものが一定間隔をおいて
配置されている。そして、この外部リード3は、樹脂封
止部18から水平に突出する水平部19と、下方への下
降部20と、下降部20の下端から水平に突出し、基板
と電気的に接続される先端部21とから構成されてい
る。
【0011】外部リード3は、例えばFe−42Niア
ロイ等を材料とする、リードフレーム素材16の外表面
に外装メッキとしてハンダメッキ17が施される。外部
リード3にハンダメッキ17を施すのは、この半導体装
置1を基板に実装する際に、ハンダ付け性の向上を図る
ためと、外部リード3の耐食性の向上を図るためであ
る。たとえばハンダメッキ17は5〜20μm程度の厚
さで施される。
【0012】外部リード3はリードフレームを構成する
において、隣接するもの同士が互いにダムバーで連結さ
れた態様を有している。水平部19はこのダムバーを外
部リード3の両側から切り落とした、ダムバーカット部
22を有している。また、先端部21はリードフレーム
から切り落とされた先端カット部23を有している。こ
のようなリードフレームからの外部リード3の切り出し
は、外装ハンダメッキ17を施した後に行われる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】図44は図42に示さ
れた状態の後、成形パンチ7が上昇するところを示す断
面図である。また、図45は成形パンチ7と成形ダイ4
との近傍を示す平面図である。成形パンチ7及び成形ダ
イ4の外部リード3に接触する部分にハンダメッキクズ
24が付着・堆積している。ハンダメッキクズ24は外
部リード表面に施されているハンダメッキ17と、成形
パンチ7及び成形ダイ4との接触により、ハンダメッキ
17の一部が削りとられて生じる。
【0014】これでは外部リード3が所定の寸法・形状
に成形されなかったり、脱落し、成形ダイ4上に散乱し
たハンダメッキクズ24が外部リード3に再付着し、接
触不良や外観不良を発生させるなどの問題があった。
【0015】この発明は上記問題点を解決するためにな
されたもので、ハンダメッキクズを半導体装置の外部リ
ードから、ひいては外部リードを加工する装置から除去
する技術を提供することを目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】この発明のうち請求項1
にかかるものは、半導体装置の外部リードを成形するリ
ード成形装置であって、上型ダイセットに成形ダイを、
下型ダイセットに成形パンチを、それぞれ配置させ、前
記成形ダイ及び前記成形パンチを用いて前記外部リード
を上方向に成形することを特徴とする。
【0017】この発明のうち請求項2にかかるものは、
請求項1記載のリード成形装置であって、前記下型ダイ
セットは集塵穴を有する。
【0018】この発明のうち請求項3にかかるものは、
成形ダイ及び成形パンチとを備え、前記成形ダイ及び成
形パンチによって半導体装置の外部リードを成形するリ
ード成形装置であって、前記成形ダイ及び前記成形パン
チの少なくとも一方がエアブローを供給する穴を内蔵す
ることを特徴とする。
【0019】この発明のうち請求項4にかかるものは、
成形ダイ及び成形パンチとを備え、前記成形ダイ及び前
記成形パンチによって半導体装置の外部リードを成形す
るリード成形装置であって、前記成形パンチ及び前記成
形ダイの少なくとも一方が、前記外部リードと接する部
分に隣接して溝が施されていることを特徴とする。
【0020】この発明のうち請求項5にかかるものは、
成形ダイ及び成形パンチによって半導体装置の外部リー
ドを成形するリード成形方法であって、前記成形ダイ及
び前記成形パンチは、少なくともその前記外部リードと
接触する部分が接触抵抗を軽減させる液体に浸されつ
つ、前記外部リードを成形する。
【0021】この発明のうち請求項6にかかるものは、
半導体装置の外部リードを成形パンチによって成形する
リード成形方法であって、(a)前記成形パンチが貫通
して上下する上型と、前記外部リード及び前記成形パン
チが進入することを許す凹部を有する下型とが相俟って
形成する、樹脂によって封止するための空間に前記半導
体素子を配置する工程と、(b)前記上型と前記下型と
の間に前記外部リードを挟む工程と、(c)前記成形パ
ンチが上型内を下降して前記凹部と相まって前記外部リ
ードを成形する工程と、(d)前記工程(c)の後に前
記外部リードに外装メッキを施す工程とを備える。
【0022】この発明のうち請求項7にかかるものは、
半導体素子を樹脂によって封止するための空間を両者相
俟って形成する上型及び下型との間に、前記半導体素子
に接続されたインナーリードと、外部リードとを重ね合
わせて挟み、前記樹脂によって前記半導体素子を封止す
ることによって、前記インナーリードに前記外部リード
を取り付けることを特徴とする外部リードの取り付け方
法である。
【0023】この発明のうち請求項8にかかるものは請
求項7記載の外部リードの取り付け方法であって、前記
インナーリードは接合部を、前記外部リードは前記接合
部に係合するガイドを、それぞれ有し、前記接合部及び
前記ガイドを係合させて前記インナーリードと前記外部
リードとを位置合わせした後に、前記樹脂によって前記
半導体素子を封止する。
【0024】この発明のうち請求項9にかかるものは請
求項8記載の外部リードの取り付け方法であって、前記
インナーリードに銅系の材料を、前記外部リードに鉄系
の材料を使用する事を特徴とする。
【0025】この発明のうち請求項10にかかるもの
は、前記上型及び前記下型との間に前記インナーリード
と、前記外部リードとを重ね合わせて挟んだまま、前記
インナーリードのダムバーと、前記外部リードのダムバ
ーを樹脂封止前に切断する、請求項7記載の外部リード
の取り付け方法である。
【0026】この発明のうち請求項11にかかるもの
は、半導体装置の外部リードを成形するリード成形装置
に対し、外装メッキ処理を施されていない外部リードを
有するダミー半導体装置を、通常の半導体装置と同様に
前記リード成形装置へと定期的に挿入することにより、
前記リード成形装置に付着した屑を研削除去する、リー
ド成形装置の異物除去方法である。
【0027】この発明のうち請求項12にかかるもの
は、請求項11記載のリード成形装置の異物除去方法で
あって、前記ダミー半導体装置の有する前記外部リード
の表面には凹凸加工が施されている。
【0028】この発明のうち請求項13にかかるもの
は、半導体装置の外部リードをその両側から挟み、前記
外部リードの表面に凹凸加工を施す成形パンチ及び成形
ダイを備えた外部リード加工装置である。
【0029】この発明のうち請求項14にかかるもの
は、半導体装置の外部リードを成形するリード成形装置
に対し、シート状の研削体を通常の半導体装置と同様に
前記リード成形装置へと定期的に挿入することにより、
前記リード成形装置に付着した異物を研削除去する、リ
ード成形装置の異物除去方法である。
【0030】この発明のうち請求項15にかかるもの
は、半導体装置の外部リード間に、前記外部リード間に
対応した間隔の異物除去体を挿入することにより、前記
