JP2949112B2 - 光硬化型防曇組成物用の第４級アンモニウム塩及びその製法並びに光硬化型防曇組成物 - Google Patents
光硬化型防曇組成物用の第４級アンモニウム塩及びその製法並びに光硬化型防曇組成物Info
- Publication number
- JP2949112B2 JP2949112B2 JP10162518A JP16251898A JP2949112B2 JP 2949112 B2 JP2949112 B2 JP 2949112B2 JP 10162518 A JP10162518 A JP 10162518A JP 16251898 A JP16251898 A JP 16251898A JP 2949112 B2 JP2949112 B2 JP 2949112B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coo
- weight
- integer
- quaternary ammonium
- ammonium salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C217/02—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C217/04—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
- C07C217/28—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having one amino group and at least two singly-bound oxygen atoms, with at least one being part of an etherified hydroxy group, bound to the carbon skeleton, e.g. ethers of polyhydroxy amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光硬化型防曇組成物
に使用される第４級アンモニウム塩に関するものであ
り、より詳細には、ガラス、各種プラスチック材料など
のような基材の表面に塗布され、その基材の表面に防曇
性を提供する光硬化型防曇組成物に使用される第４級ア
ンモニウム塩、当該第４級アンモニウム塩の製法及び当
該塩を含む光硬化型防曇組成物に関するものである。
に使用される第４級アンモニウム塩に関するものであ
り、より詳細には、ガラス、各種プラスチック材料など
のような基材の表面に塗布され、その基材の表面に防曇
性を提供する光硬化型防曇組成物に使用される第４級ア
ンモニウム塩、当該第４級アンモニウム塩の製法及び当
該塩を含む光硬化型防曇組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】水眼鏡、レンズ、測定機器蓋、窓ガラ
ス、各種フィルムなどの製品が内部と外部との温度差が
大きい環境に置かれると、小さい水滴がこのような製品
の表面に形成される。このような問題点を解決するため
に、製品表面に防曇剤を塗布する方法が提案されてい
る。また、紫外線により硬化される光硬化型防曇組成物
に対する多様の研究が進行されてきた。
ス、各種フィルムなどの製品が内部と外部との温度差が
大きい環境に置かれると、小さい水滴がこのような製品
の表面に形成される。このような問題点を解決するため
に、製品表面に防曇剤を塗布する方法が提案されてい
る。また、紫外線により硬化される光硬化型防曇組成物
に対する多様の研究が進行されてきた。
【０００３】過酸化物のような触媒で架橋されたポリビ
ニルアルコールのような親水性物質を含む従来の防曇組
成物が、米国特許第５，２６２，４７５号に開示されて
いる。しかし、この組成物の処理温度は約１５０℃であ
る。従って、高い処理温度のために、この組成物を薄い
フィルムに塗布することが困難である。さらに、架橋さ
れた防曇層は水分との接触時にべたつき次いで垂れ落ち
てしまう。当該層の表面硬度は鉛筆硬度で６Ｂに過ぎな
い。従って、その層は傷がつきやすく、従って、長期的
に使用できない。
ニルアルコールのような親水性物質を含む従来の防曇組
成物が、米国特許第５，２６２，４７５号に開示されて
いる。しかし、この組成物の処理温度は約１５０℃であ
る。従って、高い処理温度のために、この組成物を薄い
フィルムに塗布することが困難である。さらに、架橋さ
れた防曇層は水分との接触時にべたつき次いで垂れ落ち
てしまう。当該層の表面硬度は鉛筆硬度で６Ｂに過ぎな
い。従って、その層は傷がつきやすく、従って、長期的
に使用できない。
【０００４】他の従来の防曇化方法は、界面活性剤溶液
を基材の表面に塗布することである。しかし、このよう
な方法で処理された基材はただ単に一時的な防曇性を提
供するにすぎない。また、他の従来の防曇化方法は、基
材表面に長期に持続される防曇性を提供するため、高分
子界面活性剤を基材の表面に塗布するものである。
を基材の表面に塗布することである。しかし、このよう
な方法で処理された基材はただ単に一時的な防曇性を提
供するにすぎない。また、他の従来の防曇化方法は、基
材表面に長期に持続される防曇性を提供するため、高分
子界面活性剤を基材の表面に塗布するものである。
【０００５】高分子界面活性剤がコーティング組成物に
混入される他の方法も韓国特許公告第９５−１４７３０
号に開示されている。しかし、この方法によると、防曇
組成物から残留極性溶媒を除去するために、２０秒ない
し１８０秒の間続行される熱乾燥工程が要求される。さ
らに、当該組成物を硬化させるために、２０ないし６０
秒の間続行される紫外線照射が要求される。結局、当該
方法は２段階硬化過程及び長い処理時間により生産性が
低下するという欠点を有する。さらに、この方法により
処理された基材の防曇性は１ないし２ヶ月を経ると急激
に減少してしまう。
混入される他の方法も韓国特許公告第９５−１４７３０
号に開示されている。しかし、この方法によると、防曇
組成物から残留極性溶媒を除去するために、２０秒ない
し１８０秒の間続行される熱乾燥工程が要求される。さ
らに、当該組成物を硬化させるために、２０ないし６０
秒の間続行される紫外線照射が要求される。結局、当該
方法は２段階硬化過程及び長い処理時間により生産性が
低下するという欠点を有する。さらに、この方法により
処理された基材の防曇性は１ないし２ヶ月を経ると急激
に減少してしまう。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来技術の前述した問
題点を克服するため、本発明者らは多くの研究を遂行
し、その結果、光硬化性の官能基を含む特定の第４級ア
ンモニウム塩及び光硬化性オリゴマーを含有する防曇組
成物が優れた表面硬度、優れた接着性及び長期に持続さ
れる優れた防曇性を提供することを見い出した。
題点を克服するため、本発明者らは多くの研究を遂行
し、その結果、光硬化性の官能基を含む特定の第４級ア
ンモニウム塩及び光硬化性オリゴマーを含有する防曇組
成物が優れた表面硬度、優れた接着性及び長期に持続さ
れる優れた防曇性を提供することを見い出した。
【０００７】従って、本発明は以上のような従来技術の
問題点を解決するためのものであり、本発明の第１の目
的は、優れた表面硬度、優れた接着性及び長期的に持続
される優れた防曇性を有する硬化皮膜が形成できる、光
硬化型防曇組成物の主成分として使用される第４級アン
モニウム塩を提供することにある。
問題点を解決するためのものであり、本発明の第１の目
的は、優れた表面硬度、優れた接着性及び長期的に持続
される優れた防曇性を有する硬化皮膜が形成できる、光
硬化型防曇組成物の主成分として使用される第４級アン
モニウム塩を提供することにある。
【０００８】本発明の第２の目的は、前記第４級アンモ
ニウム塩の製造方法を提供することにある。
ニウム塩の製造方法を提供することにある。
【０００９】本発明の第３の目的は、優れた表面硬度、
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できる組成物を提供することにあ
る。
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できる組成物を提供することにあ
る。
【００１０】本発明の第４の目的は、優れた表面硬度、
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できる防曇組成物を提供することに
ある。
優れた接着性及び長期的に持続される優れた防曇性を有
する硬化皮膜が形成できる防曇組成物を提供することに
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記第１の目的を達成す
るために、本発明は、次の化学式Ｉ
るために、本発明は、次の化学式Ｉ
【化６】 （式中、Ｒ1 はＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＨ2 またはＣＨ3
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、Ｒ2 及びＲ3 は互いに同じか異なり、
Ｒ2 及びＲ3 が同時にＨでない条件下で、ＣＨ2 ＝Ｃ
（ＣＨ3 ）ＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2、ＣＨ2 ＝Ｃ
ＨＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 またはＨであり、Ｒ
4 はＨ、ＣＨ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 またはＣＨ3 ＣＨ2 ＣＨ
2 であり、ＸはＣＨ3 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＳ
Ｏ3 、ＣＨ3 ＣＯＯ、ＣＦ3 ＣＯＯ、ＣＨ3 （ＣＨ2 ）
n ＣＯＯ（ｎは１ないし１６の整数を示す）、ＣＨ
3 （ＣＨ2）7 ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）7 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ
5 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ、ＨＯＯＣＣＨ
