JPH11158126A - 光硬化型防曇組成物用の第4級アンモニウム塩及びその製法並びに光硬化型防曇組成物 - Google Patents
光硬化型防曇組成物用の第4級アンモニウム塩及びその製法並びに光硬化型防曇組成物Info
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- JPH11158126A JPH11158126A JP10162518A JP16251898A JPH11158126A JP H11158126 A JPH11158126 A JP H11158126A JP 10162518 A JP10162518 A JP 10162518A JP 16251898 A JP16251898 A JP 16251898A JP H11158126 A JPH11158126 A JP H11158126A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス、各種プラスティック物質などのよう
な基材に塗布されその基材の表面に防曇性を提供する光
硬化型防曇組成物を提供する。 【解決手段】 光硬化型防曇組成物の主要成分は下記化
学式 【化1】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C6H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、R2 及びR3 は互いに同じか異なり、
R2 及びR3 が同時にHでない条件下で、CH2 =C
(CH3 )COOCH2 CH(OH)CH2 、 CH2 =
CHCOOCH2 CH(OH)CH2 またはHであり、
R4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 C
H2 であり、XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OSO
3 、CH3 COO、CF3 COO、CH3 (CH2 )n
COO(nは1ないし16の整数を示す)、CH3 (C
H2)7 CH=CH(CH2 )7 COO、C6 H5 CO
O、C6 H5 CH(OH)COO、HOOCCH2 CH
(OH)COO,ClまたはBrを示す。)で表される
第4級アンモニウム塩である。
な基材に塗布されその基材の表面に防曇性を提供する光
硬化型防曇組成物を提供する。 【解決手段】 光硬化型防曇組成物の主要成分は下記化
学式 【化1】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C6H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、R2 及びR3 は互いに同じか異なり、
R2 及びR3 が同時にHでない条件下で、CH2 =C
(CH3 )COOCH2 CH(OH)CH2 、 CH2 =
CHCOOCH2 CH(OH)CH2 またはHであり、
R4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 C
H2 であり、XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OSO
3 、CH3 COO、CF3 COO、CH3 (CH2 )n
COO(nは1ないし16の整数を示す)、CH3 (C
H2)7 CH=CH(CH2 )7 COO、C6 H5 CO
O、C6 H5 CH(OH)COO、HOOCCH2 CH
(OH)COO,ClまたはBrを示す。)で表される
第4級アンモニウム塩である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光硬化型防曇組成物
に使用される第4級アンモニウム塩に関するものであ
り、より詳細には、ガラス、各種プラスチック材料など
のような基材の表面に塗布され、その基材の表面に防曇
性を提供する光硬化型防曇組成物に使用される第4級ア
ンモニウム塩、当該第4級アンモニウム塩の製法及び当
該塩を含む光硬化型防曇組成物に関するものである。
に使用される第4級アンモニウム塩に関するものであ
り、より詳細には、ガラス、各種プラスチック材料など
のような基材の表面に塗布され、その基材の表面に防曇
性を提供する光硬化型防曇組成物に使用される第4級ア
ンモニウム塩、当該第4級アンモニウム塩の製法及び当
該塩を含む光硬化型防曇組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】水眼鏡、レンズ、測定機器蓋、窓ガラ
ス、各種フィルムなどの製品が内部と外部との温度差が
大きい環境に置かれると、小さい水滴がこのような製品
の表面に形成される。このような問題点を解決するため
に、製品表面に防曇剤を塗布する方法が提案されてい
る。また、紫外線により硬化される光硬化型防曇組成物
に対する多様の研究が進行されてきた。
ス、各種フィルムなどの製品が内部と外部との温度差が
大きい環境に置かれると、小さい水滴がこのような製品
の表面に形成される。このような問題点を解決するため
に、製品表面に防曇剤を塗布する方法が提案されてい
る。また、紫外線により硬化される光硬化型防曇組成物
に対する多様の研究が進行されてきた。
【0003】過酸化物のような触媒で架橋されたポリビ
ニルアルコールのような親水性物質を含む従来の防曇組
成物が、米国特許第5,262,475号に開示されて
いる。しかし、この組成物の処理温度は約150℃であ
る。従って、高い処理温度のために、この組成物を薄い
フィルムに塗布することが困難である。さらに、架橋さ
れた防曇層は水分との接触時にべたつき次いで垂れ落ち
てしまう。当該層の表面硬度は鉛筆硬度で6Bに過ぎな
い。従って、その層は傷がつきやすく、従って、長期的
に使用できない。
ニルアルコールのような親水性物質を含む従来の防曇組
成物が、米国特許第5,262,475号に開示されて
いる。しかし、この組成物の処理温度は約150℃であ
る。従って、高い処理温度のために、この組成物を薄い
フィルムに塗布することが困難である。さらに、架橋さ
れた防曇層は水分との接触時にべたつき次いで垂れ落ち
てしまう。当該層の表面硬度は鉛筆硬度で6Bに過ぎな
い。従って、その層は傷がつきやすく、従って、長期的
に使用できない。
【0004】他の従来の防曇化方法は、界面活性剤溶液
を基材の表面に塗布することである。しかし、このよう
な方法で処理された基材はただ単に一時的な防曇性を提
供するにすぎない。また、他の従来の防曇化方法は、基
材表面に長期に持続される防曇性を提供するため、高分
子界面活性剤を基材の表面に塗布するものである。
を基材の表面に塗布することである。しかし、このよう
な方法で処理された基材はただ単に一時的な防曇性を提
供するにすぎない。また、他の従来の防曇化方法は、基
材表面に長期に持続される防曇性を提供するため、高分
子界面活性剤を基材の表面に塗布するものである。
【0005】高分子界面活性剤がコーティング組成物に
混入される他の方法も韓国特許公告第95−14730
号に開示されている。しかし、この方法によると、防曇
組成物から残留極性溶媒を除去するために、20秒ない
し180秒の間続行される熱乾燥工程が要求される。さ
らに、当該組成物を硬化させるために、20ないし60
秒の間続行される紫外線照射が要求される。結局、当該
方法は2段階硬化過程及び長い処理時間により生産性が
低下するという欠点を有する。さらに、この方法により
処理された基材の防曇性は1ないし2ヶ月を経ると急激
に減少してしまう。
混入される他の方法も韓国特許公告第95−14730
号に開示されている。しかし、この方法によると、防曇
組成物から残留極性溶媒を除去するために、20秒ない
し180秒の間続行される熱乾燥工程が要求される。さ
らに、当該組成物を硬化させるために、20ないし60
秒の間続行される紫外線照射が要求される。結局、当該
方法は2段階硬化過程及び長い処理時間により生産性が
低下するという欠点を有する。さらに、この方法により
処理された基材の防曇性は1ないし2ヶ月を経ると急激
に減少してしまう。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来技術の前述した問
題点を克服するため、本発明者らは多くの研究を遂行
し、その結果、光硬化性の官能基を含む特定の第4級ア
ンモニウム塩及び光硬化性オリゴマーを含有する防曇組
成物が優れた表面硬度、優れた接着性及び長期に持続さ
れる優れた防曇性を提供することを見い出した。
題点を克服するため、本発明者らは多くの研究を遂行
し、その結果、光硬化性の官能基を含む特定の第4級ア