外部リード間に存在した異物を除去する外部リードの異
物除去方法である。
【0031】この発明のうち請求項16にかかるもの
は、半導体装置を、その有する外部リードを露出させつ
つパックで覆い、超音波が伝達する液体中に浸す、外部
リードの異物除去方法である。
【0032】この発明のうち請求項17にかかるもの
は、(a)半導体装置の外部リードの成形工程であっ
て、前記外部リードに付着する異物の位置を前記外部リ
ードの最終的な製品の形状以外の不要リード部に設定す
る工程と、(b)前記不要リード部を除去する工程とを
備える外部リードの異物除去方法である。
【0033】この発明のうち請求項18にかかるもの
は、外部リードを有する半導体装置を載置する成形ダイ
と、前記成形ダイと相まって前記外部リードを成形する
成形パンチとを備え、前記成形ダイは、前記成形パンチ
と相対する領域のうち、前記半導体装置の近い側で選択
的に設けられた凹部を有し、前記成形ダイと前記成形パ
ンチとは、前記外部リードの先端近傍である不要リード
部を加圧して挟みこんで前記外部リードの成形を行う、
リード成形装置である。
【0034】この発明のうち請求項19にかかるもの
は、成形された外部リードを有する半導体装置を載置す
る受けと、前記受けと相まって、前記外部リードの先端
近傍である不要リードよりも根元側を挟む外部リード押
さえと、前記外部リードに対して相対的に移動し、前記
不要リード部を切断するリードカットダイとを備えるリ
ード切断装置である。
【0035】この発明のうち請求項20にかかるもの
は、請求項19記載のリード切断装置であって、前記リ
ード切断装置は、前記不要リードを下方へと落とす不要
リード落とし穴を更に備える。
【0036】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.図1は、実施の形態1による外部リード
成形装置を示す断面図である。同図(a)はリード成形
前を、同図(b)はリード成形後を、それぞれ示してい
る。
【0037】半導体装置1の外部リード3は、成形ダイ
4及び成形パンチ7を備えるリード成形装置によって成
形加工される。成形ダイ4は、ダイホルダー5を介して
上型ダイセット11に固定されている。成形パンチ7は
回転ローラー9を内蔵している。ダイホルダー5にはカ
ム8が固定され、回転ローラー9がこれにガイドされて
移動することにより成形パンチ7が開閉動作する。この
外部リード成形装置によって加工される外部リード3と
しては、ガルウイングタイプ、Jリードタイプのものが
好適である。
【0038】ポスト10は下型ダイセット6から直立
し、ポスト10を介して上下動作可能に上型ダイセット
11が設けられている。ポスト10の外周には、バネ1
5bが設置されている。下型ダイセット6にはパンチホ
ルダー12が設けられており、これに対して回転可能な
固定ピン13によって成形パンチ7が取り付けられてい
る。パンチホルダー12にはリード押え14が設けられ
ており、これに対して成形パンチ7がバネ15aを介し
て開閉可能に取付けられている。
【0039】上型ダイセット11はその上部から加圧装
置(図示せず)により加圧され、ポスト11外周のバネ
15bを圧縮させながら下降していく。上型ダイセット
11のダイホルダー5に固定されたカム8は回転ローラ
ー9を外側から内側へと移動させつつ下降する。成形パ
ンチ7はパンチホルダー12に対して回転可能な固定ピ
ン13により取り付けられているので、バネ15aを圧
縮させながら閉動作を行い、リード押え14上に装着さ
れている半導体装置1の外部リード3の成形加工が行わ
れる。
【0040】このように、半導体装置1の外部リード3
成形を上向きに実施し、成形パンチ7及び成形ダイ4に
付着・堆積し、脱落するハンダメッキクズ24を下方に
落下させることができるので、外部リード3への再付着
を改善する事ができる。
【0041】尚、実施の形態1は、本発明の技術的思想
により更に変形可能であり、外部リードの成形を上向き
に実施する事ができれば、どの様な成形形状・成形方法
のものであっても良い。
【0042】実施の形態2.図2はこの発明の実施の形
態2を示す断面図である。パンチホルダー12及び下型
ダイセット6に集塵穴25を設け、下型ダイセット6下
方(図示せず)より集塵する事により、ハンダメッキク
ズ24の再付着及び成形パンチ7の安定稼働化を図るこ
とができる。つまり、外部リード3の成形を上向きに実
施し、成形パンチ7及び成形ダイ4に付着・堆積し、脱
落するハンダメッキクズ24を、下方に落下させること
により、ハンダメッキクズ24の外部リード3への再付
着を防止できる。
【0043】例えば、同図(a)に示されるように外部
リード3の成形前においては集塵穴25を成形パンチ7
が塞ぐことによって、半導体装置1の装着を容易にし、
同図(b)に示されるように外部リード3の成形後にお
いては集塵穴25による集塵を成形パンチ7が妨げない
ようにすることもできる。
【0044】実施の形態3.図3はこの発明の実施の形
態3を示す断面図である。成形パンチ7内部に、エアー
ブロー導入口7aを設け、これを介してハンダメッキク
ズ24付着部分にエアーブロー26aを外部から与える
ことができる。これによってハンダメッキクズ24の外
部リード3への再付着を防止することができる。またエ
アーブロー26aを与えるのは、実線で示されるような
外部リード3が成形された後でも、破線で示されるよう
な外部リード3が成形される前でもよい。
【0045】実施の形態4.図4はこの発明の実施の形
態4を示す断面図である。成形ダイ4内部に、エアーブ
ロー導入口4aを設け、これを介してハンダメッキクズ
24付着部分にエアーブロー26bを外部から与えるこ
とができる。これによってハンダメッキクズ24の外部
リード3への再付着を防止することができる。またエア
ーブロー26bを与えるのは、実線で示されるような外
部リード3が成形された後でも、破線で示されるような
外部リード3が成形される前でもよい。
【0046】尚、実施の形態3及び実施の形態4では、
本発明の技術的思想により更に変形可能であり、エアー
ブローの位置・圧力・形状等適宜であってよい。
【0047】実施の形態5.図5はこの発明の実施の形
態5を示す平面図である。成形パンチ7に、外部リード
3と接する部分に隣接して溝27aを施し、付着・堆積
したハンダメッキクズ24を溝27a内に逃がすことに
より、ハンダメッキクズ24の外部リード3への再付着
を防止することができる。
【0048】実施の形態6.図6はこの発明の実施の形
態6を示す平面図である。成形ダイ7に、外部リード3
と接する部分に隣接して溝27bを施し、付着・堆積し
たハンダメッキクズ24を溝27b内に逃がすことによ
り、ハンダメッキクズ24の外部リード3への再付着を
防止することができる。
【0049】勿論、実施の形態5と実施の形態6とを組
み合わせることもできる。即ち図7に示されるように、
成形パンチ7に溝27aを、成形ダイ7に溝27bをそ
れぞれ施して、ハンダメッキクズ24の外部リード3へ
の再付着を防止する効果を一層高めることができる。
