JPH11116399A - 炭化タンタルのコーティング方法及びこの方法を用いて製造した単結晶製造装置 - Google Patents
炭化タンタルのコーティング方法及びこの方法を用いて製造した単結晶製造装置Info
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- JPH11116399A JPH11116399A JP9284035A JP28403597A JPH11116399A JP H11116399 A JPH11116399 A JP H11116399A JP 9284035 A JP9284035 A JP 9284035A JP 28403597 A JP28403597 A JP 28403597A JP H11116399 A JPH11116399 A JP H11116399A
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Abstract
に、均一な炭化タンタルをコーティングする。 【解決手段】 黒鉛製ルツボ10の内壁にタンタル板1
2を配置する。そして、タンタル板12と接触するよう
に炭素粉末13を充填してタンタル板12を覆う。その
後、黒鉛製ルツボ10を加熱してタンタル12を炭化さ
せると、黒鉛製ルツボ10の内壁が炭化タンタル12a
でコーティングされる。このように、タンタル板12と
接触するように炭素粉末13を充填して、タンタル板1
2を炭化させると、均一な炭化タンタル12aでタンタ
ル板12がコーティングされる。
Description
a)を炭化させることにより、タンタルを炭化タンタル
(TaC)でコーティングする方法及びこの方法を用い
て製造した単結晶製造装置に関し、特に昇華再結晶法を
用いて単結晶基板上に単結晶を成長させる単結晶製造装
置に適用して好適である。
て、昇華再結晶法が広く用いられている。この昇華再結
晶法では、一面が開口したコップ形状を成すルツボ本体
と、このルツボ本体の開口面を覆う蓋材とから構成され
た黒鉛製ルツボを単結晶製造装置として用いており、黒
鉛製ルツボ内に配置させた炭化珪素原料を昇華させて、
蓋材に配置された種結晶に単結晶を成長させるようにし
ている。
炭化珪素単結晶を成長させた場合、黒鉛製ルツボから蒸
発した炭素が成長する炭化珪素単結晶に付着してしま
い、この付着した部分だけ結晶成長が止まって空洞化す
るという、いわゆるマイクロパイプが発生してしまうと
いう問題がある。このため、内壁が炭化タンタルでコー
ティングされたルツボを用いることで炭素の蒸発を抑制
し、良好な炭化珪素単結晶が成長できるようにするとい
うことが提案されている。
ィングされた炭化タンタルの均一さ、例えば炭化された
領域(炭化層)の厚みによって、成長する炭化珪素単結
晶の品質が異なってくるため、より品質の高い炭化珪素
単結晶を結晶成長させられうような均一な炭化タンタル
をコーティングできる方法は重要である。
炭化タンタルのコーティングができる炭化タンタルのコ
ーティング方法を提供することを第1の目的とする。単
結晶製造装置の内壁に均一な炭化タンタルをコーティン
グする方法及び、このコーティング方法を用いて製造し
た単結晶製造装置を提供することを第2の目的とする。
め、以下の技術的手段を採用する。請求項1に記載の発
明においては、タンタルと接触するように固体状の炭素
(3、13)を配置することでタンタル(1、12)を
覆い、加熱処理を行ってタンタル(1、12)の表面を
炭化させることによって、該タンタル(1、12)の表
面を炭化タンタル(1a、12a)でコーティングする
ことを特徴としている。
するように固体状の炭素(3、13)を配置し、タンタ
ル(1、12)を炭素(3、13)で覆うようにして該
タンタル(1、12)を炭化させて炭化タンタル(1
a、12a)を形成すると、炭化タンタル(1a、12
a)をタンタル(1、12)の表面に均一に形成するこ
とができる。
(3、13)は粉末状のものであり、この粉末状の炭素
(3、13)によってタンタル(1、12)の表面全体
を覆うようにすることを特徴としている。このように、
粉末状の炭素(3、13)を用いると、タンタル(1、
12)の表面をほぼ完全に覆うことができるため、より
効果的にタンタル(1、12)の表面に均一に炭化タン
タル(1a、12a)を形成することができる。