2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ，ＣｌまたはＢｒを示す。）で表
される第４級アンモニウム塩を提供する。
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、Ｒ2 及びＲ3 は互いに同じか異なり、
Ｒ2 及びＲ3 が同時にＨでない条件下で、ＣＨ2 ＝Ｃ
（ＣＨ3 ）ＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2、ＣＨ2 ＝Ｃ
ＨＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 またはＨであり、Ｒ
4 はＨ、ＣＨ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 またはＣＨ3 ＣＨ2 ＣＨ
2 であり、ＸはＣＨ3 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＳ
Ｏ3 、ＣＨ3 ＣＯＯ、ＣＦ3 ＣＯＯ、ＣＨ3 （ＣＨ2 ）
n ＣＯＯ（ｎは１ないし１６の整数を示す）、ＣＨ
3 （ＣＨ2）7 ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）7 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ
5 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ、ＨＯＯＣＣＨ
2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ，ＣｌまたはＢｒを示す。）で表
される第４級アンモニウム塩を提供する。
【００１２】前記第２の目的を達成するために、本発明
は、上記化学式１の第４級アンモニウム塩の製造方法を
提供し、その方法は、次の段階（ａ）〜（ｄ） （ａ）アルキルグリシジルエーテルまたはアルキルフェ
ニルグリシジルエーテルと保護されたジ−２−ヒドロキ
シエチルアミンとを反応させて次の化学式ＩＩ
は、上記化学式１の第４級アンモニウム塩の製造方法を
提供し、その方法は、次の段階（ａ）〜（ｄ） （ａ）アルキルグリシジルエーテルまたはアルキルフェ
ニルグリシジルエーテルと保護されたジ−２−ヒドロキ
シエチルアミンとを反応させて次の化学式ＩＩ
【化７】 （式中、Ｒ1 はＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＨ2 またはＣＨ3
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、Ｐはｔ−ブチルジメチルシリル基を示
す。）で表される化合物を合成する段階と、 （ｂ）前記合成された前記化学式ＩＩの化合物を脱保護
する段階と、 （ｃ）前記脱保護された化合物とグリシジルメタクリレ
ートまたはグリシジルアクリレートとを反応させる段階
と、 （ｄ）前記反応結果物である第３級アミンと一般式Ｒ4
Ｘで表される化合物とを反応させて第４級アンモニウム
塩を得る段階とを含む。
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、Ｐはｔ−ブチルジメチルシリル基を示
す。）で表される化合物を合成する段階と、 （ｂ）前記合成された前記化学式ＩＩの化合物を脱保護
する段階と、 （ｃ）前記脱保護された化合物とグリシジルメタクリレ
ートまたはグリシジルアクリレートとを反応させる段階
と、 （ｄ）前記反応結果物である第３級アミンと一般式Ｒ4
Ｘで表される化合物とを反応させて第４級アンモニウム
塩を得る段階とを含む。
【００１３】前記第３の目的を達成するために、本発明
は、次の成分（ａ）〜（ｄ）、（ａ）前記化学式Ｉの構
造を有する第４級アンモニウム塩を３ないし４０重量
％、（ｂ）少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴ
マーを１８ないし９０重量％、（ｃ）少なくとも一つの
アクリル基を有する第１モノマーを５ないし４０重量
％、（ｄ）ラジカル性光開始剤を２ないし８重量％含む
防曇組成物を提供する。
は、次の成分（ａ）〜（ｄ）、（ａ）前記化学式Ｉの構
造を有する第４級アンモニウム塩を３ないし４０重量
％、（ｂ）少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴ
マーを１８ないし９０重量％、（ｃ）少なくとも一つの
アクリル基を有する第１モノマーを５ないし４０重量
％、（ｄ）ラジカル性光開始剤を２ないし８重量％含む
防曇組成物を提供する。
【００１４】前記第４の目的を達成するために、本発明
は、次の（ａ）〜（ｆ） （ａ）前記化学式Ｉの構造を有する第４級アンモニウム
塩を３ないし３４重量％、 （ｂ）少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴマー
を４ないし８１重量％、 （ｃ）少なくとも一つのアクリル基を有する第１モノマ
ーを６ないし２６重量％、 （ｄ）少なくとも一つのビニルエーテル基を有する第２
モノマーを８ないし２６重量％、 （ｅ）カチオン性光開始剤を１ないし５重量％、 （ｆ）ラジカル性光開始剤を１ないし５重量％ 含む防曇組成物を提供する。
は、次の（ａ）〜（ｆ） （ａ）前記化学式Ｉの構造を有する第４級アンモニウム
塩を３ないし３４重量％、 （ｂ）少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴマー
を４ないし８１重量％、 （ｃ）少なくとも一つのアクリル基を有する第１モノマ
ーを６ないし２６重量％、 （ｄ）少なくとも一つのビニルエーテル基を有する第２
モノマーを８ないし２６重量％、 （ｅ）カチオン性光開始剤を１ないし５重量％、 （ｆ）ラジカル性光開始剤を１ないし５重量％ 含む防曇組成物を提供する。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の光硬化型防曇組成物は、
必須成分として、前記化学式１の構造を有する第４級ア
ンモニウム塩を含み、これは１ないし２個のアクリル
基、３個のヒドロキシ基、１個の第４級アンモニウム塩
基及び１個のｎ−アルキル基またはｎ−アルキルフェニ
ル基を含む。
必須成分として、前記化学式１の構造を有する第４級ア
ンモニウム塩を含み、これは１ないし２個のアクリル
基、３個のヒドロキシ基、１個の第４級アンモニウム塩
基及び１個のｎ−アルキル基またはｎ−アルキルフェニ
ル基を含む。
【００１６】本発明の上記化学式（Ｉ）で表される第４
級アンモニウム塩は次のような方法で製造される。アル
キルグリシジルエーテルまたはアルキルフェニルグリシ
ジルエーテルと保護されたジー２−ヒドロキシエチルア
ミンとを反応させ、前記化学式ＩＩの化合物を合成す
る。前記合成された化学式ＩＩの化合物を脱保護して、
３個のヒドロキシ基と１個のｎ−アルキル基またはｎ−
アルキルフェニル基を有する第３級アミンを得る。得ら
れた第３級アミンに酢酸、三弗化酢酸、安息香酸、カプ
リン酸、マンデル酸、オレイン酸、ステアリン酸、リン
ゴ酸、ジメチルスルフェート、ジエチルスルフェート、
塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、臭化メチル、
臭化エチル及び臭化プロピルなどを反応させて前記第４
級アンモニウムを合成する。
級アンモニウム塩は次のような方法で製造される。アル
キルグリシジルエーテルまたはアルキルフェニルグリシ
ジルエーテルと保護されたジー２−ヒドロキシエチルア
ミンとを反応させ、前記化学式ＩＩの化合物を合成す
る。前記合成された化学式ＩＩの化合物を脱保護して、
３個のヒドロキシ基と１個のｎ−アルキル基またはｎ−
アルキルフェニル基を有する第３級アミンを得る。得ら
れた第３級アミンに酢酸、三弗化酢酸、安息香酸、カプ
リン酸、マンデル酸、オレイン酸、ステアリン酸、リン
ゴ酸、ジメチルスルフェート、ジエチルスルフェート、
塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、臭化メチル、
臭化エチル及び臭化プロピルなどを反応させて前記第４
級アンモニウムを合成する。
【００１７】前記化学式Ｉの化合物は、第４級アンモニ
ウム塩基、３個のヒドロキシ基、１または２個のアクリ
ル基及び長鎖のアルキル基を有する。第４級アンモニウ
ム塩基とヒドロキシ基は親水性である。従って、前記化
学式Ｉの化合物が含まれた組成物により製造された硬化
皮膜に優れた防曇性を提供する。アクリル基は架橋部と
して作用する。従って、硬化皮膜の表面硬度を高める。
長鎖のアルキル基は疎水性部分として作用して硬化皮膜
の平滑な表面形成を助けて、硬化皮膜が湿分を吸収しす
ぎて弱くなることを防止する。
ウム塩基、３個のヒドロキシ基、１または２個のアクリ
ル基及び長鎖のアルキル基を有する。第４級アンモニウ
ム塩基とヒドロキシ基は親水性である。従って、前記化
学式Ｉの化合物が含まれた組成物により製造された硬化
皮膜に優れた防曇性を提供する。アクリル基は架橋部と
して作用する。従って、硬化皮膜の表面硬度を高める。
長鎖のアルキル基は疎水性部分として作用して硬化皮膜
の平滑な表面形成を助けて、硬化皮膜が湿分を吸収しす
ぎて弱くなることを防止する。
【００１８】本発明による光硬化型防曇組成物は、前記
化学式Ｉの化合物を３ないし４０重量％含む。前記化学
式Ｉの化合物の含量が３重量％未満であると硬化皮膜の
防曇性ほとんどなくなるため望ましくなく、４０重量％
を超過すると硬化皮膜が壊れやすいために望ましくな
い。従って、本発明の光硬化型防曇組成物中の前記化学
式Ｉの化合物の好適含量は、３ないし４０重量％、望ま
しくは６ないし３２重量％である。
化学式Ｉの化合物を３ないし４０重量％含む。前記化学
式Ｉの化合物の含量が３重量％未満であると硬化皮膜の
防曇性ほとんどなくなるため望ましくなく、４０重量％
を超過すると硬化皮膜が壊れやすいために望ましくな
い。従って、本発明の光硬化型防曇組成物中の前記化学
式Ｉの化合物の好適含量は、３ないし４０重量％、望ま
しくは６ないし３２重量％である。
【００１９】当該光硬化型防曇組成物はまたｉ）少なく
とも２個のアクリル基を有するオリゴマーを含有する。
本発明で用いることができる前記オリゴマーの例とし
て、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなどの化合物が挙げられる。こ