【0050】これに加えて、更に、実施の形態1乃至実
施の形態4の技術を組み合わせることもできる。即ち、
図8が示すように、実施の形態1と同様にして成形ダイ
4はダイホルダー5を介して上型ダイセット11に固定
されている。下型ダイセット6にはパンチホルダー12
を介して成形パンチ7が回転自在に設けられている。実
施の形態2と同様に集塵穴25が下型ダイセット6及び
パンチホルダー12に設けられている。実施の形態3と
同様にしてエアーブロー導入口7aが、実施の形態4と
同様にしてエアーブロー導入口4aが、それぞれ成形パ
ンチ7及び成形ダイ4に設けられている。
【0051】このようにして、ハンダメッキクズ24の
外部リード3への再付着を防止する効果を更に一層高め
ることができる。
【0052】実施の形態7.図9は、この発明の実施の
形態7による外部リード成形装置を示す断面図であり、
従来の技術で示された外部リード成形装置2の少なくと
も外部リード3を成形加工する領域を潤滑剤29で浸し
たものである。
【0053】例えば外部リード成形装置2の外周部を囲
む箱28内には、潤滑剤29が満たされており、外部リ
ード3と、成形パンチ7及び成形ダイ4との外部リード
成形時の接触抵抗を軽減させることができる。従ってハ
ンダメッキ17の一部が削りとられてハンダメッキクズ
24が生成されることが抑制される。つまり成形パンチ
7及び成形ダイ4へのハンダメッキクズ24の付着・堆
積が軽減でき、外部リード3の加工の品質を高めること
ができるとともに、外部リード成形装置2の寿命も延ば
す事ができる。
【0054】潤滑剤の代りに水や揮発性のアルコール系
液体やフロン系液体を用いることができる。揮発性の液
体を用いることは、乾燥処理が簡易となる点で望まし
い。
【0055】実施の形態8.図10は、この発明の実施
の形態8による外部リード成形装置34aを示す断面図
であり、半導体樹脂封止を行うこともできる。半導体チ
ップ30がリードフレーム31にダイボンディングさ
れ、またワイヤボンディングがなされた後、下型32及
び上型33が作る樹脂封止のための空間300に半導体
チップ30が収められ、リードフレーム31が下型32
及び上型33に挟まれる。下型32及び上型33はジャ
ッキ310によって半導体チップ30を加圧密閉し、空
間300の内部に熱硬化性樹脂を注入して半導体チップ
30及びリードフレーム31の樹脂封止がなされる。
【0056】上型33にはその内部に、成形パンチ7が
上下に移動することができる空洞33aが設けられてい
る。成形パンチ7は別途に駆動される、例えば油圧シリ
ンダー71によって上下に移動させることができる。
【0057】一方、下型32にはその内部にリードフレ
ーム31及び成形パンチ7の進入を許す凹部32aが設
けられる。そして熱硬化性樹脂の注入が完了した直後に
成形パンチ7を下降させることにより、リードフレーム
31の有する外部リードに対して成形加工を行うことが
できる。
【0058】このようにして外部リードの成型加工を行
うことができるので、成形ダイ、並びに上型ダイセット
及び下型ダイセット等が不要になる。しかも従来は別々
の工程として行われていた樹脂封止の工程と、外部リー
ドの成形加工の工程とを同一の装置34aによってほぼ
同時に行うことができるので、半導体製造プロセスの簡
略化ができ、より早く半導体製品を提供する事ができ
る。
【0059】ダムバーの切断及び外装メッキは、本実施
の形態で示された樹脂封止及び外部リードの成形の後に
行えばよく、従って、本実施の形態で示された外部リー
ドの成形においてハンダメッキクズが生じることを回避
することができる。
【0060】尚、実施の形態8は、本発明の技術的思想
により更に変形可能であり、熱硬化性樹脂注入前にリー
ド成形を行うこともできる。又、油圧シリンダー71の
代りにエアーシリンダーを使っても、その他の方法を使
ってもよく、半導体樹脂封止装置にて外部リード成形を
行えれば、どの様なものであっても良い。
【0061】実施の形態9.図11は、この発明の実施
の形態9による外部リード取り付け方法を説明する断面
図である。半導体チップ30が接続されたインナーリー
ド35と、外装ハンダメッキを施されて成形加工の完了
した外部リード3とは、互いに重なり合って上型33と
下型32との間に挟まれる。そして空間300内に熱硬
化性樹脂を注入して半導体チップ30を樹脂封止するこ
とによって、インナーリード35及び外部リード3とを
接続する。
【0062】外部リード3を取り付ける前に、予め外部
リード3に付着したハンダメッキクズ等を容易に除去し
ておくことができるので、上記の工程で得られた構造に
おいてハンダメッキクズが排除されているようにするこ
とが容易となる効果がある。
【0063】樹脂部よりも外に外部リード取り付け部を
有し、この部分に任意の外部リードを取り付けることに
よってパッケージ構成を行う技術は既に開示されている
が(例えば特開平3−64054号公報参照)、本発明
ではインナーリード35と外部リード3とが、上型33
と下型32との間に挟まれるので、別途に取付け方法を
必要とせずに任意の形状の外部リード3を取り付けるこ
とができる。特に、熱硬化性樹脂が冷却するよりも早く
外部リード3の取付を行うことができるので、樹脂の冷
却に起因するパッケージの反り以上の歪を生ずることが
回避される。又、外部リード3の取付け部が樹脂内部に
ある為、より高信頼性で良好な半導体装置を得る事がで
きる。
【0064】実施の形態10.図12は、この発明の実
施の形態10による外部リード取り付け方法を説明する
断面図である。実施の形態9における外部リード3とイ
ンナーリード35とが接続される際の位置決めは、外部
リード3のダムバー36bと、インナーリード35のダ
ムバー36aとが重ね合わせられることで実現される。
【0065】図13は外部リード3及びインナーリード
35の構成を示す斜視図である。インナーリード35に
は凹型の接合部37とダムバー36aとが設けられる。
接合部37はエッチング加工によって形成することがで
きる。また外部リード3には接合部37と係合するガイ
ド38と、ダムバー36bとが設けられている。外部リ
ード3はリード先端部3a及びダムバー36bによって
連結されている。
【0066】インナーリード35に対し、外装メッキを
施された外部リード3が上方より重ね合わされて接合部
37とガイド38が位置決めされ、インナーリード35
のダムバー36aと外部リード3のダムバー36bの位
置が一致する。
【0067】この状態において実施の形態9に示された
ような樹脂封止を行ない、ダムバーカット及びリード先
端部3aをカットすることにより、半導体装置が完成す
る。このような構成のインナーリード35と外部リード
3とを用いることにより、前者に対する後者の取り付け
を高い位置決め精度で行うことができ、より信頼性が高
く良好な半導体装置を提供する事ができる。
【0068】図14は、成形前の外部リード3の構成を
示す斜視図である。連結部39によって外部リード3は
連結されている。図15は図14に示された外部リード
3を図13に示された構成に成形する様子を示す断面図