ンモニウム塩及び光硬化性オリゴマーを含有する防曇組
成物が優れた表面硬度、優れた接着性及び長期に持続さ
れる優れた防曇性を提供することを見い出した。
【0007】従って、本発明は以上のような従来技術の
問題点を解決するためのものであり、本発明の第1の目
的は、優れた表面硬度、優れた接着性及び長期的に持続
される優れた防曇性を有する硬化皮膜が形成できる、光
硬化型防曇組成物の主成分として使用される第4級アン
モニウム塩を提供することにある。
問題点を解決するためのものであり、本発明の第1の目
的は、優れた表面硬度、優れた接着性及び長期的に持続
される優れた防曇性を有する硬化皮膜が形成できる、光
硬化型防曇組成物の主成分として使用される第4級アン
モニウム塩を提供することにある。
【0008】本発明の第2の目的は、前記第4級アンモ
ニウム塩の製造方法を提供することにある。
ニウム塩の製造方法を提供することにある。
【0009】本発明の第3の目的は、優れた表面硬度、
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できる組成物を提供することにあ
る。
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できる組成物を提供することにあ
る。
【0010】本発明の第4の目的は、優れた表面硬度、
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できるハイブリッド組成物を提供す
ることにある。
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できるハイブリッド組成物を提供す
ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記第1の目的を達成す
るために、本発明は、次の化学式I
るために、本発明は、次の化学式I
【化6】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C6H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、R2 及びR3 は互いに同じか異なり、
R2 及びR3 が同時にHでない条件下で、CH2 =C
(CH3 )COOCH2 CH(OH)CH2、CH2 =C
HCOOCH2 CH(OH)CH2 またはHであり、R
4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 CH
2 であり、XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OS
O3 、CH3 COO、CF3 COO、CH3 (CH2 )
n COO(nは1ないし16の整数を示す)、CH
3 (CH2)7 CH=CH(CH2 )7 COO、C6 H
5 COO、C6 H5 CH(OH)COO、HOOCCH
2 CH(OH)COO,ClまたはBrを示す。)で表
される第4級アンモニウム塩を提供する。
(CH2 )n CH2 C6H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、R2 及びR3 は互いに同じか異なり、
R2 及びR3 が同時にHでない条件下で、CH2 =C
(CH3 )COOCH2 CH(OH)CH2、CH2 =C
HCOOCH2 CH(OH)CH2 またはHであり、R
4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 CH
2 であり、XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OS
O3 、CH3 COO、CF3 COO、CH3 (CH2 )
n COO(nは1ないし16の整数を示す)、CH
3 (CH2)7 CH=CH(CH2 )7 COO、C6 H
5 COO、C6 H5 CH(OH)COO、HOOCCH
2 CH(OH)COO,ClまたはBrを示す。)で表
される第4級アンモニウム塩を提供する。
【0012】前記第2の目的を達成するために、本発明
は、上記化学式1の第4級アンモニウム塩の製造方法を
提供し、その方法は、次の段階(a)〜(d) (a)アルキルグリシジルエーテルまたはアルキルフェ
ニルグリシジルエーテルと保護されたジ−2−ヒドロキ
シエチルアミンとを反応させて次の化学式II
は、上記化学式1の第4級アンモニウム塩の製造方法を
提供し、その方法は、次の段階(a)〜(d) (a)アルキルグリシジルエーテルまたはアルキルフェ
ニルグリシジルエーテルと保護されたジ−2−ヒドロキ
シエチルアミンとを反応させて次の化学式II
【化7】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C6H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、Pはアルコール保護基を示す。)で表
される化合物を合成する段階と、(b)前記合成された
前記化学式IIの化合物を脱保護する段階と、(c)前
記脱保護された化合物とグリシジルメタクリレートまた
はグリシジルアクリレートとを反応させる段階と、
(d)前記反応結果物である第3級アミンと一般式R4
Xで表される化合物とを反応させて第4級アンモニウム
塩を得る段階とを含む。
(CH2 )n CH2 C6H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、Pはアルコール保護基を示す。)で表
される化合物を合成する段階と、(b)前記合成された
前記化学式IIの化合物を脱保護する段階と、(c)前
記脱保護された化合物とグリシジルメタクリレートまた
はグリシジルアクリレートとを反応させる段階と、
(d)前記反応結果物である第3級アミンと一般式R4
Xで表される化合物とを反応させて第4級アンモニウム
塩を得る段階とを含む。
【0013】前記第3の目的を達成するために、本発明
は、次の成分(a)〜(d)、(a)前記化学式Iの構
造を有する第4級アンモニウム塩を3ないし40重量
%、(b)少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴ
マーを18ないし90重量%、(c)少なくとも一つの
アクリル基を有する第1モノマーを5ないし40重量
%、(d)ラジカル性光開始剤を2ないし8重量%含む
防曇組成物を提供する。
は、次の成分(a)〜(d)、(a)前記化学式Iの構
造を有する第4級アンモニウム塩を3ないし40重量
%、(b)少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴ
マーを18ないし90重量%、(c)少なくとも一つの
アクリル基を有する第1モノマーを5ないし40重量
%、(d)ラジカル性光開始剤を2ないし8重量%含む
防曇組成物を提供する。
【0014】前記第4の目的を達成するために、本発明
は、次の(a)〜(f) (a)前記化学式Iの構造を有する第4級アンモニウム
塩を3ないし34重量%、(b)少なくとも二つのアク
リル基を有するオリゴマーを4ないし81重量%、
(c)少なくとも一つのアクリル基を有する第1モノマ
ーを6ないし26重量%、(d)少なくとも一つのビニ
ルエーテル基を有する第2モノマーを8ないし26重量
%、(e)カチオン性光開始剤を1ないし5重量%、
(f)ラジカル性光開始剤を1ないし5重量%含むハイ
ブリッド防曇組成物を提供する。
は、次の(a)〜(f) (a)前記化学式Iの構造を有する第4級アンモニウム
塩を3ないし34重量%、(b)少なくとも二つのアク
リル基を有するオリゴマーを4ないし81重量%、
(c)少なくとも一つのアクリル基を有する第1モノマ
ーを6ないし26重量%、(d)少なくとも一つのビニ
ルエーテル基を有する第2モノマーを8ないし26重量
%、(e)カチオン性光開始剤を1ないし5重量%、
(f)ラジカル性光開始剤を1ないし5重量%含むハイ
ブリッド防曇組成物を提供する。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の光硬化型防曇組成物は、
必須成分として、前記化学式1の構造を有する第4級ア
ンモニウム塩を含み、これは1ないし2個のアクリル
基、3個のヒドロキシ基、1個の第4級アンモニウム塩
基及び1個のn−アルキル基またはn−アルキルフェニ
ル基を含む。
必須成分として、前記化学式1の構造を有する第4級ア
ンモニウム塩を含み、これは1ないし2個のアクリル
基、3個のヒドロキシ基、1個の第4級アンモニウム塩