れらのオリゴマーは単独でまたは混合して使用すること
ができる。前記オリゴマーの含量が９０重量％を超過す
ると組成物の粘度があまりにも高くて望ましくなく、１
８重量％未満であると硬化皮膜の粘着力が弱くて望まし
くない。従って、防曇組成分中の前記オリゴマーの含量
は、好ましくは１８ないし９０重量％、より望ましくは
３１ないし８０重量％である。
とも２個のアクリル基を有するオリゴマーを含有する。
本発明で用いることができる前記オリゴマーの例とし
て、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなどの化合物が挙げられる。こ
れらのオリゴマーは単独でまたは混合して使用すること
ができる。前記オリゴマーの含量が９０重量％を超過す
ると組成物の粘度があまりにも高くて望ましくなく、１
８重量％未満であると硬化皮膜の粘着力が弱くて望まし
くない。従って、防曇組成分中の前記オリゴマーの含量
は、好ましくは１８ないし９０重量％、より望ましくは
３１ないし８０重量％である。
【００２０】光硬化型防曇組成物はまたｉｉ）少なくと
も１個のアクリル基を有する第１モノマーを含有する。
本発明で用いることのできる前記第１モノマーの例とし
てはイソボルニルアクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヘキサン
ジオールアクリレート、トリプロピレングリコールジア
クリレート、トリエチロールプロピルトリアクリレート
などの化合物が挙げられる。前記第１モノマーの含量が
４０重量％を超過すると、硬化皮膜の粘着力が弱くなり
望ましくなく、５重量％未満であると組成物の粘度が高
くなりすぎて望ましくない。従って、前記第１モノマー
の含量は好ましくは５ないし４０重量％、より望ましく
は１０ないし３０重量％である。
も１個のアクリル基を有する第１モノマーを含有する。
本発明で用いることのできる前記第１モノマーの例とし
てはイソボルニルアクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヘキサン
ジオールアクリレート、トリプロピレングリコールジア
クリレート、トリエチロールプロピルトリアクリレート
などの化合物が挙げられる。前記第１モノマーの含量が
４０重量％を超過すると、硬化皮膜の粘着力が弱くなり
望ましくなく、５重量％未満であると組成物の粘度が高
くなりすぎて望ましくない。従って、前記第１モノマー
の含量は好ましくは５ないし４０重量％、より望ましく
は１０ないし３０重量％である。
【００２１】光硬化型防曇組成物はまたｉｉｉ）ラジカ
ル性光開始剤を含有する。本発明で用いることのできる
前記ラジカル性光開始剤の例としては、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、１−ヒドロキシメチル
エチルフェニルケトンなどの化合物が挙げられる。前記
ラジカル性光開始剤の含量が８重量％を超過すると組成
物の貯蔵安定性が悪くなり望ましくなく、２重量％未満
であると硬化反応が起こりにくくて望ましくない。従っ
て、前記ラジカル性光開始剤の含量は好ましくは２ない
し８重量％、より望ましくは４ないし７重量％である。
ル性光開始剤を含有する。本発明で用いることのできる
前記ラジカル性光開始剤の例としては、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、１−ヒドロキシメチル
エチルフェニルケトンなどの化合物が挙げられる。前記
ラジカル性光開始剤の含量が８重量％を超過すると組成
物の貯蔵安定性が悪くなり望ましくなく、２重量％未満
であると硬化反応が起こりにくくて望ましくない。従っ
て、前記ラジカル性光開始剤の含量は好ましくは２ない
し８重量％、より望ましくは４ないし７重量％である。
【００２２】本発明の光硬化型防曇組成物は、前記化学
式Ｉの化合物を含む。前記化学式Ｉの化合物の含量が３
重量％未満であると硬化皮膜に防曇性がほとんどなくな
り望ましくなく、３４重量％を超過すると硬化皮膜が壊
れやすいために望ましくない。従って、本発明の光硬化
型防曇組成物中の前記化学式Ｉの化合物の含量は３ない
し３４重量％、望ましくは４ないし３２重量％である。
式Ｉの化合物を含む。前記化学式Ｉの化合物の含量が３
重量％未満であると硬化皮膜に防曇性がほとんどなくな
り望ましくなく、３４重量％を超過すると硬化皮膜が壊
れやすいために望ましくない。従って、本発明の光硬化
型防曇組成物中の前記化学式Ｉの化合物の含量は３ない
し３４重量％、望ましくは４ないし３２重量％である。
【００２３】本発明の光硬化型防曇組成物は、上記した
ように、ｉ）少なくとも二個のアクリル基を有するオリ
ゴマーを含む。前記オリゴマーの含量が４重量％未満で
あると硬化皮膜の接着力がおちて望ましくなく、８１重
量％を超過すると組成物の粘度が高くなりすぎて望まし
くない。従って、防曇組成分中の前記オリゴマーの含量
は、好ましくは４ないし８１重量％、より望ましくは１
０ないし７４重量％である。
ように、ｉ）少なくとも二個のアクリル基を有するオリ
ゴマーを含む。前記オリゴマーの含量が４重量％未満で
あると硬化皮膜の接着力がおちて望ましくなく、８１重
量％を超過すると組成物の粘度が高くなりすぎて望まし
くない。従って、防曇組成分中の前記オリゴマーの含量
は、好ましくは４ないし８１重量％、より望ましくは１
０ないし７４重量％である。
【００２４】本発明の光硬化型防曇組成物はまたｉｉ）
少なくとも１個のアクリル基を有する第１モノマーを含
む。前記第１モノマーの含量が６重量％未満であると、
硬化皮膜が壊れやすいために望ましくなく、２６重量％
を超過すると硬化皮膜の接着力がおちて望ましくない。
従って、前記第１モノマーの含量は、好ましくは６ない
し２６重量％、より望ましくは８ないし２５重量％であ
る。
少なくとも１個のアクリル基を有する第１モノマーを含
む。前記第１モノマーの含量が６重量％未満であると、
硬化皮膜が壊れやすいために望ましくなく、２６重量％
を超過すると硬化皮膜の接着力がおちて望ましくない。
従って、前記第１モノマーの含量は、好ましくは６ない
し２６重量％、より望ましくは８ないし２５重量％であ
る。
【００２５】本発明の光硬化型防曇組成物は、上記した
ようにｉｉｉ）ラジカル性光開始剤を含む。前記ラジカ
ル性光開始剤の含量が１重量％未満であると硬化反応が
起こりにくいために望ましくなく、５重量％を超過する
と組成物の貯蔵安定性が低くなり望ましくない。従っ
て、前記ラジカル性光開始剤の含量は、１ないし５重量
％、望ましくは２ないし４重量％である。
ようにｉｉｉ）ラジカル性光開始剤を含む。前記ラジカ
ル性光開始剤の含量が１重量％未満であると硬化反応が
起こりにくいために望ましくなく、５重量％を超過する
と組成物の貯蔵安定性が低くなり望ましくない。従っ
て、前記ラジカル性光開始剤の含量は、１ないし５重量
％、望ましくは２ないし４重量％である。
【００２６】本発明の光硬化型防曇組成物はまたｉｖ）
少なくとも１個のビニルエーテルを有する第２モノマー
を含む。本発明で用いることのできる第２モノマーの例
としてトリエチレングリコールジビニルエーテルなどを
挙げることができる。前記第２モノマーの含量が８重量
％未満であると硬化皮膜の表面硬度がおちて望ましくな
く、２６重量％を超過すると硬化皮膜が湿分に敏感にな
りすぎて望ましくない。従って、前記第２モノマーの含
量は８ないし２６重量％、望ましくは１０ないし２５重
量％である。
少なくとも１個のビニルエーテルを有する第２モノマー
を含む。本発明で用いることのできる第２モノマーの例
としてトリエチレングリコールジビニルエーテルなどを
挙げることができる。前記第２モノマーの含量が８重量
％未満であると硬化皮膜の表面硬度がおちて望ましくな
く、２６重量％を超過すると硬化皮膜が湿分に敏感にな
りすぎて望ましくない。従って、前記第２モノマーの含
量は８ないし２６重量％、望ましくは１０ないし２５重
量％である。
【００２７】本発明の光硬化型防曇組成物はまたｖ）カ
チオン性光開始剤を含む。本発明で用いるられるこのよ
うなカチオン性光開始剤の例として、ビス（４−ジフェ
ニルスルホニオフェニル）スルフィドビスヘキサフルオ
ロリン酸などを挙げることができる。前記カチオン性光
開始剤の含量が１重量％未満であると硬化皮膜の表面硬
度が低下され望ましくなく、５重量％を超過すると硬化
皮膜に色相変色が起こり望ましくない。従って、前記カ
チオン性光開始剤の含量は１ないし５重量％、望ましく
は２ないし４重量％である。
チオン性光開始剤を含む。本発明で用いるられるこのよ
うなカチオン性光開始剤の例として、ビス（４−ジフェ
ニルスルホニオフェニル）スルフィドビスヘキサフルオ
ロリン酸などを挙げることができる。前記カチオン性光
開始剤の含量が１重量％未満であると硬化皮膜の表面硬
度が低下され望ましくなく、５重量％を超過すると硬化
皮膜に色相変色が起こり望ましくない。従って、前記カ
チオン性光開始剤の含量は１ないし５重量％、望ましく
は２ないし４重量％である。
【００２８】優れた表面硬度と優れた防曇性を有する硬
化皮膜は、前記化学式Ｉで表示される化合物を従来の光
硬化性コーティング剤（ｉ) ，ii）及びiii ）の混合
物）に添加して製造することができる。また、さらに優
れた表面硬度とさらに優れた防曇性を有する硬化皮膜
は、前記化学式Ｉで表示される化合物をカチオン性光開
始剤とラジカル性光開始剤の両方を含む光硬化性コーテ
ィング剤（ｉ) ，ii），iii ），iv）及びｖ）の混合
物）に添加して製造することができる。
化皮膜は、前記化学式Ｉで表示される化合物を従来の光
硬化性コーティング剤（ｉ) ，ii）及びiii ）の混合
物）に添加して製造することができる。また、さらに優
れた表面硬度とさらに優れた防曇性を有する硬化皮膜
は、前記化学式Ｉで表示される化合物をカチオン性光開
始剤とラジカル性光開始剤の両方を含む光硬化性コーテ
ィング剤（ｉ) ，ii），iii ），iv）及びｖ）の混合
物）に添加して製造することができる。
【００２９】以上のような本発明の目的と別の特徴及び
長所などは、次に参照する本発明のいくつかの好適な実
施例に対する以下の説明から明確になるであろう。
長所などは、次に参照する本発明のいくつかの好適な実
施例に対する以下の説明から明確になるであろう。
【００３０】
【実施例】以下、合成実施例、合成比較例、実施例及び
比較例をを通して、本発明をより詳細に説明する。しか