である。連結部39に対し、図15(a)に示されるよ
うにパンチ40及びダイ41によって切曲げ加工を行っ
て同図(b)に示されるようにガイド38が形成され
る。
【0069】あるいは図16に示すとおり、エッチング
加工によりガイド38を形成する事もできる。
【0070】尚、この実施の形態は本発明の技術的思想
により更に変形可能であり、インナーリード35の接合
部37の形状及び、外部リード3のガイド38の形状等
種々変更しても良く、適宜であってよい。
【0071】また、特にインナーリード35にCu
(銅)系の材料、外部リード3にFe(鉄)系の材料を
使用する事ができる。これによってインナーリード35
によって放熱性の改善を行うとともに、外部リード3の
曲げ強度を確保することができるので、より信頼性が高
い半導体装置を得る事ができる。
【0072】実施の形態11.図17はこの発明の実施
の形態11にかかる外部リード成形装置34bを示す断
面図である。まず同図(a)に示すとおり、互いに重ね
合わされたインナーリード35及び外部リード3を上型
33及び下型32にて挟みつつ、半導体チップ30を空
間300において加圧密閉する。図18は図17(a)
のインナーリード35のダムバー36aと、外部リード
3のダムバー36bの近傍を示す断面図である。
【0073】その後、別駆動の例えば油圧シリンダー7
1によりダムバーカットパンチ42を下降させ、ダムバ
ーカットダイ43と相まってインナーリード35のダム
バー36aと、外部リード3のダムバー36bとを切断
加工する(図17(b))。
【0074】その後、インナーリード35及び外部リー
ド3を上型33及び下型32で挟んだまま、空間300
に熱硬化性樹脂を注入して樹脂封止を行う。ダムバーカ
ットパンチ42がインナーリード35及び外部リード3
に噛み合うので、ダムバー36a,36bが切断されて
もダムバーカットパンチ42がこれらの役目を代替して
果たし、熱硬化性樹脂が空間300から漏れ出すことを
防ぐことができる。
【0075】以上のようにして樹脂封止とダムバーの切
断とを同一の装置34bによってほぼ同時に行うことが
できるので、半導体製造プロセスの簡略化ができ、より
早く半導体製品を提供する事ができる。外装メッキ及び
外部リードの成形は、本実施の形態で示された樹脂封止
及びダムバーの切断の後に行えばよい。
【0076】尚、実施の形態11は本発明の技術的思想
により更に変形可能である。外部リード成形装置34b
や、ダムバーカットパンチ42及びダムバーカットダイ
43の形状等は種々変更しても良く、適宜であってよ
い。
【0077】実施の形態12.図19はこの発明の実施
の形態12にかかる外部リード3dを備えたダミー半導
体装置1dを示す斜視図である。ダミー半導体装置1d
は通常の半導体装置1とほぼ同形を有しており、量産工
程中の半導体装置1に混じって成形工程を受ける。外部
リード3dはリードフレーム素材16で構成されてお
り、その表面に外装メッキ(ハンダメッキ)は施されて
いない。
【0078】このダミー半導体装置1dの外部リード3
dの成形加工を、通常の半導体装置1のそれと混在して
行う。外部リード3d(即ちリードフレーム素材16)
の表面の摩擦強度と、外部リード成形装置に付着したハ
ンダメッキクズ等の異物表面の摩擦強度との差を利用し
て、外部リード成形装置に付着したハンダメッキクズ等
の異物を成形装置から研削除去することができる。
【0079】なお、通常の半導体装置の外部リードに施
された外装メッキ材とは異なるメッキ材を用いてメッキ
が施された外部リードを備えたダミー半導体装置を、量
産工程中の通常の半導体装置の間に混入させて成形工程
を受けさせる技術がある(例えば特開平2−45966
号公報参照)。これはダミー半導体装置の外部リードの
成形加工を行い、メッキ材の異なりによる付着力の差異
を利用して、外部リード成形装置に付着したハンダメッ
キクズ等の異物を加工装置より引き剥がし、量産工程中
の半導体装置の外部リードへの異物付着を防止するもの
である。
【0080】しかし本実施の形態では、樹脂封止後、外
装メッキ処理を施される前のリードフレーム素材16の
ままのダミー半導体装置1dを用いるので、外装メッキ
処理工程を省略することができるという利点がある。従
って、量産工程中の通常の半導体装置1の外部リード3
への異物付着を防止することが、より早く安価に可能と
なる。
【0081】実施の形態13.実施の形態13は実施の
形態12で紹介された、リードフレーム素材16で構成
された外部リード3dの表面に凹凸加工を行う技術を紹
介する。
【0082】図20は実施の形態13にかかる外部リー
ド3dを示す斜視図である。外部リード3dの表面に、
スリット加工44を施す事により、研削除去効果を向上
させる事ができる。
【0083】図21はこのようなスリット加工44を行
う工程を示す断面図である。成形パンチ45a及び成形
ダイ46aの表面には微細な突起が設けられている。両
者で外部リード3dを挟んで加圧することにより、短時
間で確実にスリット加工44を施すことができる。
【0084】図22は本実施の形態の変形を示す斜視図
である。外部リード3dの表面に、ステップ加工47を
施す事により、研削除去効果を向上させる事ができる。
【0085】図23はこのようなステップ加工47を行
う工程を示す断面図である。成形パンチ45b及び成形
ダイ46bの表面には互いに噛み合うようにステップ状
の凹凸が設けられている。両者で外部リード3dを挟ん
で加圧することにより、短時間で確実に凹凸加工47を
施すことができる。
【0086】図24は本実施の形態の更に他の変形を示
す斜視図である。外部リード3dの表面に、穴加工48
を施す事により、研削除去効果を向上させる事ができ
る。
【0087】図25はこのような穴加工48を行う工程
を示す断面図である。成形パンチ45c及び成形ダイ4
6cのいずれにも、複数のピン49が内蔵されている。
押さえプレート50を用いて、成形パンチ45c及び成
形ダイ46cで外部リード3dを挟んで加圧することに
より、短時間で確実に穴加工48を施すことができる。
【0088】尚、実施の形態13は、本発明の技術的思
想により更に変形可能であり、スリット加工44、ステ
ップ加工47、及び穴加工48の場所、大きさ、深さ、
形状等種々変更しても良く、その加工方法も適宜であっ
てよい。例えば穴加工48はエッチング加工を用いて施
されてもよい。
【0089】実施の形態14.実施の形態12で紹介さ
れたダミー半導体装置1dを用いる替わりに、研磨材を
塗布、又は、染み込ませた布を外部リード成形装置に挿
入してもよい。或いは和紙やゴム板を挿入してもよい。
【0090】このようなシート状の研削体の表面の摩擦
強度と、外部リード成形装置に付着したハンダメッキク
ズ等の異物表面の摩擦強度との差を利用して、外部リー
ド成形装置に付着したハンダメッキクズ等の異物を成形
装置から研削除去することができる。
【0091】実施の形態14は、本発明の技術的思想に
より更に変形可能であり、研磨剤や布、紙の種類、形
状、硬さ、厚さ等種々変更しても良く、適宜であってよ