基及び1個のn−アルキル基またはn−アルキルフェニ
ル基を含む。
【0016】本発明の上記化学式(I)で表される第4
級アンモニウム塩は次のような方法で製造される。アル
キルグリシジルエーテルまたはアルキルフェニルグリシ
ジルエーテルと保護されたジー2−ヒドロキシエチルア
ミンとを反応させ、前記化学式IIの化合物を合成す
る。前記合成された化学式IIの化合物を脱保護して、
3個のヒドロキシ基と1個のn−アルキル基またはn−
アルキルフェニル基を有する第3級アミンを得る。得ら
れた第3級アミンに酢酸、三弗化酢酸、安息香酸、カプ
リン酸、マンデル酸、オレイン酸、ステアリン酸、リン
ゴ酸、ジメチルスルフェート、ジエチルスルフェート、
塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、臭化メチル、
臭化エチル及び臭化プロピルなどを反応させて前記第4
級アンモニウムを合成する。
級アンモニウム塩は次のような方法で製造される。アル
キルグリシジルエーテルまたはアルキルフェニルグリシ
ジルエーテルと保護されたジー2−ヒドロキシエチルア
ミンとを反応させ、前記化学式IIの化合物を合成す
る。前記合成された化学式IIの化合物を脱保護して、
3個のヒドロキシ基と1個のn−アルキル基またはn−
アルキルフェニル基を有する第3級アミンを得る。得ら
れた第3級アミンに酢酸、三弗化酢酸、安息香酸、カプ
リン酸、マンデル酸、オレイン酸、ステアリン酸、リン
ゴ酸、ジメチルスルフェート、ジエチルスルフェート、
塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、臭化メチル、
臭化エチル及び臭化プロピルなどを反応させて前記第4
級アンモニウムを合成する。
【0017】前記化学式Iの化合物は、第4級アンモニ
ウム塩基、3個のヒドロキシ基、1または2個のアクリ
ル基及び長鎖のアルキル基を有する。第4級アンモニウ
ム塩基とヒドロキシ基は親水性である。従って、前記化
学式Iの化合物が含まれた組成物により製造された硬化
皮膜に優れた防曇性を提供する。アクリル基は架橋部と
して作用する。従って、硬化皮膜の表面硬度を高める。
長鎖のアルキル基は疎水性部分として作用して硬化皮膜
の平滑な表面形成を助けて、硬化皮膜が湿分を吸収しす
ぎて弱くなることを防止する。
ウム塩基、3個のヒドロキシ基、1または2個のアクリ
ル基及び長鎖のアルキル基を有する。第4級アンモニウ
ム塩基とヒドロキシ基は親水性である。従って、前記化
学式Iの化合物が含まれた組成物により製造された硬化
皮膜に優れた防曇性を提供する。アクリル基は架橋部と
して作用する。従って、硬化皮膜の表面硬度を高める。
長鎖のアルキル基は疎水性部分として作用して硬化皮膜
の平滑な表面形成を助けて、硬化皮膜が湿分を吸収しす
ぎて弱くなることを防止する。
【0018】本発明による光硬化型防曇組成物は、前記
化学式Iの化合物を3ないし40重量%含む。前記化学
式Iの化合物の含量が3重量%未満であると硬化皮膜の
防曇性ほとんどなくなるため望ましくなく、40重量%
を超過すると硬化皮膜が壊れやすいために望ましくな
い。従って、本発明の光硬化型防曇組成物中の前記化学
式Iの化合物の好適含量は、3ないし40重量%、望ま
しくは6ないし32重量%である。
化学式Iの化合物を3ないし40重量%含む。前記化学
式Iの化合物の含量が3重量%未満であると硬化皮膜の
防曇性ほとんどなくなるため望ましくなく、40重量%
を超過すると硬化皮膜が壊れやすいために望ましくな
い。従って、本発明の光硬化型防曇組成物中の前記化学
式Iの化合物の好適含量は、3ないし40重量%、望ま
しくは6ないし32重量%である。
【0019】当該光硬化型防曇組成物はまたi)少なく
とも2個のアクリル基を有するオリゴマーを含有する。
本発明で用いることができる前記オリゴマーの例とし
て、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなどの化合物が挙げられる。こ
れらのオリゴマーは単独でまたは混合して使用すること
ができる。前記オリゴマーの含量が90重量%を超過す
ると組成物の粘度があまりにも高くて望ましくなく、1
8重量%未満であると硬化皮膜の粘着力が弱くて望まし
くない。従って、防曇組成分中の前記オリゴマーの含量
は、好ましくは18ないし90重量%、より望ましくは
31ないし80重量%である。
とも2個のアクリル基を有するオリゴマーを含有する。
本発明で用いることができる前記オリゴマーの例とし
て、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなどの化合物が挙げられる。こ
れらのオリゴマーは単独でまたは混合して使用すること
ができる。前記オリゴマーの含量が90重量%を超過す
ると組成物の粘度があまりにも高くて望ましくなく、1
8重量%未満であると硬化皮膜の粘着力が弱くて望まし
くない。従って、防曇組成分中の前記オリゴマーの含量
は、好ましくは18ないし90重量%、より望ましくは
31ないし80重量%である。
【0020】光硬化型防曇組成物はまたii)少なくと
も1個のアクリル基を有する第1モノマーを含有する。
本発明で用いることのできる前記第1モノマーの例とし
てはイソボルニルアクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヘキサン
ジオールアクリレート、トリプロピレングリコールジア
クリレート、トリエチロールプロピルトリアクリレート
などの化合物が挙げられる。前記第1モノマーの含量が
40重量%を超過すると、硬化皮膜の粘着力が弱くなり
望ましくなく、5重量%未満であると組成物の粘度が高
くなりすぎて望ましくない。従って、前記第1モノマー
の含量は好ましくは5ないし40重量%、より望ましく
は10ないし30重量%である。
も1個のアクリル基を有する第1モノマーを含有する。
本発明で用いることのできる前記第1モノマーの例とし
てはイソボルニルアクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヘキサン
ジオールアクリレート、トリプロピレングリコールジア
クリレート、トリエチロールプロピルトリアクリレート
などの化合物が挙げられる。前記第1モノマーの含量が
40重量%を超過すると、硬化皮膜の粘着力が弱くなり
望ましくなく、5重量%未満であると組成物の粘度が高
くなりすぎて望ましくない。従って、前記第1モノマー
の含量は好ましくは5ないし40重量%、より望ましく
は10ないし30重量%である。
【0021】光硬化型防曇組成物はまたiii)ラジカ
ル性光開始剤を含有する。本発明で用いることのできる
前記ラジカル性光開始剤の例としては、1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、1−ヒドロキシメチル
エチルフェニルケトンなどの化合物が挙げられる。前記
ラジカル性光開始剤の含量が8重量%を超過すると組成
物の貯蔵安定性が悪くなり望ましくなく、2重量%未満
であると硬化反応が起こりにくくて望ましくない。従っ
て、前記ラジカル性光開始剤の含量は好ましくは2ない
し8重量%、より望ましくは4ないし7重量%である。
ル性光開始剤を含有する。本発明で用いることのできる
前記ラジカル性光開始剤の例としては、1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、1−ヒドロキシメチル
エチルフェニルケトンなどの化合物が挙げられる。前記
ラジカル性光開始剤の含量が8重量%を超過すると組成
物の貯蔵安定性が悪くなり望ましくなく、2重量%未満
であると硬化反応が起こりにくくて望ましくない。従っ
て、前記ラジカル性光開始剤の含量は好ましくは2ない
し8重量%、より望ましくは4ないし7重量%である。
【0022】本発明のハイブリッド光硬化型防曇組成物
は、前記化学式Iの化合物を含む。前記化学式Iの化合
物の含量が3重量%未満であると硬化皮膜に防曇性がほ
とんどなくなり望ましくなく、34重量%を超過すると
硬化皮膜が壊れやすいために望ましくない。従って、本
発明の光硬化型防曇組成物中の前記化学式Iの化合物の
含量は3ないし34重量%、望ましくは4ないし32重
量%である。
は、前記化学式Iの化合物を含む。前記化学式Iの化合
物の含量が3重量%未満であると硬化皮膜に防曇性がほ
とんどなくなり望ましくなく、34重量%を超過すると
硬化皮膜が壊れやすいために望ましくない。従って、本
発明の光硬化型防曇組成物中の前記化学式Iの化合物の
含量は3ないし34重量%、望ましくは4ないし32重
量%である。
【0023】本発明のハイブリッド光硬化型防曇組成物