し、前記例が本発明の範囲を限定するものではない。〔合成実施例１〕 〔Ｎ−｛２−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオ
キシ）プロポキシ｝エチル，Ｎ−（２−ヒドロキシ−３
−ドデシルオキシ）プロピル，Ｎ−（２−ヒドロキシ）
エチル、Ｎ−メチル］アンモニウムメチルスルフェート
の合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度は５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して内容
物の温度を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオ
リド１４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき
内容物の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した
後、５℃を維持しながら、内容物を４時間攪拌した。次
いで水とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離
して蒸留すると所望の中間物質を得ることができた。次
いで前記中間物質の温度を９０℃に上昇させた後、グリ
シジルメタクリレート１１．１ｇを徐々に加えた。この
とき内容物の温度を１００℃以下に維持した。添加が終
了した後、９０℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌
した。次いで氷浴を使用して内容物の温度を４０℃に下
げた後、ジメチルスルフェート８．７ｇを滴下した。こ
のとき内容物の温度を４５℃以下に維持した。添加が終
了した後２時間攪拌した。このような方法で本合成実施
例による生成物が得られた。
比較例をを通して、本発明をより詳細に説明する。しか
し、前記例が本発明の範囲を限定するものではない。〔合成実施例１〕 〔Ｎ−｛２−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオ
キシ）プロポキシ｝エチル，Ｎ−（２−ヒドロキシ−３
−ドデシルオキシ）プロピル，Ｎ−（２−ヒドロキシ）
エチル、Ｎ−メチル］アンモニウムメチルスルフェート
の合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度は５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して内容
物の温度を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオ
リド１４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき
内容物の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した
後、５℃を維持しながら、内容物を４時間攪拌した。次
いで水とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離
して蒸留すると所望の中間物質を得ることができた。次
いで前記中間物質の温度を９０℃に上昇させた後、グリ
シジルメタクリレート１１．１ｇを徐々に加えた。この
とき内容物の温度を１００℃以下に維持した。添加が終
了した後、９０℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌
した。次いで氷浴を使用して内容物の温度を４０℃に下
げた後、ジメチルスルフェート８．７ｇを滴下した。こ
のとき内容物の温度を４５℃以下に維持した。添加が終
了した後２時間攪拌した。このような方法で本合成実施
例による生成物が得られた。
【００３１】前記生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）及び粘
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８９（ｍ），１．
２５（ｍ），１．９４（ｍ），３．１８（ｍ），３．６
０（ｍ），３．７１（ｓ），４．１０（ｍ），５．６８
（ｍ），６．１４（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計）：５００ｃｐｓ（３０℃）
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８９（ｍ），１．
２５（ｍ），１．９４（ｍ），３．１８（ｍ），３．６
０（ｍ），３．７１（ｓ），４．１０（ｍ），５．６８
（ｍ），６．１４（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計）：５００ｃｐｓ（３０℃）
【００３２】〔合成実施例２〕 〔Ｎ，Ｎ−ビス−［｛２−（２−ヒドロキシ−３−メタ
クリロイルオキシ）プロポキシ｝エチル〕，Ｎ−（２−
ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ）プロピル，Ｎ−メチ
ル〕アンモニウムメチルスルフェートの合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド１
４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した後、５
℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を９０℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート２３．５ｇを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を９５℃以下に維持した。添加が終了した後、９５℃を
維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を４０℃に下げて、ジメチルスル
フェート８．７ｇを滴下した。このとき内容物の温度を
４５℃以下に維持した。添加が終了した後、内容物を２
時間攪拌した。このような方法で本合成実施例による生
成物が得られた。
クリロイルオキシ）プロポキシ｝エチル〕，Ｎ−（２−
ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ）プロピル，Ｎ−メチ
ル〕アンモニウムメチルスルフェートの合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド１
４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した後、５
℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を９０℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート２３．５ｇを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を９５℃以下に維持した。添加が終了した後、９５℃を
維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を４０℃に下げて、ジメチルスル
フェート８．７ｇを滴下した。このとき内容物の温度を
４５℃以下に維持した。添加が終了した後、内容物を２
時間攪拌した。このような方法で本合成実施例による生
成物が得られた。
【００３３】前記生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）及び粘
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８７（ｍ），１．
２４（ｍ），１．９７（ｍ），３．１９（ｍ），３．６
０（ｍ），３．７１（ｓ），４．１１（ｍ），５．６１
（ｍ），５．６７（ｍ），６．１４（ｍ），６．１８
（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計）：４３０ｃｐｓ（３０℃）
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８７（ｍ），１．
２４（ｍ），１．９７（ｍ），３．１９（ｍ），３．６
０（ｍ），３．７１（ｓ），４．１１（ｍ），５．６１
（ｍ），５．６７（ｍ），６．１４（ｍ），６．１８
（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計）：４３０ｃｐｓ（３０℃）
【００３４】〔合成実施例３〕 〔Ｎ−［｛２−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイル
オキシ）プロポキシ｝エチル〕，Ｎ−（２−ヒドロキシ
−３−ドデシルオキシ）プロピル，Ｎ−（２−ヒドロキ
シ）エチル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド１
４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した後、５
℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を９０℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート１１．１ｇを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を１００℃以下に維持した。添加が終了した後、９０℃
を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水浴
を使用して内容物の温度を４０℃に下げてステアリン酸
２３．６ｇを加えた。このとき内容物の温度を４０℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を３時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
オキシ）プロポキシ｝エチル〕，Ｎ−（２−ヒドロキシ
−３−ドデシルオキシ）プロピル，Ｎ−（２−ヒドロキ
シ）エチル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド１
４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した後、５
℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を９０℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート１１．１ｇを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を１００℃以下に維持した。添加が終了した後、９０℃
を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水浴
を使用して内容物の温度を４０℃に下げてステアリン酸
２３．６ｇを加えた。このとき内容物の温度を４０℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を３時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
【００３５】前記生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）及び粘
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８９（ｍ），１．
２１−１．３７（ｍ），１．９４−２．０４（ｍ），
３．１８（ｍ），３．６０（ｍ），４．１０（ｍ），
５．６８（ｍ），６．１４（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計；）：５２０ｃｐｓ（３０℃）
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８９（ｍ），１．
２１−１．３７（ｍ），１．９４−２．０４（ｍ），
３．１８（ｍ），３．６０（ｍ），４．１０（ｍ），
５．６８（ｍ），６．１４（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計；）：５２０ｃｐｓ（３０℃）
【００３６】〔合成実施例４〕 ステアリン酸〔Ｎ，Ｎ−ビス−［｛２−（２−ヒドロキ
シ−３−メタクリロイルオキシ）プロポキシ｝エチ
ル〕，Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ）プ
ロピル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド１
４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した後、５
℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を９０℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート２３．５ｇを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を９５℃以下に維持した。添加が終了した後、９０℃を
維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を４０℃に下げてステアリン酸２
３．６ｇを滴下した。このとき内容物の温度を４５℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を２時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
シ−３−メタクリロイルオキシ）プロポキシ｝エチ
ル〕，Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ）プ
ロピル〕アンモニウムステアレートの合成 ドデシルグリシジルエーテル２０．０ｇを３つ口フラス
コに注いで、内容物の温度を５０℃に上昇させた。ジ-t
- ブチルジメチルシリルオキシエチルアミン１８．２ｇ
を該フラスコに滴下した。このとき内容物の温度を５５
℃以下に維持した。添加が終了した後、５５℃を維持し
ながら、内容物を３時間攪拌した。氷浴を使用して温度
を５℃に下げた後、ピリジニウムヒドロフルオリド１
４．２ｇをシリンジを使用して加えた。このとき内容物
の温度を１０℃以下に維持した。添加が終了した後、５
℃を維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで水
とエチルアセテートを添加した後、有機層を分離して蒸
留すると所望の中間物質を得ることができた。前記中間
物質の温度を９０℃に上げた後、グリシジルメタクリレ
ート２３．５ｇを徐々に加えた。このとき内容物の温度
を９５℃以下に維持した。添加が終了した後、９０℃を
維持しながら、内容物を２時間攪拌した。次いで氷浴を
使用して内容物の温度を４０℃に下げてステアリン酸２
３．６ｇを滴下した。このとき内容物の温度を４５℃以
下に維持した。添加が終了した後、内容物を２時間攪拌
した。このような方法で本合成実施例の生成物が得られ
た。
【００３７】前記生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）及び粘
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８７−０．９１
（ｍ），１．２１−１．３５（ｍ），１．９７（ｍ），
３．１９（ｍ），３．６０（ｍ），４．２１（ｍ），
４．７２（ｍ），５．５７（ｍ），６．２０（ｍ），
６．２７（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計；）：４４０ｃｐｓ（３０℃）
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８７−０．９１
（ｍ），１．２１−１．３５（ｍ），１．９７（ｍ），
３．１９（ｍ），３．６０（ｍ），４．２１（ｍ），
４．７２（ｍ），５．５７（ｍ），６．２０（ｍ），
６．２７（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計；）：４４０ｃｐｓ（３０℃）
【００３８】〔合成比較例１〕 ｛Ｎ−（２−メタクリロイルオキシ）エチル，Ｎ，Ｎ−
ジメチル｝アンモニウムトリフルオロ酢酸の合成 温度計、還流冷却器、滴下漏斗、テフロンでコーティン
グされた電磁回転棒、電磁攪拌器を備えた３つ口フラス
コに、ジメチルアミノエチルメタクリレート１５７ｇ
（１モル）を添加して、内容物を氷浴で冷却した。内容
物が１０℃以下に冷却された後、トリフルオロ酢酸１１
４ｇ（１モル）を滴下漏斗を利用して徐々に落としなが
ら反応温度が３０℃を超えないようにした。添加が完了
した後、反応温度を室温に上げた後、反応混合物を１時
間攪拌した。このような方法で本合成比較例の生成物が
得られた。
ジメチル｝アンモニウムトリフルオロ酢酸の合成 温度計、還流冷却器、滴下漏斗、テフロンでコーティン
グされた電磁回転棒、電磁攪拌器を備えた３つ口フラス
コに、ジメチルアミノエチルメタクリレート１５７ｇ
（１モル）を添加して、内容物を氷浴で冷却した。内容
物が１０℃以下に冷却された後、トリフルオロ酢酸１１
４ｇ（１モル）を滴下漏斗を利用して徐々に落としなが
ら反応温度が３０℃を超えないようにした。添加が完了
した後、反応温度を室温に上げた後、反応混合物を１時
間攪拌した。このような方法で本合成比較例の生成物が
得られた。
【００３９】前記生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）及び粘
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８７（ｍ），１．
２４（ｍ），１．９７（ｍ），３．１９（ｍ），３．６
０（ｍ），３．７１（ｓ），４．１１（ｍ），４．６７
（ｍ），５．６１（ｍ），６．１４（ｍ），６．１８
（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計）：２００ｃｐｓ（３０℃）
度データは次のようである。 １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８７（ｍ），１．
２４（ｍ），１．９７（ｍ），３．１９（ｍ），３．６
０（ｍ），３．７１（ｓ），４．１１（ｍ），４．６７
（ｍ），５．６１（ｍ），６．１４（ｍ），６．１８
（ｍ）。 粘度（Ｂ形粘度計）：２００ｃｐｓ（３０℃）
【００４０】前記合成実施例１〜４及びと前記合成比較
例１で製造した化合物と、下記表１の配合比に従った他
の成分とを使用して光硬化型防曇性組成物を製造した。
例１で製造した化合物と、下記表１の配合比に従った他
の成分とを使用して光硬化型防曇性組成物を製造した。
【００４１】〔実施例１〕ウレタンアクリレート（商品
名：Ｓａｒｔｏｍｅｒ社のＣＮ９８５Ｂ８８TM）４０重
量％、トリプロピレングリコールジアクリレート（商品
名：Ｓａｒｔｏｍｅｒ社のＳＲ３０６TM）４重量％、ト
リメチロールプロパントリアクリレート（商品名：Ｓａ
ｒｔｏｍｅｒ社のＳＲ３５１TM）５重量％、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｃｉｂａ
−Ｇｅｉｇｙ社のＩｒｇａｃｕｒｅ−１８４TM）３重量
％、ビス［４−ジフェニルスルホニオフェニル］スルフ
ィドビスヘキサフルオロリン酸（商品名：Ｓａｒｔｏｍ
ｅｒ社のＣＤ１０１１TM）３重量％、トリエチレングリ
コールジビニルエーテル（商品名：ＩＳＰ社のＤＶＥ−
３TM）１５重量％及び合成実施例１の化合物３０重量％
を混合して防曇組成物を得た。下記表１はその混合比を
示す。
名：Ｓａｒｔｏｍｅｒ社のＣＮ９８５Ｂ８８TM）４０重
量％、トリプロピレングリコールジアクリレート（商品
名：Ｓａｒｔｏｍｅｒ社のＳＲ３０６TM）４重量％、ト
リメチロールプロパントリアクリレート（商品名：Ｓａ
ｒｔｏｍｅｒ社のＳＲ３５１TM）５重量％、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｃｉｂａ
−Ｇｅｉｇｙ社のＩｒｇａｃｕｒｅ−１８４TM）３重量
％、ビス［４−ジフェニルスルホニオフェニル］スルフ
ィドビスヘキサフルオロリン酸（商品名：Ｓａｒｔｏｍ
ｅｒ社のＣＤ１０１１TM）３重量％、トリエチレングリ
コールジビニルエーテル（商品名：ＩＳＰ社のＤＶＥ−
３TM）１５重量％及び合成実施例１の化合物３０重量％
を混合して防曇組成物を得た。下記表１はその混合比を
示す。
【００４２】〔実施例２〜１２〕下記表１の成分を使用