い。但し、厚さは、リードフレームの厚さよりも50〜
100μm程度厚いものが望ましい。
【0092】実施の形態15.図26はこの発明の実施
の形態15にかかるハンダ屑取り装置を示す斜視図及び
断面図である。同図(a)は外部リード成形装置によっ
て外部リード3が成形加工された半導体装置1を示して
いる。
【0093】外部リード3には成形パンチや成形ダイか
ら脱落したハンダメッキクズ24が付着している。これ
はリード間ショート不良を発生させることになる。かか
る半導体装置1に対し、その外部リード3に対応した間
隔の櫛刃状のパンチ51を、異物除去体として外部リー
ド3の間に挿入する。これによって、外部リード3から
はみ出しているハンダメッキクズ24等の異物を短時間
で確実に除去する事ができ、信頼性が高い半導体装置を
提供する事ができる。
【0094】このような櫛刃状のパンチ51は、例えば
同図(b)に示されるように、従来の技術で示された外
部リード成形装置2において、成形パンチ7の代わりに
取付けることができる。外部リード成形装置2のパンチ
ホルダー12の上下動作に合わせて櫛刃状のパンチ51
が上下する。同図(b)ではパンチホルダー12が上方
に移動している状態を示している。
【0095】図27はハンダ屑取り装置の部分断面図で
あり、同図(a)は櫛刃状のパンチ51が上方に移動し
ている状態を、同図(b)は櫛刃状のパンチ51が下方
に移動している状態を、それぞれ示している。外部リー
ド3の表面に再付着したハンダメッキクズ24等の異物
は櫛刃状のパンチ51により切断・除去され、短時間で
確実に除去する事ができる。従って信頼性が高い半導体
装置を提供する事ができる。
【0096】勿論、異物除去体としてはパンチでなく、
ダイを採用することもできる。図28はハンダ屑取り装
置の断面図であり、同図(a)は櫛刃状のダイ53に対
して外部リード3がはまっていない状態を、同図(b)
は櫛刃状のダイ53に対して外部リード3がはまってい
る状態を、それぞれ示している。図29は、上記ハンダ
屑取り装置の部分的断面図であり、同図(a),(b)
はそれぞれ図28(a),(b)に対応している。
【0097】受け54はバネ55によって支えられてお
り、受け54には半導体装置1が載置されている。半導
体装置1はピン52によって下方へ押しつけられ、バネ
55を圧縮させながら、上方へと向けられて固定された
櫛刃状のダイ53の刃と刃の間を外部リード3が下方へ
と通過する。その後、ピン52による半導体装置1の押
しつけを解除すると、バネ55の復原力によって、櫛刃
状のダイ53の刃と刃の間を上方へと外部リード3が通
過する。
【0098】この動作によって、外部リード3は固定さ
れた櫛刃状ダイ53の間を通過することになり、外部リ
ード3の表面に付着したハンダメッキクズ24等の異物
が櫛刃状ダイ53により切断されて除去され、短時間で
確実に除去する事ができる。
【0099】ピン52は例えば従来の技術で示された外
部リード成形装置2において、リード押え14に設ける
ことができる。また櫛刃状のダイ53、受け54、バネ
55を成形ダイ4と置換することができる。
【0100】尚、実施の形態15は、本発明の技術的思
想により更に変形可能であり、ハンダ屑取り装置の形状
や櫛刃状パンチ51、櫛刃状ダイ53の形状・材質の変
更・コーティング材の有無等、種々変更しても良く、適
宜であって良い。
【0101】実施の形態16.実施の形態15において
は異物除去体として固体たるパンチやダイを採用した
が、異物除去体としては気体などの流体であってもよ
い。
【0102】図30及び図31は、それぞれ実施の形態
16にかかる高圧エアー吹き付け装置56を示す斜視図
及び断面図である。エアー配管59にはエアーノズル6
0が取り付けられ、エアーノズル60には吹き出し口5
8aが設けられている。エアー配管59から供給された
高圧エアー61はエアーノズル60を介して吹き出し口
58aに達する。吹き出し口58aは外部リード3の間
に高圧エアー61を吹き付けるように配置されている。
【0103】図31に示されるように、リード3を有す
る半導体装置1は位置決めダイ57上に載置される。例
えば半導体装置1は吸着搬送によってダイ57上に搬送
される。また、外部リード3から離れた待機位置Aと、
外部リード3の間の根元近傍で高圧エアー61を吹き付
ける位置Bとの間で、エアーノズル60は回転しつつ、
外部リード3と平行に移動することができる。
【0104】従って、高圧エアー61は外部リード3の
形状を損なうことなく、外部リード3からはみ出してい
るハンダメッキクズ24等の異物を短時間で確実に除去
することができる。
【0105】なお、実施の形態16は本発明の技術的思
想により更に変形可能であり、エアーノズル60の形状
や動作、エアー圧力や噴射速度などを種々変更しても良
く、付着異物に合わせて適宜であってよい。例えば高圧
エアー61の圧力は4〜6kg/cm2に設定することができ
る。
【0106】実施の形態17.実施の形態15において
は異物除去体として固体たるパンチやダイを採用した
が、異物除去体としては液体などの流体であってもよ
い。
【0107】図32及び図33は、それぞれ実施の形態
17にかかる高圧水吹き付け装置62を示す斜視図及び
断面図である。配水管63には水圧ノズル64が取り付
けられ、水圧ノズル64には吹き出し口58bが設けら
れている。配水管63から供給された高圧水65は水圧
ノズル64を介して吹き出し口58bに達する。吹き出
し口58bは外部リード3の間に高圧水65を吹き付け
るように配置されている。
【0108】図33に示されるように、実施の形態16
と同様、リード3を有する半導体装置1は位置決めダイ
57上に載置される。また実施の形態16と同様に待機
位置Aと、位置Bとの間で、水圧ノズル64は回転しつ
つ、外部リード3と平行に移動することができる。
【0109】従って、高圧水65は外部リード3の形状
を損なうことなく、外部リード3からはみ出しているハ
ンダメッキクズ24等の異物を短時間で確実に除去する
ことができる。
【0110】なお、実施の形態17は本発明の技術的思
想により更に変形可能であり、水圧ノズル64の形状や
動作、水圧や噴射速度などを種々変更しても良く、付着
異物に合わせて適宜であってよい。例えば高圧水65の
圧力は10〜20kg/cm2に設定することができる。
【0111】実施の形態18.図34はこの実施の形態
18にかかる超音波手直し機66を示す概念図である。
半導体装置(図示されない)は、その有する外部リード
3を露出しつつ、専用パック67aにて覆われる。専用
パック67aは複数個が専用トレー67bに載置でき、
スタンド70によって立てられつつ、超音波発振機69
に入れられた液体68中に浸される。
【0112】このようにして外部リード3のみに液体6
8を触れさせ、液体68を介して超音波振動が与えられ
るので、半導体装置に液体68が浸入することなく、外
部リード3に付着したハンダメッキクズ等の異物を短時
間で確実に除去する事ができ、信頼性の高い半導体装置
を提供する事ができる。
【0113】尚、実施の形態18は本発明の技術的思想