製造装置に備えられるルツボ(10)は、請求項1又は
2に記載の炭化タンタルのコーティング方法によって、
その内壁が炭化タンタル(12a)でコーティングされ
ていることを特徴としている。このように、請求項1又
は2に記載の炭化タンタルのコーティング方法を用いて
単結晶製造装置に備えられるルツボ(10)の内壁を炭
化タンタル(12a)でコーティングすれば、均一な炭
化タンタル(12a)がコーティングされた内壁を有す
るルツボ(10)とすることができる。この場合、内壁
を覆うようにタンタル(12)を予め配置しておいて炭
化タンタル(12a)のコーティングを行う方法、ルツ
ボ(10)全体をタンタル(12)で構成しておいて少
なくても内壁の部分を炭化タンタル(12a)でコーテ
ィングするようにする方法、若しくはルツボ(10)の
内壁を覆うような形状に成形したタンタル(12)をて
予め炭化タンタル(12a)でコーティングしておき、
後でルツボ(10)内に内蔵したりする方法等を採用す
ることができる。
(10)の少なくとも内壁をタンタル(12)で構成す
ると共に、タンタル(12)と接触するように固体状の
炭素(13)を充填して内壁を覆い、さらにルツボ(1
0)を加熱してタンタル(12)を炭化させることによ
って、ルツボ(10)の内壁を炭化タンタル(12a)
でコーティングしていることを特徴としている。
内壁をタンタル(12)で構成し、このルツボ(10)
の中にタンタル(12)と接触するように固体状の炭素
(13)を充填して加熱処理を施せば、内壁に例えば厚
みが均一な炭化タンタル(12a)が形成されたルツボ
(10)とすることができる。なお、内壁をタンタル
(12)で構成するためには、例えばルツボ(10)の
内壁を覆うようにタンタル(12)を配置したり、ルツ
ボ(10)全体をタンタル(12)で構成したりすれば
よいが、タンタルは高価な材料であるため、部分的に用
いる前者の方がコスト削減を図ることができる。
又は4の単結晶製造装置を用いて、単結晶(22)の原
料粉末(20)をルツボ(10)内に配置し、この原料
粉末(20)を不活性ガス雰囲気中で加熱昇華させるこ
とで、原料粉末(20)よりやや低温になっている種結
晶(21)の表面側に単結晶(22)を成長させるよう
にすれば、単結晶(22)にマイクロパイプが発生する
ことを抑制することができる。これにより、高品質な単
結晶(22)を製造することができる。
面に従って説明する。まず、炭化タンタルをコーティン
グする方法の概略について説明する。図1(a)に炭化
タンタルのコーティング工程を示す模式図を示し、図1
(b)に炭化タンタル1aのコーティングが施されたタ
ンタル板1の断面図を示す。これらの図に基づき炭化タ
ンタル1aのコーティング方法の概略について説明す
る。
内にタンタル板1を内蔵し、タンタル板1全体が炭素粉
末3と接触した状態で覆われるようにする。この場合、
炭素をタンタル板1に接触させるのが目的であるため、
炭素は固体状のものであればく、炭素粉末3の代わりに
固形の炭素を用いることもできる。但し、炭素粉末3の
ように粉末状のものを用いると、より完全にタンタル板
1の全体に炭素を接触させることができるため、粉末状
のものを用いると効果的である。
囲気で圧力100Torrにして、2400℃、2時間
の加熱処理を行う。このような加熱処理を行うと、図1
(b)の斜線部で示すように、タンタル板1の表面に、
150μmの膜厚を有する炭化タンタル1aが形成され
る。この炭化タンタル1aは、炭素粉末3がタンタル板
1と接触するような状態で形成されているため、炭化タ
ンタル1aが全体的に均一なもの、例えば厚みが均一な
ものとなる。
法を利用して、結晶成長用ルツボとして用いられる黒鉛
製ルツボの内壁に炭化タンタルを形成する方法を示す。
図2に、黒鉛製ルツボ10の内壁に炭化タンタルをコー
ティングするときの工程を表す模式図を示す。まず、黒
鉛製ルツボ10をルツボ11内に入れる。このルツボ1
1は、黒鉛製ルツボ10の内壁を炭化タンタルでコーテ
ィングするために用いるものであり、単結晶を成長させ
る時には黒鉛製ルツボ10のみを用いる。
円筒状のコップ形状をしたルツボ本体10aと、ルツボ
本体10aの開口部を塞ぐ蓋材10bとから構成されて
いる。このため、黒鉛製ルツボ10の内壁を成すルツボ
本体10aの内壁全面及び蓋材10bの下面全面に、成