して前記実施例１の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
して前記実施例１の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
【００４３】〔比較例１〜３〕下記表１の成分を使用し
て前記実施例１の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
て前記実施例１の方法と同一の方法で防曇組成物を得
た。
【００４４】
【表１】 ここで、ウレタンアクリレートはＳａｒｔｏｍｅｒ社の
商品名ＣＮ９８５Ｂ８８ TMであり、ＴＰＧＤＡはトリプ
ロピレングリコールジアクリレート（商品名：Ｓａｒｔ
ｏｍｅｒ社のＳＲ３０６TM）であり、ＴＭＰＴＡはトリ
メチロールプロパントリアクリレート（商品名：Ｓａｒ
ｔｏｍｅｒ社のＳＲ３５１TM）であり、ＩＲＧＡＣＵＲ
Ｅ−１８４は１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン（商品名：Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社のＩＲＧ−１８
４TM）であり、ＣＤ１０１１はビス［４−ジフェニルス
ルホニオフェニル］スルフィドビスヘキサフルオロリン
酸（商品名：Ｓａｒｔｏｍｅｒ社のＣＤ１０１１TM）で
あり、ＤＶＥ−３はトリエチレングリコールジビニルエ
ーテル（商品名：ＩＳＰ社のＤＶＥ−３TM製品）であ
る。
商品名ＣＮ９８５Ｂ８８ TMであり、ＴＰＧＤＡはトリプ
ロピレングリコールジアクリレート（商品名：Ｓａｒｔ
ｏｍｅｒ社のＳＲ３０６TM）であり、ＴＭＰＴＡはトリ
メチロールプロパントリアクリレート（商品名：Ｓａｒ
ｔｏｍｅｒ社のＳＲ３５１TM）であり、ＩＲＧＡＣＵＲ
Ｅ−１８４は１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン（商品名：Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社のＩＲＧ−１８
４TM）であり、ＣＤ１０１１はビス［４−ジフェニルス
ルホニオフェニル］スルフィドビスヘキサフルオロリン
酸（商品名：Ｓａｒｔｏｍｅｒ社のＣＤ１０１１TM）で
あり、ＤＶＥ−３はトリエチレングリコールジビニルエ
ーテル（商品名：ＩＳＰ社のＤＶＥ−３TM製品）であ
る。
【００４５】〔試験片の製作〕前記実施例１ないし１２
の組成物及び前記比較例１ないし３の組成物をガラス又
はポリエステルフィルム上にコーティングした。コーテ
ィングしたフィルムを紫外線乾燥機に通過させ硬化皮膜
を得た。
の組成物及び前記比較例１ないし３の組成物をガラス又
はポリエステルフィルム上にコーティングした。コーテ
ィングしたフィルムを紫外線乾燥機に通過させ硬化皮膜
を得た。
【００４６】〔試験片の試験〕 〔硬化度〕ガラス板に乾燥皮膜の厚さが５μｍになるよ
うにコーティングした後、該コーティングしたガラス板
を紫外線ランプ（３００ｍＪ／ｃm2）に一回通過させた
後、硬化皮膜状態を評価した。
うにコーティングした後、該コーティングしたガラス板
を紫外線ランプ（３００ｍＪ／ｃm2）に一回通過させた
後、硬化皮膜状態を評価した。
【００４７】〔粘着力：ＡＳＴＭＤ３３５９−９２ａ〕
ポリエステルフィルムに乾燥皮膜の厚さが５μｍになる
ようにコーティングした後、該コーティングしたガラス
板を紫外線ランプ（３００ｍＪ／ｃm2）に一回通過させ
た。得られた硬化皮膜をクロスカットした後、セロハン
テープを使用して付着したり剥がしたり１００回行なっ
た後に残っている部分の数を数えた。
ポリエステルフィルムに乾燥皮膜の厚さが５μｍになる
ようにコーティングした後、該コーティングしたガラス
板を紫外線ランプ（３００ｍＪ／ｃm2）に一回通過させ
た。得られた硬化皮膜をクロスカットした後、セロハン
テープを使用して付着したり剥がしたり１００回行なっ
た後に残っている部分の数を数えた。
【００４８】〔防曇性〕ＫＳ Ｍ ２７４２に準じて透
明板ガラスに硬化膜を形成した後、水蒸気発生装置に発
生させた水蒸気を硬化膜に届くようにして、硬化膜上に
曇りまたは露が生じるまでの回数を測定した。その結果
を表２に示す。
明板ガラスに硬化膜を形成した後、水蒸気発生装置に発
生させた水蒸気を硬化膜に届くようにして、硬化膜上に
曇りまたは露が生じるまでの回数を測定した。その結果
を表２に示す。
【００４９】〔鉛筆硬度〕ＪＩＳ Ｋ５４０により次の
ような検査により評価した。１７種の「ＵＮＩ」鉛筆
（三菱鉛筆、Ｋ．Ｋ社生産）を用いた。鉛筆の硬度は９
Ｈないし１Ｈ、Ｆ、ＨＢ、１Ｂないし６Ｂを含んだ１７
レベルである。各鉛筆をスクラッチング試験機械に配着
して皮膜層の硬度を検査した。各鉛筆上に１ｋｇの重さ
を載せて０．５ｍｍ／ｓの速度で皮膜層上で移動させ
た。
ような検査により評価した。１７種の「ＵＮＩ」鉛筆
（三菱鉛筆、Ｋ．Ｋ社生産）を用いた。鉛筆の硬度は９
Ｈないし１Ｈ、Ｆ、ＨＢ、１Ｂないし６Ｂを含んだ１７
レベルである。各鉛筆をスクラッチング試験機械に配着
して皮膜層の硬度を検査した。各鉛筆上に１ｋｇの重さ
を載せて０．５ｍｍ／ｓの速度で皮膜層上で移動させ
た。
【００５０】前記試験片の試験結果を下記表２に示す。
【表２】
【００５１】硬化度判定時、ＶＧは表面のべたつきが全
くなく、メチルエチルケトンで１００回擦った場合にお
いて皮膜損傷が全然ない場合であり、Ｇは表面のべたつ
きは全然ないがメチルエチルケトンで５０回擦ったとき
皮膜の若干の損傷が観られ、Ｆは表面のべたつきはない
がメチルエチルケトンで１０回擦ったとき皮膜の若干の
損傷が観られることをいう。
くなく、メチルエチルケトンで１００回擦った場合にお
いて皮膜損傷が全然ない場合であり、Ｇは表面のべたつ
きは全然ないがメチルエチルケトンで５０回擦ったとき
皮膜の若干の損傷が観られ、Ｆは表面のべたつきはない
がメチルエチルケトンで１０回擦ったとき皮膜の若干の
損傷が観られることをいう。
【００５２】前記表２からわかるように、実施例１ない
し１２による組成物でコーティングした皮膜は防曇性が
大変優れ（２０回以上通過）、表面硬度が大変優れるが
（鉛筆硬度１−４Ｈ水準）、実施例１，５，１１及び１
２による組成物でコーティングした皮膜は硬化度が若干
落ちる。比較例１による組成物を使用してコーティング
した皮膜は防曇性が全然なく、表面硬度がよくない（鉛
筆硬度が１Ｂ水準）。比較例２、３による組成物でコー
ティングした皮膜は少しの防曇性を有し（２ないし５回
以上通過）表面硬度に劣る（鉛筆硬度が２Ｂないし３Ｂ
水準）。
し１２による組成物でコーティングした皮膜は防曇性が
大変優れ（２０回以上通過）、表面硬度が大変優れるが
（鉛筆硬度１−４Ｈ水準）、実施例１，５，１１及び１
２による組成物でコーティングした皮膜は硬化度が若干
落ちる。比較例１による組成物を使用してコーティング
した皮膜は防曇性が全然なく、表面硬度がよくない（鉛
筆硬度が１Ｂ水準）。比較例２、３による組成物でコー
ティングした皮膜は少しの防曇性を有し（２ないし５回
以上通過）表面硬度に劣る（鉛筆硬度が２Ｂないし３Ｂ
水準）。
【００５３】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明による光
硬化型防曇組成物をガラス、各種プラスチック材料など
の表面に塗布して形成された硬化皮膜は優れた表面硬
度、優れた粘着力及び長期的に持続される優れた防曇性
を有する長所がある。
硬化型防曇組成物をガラス、各種プラスチック材料など
の表面に塗布して形成された硬化皮膜は優れた表面硬
度、優れた粘着力及び長期的に持続される優れた防曇性
を有する長所がある。
【００５４】本発明を実施例によって詳細に説明した
が、本発明は実施例によって限定されず、本発明が属す
る技術分野において通常の知識を有するものであれば本
発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正また
は変更できる。
が、本発明は実施例によって限定されず、本発明が属す
る技術分野において通常の知識を有するものであれば本
発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正また
は変更できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 申 恩▲あ▼ 大韓民国ソウル特別市麻浦区城山２洞城 山大宇アパート25棟601号 (56)参考文献 特開 平４−72340（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−353570（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−172676（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 217/28 C07C 213/06 C09K 3/18 101 C08F 2/50 C08F 20/36 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (10)
- 【請求項１】 次の化学式Ｉ 【化１】 （式中、Ｒ1 はＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＨ2 またはＣＨ3
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、 Ｒ2 及びＲ3 は互いに同じか異なり、Ｒ2 及びＲ3 が同
時にＨでない条件下で、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯＣ
Ｈ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 、 ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ（ＯＨ）ＣＨ2 またはＨであり、 Ｒ4 はＨ、ＣＨ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 またはＣＨ3 ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 であり、 ＸはＣＨ3 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 Ｃ