により更に変形可能であり、超音波発振機や専用トレー
の形状、使用する液体の種類、超音波の出力や周波数、
発振時間等も種々変更しても良く、付着異物に合わせて
適宜であって良い。例えば上述の超音波の設定は、出力
が150W程度、周波数36KHzが最良である。ま
た、超音波の発振時間は3分〜5分に設定することがで
きる。
【0114】実施の形態19.図35は本実施の形態1
9にかかる半導体装置の部分的斜視図である。外部リー
ド3はその先端近傍に不要リード部71を備えている。
【0115】従来の技術において問題点として指摘され
たように、外部リード3を成形する成形パンチや成形ダ
イからハンダメッキクズ24が脱落し、外部リード3表
面に再付着する。本実施の形態ではハンダメッキクズ2
4等の異物を、半導体装置1の最終的な製品形状には無
関係な不要リード部71に付着させ、その不要リード部
71を外部リード3の成形が完了した後に、例えば切断
線XXに沿って切断して除去する。
【0116】これによって、短時間で確実にハンダメッ
キクズ24等の異物を除去する事ができ、信頼性が高い
半導体装置を提供する事ができる。
【0117】まず不要リード部71に異物を付着させる
技術について説明する。図36はかかる技術を説明する
断面図である。凹部である逃がし加工72が施された成
形ダイ4に半導体装置1が載置されている。成形ダイ4
は、半導体装置1近傍において外部リード3の根元を支
持する突起4bを有している。かかる成形ダイ4は、従
来の技術で示された外部リード成形装置2において設け
ることができる。
【0118】成形ダイ4と成形パンチ7とは不要リード
部71で外部リード3を加圧して挟み込む一方、突起4
bが外部リード3の根元を支持しているため、外部リー
ド3は図で示されるように屈曲する。
【0119】外部リード3のうち、成形パンチ7と接触
する部分であって、かつ最終的な製品形状となる部分の
下方に、逃がし加工72が設けられる。具体的には逃が
し加工72は、不要リード部71が外部リード3の先端
近傍に設定されるので、成形ダイ4が成形パンチ7と相
対する領域のうち、半導体装置1の近い側に選択的に設
けられる。
【0120】逃がし加工72の上方に位置する外部リー
ド3は成形ダイ4と接触せず、加圧成形時の成形パンチ
7が外部リード3のこの部分に対する加圧力を軽減する
ことができる。加圧は主として不要リード部71に対し
てなされる。
【0121】従って、まず成形パンチ7へのハンダメッ
キクズ等の異物の付着・堆積を改善することができる。
更に異物の再付着は、この不要リード部71のみでしか
発生しないことになる。つまり、外部リード3のうち最
終的な製品形状となる部分への異物の付着は回避され
る。
【0122】次に異物を付着させた不要リード部71を
除去する技術について説明する。図37はリード切断装
置の構成の一部を示す断面図である。実施の形態15で
示されたのと同様にして、受け54はバネ55によって
支えられており、受け54には例えば吸着搬送により搬
送された半導体装置1が載置される。バネ55は例えば
外部リード成形装置2の下型ダイセット6上に設けるこ
とができる。
【0123】この後、外部リード押え73が下降し、外
部リード3に接触した後は外部リード3と受け54とを
介してバネ55を圧縮させながら外部リード3を固定し
つつ下降動作を行う。外部リード押え73は例えば外部
リード成形装置2の上型ダイセット11に設けることが
できる。
【0124】外部リード押え73と受け54とに挟まれ
て固定された外部リード3は、更に下降することによ
り、下型ダイセット6に固定されたリードカットダイ7
4によって不要リード部71が切断される。不要リード
落し穴75が設けられているので、切断された不要リー
ド部71は、不要リード落し穴75からリード切断装置
の外部へと容易に排除される。
【0125】以上のようにして外部リード3の不要リー
ド部71の表面に再付着したハンダメッキクズ24等の
異物を、不要リード部71毎に短時間で確実に除去する
事ができるので、信頼性の高い半導体装置を提供する事
が出来る。
【0126】尚、実施の形態19は本発明の技術的思想
により更に変形可能であり、不要リード部71の切断方
法や部品の形状、不要リード落し穴75の集塵機構の追
加等を種々変更してもよく、適宜であって良い。
【0127】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、リー
ド成形装置の形状を変更したり、付着異物の除去を装置
化したことにより、外部リードへのハンダメッキクズ等
の異物の再付着を防止、又は、短時間で確実に除去する
事ができる。従って、より高信頼性で良好な半導体装置
を、早く安価に提供する事ができる効果がある。
【0128】この発明のうち請求項1にかかるリード成
形装置によれば、外部リード成形時に生じるクズが成形
パンチ及び成形ダイに付着、堆積、脱落する。これを下
方に落下させることができるので、外部リードへの再付
着を防止する事ができる。
【0129】この発明のうち請求項2にかかるリード成
形装置によれば、外部リード成形時に生じるクズが集塵
穴を介して容易に排出される。
【0130】この発明のうち請求項3にかかるリード成
形装置によれば、外部リード成形時に生じるクズが付着
する部分にエアーブローを与えることができ、クズの外
部リードへの再付着を防止することができる。
【0131】この発明のうち請求項4にかかるリード成
形装置によれば、外部リードの成形によって生じるクズ
を溝に逃がすことにより、クズの外部リードへの再付着
を防止することができる。
【0132】この発明のうち請求項5にかかるリード成
形方法によれば、成形ダイ及び成形パンチの、前記外部
リードに対する接触抵抗が軽減されることによって、外
部リード成形時のクズの生成が抑制される。
【0133】この発明のうち請求項6にかかるリード成
形方法によれば、下型の凹部に成形パンチが進入するこ
とによって外部リードの成形が行われる一方、上型と下
型によって形成される空間において樹脂封止を行うこと
ができるので、同一の装置において樹脂封止及び外部リ
ードの成形を行うことができる。従って半導体装置の製
造工程を減少させることができると共に、外装メッキに
先んじて外部リードの成形を行うので、ハンダメッキク
ズの生成を回避することができる。
【0134】この発明のうち請求項7にかかる外部リー
ドの取り付け方法によれば、別途に取付け方法を必要と
せずに任意の形状の、また異物を予め除いた外部リード
を取り付けることができる。又、取付け部が樹脂内部に
ある為、より高信頼性で良好な半導体装置を得る事がで
きる。
【0135】この発明のうち請求項8にかかる外部リー
ドの取り付け方法によれば、インナーリードに対する外
部リードの取り付けを、精度よく位置を合わせて行うこ
とができる。
【0136】この発明のうち請求項9にかかる外部リー
ドの取り付け方法によれば、インナーリードによって放
熱性の改善を行うとともに、外部リードの曲げ強度を確
保することができる。
【0137】この発明のうち請求項10にかかる外部リ