は、上記したように、i)少なくとも二個のアクリル基
を有するオリゴマーを含む。前記オリゴマーの含量が4
重量%未満であると硬化皮膜の接着力がおちて望ましく
なく、81重量%を超過すると組成物の粘度が高くなり
すぎて望ましくない。従って、防曇組成分中の前記オリ
ゴマーの含量は、好ましくは4ないし81重量%、より
望ましくは10ないし74重量%である。
は、上記したように、i)少なくとも二個のアクリル基
を有するオリゴマーを含む。前記オリゴマーの含量が4
重量%未満であると硬化皮膜の接着力がおちて望ましく
なく、81重量%を超過すると組成物の粘度が高くなり
すぎて望ましくない。従って、防曇組成分中の前記オリ
ゴマーの含量は、好ましくは4ないし81重量%、より
望ましくは10ないし74重量%である。
【0024】本発明のハイブリッド光硬化型防曇組成物
はまたii)少なくとも1個のアクリル基を有する第1
モノマーを含む。前記第1モノマーの含量が6重量%未
満であると、硬化皮膜が壊れやすいために望ましくな
く、26重量%を超過すると硬化皮膜の接着力がおちて
望ましくない。従って、前記第1モノマーの含量は、好
ましくは6ないし26重量%、より望ましくは8ないし
25重量%である。
はまたii)少なくとも1個のアクリル基を有する第1
モノマーを含む。前記第1モノマーの含量が6重量%未
満であると、硬化皮膜が壊れやすいために望ましくな
く、26重量%を超過すると硬化皮膜の接着力がおちて
望ましくない。従って、前記第1モノマーの含量は、好
ましくは6ないし26重量%、より望ましくは8ないし
25重量%である。
【0025】本発明のハイブリッド光硬化型防曇組成物
は、上記したようにiii)ラジカル性光開始剤を含
む。前記ラジカル性光開始剤の含量が1重量%未満であ
ると硬化反応が起こりにくいために望ましくなく、5重
量%を超過すると組成物の貯蔵安定性が低くなり望まし
くない。従って、前記ラジカル性光開始剤の含量は、1
ないし5重量%、望ましくは2ないし4重量%である。
は、上記したようにiii)ラジカル性光開始剤を含
む。前記ラジカル性光開始剤の含量が1重量%未満であ
ると硬化反応が起こりにくいために望ましくなく、5重
量%を超過すると組成物の貯蔵安定性が低くなり望まし
くない。従って、前記ラジカル性光開始剤の含量は、1
ないし5重量%、望ましくは2ないし4重量%である。
【0026】本発明のハイブリッド光硬化型防曇組成物
はまたiv)少なくとも1個のビニルエーテルを有する
第2モノマーを含む。本発明で用いることのできる第2
モノマーの例としてトリエチレングリコールジビニルエ
ーテルなどを挙げることができる。前記第2モノマーの
含量が8重量%未満であると硬化皮膜の表面硬度がおち
て望ましくなく、26重量%を超過すると硬化皮膜が湿
分に敏感になりすぎて望ましくない。従って、前記第2
モノマーの含量は8ないし26重量%、望ましくは10
ないし25重量%である。
はまたiv)少なくとも1個のビニルエーテルを有する
第2モノマーを含む。本発明で用いることのできる第2
モノマーの例としてトリエチレングリコールジビニルエ
ーテルなどを挙げることができる。前記第2モノマーの
含量が8重量%未満であると硬化皮膜の表面硬度がおち
て望ましくなく、26重量%を超過すると硬化皮膜が湿
分に敏感になりすぎて望ましくない。従って、前記第2
モノマーの含量は8ないし26重量%、望ましくは10
ないし25重量%である。
【0027】本発明のハイブリッド光硬化型防曇組成物
はまたv)カチオン性光開始剤を含む。本発明で用いる
られるこのようなカチオン性光開始剤の例として、ビス
(4−ジフェニルスルホニオフェニル)スルフィドビス
ヘキサフルオロリン酸などを挙げることができる。前記
カチオン性光開始剤の含量が1重量%未満であると硬化
皮膜の表面硬度が低下され望ましくなく、5重量%を超
過すると硬化皮膜に色相変色が起こり望ましくない。従
って、前記カチオン性光開始剤の含量は1ないし5重量
%、望ましくは2ないし4重量%である。
はまたv)カチオン性光開始剤を含む。本発明で用いる
られるこのようなカチオン性光開始剤の例として、ビス
(4−ジフェニルスルホニオフェニル)スルフィドビス
ヘキサフルオロリン酸などを挙げることができる。前記
カチオン性光開始剤の含量が1重量%未満であると硬化
皮膜の表面硬度が低下され望ましくなく、5重量%を超
過すると硬化皮膜に色相変色が起こり望ましくない。従
って、前記カチオン性光開始剤の含量は1ないし5重量
%、望ましくは2ないし4重量%である。
【0028】優れた表面硬度と優れた防曇性を有する硬
化皮膜は、前記化学式Iで表示される化合物を従来の光
硬化性コーティング剤(i) ,ii)及びiii )の混合
物)に添加して製造することができる。また、さらに優
れた表面硬度とさらに優れた防曇性を有する硬化皮膜
は、前記化学式Iで表示される化合物をカチオン性光開
始剤とラジカル性光開始剤の両方を含むハイブリッド光
硬化性コーティング剤(i) ,ii),iii ),iv)及び
v)の混合物)に添加して製造することができる。
化皮膜は、前記化学式Iで表示される化合物を従来の光
硬化性コーティング剤(i) ,ii)及びiii )の混合
物)に添加して製造することができる。また、さらに優
れた表面硬度とさらに優れた防曇性を有する硬化皮膜
は、前記化学式Iで表示される化合物をカチオン性光開
始剤とラジカル性光開始剤の両方を含むハイブリッド光
硬化性コーティング剤(i) ,ii),iii ),iv)及び
v)の混合物)に添加して製造することができる。
【0029】以上のような本発明の目的と別の特徴及び
長所などは、次に参照する本発明のいくつかの好適な実
施例に対する以下の説明から明確になるであろう。
長所などは、次に参照する本発明のいくつかの好適な実
施例に対する以下の説明から明確になるであろう。
【0030】
【実施例】以下、合成実施例、合成比較例、実施例及び
比較例をを通して、本発明をより詳細に説明する。しか
し、前記例が本発明の範囲を限定するものではない。〔合成実施例1〕 〔N−{2−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオ
キシ)プロポキシ}エチル,N−(2−ヒドロキシ−3
−ドデシルオキシ)プロピル,N−(2−ヒドロキシ)
エチル、N−メチル]アンモニウムメチルスルフェート
の合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度は55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して内容
物の温度を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオ
リド14.2gをシリンジを使用して加えた。このとき
内容物の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した
後、5℃を維持しながら、内容物を4時間攪拌した。次
いで水とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離
して蒸留すると所望の中間物質を得ることができた。次
いで前記中間物質の温度を90℃に上昇させた後、グリ
シジルメタクリレート11.1gを徐々に加えた。この
とき内容物の温度を100℃以下に維持した。添加が終
了した後、90℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌
した。次いで氷浴を使用して内容物の温度を40℃に下
げた後、ジメチルスルフェート8.7gを滴下した。こ
のとき内容物の温度を45℃以下に維持した。添加が終
了した後2時間攪拌した。このような方法で本合成実施
例による生成物が得られた。
比較例をを通して、本発明をより詳細に説明する。しか
し、前記例が本発明の範囲を限定するものではない。〔合成実施例1〕 〔N−{2−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオ
キシ)プロポキシ}エチル,N−(2−ヒドロキシ−3
−ドデシルオキシ)プロピル,N−(2−ヒドロキシ)
エチル、N−メチル]アンモニウムメチルスルフェート
の合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度は55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して内容
物の温度を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオ
リド14.2gをシリンジを使用して加えた。このとき