ＯＯ、ＣＦ3 ＣＯＯ、ＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＯＯ（ｎは
１ないし１６の整数を示す）、ＣＨ3 （ＣＨ2）7 ＣＨ
＝ＣＨ（ＣＨ2 ）7 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5
ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ、ＨＯＯＣＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯ
Ｏ，ＣｌまたはＢｒを示す。）で表される第４級アンモ
ニウム塩。 - 【請求項２】 次の一般式（Ｉ） 【化２】 （式中、Ｒ1 はＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＨ2 またはＣＨ3
（ＣＨ2）nＣＨ2Ｃ6Ｈ4（ｎは１ないし１６の整数を示
す）であり、 Ｒ2 及びＲ3 は互いに同じか異なり、Ｒ2 及びＲ3 は互
いに同じか異なり、Ｒ2 及びＲ3 が同時にＨでないとい
う条件下で、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯＣＨ2 ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ2 、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（Ｏ
Ｈ）ＣＨ2 または、Ｈであり、 Ｒ4 はＨ、ＣＨ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 またはＣＨ3 ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 であり、 ＸはＣＨ3 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 Ｃ
ＯＯ、ＣＦ3 ＣＯＯ、ＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＯＯ（ｎは
１ないし１６の整数を示す）、ＣＨ3 （ＣＨ2）7 ＣＨ
＝ＣＨ（ＣＨ2 ）7 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5
ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ、ＨＯＯＣＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯ
Ｏ，ＣｌまたはＢｒを示す。）で表される第４級アンモ
ニウム塩を製造するにあたり、次の工程（ａ）〜（ｄ） （ａ）アルキルグリシジルエーテルまたはアルキルフェ
ニルグリシジルエーテルと保護されたジ−２−ヒドロキ
シエチルアミンとを反応させ下記化学式ＩＩ 【化３】 （式中、Ｒ1 はＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＨ2 またはＣＨ3
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、Ｐはｔ−ブチルジメチルシリル基を示
す。）で表される化合物を合成する段階と、 （ｂ）合成された前記化学式ＩＩの化合物を脱保護する
段階と、 （ｃ）前記脱保護された化合物とグリシジルメタクリレ
ートまたはグリシジルアクリレートとを反応させる段階
と、 （ｄ）前記反応結果物である第３級アミンと一般式Ｒ4
Ｘで表される化合物とを反応させて第４級アンモニウム
塩を得る段階 とを含む化学式Ｉの第４級アンモニウム塩の製造方法。 - 【請求項３】 前記一般式Ｒ4 Ｘで表される化合物は、
酢酸、三弗化酢酸、安息香酸、カプリン酸、マンデル
酸、オレイン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、ジメチルス
ルフェート、ジエチルスルフェート、塩化メチル、塩化
エチル、塩化プロピル、臭化メチル、臭化エチル及び臭
化プロピルから成る群より選択されることを特徴とする
請求項２に記載の第４級アンモニウム塩の製造方法。 - 【請求項４】 次の成分（ａ）〜（ｄ） （ａ）次の化学式Ｉ 【化４】 （式中、Ｒ1 はＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＨ2 またはＣＨ3
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、 Ｒ2 及びＲ3 は互いに同じであるか異なり、Ｒ2 及びＲ
3 が同時にＨでないという条件下で、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ
3 ）ＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 、ＣＨ2＝ＣＨＣ
ＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 またはＨであり、 Ｒ4 はＨ、ＣＨ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 またはＣＨ3 ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 であり、 ＸはＣＨ3 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 Ｃ
ＯＯ、ＣＦ3 ＣＯＯ、ＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＯＯ（ｎは
１ないし１６の整数を示す）、ＣＨ3 （ＣＨ2）7 ＣＨ
＝ＣＨ（ＣＨ2 ）7 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5
ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ、ＨＯＯＣＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯ
Ｏ，ＣｌまたはＢｒを示す。）で表される第４級アンモ
ニウム塩を３〜４０重量％、 （ｂ）少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴマー
を１８ないし９０重量％、 （ｃ）少なくとも一つのアクリル基を有する第１モノマ
ーを５ないし４０重量％、 （ｄ）ラジカル性光開始剤を２ないし８重量％ 含むことを特徴とする防曇組成物。 - 【請求項５】 前記オリゴマーは、ウレタンアクリレー
ト、エポキシアクリレート及びポリエステルアクリレー
トから成る群より選択されることを特徴とする請求項４
に記載の防曇組成物。 - 【請求項６】 前記第１モノマーは、イソボニルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート及びトリエチ
ロールプロピルトリアクリレートから成る群より選択さ
れることを特徴とする請求項４に記載の防曇組成物。 - 【請求項７】 前記ラジカル性光開始剤は、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン及び１−ヒドロキシ
メチルエチルフェニルケトンから成る群より選択される
ことを特徴とする請求項４に記載の防曇組成物。 - 【請求項８】 次の成分（ａ）〜（ｆ） （ａ）次の化学式Ｉ 【化５】 （式中、Ｒ1 はＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＨ2 またはＣＨ3
（ＣＨ2 ）n ＣＨ2 Ｃ6Ｈ4 （ｎは１ないし１６の整数
を示す）であり、 Ｒ2 及びＲ3 は互いに同じであるか異なり、Ｒ2 及びＲ
3 が同時にＨでないという条件下で、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ
3 ）ＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 、ＣＨ2＝ＣＨＣ
ＯＯＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2 またはＨであり、 Ｒ4 はＨ、ＣＨ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 またはＣＨ3 ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 であり、 ＸはＣＨ3 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＳＯ3 、ＣＨ3 Ｃ
ＯＯ、ＣＦ3 ＣＯＯ、ＣＨ3 （ＣＨ2 ）n ＣＯＯ（ｎは
１ないし１６の整数を示す）、ＣＨ3 （ＣＨ2）7 ＣＨ
＝ＣＨ（ＣＨ2 ）7 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5 ＣＯＯ、Ｃ6 Ｈ5
ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ、ＨＯＯＣＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）ＣＯ
Ｏ，ＣｌまたはＢｒを示す。）で表される第４級アンモ
ニウム塩を３〜４０重量％、 （ｂ）少なくとも二つのアクリル基を有するオリゴマー
を４ないし８１重量％、 （ｃ）少なくとも一つのアクリル基を有する第１モノマ
ーを６ないし２６重量％、 （ｄ）少なくとも一つのビニルエーテル基を有する第２
モノマーを８ないし２６重量％、 （ｅ）カチオン性光開始剤を１ないし５重量％、 （ｆ）ラジカル性光開始剤を１ないし５重量％ 含むことを特徴とする防曇組成物。 - 【請求項９】 前記第２モノマーは、トリエチレングリ
コールジビニルエーテルであることを特徴とする請求項
８に記載の防曇組成物。 - 【請求項１０】 前記カチオン性光開始剤は、ビス（４
−フェニルスルホニオフェニル）スルフィドビスヘキサ
フルオロリン酸であることを特徴とする請求項８に記載
の防曇組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970062974A KR100235229B1 (ko) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | 광경화형 방무성 조성물용 4급 암모늄염, 이의 제법 및 이를 포함하는 광경화형 방무성 조성물 |