ードの取り付け方法によれば、樹脂封止とダムバーの切
断とを同一の装置によってほぼ同時に行うことができ
る。従って半導体装置の製造工程を減少させることがで
きる。
【0138】この発明のうち請求項11にかかるリード
成形装置の異物除去方法によれば、外装メッキ処理を施
されていない外部リードの表面の摩擦強度と、リード成
形装置に付着したハンダメッキクズ等の異物表面の摩擦
強度との差を利用して、リード成形装置に付着したハン
ダメッキクズ等の異物をリード成形装置から研削除去す
ることができる。
【0139】この発明のうち請求項12にかかるリード
成形装置の異物除去方法によれば、ダミー半導体装置の
外部リード表面の凹凸により、一層効果的に異物を除去
することができる。
【0140】この発明のうち請求項13にかかる外部リ
ード加工装置によれば、請求項12に記載のリード成形
装置の異物除去方法に用いる外部リードを形成すること
ができる。
【0141】この発明のうち請求項14にかかるリード
成形装置の異物除去方法によれば、研削体の表面の摩擦
強度と、外部リード成形装置に付着したハンダメッキク
ズ等の異物表面の摩擦強度との差を利用して、外部リー
ド成形装置に付着したハンダメッキクズ等の異物を外部
リード成形装置から研削除去することができる。
【0142】この発明のうち請求項15にかかる外部リ
ードの異物除去方法によれば、外部リードからはみ出し
ているハンダメッキクズ等の異物を、外部リードを変形
させることなく短時間で確実に除去する事ができる。
【0143】この発明のうち請求項16にかかる外部リ
ードの異物除去方法によれば、半導体装置の外部リード
のみに液体が浸されるので、半導体装置の本体には液体
が浸入することなく、外部リードに超音波を印加して、
外部リードの間に付着したハンダメッキクズ等の異物を
除去する事ができる。
【0144】この発明のうち請求項17にかかる外部リ
ードの異物除去方法によれば、外部リードの最終的な製
品の形状に異物が付着していないようにすることができ
る。
【0145】この発明のうち請求項18にかかるリード
成形装置によれば、請求項17記載の外部リードの異物
除去方法の工程(a)を実現することができる。
【0146】この発明のうち請求項19にかかるリード
切断装置によれば、請求項17記載の外部リードの異物
除去方法の工程(b)を実現することができる。
【0147】この発明のうち請求項20にかかるリード
切断装置によれば、不要リード部を不要リード落し穴か
らリード切断装置の外部へと容易に排除することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1を示す断面図であ
る。
【図2】 この発明の実施の形態2を示す断面図であ
る。
【図3】 この発明の実施の形態3を示す断面図であ
る。
【図4】 この発明の実施の形態4を示す断面図であ
る。
【図5】 この発明の実施の形態5を示す平面図であ
る。
【図6】 この発明の実施の形態6を示す平面図であ
る。
【図7】 この発明の実施の形態6を示す平面図であ
る。
【図8】 この発明の実施の形態6を示す断面図であ
る。
【図9】 この発明の実施の形態7を示す断面図であ
る。
【図10】 この発明の実施の形態8を示す断面図であ
る。
【図11】 この発明の実施の形態9を説明する断面図
である。
【図12】 この発明の実施の形態10を説明する断面
図である。
【図13】 この発明の実施の形態10を説明する斜視
図である。
【図14】 この発明の実施の形態10を説明する斜視
図である。
【図15】 この発明の実施の形態10を説明する断面
図である。
【図16】 この発明の実施の形態10を説明する斜視
図である。
【図17】 この発明の実施の形態11を示す断面図で
ある。
【図18】 この発明の実施の形態11を示す断面図で
ある。
【図19】 この発明の実施の形態12を示す斜視図で
ある。
【図20】 この発明の実施の形態13を示す斜視図で
ある。
【図21】 この発明の実施の形態13を示す断面図で
ある。
【図22】 この発明の実施の形態13の変形を示す斜
視図である。
【図23】 この発明の実施の形態13の変形を示す断
面図である。
【図24】 この発明の実施の形態13の他の変形を示
す斜視図である。
【図25】 この発明の実施の形態13の他の変形を示
す断面図である。
【図26】 この発明の実施の形態15を示す斜視図及
び断面図である。
【図27】 この発明の実施の形態15を示す断面図で
ある。
【図28】 この発明の実施の形態15を示す断面図で
ある。
【図29】 この発明の実施の形態15を示す断面図で
ある。
【図30】 この発明の実施の形態16を示す斜視図で
ある。
【図31】 この発明の実施の形態16を示す断面図で
ある。
【図32】 この発明の実施の形態17を示す斜視図で
ある。
【図33】 この発明の実施の形態17を示す断面図で
ある。
【図34】 この発明の実施の形態18を示す概念図で
ある。
【図35】 この発明の実施の形態19を示す斜視図で
ある。
【図36】 この発明の実施の形態19を示す断面図で
ある。
【図37】 この発明の実施の形態19を示す断面図で
ある。
【図38】 従来の技術を示す断面図である。
【図39】 従来の技術を示す断面図である。
【図40】 従来の技術を示す断面図である。
【図41】 従来の技術を示す断面図である。
【図42】 従来の技術を示す断面図である。
【図43】 従来の技術を示す斜視図である。
【図44】 従来の技術を示す断面図である。
【図45】 従来の技術を示す平面図である。
【符号の説明】
1 半導体装置、3 外部リード、4,46a,46
b,46c 成形ダイ、7,45a,45b,45c
成形パンチ、4a,7a エアーブロー導入口、25
集塵穴、26a,26b エアーブロー、27a,27
b 溝、29 潤滑剤、30 半導体チップ、31 リ
ードフレーム、32 下型、33 上型、32a 凹
部、33a 空洞、35 インナーリード、36a,3
6b ダムバー、37 接合部、38 ガイド、40
パンチ、41 ダイ、42 ダムバーカットパンチ、4
3 ダムバーカットダイ、44 スリット加工、47
ステップ加工、48 穴加工、51 櫛刃状のパンチ、
53 櫛刃状のダイ、54 受け、56 高圧エアー吹
き付け装置、62 高圧水吹き付け装置、66 超音波
手直し機、67a 専用パック、67b 専用トレー、
68 液体、71 不要リード部、72 逃がし加工、
73 外部リード押え、74 リードカットダイ、75
不要リード落とし穴。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置の外部リードを成形するリー
    ド成形装置であって、 上型ダイセットに成形ダイを、下型ダイセットに成形パ
    ンチを、それぞれ配置させ、前記成形ダイ及び前記成形
    パンチを用いて前記外部リードを上方向に成形すること
    を特徴とするリード成形装置。
  2. 【請求項2】 前記下型ダイセットは集塵穴を有する、
    請求項1記載のリード成形装置。