内容物の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した
後、5℃を維持しながら、内容物を4時間攪拌した。次
いで水とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離
して蒸留すると所望の中間物質を得ることができた。次
いで前記中間物質の温度を90℃に上昇させた後、グリ
シジルメタクリレート11.1gを徐々に加えた。この
とき内容物の温度を100℃以下に維持した。添加が終
了した後、90℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌
した。次いで氷浴を使用して内容物の温度を40℃に下
げた後、ジメチルスルフェート8.7gを滴下した。こ
のとき内容物の温度を45℃以下に維持した。添加が終
了した後2時間攪拌した。このような方法で本合成実施
例による生成物が得られた。
【0031】前記生成物の核磁気共鳴(NMR)及び粘
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.89(m),1.
25(m),1.94(m),3.18(m),3.6
0(m),3.71(s),4.10(m),5.68
(m),6.14(m)。 粘度(B形粘度計):500cps(30℃)
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.89(m),1.
25(m),1.94(m),3.18(m),3.6
0(m),3.71(s),4.10(m),5.68
(m),6.14(m)。 粘度(B形粘度計):500cps(30℃)
【0032】〔合成実施例2〕 〔N,N−ビス−[{2−(2−ヒドロキシ−3−メタ
クリロイルオキシ)プロポキシ}エチル〕,N−(2−
ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ)プロピル,N−メチ
ル〕アンモニウムメチルスルフェートの合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド1
4.2gをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した後、5
℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を90℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート23.5gを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を95℃以下に維持した。添加が終了した後、95℃を
維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を40℃に下げて、ジメチルスル
フェート8.7gを滴下した。このとき内容物の温度を
45℃以下に維持した。添加が終了した後、内容物を2
時間攪拌した。このような方法で本合成実施例による生
成物が得られた。
クリロイルオキシ)プロポキシ}エチル〕,N−(2−
ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ)プロピル,N−メチ
ル〕アンモニウムメチルスルフェートの合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド1
4.2gをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した後、5
℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を90℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート23.5gを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を95℃以下に維持した。添加が終了した後、95℃を
維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を40℃に下げて、ジメチルスル
フェート8.7gを滴下した。このとき内容物の温度を
45℃以下に維持した。添加が終了した後、内容物を2
時間攪拌した。このような方法で本合成実施例による生
成物が得られた。
【0033】前記生成物の核磁気共鳴(NMR)及び粘
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.87(m),1.
24(m),1.97(m),3.19(m),3.6
0(m),3.71(s),4.11(m),5.61
(m),5.67(m),6.14(m),6.18
(m)。 粘度(B形粘度計):430cps(30℃)
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.87(m),1.
24(m),1.97(m),3.19(m),3.6
0(m),3.71(s),4.11(m),5.61
(m),5.67(m),6.14(m),6.18
(m)。 粘度(B形粘度計):430cps(30℃)
【0034】〔合成実施例3〕 〔N−[{2−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイル
オキシ)プロポキシ}エチル〕,N−(2−ヒドロキシ
−3−ドデシルオキシ)プロピル,N−(2−ヒドロキ
シ)エチル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド1
4.2gをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した後、5
℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を90℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート11.1gを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を100℃以下に維持した。添加が終了した後、90℃
を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水浴
を使用して内容物の温度を40℃に下げてステアリン酸
23.6gを加えた。このとき内容物の温度を40℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を3時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
オキシ)プロポキシ}エチル〕,N−(2−ヒドロキシ
−3−ドデシルオキシ)プロピル,N−(2−ヒドロキ
シ)エチル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド1
4.2gをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した後、5
℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を90℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート11.1gを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を100℃以下に維持した。添加が終了した後、90℃
を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水浴
を使用して内容物の温度を40℃に下げてステアリン酸
23.6gを加えた。このとき内容物の温度を40℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を3時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
【0035】前記生成物の核磁気共鳴(NMR)及び粘
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.89(m),1.
21−1.37(m),1.94−2.04(m),
3.18(m),3.60(m),4.10(m),
5.68(m),6.14(m)。 粘度(B形粘度計;):520cps(30℃)
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.89(m),1.