形したタンタル板12を配置する。具体的には、ルツボ
本体10aの側面部分にはタンタル板12を円筒形状に
加工したものを貼付け、ルツボ本体10aの底面部分及
び蓋材10bの下面にはタンタル板12を円形状に加工
したものを貼付けるようにしている。
を充填し、蓋材10bを閉める。このときに、炭素粉末
13が蓋材10bの下面に貼付けられたタンタル板12
の全面に接触する程度まで、ルツボ本体10aに炭素粉
末13を充填する。これにより、黒鉛製ルツボ10の内
壁を成す部分に貼付けられたタンタル板12の全面が炭
素粉末13と接触した状態となる。
加熱処理し、黒鉛製ルツボ10内のタンタル板12と炭
素粉末13とを反応させる。このような加熱処理を行う
と、図3に示すように、黒鉛製ルツボ10の内壁に相当
するタンタル板12の表面は均一な炭化タンタル11a
でコーティングされたものとなる。これにより、内壁が
炭化タンタル11aでコーティングされた黒鉛製ルツボ
10が形成される。
が、アルゴンガス等が導入できる真空容器を有し、ヒー
タにて黒鉛製ルツボ10を加熱できる装置内に備えられ
て、単結晶製造装置が完成する。この黒鉛製ルツボ10
を備えた単結晶製造装置を用いて炭化珪素単結晶を製造
する方法を図4に基づいて説明する。
粉末20を充填する。そして、台座となる蓋材10bの
下面に、種結晶となる炭化珪素単結晶基板21を貼付け
たのち、蓋材10bをルツボ本体10aに取り付ける。
これにより、黒鉛製ルツボ10が塞がれて密封系とな
る。次に、黒鉛製ルツボ10内の圧力、炭化珪素原料粉
末20や炭化珪素単結晶基板21の温度をそれぞれ変化
させる。具体的には、黒鉛製ルツボ10内をアルゴンガ
ス雰囲気にし、その圧力を500Torrにする。さら
に、炭化珪素原料粉末20の温度が約2400℃、種結
晶である炭化珪素単結晶基板21の温度が約2300℃
になるようにヒータを加熱する。その後、炭化珪素原料
粉末20の温度を約2400℃、炭化珪素単結晶基板2
1の温度を約2300℃に保ちつつ、黒鉛製ルツボ10
内のアルゴンガス雰囲気の圧力が約1Torrになるま
で減圧する。
2400℃、炭化珪素単結晶基板21の温度が約230
0℃で保たれるように、ヒータのパワーをフィードバッ
ク調整しつつ、アルゴンガス雰囲気の圧力を1Torr
のまま維持する。これにより、露出した炭化珪素単結晶
基板21の表面上に炭化珪素単結晶22が結晶成長し、
同一多形を有する結晶欠陥の少ない高品質なバルク状の
炭化珪素単結晶22のインゴットが形成される。
な炭化タンタル12aでコーティングされているものを
用いて炭化珪素単結晶22を製造しているため、黒鉛製
ルツボ10の内壁から蒸発した炭素が種結晶である炭化
珪素単結晶基板21に付着してマイクロパイプが発生す
ることを抑制することができ、さらに炭化珪素原料粉末
20の昇華ガスのSi/C比を均一にすることができ
る。このため、形成された炭化珪素単結晶22は、結晶
欠陥の少ない高品質な炭化珪素単結晶にすることができ
る。
ボ10の蓋材10bから取り外し、得られた結晶をスラ
イス、研磨することにより炭化珪素単結晶からなる半導
体ウェハが完成する。このウェハをX線回折およびラマ
ン分光により結晶面方位、結晶構造(多形)を判定した
結果、炭化珪素単結晶6は6H型の(0001)面方位
を有していることが確認された。このように完成したウ
ェハを用いて、大電力用の縦型MOSFET、pnダイ
オード、ショットキーダイオード等の半導体装置を作製
することができる。
壁を炭化タンタル12aでコーティングしたものを示し
たが、タンタル製のルツボの内壁を炭化することで、内
壁が炭化タンタルでコーティングされたルツボとし、こ
のルツボを用いて炭化珪素単結晶を製造しても上記と同
様の効果をえることができる。但し、タンタルは高価な
材料なものであることから、タンタル使用量はできるだ
け少ないほうが好ましく、タンタルを部分的に用いたほ
う使用量を少なくできるため、上記実施形態に示した黒
鉛製ルツボ10を用いたほうがコスト削減を図ることが
できる。
0内にタンタル板12を入れ、その後タンタル板12を
黒鉛製ルツボ10内で炭化するようにしていたが、黒鉛
製ルツボ10の内壁の形状に成形したタンタルを先に炭
化させておいて、その後黒鉛製ルツボ10に入れるよう
にしても上記実施形態と同様の効果を得ることができ
る。
を施す方法を説明するための断面図である。
ティングを施す方法を説明するための断面図である。
製ルツボ10を示す断面図である。
製ルツボ10を用いて炭化珪素単結晶を製造する工程を
説明するための断面模式図である。
…炭素粉末、10…黒鉛製ルツボ、10a…ルツボ本
体、10b…蓋材、11…ルツボ、12…タンタル板、
12a…炭化タンタル、13…炭素粉末、20…炭化珪
素原料粉末、21…炭化珪素単結晶基板(種結晶)、2
2…炭化珪素単結晶。
Claims (5)
- 【請求項1】 タンタル(1、12)と接触するように
固体状の炭素(3、13)を配置し、該炭素(3、1
3)にて該タンタル(1、12)を覆う工程と、 加熱処理を行って前記タンタル(1、12)の表面を炭
化させることにより、該タンタル(1、12)の表面を
炭化タンタル(1a、12a)でコーティングする工程
と、 を有することを特徴とする炭化タンタルのコーティング
方法。 - 【請求項2】 前記炭素(3、13)は粉末状のもので
あり、この粉末状の炭素(3、13)によって前記タン
タル(1、12)の表面全体を覆うようにすることを特
徴とする請求項1に記載の炭化タンタルのコーティング
方法。 - 【請求項3】 ルツボ(10)を備え、該ルツボ(1
0)内に配置した種結晶(21)の表面に単結晶(2
2)を成長させる単結晶製造装置において、 請求項1又は2に記載の炭化タンタルのコーティング方
法によって、前記ルツボ(10)の内壁が炭化タンタル
(12a)でコーティングされていることを特徴とする
単結晶製造装置。 - 【請求項4】 ルツボ(10)を備え、該ルツボ(1
0)内に配置した種結晶(21)の表面に単結晶(2
2)を成長させる単結晶製造装置において、 前記ルツボ(10)の少なくとも内壁をタンタル(1
2)で構成すると共に、前記タンタル(12)と接触す
るように固体状の炭素(13)を充填して前記内壁を覆
い、さらに前記ルツボ(10)を加熱して前記タンタル
(12)を炭化させることによって、前記ルツボ(1
0)の内壁が炭化タンタル(12a)でコーティングさ
れていることを特徴とする単結晶製造装置。 - 【請求項5】 請求項3又は4の単結晶製造装置を用い
た単結晶の製造方法において、 前記単結晶(22)の原料粉末(20)を前記ルツボ
(10)内に配置し、この原料粉末(20)を不活性ガ
ス雰囲気中で加熱昇華させることで、前記原料粉末(2
0)よりやや低温になっている前記種結晶(21)の表
面側に前記単結晶(22)を成長させることを特徴とす
る単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9284035A JPH11116399A (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 炭化タンタルのコーティング方法及びこの方法を用いて製造した単結晶製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9284035A JPH11116399A (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 炭化タンタルのコーティング方法及びこの方法を用いて製造した単結晶製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11116399A true JPH11116399A (ja) | 1999-04-27 |
Family
ID=17673465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9284035A Pending JPH11116399A (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 炭化タンタルのコーティング方法及びこの方法を用いて製造した単結晶製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH11116399A (ja) |
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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