  3. 【請求項3】 成形ダイ及び成形パンチとを備え、前記
    成形ダイ及び成形パンチによって半導体装置の外部リー
    ドを成形するリード成形装置であって、 前記成形ダイ及び前記成形パンチの少なくとも一方がエ
    アブローを供給する穴を内蔵することを特徴とするリー
    ド成形装置。
  4. 【請求項4】 成形ダイ及び成形パンチとを備え、前記
    成形ダイ及び前記成形パンチによって半導体装置の外部
    リードを成形するリード成形装置であって、 前記成形パンチ及び前記成形ダイの少なくとも一方が、
    前記外部リードと接する部分に隣接して溝が施されてい
    ることを特徴とするリード成形装置。
  5. 【請求項5】 成形ダイ及び成形パンチによって半導体
    装置の外部リードを成形するリード成形方法であって、 前記成形ダイ及び前記成形パンチは、少なくともその前
    記外部リードと接触する部分が接触抵抗を軽減させる液
    体に浸されつつ、前記外部リードを成形するリード成形
    方法。
  6. 【請求項6】 半導体装置の外部リードを成形パンチに
    よって成形するリード成形方法であって、 (a)前記成形パンチが貫通して上下する上型と、前記
    外部リード及び前記成形パンチが進入することを許す凹
    部を有する下型とが相俟って形成する、樹脂によって封
    止するための空間に前記半導体素子を配置する工程と、 (b)前記上型と前記下型との間に前記外部リードを挟
    む工程と、 (c)前記成形パンチが上型内を下降して前記凹部と相
    まって前記外部リードを成形する工程と、 (d)前記工程(c)の後に前記外部リードに外装メッ
    キを施す工程とを備えるリード成形方法。
  7. 【請求項7】 半導体素子を樹脂によって封止するため
    の空間を両者相俟って形成する上型及び下型との間に、
    前記半導体素子に接続されたインナーリードと、外部リ
    ードとを重ね合わせて挟み、前記樹脂によって前記半導
    体素子を封止することによって、前記インナーリードに
    前記外部リードを取り付けることを特徴とする外部リー
    ドの取り付け方法。
  8. 【請求項8】 前記インナーリードは接合部を、前記外
    部リードは前記接合部に係合するガイドを、それぞれ有
    し、 前記接合部及び前記ガイドを係合させて前記インナーリ
    ードと前記外部リードとを位置合わせした後に、前記樹
    脂によって前記半導体素子を封止する請求項7記載の外
    部リードの取り付け方法。
  9. 【請求項9】 前記インナーリードに銅系の材料を、前
    記外部リードに鉄系の材料を使用する事を特徴とする請
    求項8記載の外部リードの取り付け方法。
  10. 【請求項10】 前記上型及び前記下型との間に前記イ
    ンナーリードと、前記外部リードとを重ね合わせて挟ん
    だまま、前記インナーリードのダムバーと、前記外部リ
    ードのダムバーを樹脂封止前に切断する、請求項7記載
    の外部リードの取り付け方法。
  11. 【請求項11】 半導体装置の外部リードを成形するリ
    ード成形装置に対し、外装メッキ処理を施されていない
    外部リードを有するダミー半導体装置を、通常の半導体
    装置と同様に前記リード成形装置へと定期的に挿入する
    ことにより、前記リード成形装置に付着した屑を研削除
    去する、リード成形装置の異物除去方法。
  12. 【請求項12】 前記ダミー半導体装置の有する前記外
    部リードの表面には凹凸加工が施されている、請求項1
    1記載のリード成形装置の異物除去方法。
  13. 【請求項13】 半導体装置の外部リードをその両側か
    ら挟み、前記外部リードの表面に凹凸加工を施す成形パ
    ンチ及び成形ダイを備えた外部リード加工装置。
  14. 【請求項14】 半導体装置の外部リードを成形するリ
    ード成形装置に対し、シート状の研削体を通常の半導体
    装置と同様に前記リード成形装置へと定期的に挿入する
    ことにより、前記リード成形装置に付着した異物を研削
    除去する、リード成形装置の異物除去方法。
  15. 【請求項15】 半導体装置の外部リード間に、前記外
    部リード間に対応した間隔の異物除去体を挿入すること
    により、前記外部リード間に存在した異物を除去する外
    部リードの異物除去方法。
  16. 【請求項16】 半導体装置を、その有する外部リード
    を露出させつつパックで覆い、超音波が伝達する液体中
    に浸す、外部リードの異物除去方法。
  17. 【請求項17】 (a)半導体装置の外部リードの成形
    工程であって、前記外部リードに付着する異物の位置を
    前記外部リードの最終的な製品の形状以外の不要リード
    部に設定する工程と、 (b)前記不要リード部を除去する工程とを備える外部
    リードの異物除去方法。
  18. 【請求項18】 外部リードを有する半導体装置を載置
    する成形ダイと、 前記成形ダイと相まって前記外部リードを成形する成形
    パンチとを備え、 前記成形ダイは、前記成形パンチと相対する領域のう
    ち、前記半導体装置の近い側で選択的に設けられた凹部
    を有し、 前記成形ダイと前記成形パンチとは、前記外部リードの
    先端近傍である不要リード部を加圧して挟みこんで前記
    外部リードの成形を行う、リード成形装置。
  19. 【請求項19】 成形された外部リードを有する半導体
    装置を載置する受けと、 前記受けと相まって、前記外部リードの先端近傍である
    不要リードよりも根元側を挟む外部リード押さえと、 前記外部リードに対して相対的に移動し、前記不要リー
    ド部を切断するリードカットダイとを備えるリード切断
    装置。
  20. 【請求項20】 前記リード切断装置は、前記不要リー
    ドを下方へと落とす不要リード落とし穴を更に備える、
    請求項19記載のリード切断装置。
JP8068179A 1996-03-25 1996-03-25 リード成形方法、リード成形装置、リード成形装置の異物除去方法、リード切断装置、外部リードの取り付け方法、外部リード加工装置、及び外部リードの異物除去方法 Pending JPH09260562A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017152545A (ja) * 2016-02-24 2017-08-31 パナソニックIpマネジメント株式会社 コンデンサ製造方法および異物除去装置
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CN113458241A (zh) * 2021-05-15 2021-10-01 黑龙江省科学院智能制造研究所 一种用于铝合金型材的冲压设备

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