21−1.37(m),1.94−2.04(m),
3.18(m),3.60(m),4.10(m),
5.68(m),6.14(m)。 粘度(B形粘度計;):520cps(30℃)
【0036】〔合成実施例4〕 ステアリン酸〔N,N−ビス−[{2−(2−ヒドロキ
シ−3−メタクリロイルオキシ)プロポキシ}エチ
ル〕,N−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ)プ
ロピル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド1
4.2gをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した後、5
℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を90℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート23.5gを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を95℃以下に維持した。添加が終了した後、90℃を
維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を40℃に下げてステアリン酸2
3.6gを滴下した。このとき内容物の温度を45℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を2時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
シ−3−メタクリロイルオキシ)プロポキシ}エチ
ル〕,N−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ)プ
ロピル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル20.0gを3つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を50℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン18.2g
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を55
℃以下に維持した。添加が終了した後、55℃を維持し
ながら、内容物を3時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を5℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド1
4.2gをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を10℃以下に維持した。添加が終了した後、5
℃を維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を90℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート23.5gを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を95℃以下に維持した。添加が終了した後、90℃を
維持しながら、内容物を2時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を40℃に下げてステアリン酸2
3.6gを滴下した。このとき内容物の温度を45℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を2時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
【0037】前記生成物の核磁気共鳴(NMR)及び粘
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.87−0.91
(m),1.21−1.35(m),1.97(m),
3.19(m),3.60(m),4.21(m),
4.72(m),5.57(m),6.20(m),
6.27(m)。 粘度(B形粘度計;):440cps(30℃)
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.87−0.91
(m),1.21−1.35(m),1.97(m),
3.19(m),3.60(m),4.21(m),
4.72(m),5.57(m),6.20(m),
6.27(m)。 粘度(B形粘度計;):440cps(30℃)
【0038】〔合成比較例1〕 {N−(2−メタクリロイルオキシ)エチル,N,N−
ジメチル}アンモニウムトリフルオロ酢酸の合成 温度計、還流冷却器、滴下漏斗、テフロンでコーティン
グされた電磁回転棒、電磁攪拌器を備えた3つ口フラス
コに、ジメチルアミノエチルメタクリレート157g
(1モル)を添加して、内容物を氷浴で冷却した。内容
物が10℃以下に冷却された後、トリフルオロ酢酸11
4g(1モル)を滴下漏斗を利用して徐々に落としなが
ら反応温度が30℃を超えないようにした。添加が完了
した後、反応温度を室温に上げた後、反応混合物を1時
間攪拌した。このような方法で本合成比較例の生成物が
得られた。
ジメチル}アンモニウムトリフルオロ酢酸の合成 温度計、還流冷却器、滴下漏斗、テフロンでコーティン
グされた電磁回転棒、電磁攪拌器を備えた3つ口フラス
コに、ジメチルアミノエチルメタクリレート157g
(1モル)を添加して、内容物を氷浴で冷却した。内容
物が10℃以下に冷却された後、トリフルオロ酢酸11
4g(1モル)を滴下漏斗を利用して徐々に落としなが
ら反応温度が30℃を超えないようにした。添加が完了
した後、反応温度を室温に上げた後、反応混合物を1時
間攪拌した。このような方法で本合成比較例の生成物が
得られた。
【0039】前記生成物の核磁気共鳴(NMR)及び粘
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.87(m),1.
24(m),1.97(m),3.19(m),3.6
0(m),3.71(s),4.11(m),4.67
(m),5.61(m),6.14(m),6.18
(m)。 粘度(B形粘度計):200cps(30℃)
度データは次のようである。 1H NMR(CDCl3 )δ:0.87(m),1.
24(m),1.97(m),3.19(m),3.6
0(m),3.71(s),4.11(m),4.67
(m),5.61(m),6.14(m),6.18
(m)。 粘度(B形粘度計):200cps(30℃)
【0040】前記合成実施例1〜4及びと前記合成比較
例1で製造した化合物と、下記表1の配合比に従った他
の成分とを使用して光硬化型防曇性組成物を製造した。
例1で製造した化合物と、下記表1の配合比に従った他
の成分とを使用して光硬化型防曇性組成物を製造した。
【0041】〔実施例1〕ウレタンアクリレート(商品
名:Sartomer社のCN985B88TM)40重
量%、トリプロピレングリコールジアクリレート(商品
名:Sartomer社のSR306TM)4重量%、ト
リメチロールプロパントリアクリレート(商品名:Sa
rtomer社のSR351TM)5重量%、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名:Ciba
−Geigy社のIrgacure−184TM)3重量
%、ビス[4−ジフェニルスルホニオフェニル]スルフ
ィドビスヘキサフルオロリン酸(商品名:Sartom
er社のCD1011TM)3重量%、トリエチレングリ
コールジビニルエーテル(商品名:ISP社のDVE−
3TM)15重量%及び合成実施例1の化合物30重量%
を混合して防曇組成物を得た。下記表1はその混合比を
示す。
名:Sartomer社のCN985B88TM)40重
量%、トリプロピレングリコールジアクリレート(商品
名:Sartomer社のSR306TM)4重量%、ト
リメチロールプロパントリアクリレート(商品名:Sa
rtomer社のSR351TM)5重量%、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名:Ciba
−Geigy社のIrgacure−184TM)3重量
%、ビス[4−ジフェニルスルホニオフェニル]スルフ
ィドビスヘキサフルオロリン酸(商品名:Sartom
er社のCD1011TM)3重量%、トリエチレングリ
コールジビニルエーテル(商品名:ISP社のDVE−
3TM)15重量%及び合成実施例1の化合物30重量%
を混合して防曇組成物を得た。下記表1はその混合比を
示す。
【0042】〔実施例2〜12〕下記表1の成分を使用
して前記実施例1の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
して前記実施例1の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
【0043】〔比較例1〜3〕下記表1の成分を使用し
て前記実施例1の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
て前記実施例1の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
【0044】
【表1】 ここで、ウレタンアクリレートはSartomer社の
商品名CN985B88 TMであり、TPGDAはトリプ
ロピレングリコールジアクリレート(商品名:Sart
omer社のSR306TM)であり、TMPTAはトリ
メチロールプロパントリアクリレート(商品名:Sar
tomer社のSR351TM)であり、IRGACUR
E−184は1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン(商品名:Ciba−Geigy社のIRG−18
4TM)であり、CD1011はビス[4−ジフェニルス
ルホニオフェニル]スルフィドビスヘキサフルオロリン
酸(商品名:Sartomer社のCD1011TM)で
あり、DVE−3はトリエチレングリコールジビニルエ
ーテル(商品名:ISP社のDVE−3TM製品)であ
る。
商品名CN985B88 TMであり、TPGDAはトリプ
ロピレングリコールジアクリレート(商品名:Sart
omer社のSR306TM)であり、TMPTAはトリ
メチロールプロパントリアクリレート(商品名:Sar
tomer社のSR351TM)であり、IRGACUR
E−184は1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン(商品名:Ciba−Geigy社のIRG−18
4TM)であり、CD1011はビス[4−ジフェニルス
ルホニオフェニル]スルフィドビスヘキサフルオロリン
酸(商品名:Sartomer社のCD1011TM)で
あり、DVE−3はトリエチレングリコールジビニルエ
ーテル(商品名:ISP社のDVE−3TM製品)であ
る。
【0045】〔試験片の製作〕前記実施例1ないし12
の組成物及び前記比較例1ないし3の組成物をガラス又
はポリエステルフィルム上にコーティングした。コーテ
ィングしたフィルムを紫外線乾燥機に通過させ硬化皮膜
を得た。
の組成物及び前記比較例1ないし3の組成物をガラス又
はポリエステルフィルム上にコーティングした。コーテ
ィングしたフィルムを紫外線乾燥機に通過させ硬化皮膜
を得た。
【0046】〔試験片の試験〕 〔硬化度〕ガラス板に乾燥皮膜の厚さが5μmになるよ
うにコーティングした後、該コーティングしたガラス板
を紫外線ランプ(300mJ/cm2)に一回通過させた
後、硬化皮膜状態を評価した。
うにコーティングした後、該コーティングしたガラス板
を紫外線ランプ(300mJ/cm2)に一回通過させた
後、硬化皮膜状態を評価した。
【0047】〔粘着力:ASTMD3359−92a〕
ポリエステルフィルムに乾燥皮膜の厚さが5μmになる
ようにコーティングした後、該コーティングしたガラス
板を紫外線ランプ(300mJ/cm2)に一回通過させ
た。得られた硬化皮膜をクロスカットした後、セロハン
テープを使用して付着したり剥がしたり100回行なっ
た後に残っている部分の数を数えた。
ポリエステルフィルムに乾燥皮膜の厚さが5μmになる
ようにコーティングした後、該コーティングしたガラス
板を紫外線ランプ(300mJ/cm2)に一回通過させ
た。得られた硬化皮膜をクロスカットした後、セロハン
テープを使用して付着したり剥がしたり100回行なっ
た後に残っている部分の数を数えた。
【0048】〔防曇性〕KS M 2742に準じて透
明板ガラスに硬化膜を形成した後、水蒸気発生装置に発
生させた水蒸気を硬化膜に届くようにして、硬化膜上に
曇りまたは露が生じるまでの回数を測定した。その結果
を表2に示す。
明板ガラスに硬化膜を形成した後、水蒸気発生装置に発
生させた水蒸気を硬化膜に届くようにして、硬化膜上に
曇りまたは露が生じるまでの回数を測定した。その結果
を表2に示す。
【0049】〔鉛筆硬度〕JIS K540により次の
ような検査により評価した。17種の「UNI」鉛筆
(三菱鉛筆、K.K社生産)を用いた。鉛筆の硬度は9
Hないし1H、F、HB、1Bないし6Bを含んだ17
レベルである。各鉛筆をスクラッチング試験機械に配着
して皮膜層の硬度を検査した。各鉛筆上に1kgの重さ
を載せて0.5mm/sの速度で皮膜層上で移動させ
た。
ような検査により評価した。17種の「UNI」鉛筆
(三菱鉛筆、K.K社生産)を用いた。鉛筆の硬度は9
Hないし1H、F、HB、1Bないし6Bを含んだ17
レベルである。各鉛筆をスクラッチング試験機械に配着
して皮膜層の硬度を検査した。各鉛筆上に1kgの重さ
を載せて0.5mm/sの速度で皮膜層上で移動させ
た。
【0050】前記試験片の試験結果を下記表2に示す。
【表2】
【0051】硬化度判定時、VGは表面のべたつきが全
くなく、メチルエチルケトンで100回擦った場合にお
いて皮膜損傷が全然ない場合であり、Gは表面のべたつ
きは全然ないがメチルエチルケトンで50回擦ったとき
皮膜の若干の損傷が観られ、Fは表面のべたつきはない
がメチルエチルケトンで10回擦ったとき皮膜の若干の
損傷が観られることをいう。
くなく、メチルエチルケトンで100回擦った場合にお
いて皮膜損傷が全然ない場合であり、Gは表面のべたつ
きは全然ないがメチルエチルケトンで50回擦ったとき
皮膜の若干の損傷が観られ、Fは表面のべたつきはない
がメチルエチルケトンで10回擦ったとき皮膜の若干の
損傷が観られることをいう。
【0052】前記表2からわかるように、実施例1ない
し12による組成物でコーティングした皮膜は防曇性が
大変優れ(20回以上通過)、表面硬度が大変優れるが
(鉛筆硬度1−4H水準)、実施例1,5,11及び1
2による組成物でコーティングした皮膜は硬化度が若干
落ちる。比較例1による組成物を使用してコーティング
した皮膜は防曇性が全然なく、表面硬度がよくない(鉛
筆硬度が1B水準)。比較例2、3による組成物でコー
ティングした皮膜は少しの防曇性を有し(2ないし5回
以上通過)表面硬度に劣る(鉛筆硬度が2Bないし3B
水準)。
し12による組成物でコーティングした皮膜は防曇性が
大変優れ(20回以上通過)、表面硬度が大変優れるが
(鉛筆硬度1−4H水準)、実施例1,5,11及び1
2による組成物でコーティングした皮膜は硬化度が若干
落ちる。比較例1による組成物を使用してコーティング
した皮膜は防曇性が全然なく、表面硬度がよくない(鉛
筆硬度が1B水準)。比較例2、3による組成物でコー
ティングした皮膜は少しの防曇性を有し(2ないし5回
以上通過)表面硬度に劣る(鉛筆硬度が2Bないし3B
水準)。
【0053】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明による光
硬化型防曇組成物をガラス、各種プラスチック材料など
の表面に塗布して形成された硬化皮膜は優れた表面硬
度、優れた粘着力及び長期的に持続される優れた防曇性
を有する長所がある。
硬化型防曇組成物をガラス、各種プラスチック材料など
の表面に塗布して形成された硬化皮膜は優れた表面硬
度、優れた粘着力及び長期的に持続される優れた防曇性
を有する長所がある。
【0054】本発明を実施例によって詳細に説明した
が、本発明は実施例によって限定されず、本発明が属す
る技術分野において通常の知識を有するものであれば本
発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正また
は変更できる。
が、本発明は実施例によって限定されず、本発明が属す
る技術分野において通常の知識を有するものであれば本
発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正また
は変更できる。
フロントページの続き (72)発明者 金 相根 大韓民国京畿道城南市盆唐区亭子洞青丘ア パート103棟1702号 (72)発明者 申 恩▲あ▼ 大韓民国ソウル特別市麻浦区城山2洞城山 大宇アパート25棟601号
Claims (11)
- 【請求項1】 次の化学式I 【化1】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C 6 H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、 R2 及びR3 は互いに同じか異なり、R2 及びR3 が同
時にHでない条件下で、CH2 =C(CH3 )COOC
H2 CH(OH)CH2 、 CH2 =CHCOOCH2 C
H(OH)CH2 またはHであり、 R4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 C
H2 であり、 XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OSO3 、CH3 C
OO、CF3 COO、CH3 (CH2 )n COO(nは
1ないし16の整数を示す)、CH3 (CH2)7 CH
=CH(CH2 )7 COO、C6 H5 COO、C6 H5
CH(OH)COO、HOOCCH2 CH(OH)CO
O,ClまたはBrを示す。)で表される第4級アンモ
ニウム塩。 - 【請求項2】 次の一般式(I) 【化2】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2)nCH2C6H4(nは1ないし16の整数を示
す)であり、 R2 及びR3 は互いに同じか異なり、R2 及びR3 は互
いに同じか異なり、R 2 及びR3 が同時にHでないとい
う条件下で、CH2 =C(CH3 )COOCH 2 CH
(OH)CH2 、CH2 =CHCOOCH2 CH(O
H)CH2 または、Hであり、 R4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 C
H2 であり、 XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OSO3 、CH3 C
OO、CF3 COO、CH3 (CH2 )n COO(nは
1ないし16の整数を示す)、CH3 (CH2)7 CH
=CH(CH2 )7 COO、C6 H5 COO、C6 H5
CH(OH)COO、HOOCCH2 CH(OH)CO
O,ClまたはBrを示す。)で表される第4級アンモ
ニウム塩を製造するにあたり、次の工程(a)〜(d) (a)アルキルグリシジルエーテルまたはアルキルフェ
ニルグリシジルエーテルと保護されたジ−2−ヒドロキ
シエチルアミンとを反応させ下記化学式II 【化3】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C 6 H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、Pはアルコール保護基を示す。)で表
される化合物を合成する段階と、(b)合成された前記
化学式IIの化合物を脱保護する段階と、(c)前記脱
保護された化合物とグリシジルメタクリレートまたはグ
リシジルアクリレートとを反応させる段階と、(d)前
記反応結果物である第3級アミンと一般式R4 Xで表さ
れる化合物とを反応させて第4級アンモニウム塩を得る
段階とを含む化学式Iの第4級アンモニウム塩の製造方
法。 - 【請求項3】 前記アルコール保護基はt−ブチルジメ
チルシリルであることを特徴とする請求項2に記載の第
4級アンモニウム塩の製造方法。 - 【請求項4】 前記一般式R4 Xで表される化合物は、
酢酸、三弗化酢酸、安息香酸、カプリン酸、マンデル
酸、オレイン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、ジメチルス
ルフェート、ジエチルスルフェート、塩化メチル、塩化
エチル、塩化プロピル、臭化メチル、臭化エチル及び臭
化プロピルから成る群より選択されることを特徴とする
請求項2に記載の第4級アンモニウム塩の製造方法。 - 【請求項5】 次の成分(a)〜(d) (a)次の化学式I 【化4】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C 6 H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、 R2 及びR3 は互いに同じであるか異なり、R2 及びR
3 が同時にHでないという条件下で、CH2 =C(CH
3 )COOCH2 CH(OH)CH2 、CH2=CHC
OOCH2 CH(OH)CH2 またはHであり、 R4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 C
H2 であり、 XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OSO3 、CH3 C
OO、CF3 COO、CH3 (CH2 )n COO(nは
1ないし16の整数を示す)、CH3 (CH2)7 CH
=CH(CH2 )7 COO、C6 H5 COO、C6 H5
CH(OH)COO、HOOCCH2 CH(OH)CO
O,ClまたはBrを示す。)で表される第4級アンモ
ニウム塩を3〜40重量%、(b)少なくとも二つのア
クリル基を有するオリゴマーを18ないし90重量%、
(c)少なくとも一つのアクリル基を有する第1モノマ
ーを5ないし40重量%、(d)ラジカル性光開始剤を
2ないし8重量%含むことを特徴とする防曇組成物。 - 【請求項6】 前記オリゴマーは、ウレタンアクリレー
ト、エポキシアクリレート及びポリエステルアクリレー
トから成る群より選択されることを特徴とする請求項5
に記載の防曇組成物。 - 【請求項7】 前記第1モノマーは、イソボニルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート及びトリエチ
ロールプロピルトリアクリレートから成る群より選択さ
れることを特徴とする請求項5に記載の防曇組成物。 - 【請求項8】 前記ラジカル性光開始剤は、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン及び1−ヒドロキシ
メチルエチルフェニルケトンから成る群より選択される
ことを特徴とする請求項5に記載の防曇組成物。 - 【請求項9】 次の成分(a)〜(f) (a)次の化学式I 【化5】 (式中、R1 はCH3 (CH2 )n CH2 またはCH3
(CH2 )n CH2 C 6 H4 (nは1ないし16の整数
を示す)であり、 R2 及びR3 は互いに同じであるか異なり、R2 及びR
3 が同時にHでないという条件下で、CH2 =C(CH
3 )COOCH2 CH(OH)CH2 、CH2=CHC
OOCH2 CH(OH)CH2 またはHであり、 R4 はH、CH3 、CH3 CH2 またはCH3 CH2 C
H2 であり、 XはCH3 OSO3 、CH3 CH2 OSO3 、CH3 C
OO、CF3 COO、CH3 (CH2 )n COO(nは
1ないし16の整数を示す)、CH3 (CH2)7 CH
=CH(CH2 )7 COO、C6 H5 COO、C6 H5
CH(OH)COO、HOOCCH2 CH(OH)CO
O,ClまたはBrを示す。)で表される第4級アンモ
ニウム塩を3〜40重量%、(b)少なくとも二つのア
クリル基を有するオリゴマーを4ないし81重量%、
(c)少なくとも一つのアクリル基を有する第1モノマ
ーを6ないし26重量%、(d)少なくとも一つのビニ
ルエーテル基を有する第2モノマーを8ないし26重量
%、(e)カチオン性光開始剤を1ないし5重量%、
(f)ラジカル性光開始剤を1ないし5重量%含むこと
を特徴とするハイブリッド防曇組成物。 - 【請求項10】 前記第2モノマーは、トリエチレング
リコールジビニルエーテルであることを特徴とする請求
項9に記載のハイブリッド防曇組成物。 - 【請求項11】 前記カチオン性光開始剤は、ビス(4
−フェニルスルホニオフェニル)スルフィドビスヘキサ
フルオロリン酸であることを特徴とする請求項9に記載
のハイブリッド防曇組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970062974A KR100235229B1 (ko) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | 광경화형 방무성 조성물용 4급 암모늄염, 이의 제법 및 이를 포함하는 광경화형 방무성 조성물 |
KR97-62974 | 1997-11-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11158126A true JPH11158126A (ja) | 1999-06-15 |
JP2949112B2 JP2949112B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=19525633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10162518A Expired - Fee Related JP2949112B2 (ja) | 1997-11-26 | 1998-06-10 | 光硬化型防曇組成物用の第4級アンモニウム塩及びその製法並びに光硬化型防曇組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JP2949112B2 (ja) |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013506008A (ja) * | 2009-08-28 | 2013-02-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多官能性カチオンを含む重合性イオン性液体及び静電気防止コーティング |
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---|---|---|---|---|
US20020147127A1 (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-10 | Crompton Corporation | Amine and quaternary ammonium salt derivatives of glycidyl ethers and glycidyl esters |
WO2005103172A2 (en) * | 2004-04-15 | 2005-11-03 | Avery Dennison Corporation | Dew resistant coatings |
JP5800812B2 (ja) | 2009-08-28 | 2015-10-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 重合性イオン液体混合物を含む組成物及び物品並びに硬化方法 |
WO2011025963A1 (en) | 2009-08-28 | 2011-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Optical device with antistatic coating |
US8853338B2 (en) | 2009-12-22 | 2014-10-07 | 3M Innovative Properties Company | Curable dental compositions and articles comprising polymerizable ionic liquids |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02147639A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-06-06 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 防曇フイルム |
JP2860807B2 (ja) * | 1989-12-06 | 1999-02-24 | 株式会社スリーボンド | コーティング剤 |
US5244935A (en) * | 1990-02-26 | 1993-09-14 | Nippon Oil And Fats Co., Ltd. | Composition of ultraviolet curing antifogging agent and process for forming antifogging coating film |
US5262475A (en) * | 1992-05-12 | 1993-11-16 | Film Specialties, Inc. | Hydrophilic compositions which are fog-resistant |
KR960013201B1 (ko) * | 1993-11-16 | 1996-09-30 | 대우전자 주식회사 | 전자렌지의 파워코드취부겸용 라인필터조립브라켓트 |
JPH1143614A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-16 | Nof Corp | 防曇膜及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-11-26 KR KR1019970062974A patent/KR100235229B1/ko not_active IP Right Cessation
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1998
- 1998-06-01 US US09/088,784 patent/US6096925A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-10 JP JP10162518A patent/JP2949112B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 2000-01-07 US US09/479,049 patent/US6176906B1/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013506008A (ja) * | 2009-08-28 | 2013-02-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多官能性カチオンを含む重合性イオン性液体及び静電気防止コーティング |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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US6176906B1 (en) | 2001-01-23 |
JP2949112B2 (ja) | 1999-09-13 |
KR100235229B1 (ko) | 1999-12-15 |
US6096925A (en) | 2000-08-01 |
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