| KR97-62974 | 1997-11-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158126A JPH11158126A (ja) | 1999-06-15 |
| JP2949112B2 true JP2949112B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=19525633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10162518A Expired - Fee Related JP2949112B2 (ja) | 1997-11-26 | 1998-06-10 | 光硬化型防曇組成物用の第４級アンモニウム塩及びその製法並びに光硬化型防曇組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6096925A (ja) |
| JP (1) | JP2949112B2 (ja) |
| KR (1) | KR100235229B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020147127A1 (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-10 | Crompton Corporation | Amine and quaternary ammonium salt derivatives of glycidyl ethers and glycidyl esters |
| US7504156B2 (en) * | 2004-04-15 | 2009-03-17 | Avery Dennison Corporation | Dew resistant coatings |
| CN102483468B (zh) | 2009-08-28 | 2015-03-25 | 3M创新有限公司 | 具有防静电涂层的光学装置 |
| EP2470497A2 (en) | 2009-08-28 | 2012-07-04 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable ionic liquid comprising multifunctional cation and antistatic coatings |
| EP2470509A2 (en) | 2009-08-28 | 2012-07-04 | 3M Innovative Properties Company | Compositions and articles comprising polymerizable ionic liquid mixture, and methods of curing |
| EP2515827A2 (en) | 2009-12-22 | 2012-10-31 | 3M Innovative Properties Company | Curable dental compositions and articles comprising polymerizable ionic liquids |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02147639A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-06-06 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 防曇フイルム |
| JP2860807B2 (ja) * | 1989-12-06 | 1999-02-24 | 株式会社スリーボンド | コーティング剤 |
| US5244935A (en) * | 1990-02-26 | 1993-09-14 | Nippon Oil And Fats Co., Ltd. | Composition of ultraviolet curing antifogging agent and process for forming antifogging coating film |
| US5262475A (en) * | 1992-05-12 | 1993-11-16 | Film Specialties, Inc. | Hydrophilic compositions which are fog-resistant |
| KR960013201B1 (ko) * | 1993-11-16 | 1996-09-30 | 대우전자 주식회사 | 전자렌지의 파워코드취부겸용 라인필터조립브라켓트 |
| JPH1143614A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-16 | Nof Corp | 防曇膜及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-11-26 KR KR1019970062974A patent/KR100235229B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-06-01 US US09/088,784 patent/US6096925A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-10 JP JP10162518A patent/JP2949112B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-01-07 US US09/479,049 patent/US6176906B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11158126A (ja) | 1999-06-15 |
| US6096925A (en) | 2000-08-01 |
| US6176906B1 (en) | 2001-01-23 |
| KR100235229B1 (ko) | 1999-12-15 |
| KR19990042229A (ko) | 1999-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5159615B2 (ja) | 水系硬化性樹脂組成物 | |
| JP3419453B2 (ja) | Ｕｖ硬化可能な配合組成物および適用方法 | |
| TWI574939B (zh) | 光反應性黏結劑 | |
| JP2008094987A (ja) | 光学材料用高屈折率樹脂組成物およびその硬化物 | |
| TWI576361B (zh) | A reactive energy ray hardening type resin, an active energy ray hardening type resin composition, an active energy ray hardening type hard coat agent, a hardened film obtained by using the same, a decorative film obtained by laminating a hardened film, and a decorative film Of the plastic injection molding | |
| WO1987001697A1 (en) | Di(meth)acrylic esters and resin composition | |
| WO2005092991A1 (ja) | 活性エネルギ線硬化性被覆用組成物及び成形品 | |
| JP2949112B2 (ja) | 光硬化型防曇組成物用の第４級アンモニウム塩及びその製法並びに光硬化型防曇組成物 | |
| JP4788185B2 (ja) | 重合性防曇剤および重合性防曇組成物 | |
| WO2004076566A1 (en) | Organic-inorganic hybrid composite, preparation thereof and anti-fogging coating composition comprising same | |
| KR920000017B1 (ko) | 경화성수지조성물 | |
| JP3251608B2 (ja) | ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの製造方法およびそれを用いた光硬化性樹脂組成物 | |
| KR101403067B1 (ko) | 자외선 경화성 코팅조성물 및 이를 이용한 고 경도 코팅막 | |
| JP3092511B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型プラスチック用コーティング剤および該コーティング剤で表面処理してなるプラスチック成形物 | |
| JPH0768714A (ja) | 表面硬化被膜およびその形成方法 | |
| JP2001131445A (ja) | 塗膜用樹脂組成物及び塗膜付き樹脂成形品 | |
| JP5892799B2 (ja) | 伸びがあり耐傷つき性に優れる硬化物を形成するウレタン（メタ）アクリレートおよびそれを含有する光硬化性樹脂組成物 | |
| JP3068214B2 (ja) | 帯電防止性ハードコート剤ならびにそれを用いた合成樹脂成形品 | |
| JP4253977B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型組成物 | |
| JP2873511B2 (ja) | 重合体エマルションの製造方法 | |
| JPH0543820A (ja) | 活性エネルギー線硬化性防曇組成物 | |
| JP2798261B2 (ja) | 紫外線硬化型ポリカーボネート樹脂被覆用組成物および表面特性を改質した硬化被膜を有するプラスチック成形品の製造方法 | |
| KR100202091B1 (ko) | 내마모성이 우수한 이관능성 반응형 4급 암모늄염, 이의 제조방법 및 이를 함유한 광경화형 수지 조성물 | |
| JPH03227463A (ja) | 合成樹脂タイル | |
| JP2860807B2 (ja) | コーティング剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |