JPH11114370A - 排ガスの脱硝処理方法及び装置 - Google Patents
排ガスの脱硝処理方法及び装置Info
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- JPH11114370A JPH11114370A JP9277071A JP27707197A JPH11114370A JP H11114370 A JPH11114370 A JP H11114370A JP 9277071 A JP9277071 A JP 9277071A JP 27707197 A JP27707197 A JP 27707197A JP H11114370 A JPH11114370 A JP H11114370A
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- exhaust gas
- ozone
- denitration
- adsorbent
- gas
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
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- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 効率よくＮＯｘの濃縮を行うことができ、道
路トンネル排ガスなど低濃度のＮＯｘを含有する排ガス
の脱硝に適用した場合に、装置の小型化、コストの低減
が可能な排ガスの脱硝処理方法及び装置を提供するこ
と。 【解決手段】排ガスにオゾンを注入し、オゾンを吸着し
かつＮＯｘを吸着する高シリカ吸着剤充填層を有する吸
着反応装置の吸着剤充填層に導入してＮＯｘをＮＯ2 及
びＨＮＯ3 に酸化して吸着させ、処理ガスは大気中に放
出し、ＮＯ2 及びＨＮＯ3 の吸着能が低下した吸着剤充
填層は加熱することによってＮＯ2 を脱着させ、高濃度
ＮＯ2 含有ガスを発生させるとともに吸着剤の再生を行
い、得られた高濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝装置に導いて
ＮＯ2 を分解除去することを特徴とする排ガスの脱硝処
理方法、及び装置。
路トンネル排ガスなど低濃度のＮＯｘを含有する排ガス
の脱硝に適用した場合に、装置の小型化、コストの低減
が可能な排ガスの脱硝処理方法及び装置を提供するこ
と。 【解決手段】排ガスにオゾンを注入し、オゾンを吸着し
かつＮＯｘを吸着する高シリカ吸着剤充填層を有する吸
着反応装置の吸着剤充填層に導入してＮＯｘをＮＯ2 及
びＨＮＯ3 に酸化して吸着させ、処理ガスは大気中に放
出し、ＮＯ2 及びＨＮＯ3 の吸着能が低下した吸着剤充
填層は加熱することによってＮＯ2 を脱着させ、高濃度
ＮＯ2 含有ガスを発生させるとともに吸着剤の再生を行
い、得られた高濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝装置に導いて
ＮＯ2 を分解除去することを特徴とする排ガスの脱硝処
理方法、及び装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はオゾンとオゾン吸着
剤の作用を組み合わせた排ガスの脱硝処理方法及び装置
に関し、特に道路トンネル排ガスなど低濃度のＮＯｘを
含有する排ガスの脱硝に適した排ガスの脱硝処理方法及
び装置に関する。
剤の作用を組み合わせた排ガスの脱硝処理方法及び装置
に関し、特に道路トンネル排ガスなど低濃度のＮＯｘを
含有する排ガスの脱硝に適した排ガスの脱硝処理方法及
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大都市における自動車排気ガスに
よる環境汚染、特に窒素酸化物（ＮＯｘ）による汚染が
問題となっており、トンネルなどから排出される排ガス
の脱硝処理が検討されている。従来、ボイラ等の排煙脱
硝技術については広く研究開発が行われて実用化されて
いるが、道路トンネル排ガスの脱硝はこれらの固定発生
源からの排ガスの脱硝とは条件が全く異なっている。す
なわち、道路トンネル排ガスは自動車排気ガスが大量の
大気で希釈されたものであって、温度は常温でＮＯｘ濃
度は最大で３〜５ｐｐｍであり、処理ガス量は多いとい
う特性を有している。このような道路トンネル排ガスを
通常のボイラ排ガス処理に使用されているアンモニア接
触還元脱硝法を適用しようとすると、常温かつ大量の排
ガスを２００〜３００℃に昇温する必要があり、大量の
エネルギを必要とする。そのため、このような排ガスの
脱硝方法としては、何らかの方法によりＮＯｘを濃縮
し、濃縮した少量のガスを脱硝処理する方法が検討され
ており、現在最も優位にあるのはゼオライト系吸着剤に
より吸着濃縮し、アンモニア接触還元脱硝法により処理
する方法である。しかしながら、通常のゼオライト系吸
着剤は水分にに対する耐性がないため、先ず除湿工程を
必要とし、また、ＮＯｘの吸着率も小さいためコストが
高く、実用化には至っていない。
よる環境汚染、特に窒素酸化物（ＮＯｘ）による汚染が
問題となっており、トンネルなどから排出される排ガス
の脱硝処理が検討されている。従来、ボイラ等の排煙脱
硝技術については広く研究開発が行われて実用化されて
いるが、道路トンネル排ガスの脱硝はこれらの固定発生
源からの排ガスの脱硝とは条件が全く異なっている。す
なわち、道路トンネル排ガスは自動車排気ガスが大量の
大気で希釈されたものであって、温度は常温でＮＯｘ濃
度は最大で３〜５ｐｐｍであり、処理ガス量は多いとい
う特性を有している。このような道路トンネル排ガスを
通常のボイラ排ガス処理に使用されているアンモニア接
触還元脱硝法を適用しようとすると、常温かつ大量の排
ガスを２００〜３００℃に昇温する必要があり、大量の
エネルギを必要とする。そのため、このような排ガスの
脱硝方法としては、何らかの方法によりＮＯｘを濃縮
し、濃縮した少量のガスを脱硝処理する方法が検討され
ており、現在最も優位にあるのはゼオライト系吸着剤に
より吸着濃縮し、アンモニア接触還元脱硝法により処理
する方法である。しかしながら、通常のゼオライト系吸
着剤は水分にに対する耐性がないため、先ず除湿工程を
必要とし、また、ＮＯｘの吸着率も小さいためコストが
高く、実用化には至っていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような従
来技術における問題点を解決し、効率よくＮＯｘの濃縮
を行うことができ、道路トンネル排ガスなど低濃度のＮ
Ｏｘを含有する排ガスの脱硝に適用した場合に、装置の
小型化、コストの低減が可能な排ガスの脱硝処理方法及
び装置を提供することを目的とする。
来技術における問題点を解決し、効率よくＮＯｘの濃縮
を行うことができ、道路トンネル排ガスなど低濃度のＮ
Ｏｘを含有する排ガスの脱硝に適用した場合に、装置の
小型化、コストの低減が可能な排ガスの脱硝処理方法及
び装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
する手段として次の（１）〜（１０）の構成を有するも
のである。 （１）排ガスにオゾンを注入し、オゾンを吸着しかつＮ
Ｏｘを吸着する高シリカ吸着剤充填層を有する吸着反応
装置の吸着反応工程にある吸着剤充填層に導入して排ガ
ス中のＮＯｘをＮＯ2 及びＨＮＯ3 に酸化して吸着さ
せ、ＮＯｘ含有量の低減した処理ガスは大気中に放出
し、ＮＯ2 及びＨＮＯ3 を吸着して吸着剤の吸着能が低
下した吸着剤充填層は排ガスの導入を止めて加熱脱着工
程とし、加熱することによってＮＯ2 を脱着させ、高濃
度ＮＯ2 含有ガスを発生させるとともに吸着剤の再生を
行い、得られた高濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝装置に導い
てＮＯ2を分解除去することを特徴とする排ガスの脱硝
処理方法。
する手段として次の（１）〜（１０）の構成を有するも
のである。 （１）排ガスにオゾンを注入し、オゾンを吸着しかつＮ
Ｏｘを吸着する高シリカ吸着剤充填層を有する吸着反応
装置の吸着反応工程にある吸着剤充填層に導入して排ガ
ス中のＮＯｘをＮＯ2 及びＨＮＯ3 に酸化して吸着さ
せ、ＮＯｘ含有量の低減した処理ガスは大気中に放出
し、ＮＯ2 及びＨＮＯ3 を吸着して吸着剤の吸着能が低
下した吸着剤充填層は排ガスの導入を止めて加熱脱着工
程とし、加熱することによってＮＯ2 を脱着させ、高濃
度ＮＯ2 含有ガスを発生させるとともに吸着剤の再生を
行い、得られた高濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝装置に導い
てＮＯ2を分解除去することを特徴とする排ガスの脱硝
処理方法。
【０００５】（２）前記排ガスに注入するオゾンとして
水の電解によるオゾン発生器から発生させたオゾンを使
用し、オゾン発生器から発生する水素を脱硝装置におけ
る還元剤として使用してＮＯ2 の分解除去を行うことを
特徴とする前記（１）の排ガスの脱硝処理方法。
水の電解によるオゾン発生器から発生させたオゾンを使
用し、オゾン発生器から発生する水素を脱硝装置におけ
る還元剤として使用してＮＯ2 の分解除去を行うことを
特徴とする前記（１）の排ガスの脱硝処理方法。
【０００６】（３）前記高シリカ吸着剤が高シリカペン
タシルゼオライト、脱アルミニウムフォージャサイト、
メソポーラスシリケート又はこれらのうちの２種以上の
混合物であることを特徴とする前記（１）又は（２）の
排ガスの脱硝処理方法。
タシルゼオライト、脱アルミニウムフォージャサイト、
メソポーラスシリケート又はこれらのうちの２種以上の
混合物であることを特徴とする前記（１）又は（２）の
排ガスの脱硝処理方法。
【０００７】（４）前記排ガスが道路トンネル排ガスで
あることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれかの
排ガスの脱硝処理方法。
あることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれかの
排ガスの脱硝処理方法。
【０００８】（５）オゾンを吸着しかつＮＯｘを吸着す
る高シリカ吸着剤充填層を有し、排ガス中のＮＯｘの酸
化吸着と加熱による高濃度ＮＯ2 含有ガスの放出及び吸
着剤の再生とを交互に行う吸着反応装置と、該吸着反応
装置に供給する排ガス中にオゾンを注入するオゾン発生
器と、前記吸着反応装置から吸着剤再生時に放出される
高濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝処理する脱硝装置とを構成
要素として含むことを特徴とする排ガスの脱硝処理装
置。
る高シリカ吸着剤充填層を有し、排ガス中のＮＯｘの酸
化吸着と加熱による高濃度ＮＯ2 含有ガスの放出及び吸
着剤の再生とを交互に行う吸着反応装置と、該吸着反応
装置に供給する排ガス中にオゾンを注入するオゾン発生
器と、前記吸着反応装置から吸着剤再生時に放出される
高濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝処理する脱硝装置とを構成
要素として含むことを特徴とする排ガスの脱硝処理装
置。
【０００９】（６）前記吸着反応装置が、複数の高シリ
カ吸着剤充填層を有し、バルブの切り換えによって吸着
反応工程と加熱脱着工程とを順次繰り返す吸着反応装置
であることを特徴とする前記（５）の排ガスの脱硝処理
装置。 （７）前記吸着反応装置が、回転軸を中心にして円盤状
に配置された複数の高シリカ吸着剤充填層を有し、回転
により順次吸着反応ゾーンと加熱脱着ゾーンを通過する
ことによって吸着反応工程と加熱脱着工程とを順次繰り
返す吸着反応装置であることを特徴とする前記（５）の
排ガスの脱硝処理装置。
カ吸着剤充填層を有し、バルブの切り換えによって吸着
反応工程と加熱脱着工程とを順次繰り返す吸着反応装置
であることを特徴とする前記（５）の排ガスの脱硝処理
装置。 （７）前記吸着反応装置が、回転軸を中心にして円盤状
に配置された複数の高シリカ吸着剤充填層を有し、回転
により順次吸着反応ゾーンと加熱脱着ゾーンを通過する
ことによって吸着反応工程と加熱脱着工程とを順次繰り
返す吸着反応装置であることを特徴とする前記（５）の
排ガスの脱硝処理装置。
【００１０】（８）前記高シリカ吸着剤が高シリカペン
タシルゼオライト、脱アルミニウムフォージャサイト、
メソポーラスシリケート又はこれらのうちの２種以上の
混合物であることを特徴とする前記（５）〜（７）のい
ずれかの排ガスの脱硝処理装置。
タシルゼオライト、脱アルミニウムフォージャサイト、
メソポーラスシリケート又はこれらのうちの２種以上の
混合物であることを特徴とする前記（５）〜（７）のい
ずれかの排ガスの脱硝処理装置。
【００１１】（９）前記オゾン発生装置が水の電解によ
るオゾン発生器であり、前記脱硝装置が還元剤として水
素を使用する脱硝装置であることを特徴とする前記
（５）〜（８）のいずれかの排ガスの脱硝処理装置。
るオゾン発生器であり、前記脱硝装置が還元剤として水
素を使用する脱硝装置であることを特徴とする前記
（５）〜（８）のいずれかの排ガスの脱硝処理装置。
【００１２】（１０）前記（５）〜（９）のいずれかの
構成を有することを特徴とする道路トンネル排ガスの脱
硝装置。
構成を有することを特徴とする道路トンネル排ガスの脱
硝装置。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明においては、吸着剤として
オゾンを吸着しかつＮＯｘを吸着する高シリカ吸着剤を
使用し、オゾンを注入した排ガスを吸着剤と接触させる
ことによって、ＮＯｘの主成分であるＮＯのＮＯ2 及び
ＨＮＯ3 への酸化反応と吸着を同時に行なわせるように
している。ここで使用する吸着剤の例としてシリカゲ
ル、高シリカペンタシルゼオライト（シリカライト又は
ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比が高いＺＳＭ−５）、脱アルミ
ニウムフォージャサイト（超安定Ｙ型ゼオライト：ＵＳ
Ｙ）、及びメソポーラスシリケート（ＭＣＭ−４１、Ｆ
ＳＭ−１６、テトラエトキシシランをシリカ源とする低
温酸性合成メソポーラスシリケート、又は低分子ケイ
酸をシリカ源とする低温酸性合成メソポーラスシリケー
トなど）などの高シリカ吸着剤を挙げることができ
る。これらの高シリカ吸着剤のうちシリカゲルはオゾン
やＮＯｘの吸着能力がやや低く、水に対する耐性も若干
低いが、他の高シリカペンタシルゼオライト、脱アルミ
ニウムフォージャサイト及びメソポーラスシリケートな
どはいずれもオゾンの吸着能力が高く、しかも吸着した
オゾンの分解率が低く、かつＮＯｘも吸着するので、吸
着剤相中におけるオゾンとＮＯｘとの接触効率は、単に
排ガス中にオゾンを添加した場合に比較して飛躍的に大
きくなり、ＮＯｘからＮＯ2 及びＨＮＯ3 への酸化が極
めて効率よく進行するのである。酸化により生成するＮ
Ｏ2 及びＨＮＯ3 は、排ガス中に含まれるＮＯを主体と
するＮＯｘに比較して吸着剤に吸着されやすいので、極
めて効率よくＮＯｘの濃縮が達成される。さらに、これ
らの吸着剤は水に対する耐性があり、除湿工程を設ける
必要がないという利点もある。
オゾンを吸着しかつＮＯｘを吸着する高シリカ吸着剤を
使用し、オゾンを注入した排ガスを吸着剤と接触させる
ことによって、ＮＯｘの主成分であるＮＯのＮＯ2 及び
ＨＮＯ3 への酸化反応と吸着を同時に行なわせるように
している。ここで使用する吸着剤の例としてシリカゲ
ル、高シリカペンタシルゼオライト（シリカライト又は
ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比が高いＺＳＭ−５）、脱アルミ
ニウムフォージャサイト（超安定Ｙ型ゼオライト：ＵＳ
Ｙ）、及びメソポーラスシリケート（ＭＣＭ−４１、Ｆ
ＳＭ−１６、テトラエトキシシランをシリカ源とする低
温酸性合成メソポーラスシリケート、又は低分子ケイ
酸をシリカ源とする低温酸性合成メソポーラスシリケー
トなど）などの高シリカ吸着剤を挙げることができ
る。これらの高シリカ吸着剤のうちシリカゲルはオゾン
やＮＯｘの吸着能力がやや低く、水に対する耐性も若干
低いが、他の高シリカペンタシルゼオライト、脱アルミ
ニウムフォージャサイト及びメソポーラスシリケートな
どはいずれもオゾンの吸着能力が高く、しかも吸着した
オゾンの分解率が低く、かつＮＯｘも吸着するので、吸
着剤相中におけるオゾンとＮＯｘとの接触効率は、単に
排ガス中にオゾンを添加した場合に比較して飛躍的に大
きくなり、ＮＯｘからＮＯ2 及びＨＮＯ3 への酸化が極
めて効率よく進行するのである。酸化により生成するＮ
Ｏ2 及びＨＮＯ3 は、排ガス中に含まれるＮＯを主体と
するＮＯｘに比較して吸着剤に吸着されやすいので、極
めて効率よくＮＯｘの濃縮が達成される。さらに、これ
らの吸着剤は水に対する耐性があり、除湿工程を設ける
必要がないという利点もある。
【００１４】前記高シリカ吸着剤のうち、高シリカペン
タシルゼオライトは、シリカ源としてケイ酸ナトリウム
やヒュームドシリカを使用し、有機テンプレートとして
テトラプロピルアンモニウムブロミドを使用して１５０
〜１８０℃程度で水熱合成を行って得られるＳｉＯ2 ／
Ａｌ2 Ｏ3 比１０〜１０００程度のペンタシルゼオライ
トである。脱アルミニウムフォージャサイトは、ＳｉＯ
2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比５程度のＮａ−Ｙ型ゼオライトをアン
モニア水で処理することによりゼオライト骨格のＡｌの
大半を除去して得られたＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比１０〜
４００の超安定Ｙ型ゼオライト（ＵＳＹ）である。
タシルゼオライトは、シリカ源としてケイ酸ナトリウム
やヒュームドシリカを使用し、有機テンプレートとして
テトラプロピルアンモニウムブロミドを使用して１５０
〜１８０℃程度で水熱合成を行って得られるＳｉＯ2 ／
Ａｌ2 Ｏ3 比１０〜１０００程度のペンタシルゼオライ
トである。脱アルミニウムフォージャサイトは、ＳｉＯ
2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比５程度のＮａ−Ｙ型ゼオライトをアン
モニア水で処理することによりゼオライト骨格のＡｌの
大半を除去して得られたＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比１０〜
４００の超安定Ｙ型ゼオライト（ＵＳＹ）である。
【００１５】メソポーラスシリケートは１０〜１０００
オングストロームのメソ孔を有するシリカ系多孔質体で
あって、種々の製造方法があり、製造条件等によりＳｉ
Ｏ2／Ａｌ2 Ｏ3 比１０から実質的にＳｉＯ2 のみのも
のまで得られている。例えば、ＭＣＭ−４１はモービル
社により開発された温度１４０℃、ｐＨ１３．５、シリ
カ源として水ガラス、ケイ酸ナトリウム、有機テンプレ
ートとしてカチオン系界面活性剤（炭素数８以上）を使
用して得られる比表面積１６００ｍ2 ／ｇ程度、ＳｉＯ
2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比１０００程度のシリカ系多孔質体であ
る。ＦＭＳ−１６は同じく黒田、稲垣等により開発され
たカネマイトにカチオン系界面活性剤をインターカレー
ションして得られたＭＣＭ−４１と類似の構造のＳｉＯ
2 ／Ａｌ 2 Ｏ3 比１０００程度のシリカ系多孔質体であ
る。また、低温メソポーラスシリケートはｓｔｕｃｋ
ｙ等により提唱された方法、すなわち、シリカ源として
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を、有機テンプレー
トとしてカチオン系界面活性剤を使用して室温下にｐＨ
１以下で合成するものであり、低温メソポーラスシリケ
ートは本発明者等が開発した方法、すなわち、シリカ
源として縮重合したシリカを含まないケイ酸を、有機テ
ンプレートとしてカチオン系界面活性剤を使用して室温
ｐＨ１以下で合成するものである。これらの低温メソポ
ーラスシリケートは製造条件等によりＳｉＯ2 ／Ａｌ2
Ｏ3 比１０から実質的にＳｉＯ2 のみのものまで得るこ
とができる。
オングストロームのメソ孔を有するシリカ系多孔質体で
あって、種々の製造方法があり、製造条件等によりＳｉ
Ｏ2／Ａｌ2 Ｏ3 比１０から実質的にＳｉＯ2 のみのも
のまで得られている。例えば、ＭＣＭ−４１はモービル
社により開発された温度１４０℃、ｐＨ１３．５、シリ
カ源として水ガラス、ケイ酸ナトリウム、有機テンプレ
ートとしてカチオン系界面活性剤（炭素数８以上）を使
用して得られる比表面積１６００ｍ2 ／ｇ程度、ＳｉＯ
2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比１０００程度のシリカ系多孔質体であ
る。ＦＭＳ−１６は同じく黒田、稲垣等により開発され
たカネマイトにカチオン系界面活性剤をインターカレー
ションして得られたＭＣＭ−４１と類似の構造のＳｉＯ
2 ／Ａｌ 2 Ｏ3 比１０００程度のシリカ系多孔質体であ
る。また、低温メソポーラスシリケートはｓｔｕｃｋ
ｙ等により提唱された方法、すなわち、シリカ源として
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を、有機テンプレー
トとしてカチオン系界面活性剤を使用して室温下にｐＨ
１以下で合成するものであり、低温メソポーラスシリケ
ートは本発明者等が開発した方法、すなわち、シリカ
源として縮重合したシリカを含まないケイ酸を、有機テ
ンプレートとしてカチオン系界面活性剤を使用して室温
ｐＨ１以下で合成するものである。これらの低温メソポ
ーラスシリケートは製造条件等によりＳｉＯ2 ／Ａｌ2
Ｏ3 比１０から実質的にＳｉＯ2 のみのものまで得るこ
とができる。
【００１６】また、本発明者らの実験結果によれば、こ
れらの高シリカ吸着剤の中でもＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比
７０以上の高シリカペンタシルゼオライト、ＳｉＯ2 ／
Ａｌ 2 Ｏ3 比２０以上の脱アルミニウムフォージャサイ
ト、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比２０以上のメソポーラスシ
リケートが、オゾン吸着能が高く、吸着したオゾンの分
解率も低いので好ましい吸着剤である。これらの中では
高シリカペンタシルゼオライトはオゾン分解率が若干高
い傾向にあり、オゾン吸着能及び分解率を勘案するとＳ
ｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比２０以上のメソポーラスシリケー
トが最も良好な性能を示し、次いでＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ
3 比２０以上の脱アルミニウムフォージャサイト、Ｓｉ
Ｏ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比７０以上の高シリカペンタシルゼオ
ライトの順である。
れらの高シリカ吸着剤の中でもＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比
７０以上の高シリカペンタシルゼオライト、ＳｉＯ2 ／
Ａｌ 2 Ｏ3 比２０以上の脱アルミニウムフォージャサイ
ト、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比２０以上のメソポーラスシ
リケートが、オゾン吸着能が高く、吸着したオゾンの分
解率も低いので好ましい吸着剤である。これらの中では
高シリカペンタシルゼオライトはオゾン分解率が若干高
い傾向にあり、オゾン吸着能及び分解率を勘案するとＳ
ｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比２０以上のメソポーラスシリケー
トが最も良好な性能を示し、次いでＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ
3 比２０以上の脱アルミニウムフォージャサイト、Ｓｉ
Ｏ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比７０以上の高シリカペンタシルゼオ
ライトの順である。
【００１７】これらの吸着剤は、吸着反応装置における
圧損を低く抑えるため、ハニカム形状に成形して使用す
るのが好ましい。それによって、１００万Ｎｍ3 ／ｈ程
度の規模の処理装置においても圧損を５０ｍｍＡｑ以下
に抑えることができる。
圧損を低く抑えるため、ハニカム形状に成形して使用す
るのが好ましい。それによって、１００万Ｎｍ3 ／ｈ程
度の規模の処理装置においても圧損を５０ｍｍＡｑ以下
に抑えることができる。
【００１８】以下、道路トンネル排ガスの処理を例にと
って、本発明をさらに詳細に説明する。０．５〜３ｐｐ
ｍのＮＯを主体とするＮＯｘを含有する道路トンネル排
ガスにオゾンを添加、混合した後、前記吸着反応装置の
吸着反応工程にある吸着剤充填層に導入し、吸着剤相中
で酸化反応させＮＯｘをＮＯ2 及びＨＮＯ3 に酸化して
吸着させる。これによって、ＮＯｘ濃度が０．０４〜
０．１ｐｐｍに低下した処理済ガスは大気中に放出され
る。オゾンの添加量は排ガス中のＮＯｘ濃度の種類、処
理条件等によって適宜設定すればよいが、通常は排ガス
中のＮＯｘに対しモル比で１〜１．５程度である。
って、本発明をさらに詳細に説明する。０．５〜３ｐｐ
ｍのＮＯを主体とするＮＯｘを含有する道路トンネル排
ガスにオゾンを添加、混合した後、前記吸着反応装置の
吸着反応工程にある吸着剤充填層に導入し、吸着剤相中
で酸化反応させＮＯｘをＮＯ2 及びＨＮＯ3 に酸化して
吸着させる。これによって、ＮＯｘ濃度が０．０４〜
０．１ｐｐｍに低下した処理済ガスは大気中に放出され
る。オゾンの添加量は排ガス中のＮＯｘ濃度の種類、処
理条件等によって適宜設定すればよいが、通常は排ガス
中のＮＯｘに対しモル比で１〜１．５程度である。
【００１９】排ガス中にオゾンを供給するためのオゾン
発生器（オゾナイザー）としてはそれ自体公知の無声放
電方式、紫外線ランプ方式、水電解方式などいずれの方
式のものでも適用できる。中でも水電解法は、特殊処理
したイオン交換膜を、カーボンとフッ素樹脂からなるガ
ス透過性電極（水素極）と二酸化鉛電極（オゾン極）で
挟み、オゾン極に原料水としてイオン交換水を供給して
電気分解し、オゾン極にオゾンと酸素を発生させ、水素
極に水素を発生させるものであって、高濃度でクリーン
なオゾンガスが得られ、しかも副生する水素を後の脱硝
工程において還元剤として使用することにより、極めて
効率的なシステムを構築できるので、本発明で使用する
オゾン発生装置として特に好適である。
発生器（オゾナイザー）としてはそれ自体公知の無声放
電方式、紫外線ランプ方式、水電解方式などいずれの方
式のものでも適用できる。中でも水電解法は、特殊処理
したイオン交換膜を、カーボンとフッ素樹脂からなるガ
ス透過性電極（水素極）と二酸化鉛電極（オゾン極）で
挟み、オゾン極に原料水としてイオン交換水を供給して
電気分解し、オゾン極にオゾンと酸素を発生させ、水素
極に水素を発生させるものであって、高濃度でクリーン
なオゾンガスが得られ、しかも副生する水素を後の脱硝
工程において還元剤として使用することにより、極めて
効率的なシステムを構築できるので、本発明で使用する
オゾン発生装置として特に好適である。
【００２０】ＮＯ2 及びＨＮＯ3 を吸着して吸着剤の吸
着能が低下した吸着剤充填層は、排ガスの導入を止めて
加熱脱着工程とし、加熱することによってＮＯ2 を脱着
させ（吸着されたＨＮＯ3 もほとんどがＮＯ2 の形で脱
着する）、高濃度ＮＯ2 含有ガスを発生させるとともに
吸着剤の再生を行う。加熱温度は吸着時の温度にもよる
が、常温吸着の場合で実用的には７０〜２００℃に加熱
する。なお、本発明を、ボイラ排ガスやディーゼルエン
ジン排ガスを通常の脱硝方法によって処理し、４０ｐｐ
ｍ程度までＮＯｘ濃度を低減させたガスの二次処理に適
用する場合など、処理ガスが比較的高温の場合には５０
〜１００℃で吸着反応させ、２００〜３００℃で脱着さ
せることもできるが、この場合はオゾンの分解を考慮
し、ＮＯｘに対するオゾンのモル比を１．２〜２モル比
程度に増量する必要がある。加熱方法としては吸着反応
処理後の処理ガスの１部を加熱し、脱着ガスとして使用
するのが好都合である。本発明においては前記の高性能
吸着剤を使用しているのでＮＯｘガスの濃縮効果が大き
く、ＮＯ2 濃度が１０００〜２００００ｐｐｍの高濃度
ＮＯ2 含有ガスが得られる。
着能が低下した吸着剤充填層は、排ガスの導入を止めて
加熱脱着工程とし、加熱することによってＮＯ2 を脱着
させ（吸着されたＨＮＯ3 もほとんどがＮＯ2 の形で脱
着する）、高濃度ＮＯ2 含有ガスを発生させるとともに
吸着剤の再生を行う。加熱温度は吸着時の温度にもよる
が、常温吸着の場合で実用的には７０〜２００℃に加熱
する。なお、本発明を、ボイラ排ガスやディーゼルエン
ジン排ガスを通常の脱硝方法によって処理し、４０ｐｐ
ｍ程度までＮＯｘ濃度を低減させたガスの二次処理に適
用する場合など、処理ガスが比較的高温の場合には５０
〜１００℃で吸着反応させ、２００〜３００℃で脱着さ
せることもできるが、この場合はオゾンの分解を考慮
し、ＮＯｘに対するオゾンのモル比を１．２〜２モル比
程度に増量する必要がある。加熱方法としては吸着反応
処理後の処理ガスの１部を加熱し、脱着ガスとして使用
するのが好都合である。本発明においては前記の高性能
吸着剤を使用しているのでＮＯｘガスの濃縮効果が大き
く、ＮＯ2 濃度が１０００〜２００００ｐｐｍの高濃度
ＮＯ2 含有ガスが得られる。
【００２１】実際の道路トンネル排ガスの処理に当たっ
ては、複数の高シリカ吸着剤充填層を有する吸着反応装
置を使用して、バルブの切り換えによって吸着反応工程
と加熱脱着工程とを順次繰り返す方式とするか、あるい
は、回転軸を中心にして円盤状に配置された複数の高シ
リカ吸着剤充填層を有する吸着反応装置を使用して、回
転により順次吸着反応ゾーンと加熱脱着ゾーンを通過す
ることによって吸着反応工程と加熱脱着工程とを順次繰
り返す方式とすることによって、連続的な排ガス処理が
可能となる。
ては、複数の高シリカ吸着剤充填層を有する吸着反応装
置を使用して、バルブの切り換えによって吸着反応工程
と加熱脱着工程とを順次繰り返す方式とするか、あるい
は、回転軸を中心にして円盤状に配置された複数の高シ
リカ吸着剤充填層を有する吸着反応装置を使用して、回
転により順次吸着反応ゾーンと加熱脱着ゾーンを通過す
ることによって吸着反応工程と加熱脱着工程とを順次繰
り返す方式とすることによって、連続的な排ガス処理が
可能となる。
【００２２】加熱脱着工程から得られる高濃度ＮＯ2 含
有ガスを脱硝装置に導入して脱硝処理を行う。脱硝装置
としては、従来からボイラ排ガスの脱硝等に用いられて
いるアンモニアなどの還元剤を使用した接触還元脱硝装
置が使用できる。この種の接触還元脱硝装置は通常１８
０〜３５０℃で運転されているが、最近開発されている
２００℃付近の低温で活性を示す脱硝触媒を使用すれ
ば、加熱脱着工程で得られるガスをさらに加熱するエネ
ルギを低減することができる。なお、前記のとおりオゾ
ン発生器として水電解方式のオゾン発生器を使用すれば
オゾンとともに水素が得られるので、この水素を脱硝装
置の還元剤として使用することにより、極めて効率的な
排ガス処理システムとなる。また、この場合は有害なア
ンモニアを使用しないので、市街地に設置しても二次公
害のおそれがない。さらに、オゾン発生器で副生する水
素の処理が不要となる利点もある。
有ガスを脱硝装置に導入して脱硝処理を行う。脱硝装置
としては、従来からボイラ排ガスの脱硝等に用いられて
いるアンモニアなどの還元剤を使用した接触還元脱硝装
置が使用できる。この種の接触還元脱硝装置は通常１８
０〜３５０℃で運転されているが、最近開発されている
２００℃付近の低温で活性を示す脱硝触媒を使用すれ
ば、加熱脱着工程で得られるガスをさらに加熱するエネ
ルギを低減することができる。なお、前記のとおりオゾ
ン発生器として水電解方式のオゾン発生器を使用すれば
オゾンとともに水素が得られるので、この水素を脱硝装
置の還元剤として使用することにより、極めて効率的な
排ガス処理システムとなる。また、この場合は有害なア
ンモニアを使用しないので、市街地に設置しても二次公
害のおそれがない。さらに、オゾン発生器で副生する水
素の処理が不要となる利点もある。
【００２３】脱硝後のガス中のＮＯｘ濃度は５０〜１０
００ｐｐｍ程度であり、量が少ないのでそのまま前記吸
着反応工程から排出される処理済ガスと合わせて大気中
に放出することもできるが、全量を吸着反応装置へ導入
する排ガス中に戻すようにすれば、系外への放出ガスは
ＮＯｘ濃度０．０４〜０．１ｐｐｍの処理済ガスのみと
することができる。
００ｐｐｍ程度であり、量が少ないのでそのまま前記吸
着反応工程から排出される処理済ガスと合わせて大気中
に放出することもできるが、全量を吸着反応装置へ導入
する排ガス中に戻すようにすれば、系外への放出ガスは
ＮＯｘ濃度０．０４〜０．１ｐｐｍの処理済ガスのみと
することができる。
【００２４】本発明の排ガスの脱硝方法及び装置は、Ｎ
Ｏｘを高度に濃縮して脱硝処理することができるので、
ＮＯｘ濃度が０．５〜３ｐｐｍの道路トンネル排ガスな
どのＮＯｘ濃度が低い（４０ｐｐｍ程度以下）排ガスの
処理に好適である。また、比較的高濃度のＮＯｘを含む
ボイラ排ガスなどを通常のアンモニア還元脱硝方法など
によって脱硝処理し、ＮＯｘ濃度が４０ｐｐｍ程度に低
減された処理ガスに適用してさらに高度の脱硝処理を行
うことも可能である。
Ｏｘを高度に濃縮して脱硝処理することができるので、
ＮＯｘ濃度が０．５〜３ｐｐｍの道路トンネル排ガスな
どのＮＯｘ濃度が低い（４０ｐｐｍ程度以下）排ガスの
処理に好適である。また、比較的高濃度のＮＯｘを含む
ボイラ排ガスなどを通常のアンモニア還元脱硝方法など
によって脱硝処理し、ＮＯｘ濃度が４０ｐｐｍ程度に低
減された処理ガスに適用してさらに高度の脱硝処理を行
うことも可能である。
【００２５】
【実施例】次に図面を参照した実施例により本発明を詳
細に説明する。 （実施例１）図１は本発明による道路トンネル排ガス脱
硝処理プロセスの１実施態様を示す概略説明図である。
図１のプロセスは水電解方式のオゾン発生器を使用し、
吸着反応装置は回転式とし、脱硝装置は水素を還元剤と
する脱硝装置を使用した例である。図１において、ブロ
ア２を経由して供給される道路トンネルからの排ガス１
に、混合器３でオゾン発生器４からオゾン５を注入し、
吸着反応装置１０の吸着反応ゾーン７にある吸着剤充填
層に導入して吸着反応処理する。オゾン発生器４は水６
を供給して電解しオゾンを発生させる方式のものであ
る。
細に説明する。 （実施例１）図１は本発明による道路トンネル排ガス脱
硝処理プロセスの１実施態様を示す概略説明図である。
図１のプロセスは水電解方式のオゾン発生器を使用し、
吸着反応装置は回転式とし、脱硝装置は水素を還元剤と
する脱硝装置を使用した例である。図１において、ブロ
ア２を経由して供給される道路トンネルからの排ガス１
に、混合器３でオゾン発生器４からオゾン５を注入し、
吸着反応装置１０の吸着反応ゾーン７にある吸着剤充填
層に導入して吸着反応処理する。オゾン発生器４は水６
を供給して電解しオゾンを発生させる方式のものであ
る。
【００２６】吸着反応器１０は高シリカ吸着剤を充填し
た吸着剤充填層が円盤状に配置された形式のもので、吸
着反応ゾーン７、予熱ゾーン８及び加熱脱着ゾーン９と
に区分されており、全体が回転することにより各吸着剤
充填層が順次、吸着反応工程、予熱工程及び加熱脱着工
程を繰り返すようになっている。吸着反応ゾーンにある
吸着剤充填層に導入された排ガス１中のオゾン及びＮＯ
ｘ（ＮＯが主体）は高シリカ吸着剤に吸着され、ＮＯｘ
は高濃度のオゾンと接触して酸化されＮＯ2 及びＨＮＯ
2 となり吸着される。このようにしてＮＯｘ濃度が低減
した排ガスは処理済ガス１１として大気中に放出され
る。
た吸着剤充填層が円盤状に配置された形式のもので、吸
着反応ゾーン７、予熱ゾーン８及び加熱脱着ゾーン９と
に区分されており、全体が回転することにより各吸着剤
充填層が順次、吸着反応工程、予熱工程及び加熱脱着工
程を繰り返すようになっている。吸着反応ゾーンにある
吸着剤充填層に導入された排ガス１中のオゾン及びＮＯ
ｘ（ＮＯが主体）は高シリカ吸着剤に吸着され、ＮＯｘ
は高濃度のオゾンと接触して酸化されＮＯ2 及びＨＮＯ
2 となり吸着される。このようにしてＮＯｘ濃度が低減
した排ガスは処理済ガス１１として大気中に放出され
る。
【００２７】処理済ガス１１の１部は脱着ガス１２とし
て予熱ゾーン８の吸着剤層に導入され、加熱脱着ゾーン
９で大部分のＮＯ2 が脱着された吸着剤と接触して、残
留するＮＯ2 を脱着させるとともに吸着剤を冷却したの
ち、ヒータ１３で脱着温度（７５〜２００℃）に加熱さ
れ、加熱脱着ゾーン９にある吸着剤層に導入される。そ
してＮＯ2 を吸着した吸着剤と接触してＮＯ2 を脱着さ
せて吸着剤を再生し、高濃度ＮＯ2 含有ガス１４として
排出される。
て予熱ゾーン８の吸着剤層に導入され、加熱脱着ゾーン
９で大部分のＮＯ2 が脱着された吸着剤と接触して、残
留するＮＯ2 を脱着させるとともに吸着剤を冷却したの
ち、ヒータ１３で脱着温度（７５〜２００℃）に加熱さ
れ、加熱脱着ゾーン９にある吸着剤層に導入される。そ
してＮＯ2 を吸着した吸着剤と接触してＮＯ2 を脱着さ
せて吸着剤を再生し、高濃度ＮＯ2 含有ガス１４として
排出される。
【００２８】高濃度ＮＯ2 含有ガス１４は、１８０〜３
５０℃の温度で表１に示した脱硝触媒を充填した脱硝装
置１５に導入され、オゾン発生器４からの水素１６によ
り還元脱硝処理される。処理後の脱硝ガス１７は、吸着
反応ゾーン７からの処理済ガス１１と合わせて大気中に
放出するか、吸着反応装置１０へ導入される前の排ガス
中に返送される。図１のプロセスによりＮＯ濃度２ｐｐ
ｍの道路トンネル排ガス１０6 Ｎｍ3 ／ｈを処理する場
合の諸元は表１のとおりである。
５０℃の温度で表１に示した脱硝触媒を充填した脱硝装
置１５に導入され、オゾン発生器４からの水素１６によ
り還元脱硝処理される。処理後の脱硝ガス１７は、吸着
反応ゾーン７からの処理済ガス１１と合わせて大気中に
放出するか、吸着反応装置１０へ導入される前の排ガス
中に返送される。図１のプロセスによりＮＯ濃度２ｐｐ
ｍの道路トンネル排ガス１０6 Ｎｍ3 ／ｈを処理する場
合の諸元は表１のとおりである。
【００２９】
【表１】
【００３０】（実施例２）吸着剤充填層が７５ｍ3 のメ
ソポーラスシリケート（実質的にＳｉＯ2 ：１００％の
ハニカム）である図１の形式の回転式吸着反応装置を使
用してＮＯｘ（ＮＯ／ＮＯ2 比：１／０．２）濃度２ｐ
ｐｍのガスを処理してＮＯｘ除去試験を行った。 〔吸着反応装置の回転数とＮＯｘ吸着能力〕ＮＯｘに対
し１．５モル比のオゾンを添加し、吸着温度２５℃、脱
着温度２００℃とし、吸着反応装置の回転数を変化させ
てＮＯｘ除去試験を行い、９０％のＮＯｘ除去率が得ら
れる処理ガス量を調べた結果を図２に示す。
ソポーラスシリケート（実質的にＳｉＯ2 ：１００％の
ハニカム）である図１の形式の回転式吸着反応装置を使
用してＮＯｘ（ＮＯ／ＮＯ2 比：１／０．２）濃度２ｐ
ｐｍのガスを処理してＮＯｘ除去試験を行った。 〔吸着反応装置の回転数とＮＯｘ吸着能力〕ＮＯｘに対
し１．５モル比のオゾンを添加し、吸着温度２５℃、脱
着温度２００℃とし、吸着反応装置の回転数を変化させ
てＮＯｘ除去試験を行い、９０％のＮＯｘ除去率が得ら
れる処理ガス量を調べた結果を図２に示す。
【００３１】〔吸着反応装置入口オゾン／ＮＯｘモル比
とＮＯｘ除去率〕吸着反応装置入口におけるオゾン／Ｎ
Ｏｘモル比を変化させ、吸着温度２５℃、脱着温度２０
０℃とし、吸着反応装置の回転数を３ｒｐｈとしてＮＯ
ｘ除去試験を行い、吸着反応装置入口オゾン／ＮＯｘモ
ル比とＮＯｘ除去率との関係を調べた。結果を図３に示
す。
とＮＯｘ除去率〕吸着反応装置入口におけるオゾン／Ｎ
Ｏｘモル比を変化させ、吸着温度２５℃、脱着温度２０
０℃とし、吸着反応装置の回転数を３ｒｐｈとしてＮＯ
ｘ除去試験を行い、吸着反応装置入口オゾン／ＮＯｘモ
ル比とＮＯｘ除去率との関係を調べた。結果を図３に示
す。
【００３２】〔再生温度とＮＯｘ吸着能力〕ＮＯｘに対
し１．５モル比のオゾンを添加し、吸着温度２５℃、吸
着反応装置の回転数を３ｒｐｈとし、再生温度を変化さ
せてＮＯｘ除去試験を行い、９０％のＮＯｘ除去率が得
られる処理ガス量を調べた結果を図４に示す。
し１．５モル比のオゾンを添加し、吸着温度２５℃、吸
着反応装置の回転数を３ｒｐｈとし、再生温度を変化さ
せてＮＯｘ除去試験を行い、９０％のＮＯｘ除去率が得
られる処理ガス量を調べた結果を図４に示す。
【００３３】
【発明の効果】本発明においては、オゾンの吸着能力が
大きく、吸着したオゾンの分解率が低く、かつＮＯｘを
吸着する高シリカ吸着剤を使用し、オゾンを注入した排
ガスを接触させることによって、ＮＯのＮＯ2 への酸化
とＮＯ2 の吸着濃縮を効率よく行うことができる。特に
高シリカ吸着剤としてオゾン吸着能力の大きいメソポー
ラスシリケート、高シリカペンタシルゼオライト又は脱
アルミニウムフォージャサイトを使用することにより吸
着酸化反応効率及びＮＯ2 の濃縮効率が高く、装置の小
型化の効果が大きい。また、本発明で使用する高シリカ
吸着剤は疎水性で排ガス中の水分の影響を受けないの
で、脱湿装置を設ける必要がない。水電解方式のオゾン
発生装置を使用し、副生する水素を後の脱硝工程におい
て還元剤として使用することにより、極めて効率的なシ
ステムの構築が可能である。さらに、脱硝装置における
脱硝触媒として低温脱硝型の触媒の適用が可能であり、
その場合はより一層の省エネルギ設備となる。
大きく、吸着したオゾンの分解率が低く、かつＮＯｘを
吸着する高シリカ吸着剤を使用し、オゾンを注入した排
ガスを接触させることによって、ＮＯのＮＯ2 への酸化
とＮＯ2 の吸着濃縮を効率よく行うことができる。特に
高シリカ吸着剤としてオゾン吸着能力の大きいメソポー
ラスシリケート、高シリカペンタシルゼオライト又は脱
アルミニウムフォージャサイトを使用することにより吸
着酸化反応効率及びＮＯ2 の濃縮効率が高く、装置の小
型化の効果が大きい。また、本発明で使用する高シリカ
吸着剤は疎水性で排ガス中の水分の影響を受けないの
で、脱湿装置を設ける必要がない。水電解方式のオゾン
発生装置を使用し、副生する水素を後の脱硝工程におい
て還元剤として使用することにより、極めて効率的なシ
ステムの構築が可能である。さらに、脱硝装置における
脱硝触媒として低温脱硝型の触媒の適用が可能であり、
その場合はより一層の省エネルギ設備となる。
【図１】本発明による道路トンネル排ガス脱硝処理プロ
セスの１実施態様を示す概略説明図。
セスの１実施態様を示す概略説明図。
【図２】実施例２における吸着反応装置の回転数とＮＯ
ｘ吸着能力との関係を示すグラフ。
ｘ吸着能力との関係を示すグラフ。
【図３】実施例２における吸着反応装置入口オゾン／Ｎ
Ｏｘモル比とＮＯｘ除去率との関係を示すグラフ。
Ｏｘモル比とＮＯｘ除去率との関係を示すグラフ。
【図４】実施例２における再生温度とＮＯｘ吸着能力と
の関係を示すグラフ。
の関係を示すグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 蔦谷 博之 長崎県長崎市深堀町五丁目717番１号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 (72)発明者 和田 香 神奈川県相模原市田名3000番地 三菱重工 業株式会社相模原製作所内 (72)発明者 峰尾 徳一 神奈川県相模原市田名3000番地 三菱重工 業株式会社相模原製作所内
Claims (10)
- 【請求項１】 排ガスにオゾンを注入し、オゾンを吸着
しかつＮＯｘを吸着する高シリカ吸着剤充填層を有する
吸着反応装置の吸着反応工程にある吸着剤充填層に導入
して排ガス中のＮＯｘをＮＯ2 及びＨＮＯ3 に酸化して
吸着させ、ＮＯｘ含有量の低減した処理ガスは大気中に
放出し、ＮＯ2 及びＨＮＯ3 を吸着して吸着剤の吸着能
が低下した吸着剤充填層は排ガスの導入を止めて加熱脱
着工程とし、加熱することによってＮＯ2 を脱着させ、
高濃度ＮＯ2 含有ガスを発生させるとともに吸着剤の再
生を行い、得られた高濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝装置に
導いてＮＯ2 を分解除去することを特徴とする排ガスの
脱硝処理方法。 - 【請求項２】 前記排ガスに注入するオゾンとして水の
電解によるオゾン発生器から発生させたオゾンを使用
し、オゾン発生器から発生する水素を脱硝装置における
還元剤として使用してＮＯ2 の分解除去を行うことを特
徴とする請求項１に記載の排ガスの脱硝処理方法。 - 【請求項３】 前記高シリカ吸着剤が高シリカペンタシ
ルゼオライト、脱アルミニウムフォージャサイト、メソ
ポーラスシリケート又はこれらのうちの２種以上の混合
物であることを特徴とする請求項１又は２に記載の排ガ
スの脱硝処理方法。 - 【請求項４】 前記排ガスが道路トンネル排ガスである
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の
排ガスの脱硝処理方法。 - 【請求項５】 オゾンを吸着しかつＮＯｘを吸着する高
シリカ吸着剤充填層を有し、排ガス中のＮＯｘの酸化吸
着と加熱による高濃度ＮＯ2 含有ガスの放出及び吸着剤
の再生とを交互に行う吸着反応装置と、該吸着反応装置
に供給する排ガス中にオゾンを注入するオゾン発生器
と、前記吸着反応装置から吸着剤再生時に放出される高
濃度ＮＯ2 含有ガスを脱硝処理する脱硝装置とを構成要
素として含むことを特徴とする排ガスの脱硝処理装置。 - 【請求項６】 前記吸着反応装置が、複数の高シリカ吸
着剤充填層を有し、バルブの切り換えによって吸着反応
工程と加熱脱着工程とを順次繰り返す吸着反応装置であ
ることを特徴とする請求項５に記載の排ガスの脱硝処理
装置。 - 【請求項７】 前記吸着反応装置が、回転軸を中心にし
て円盤状に配置された複数の高シリカ吸着剤充填層を有
し、回転により順次吸着反応ゾーンと加熱脱着ゾーンを
通過することによって吸着反応工程と加熱脱着工程とを
順次繰り返す吸着反応装置であることを特徴とする請求
項５に記載の排ガスの脱硝処理装置。 - 【請求項８】 前記高シリカ吸着剤が高シリカペンタシ
ルゼオライト、脱アルミニウムフォージャサイト、メソ
ポーラスシリケート又はこれらのうちの２種以上の混合
物であることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項
に記載の排ガスの脱硝処理装置。 - 【請求項９】 前記オゾン発生装置が水の電解によるオ
ゾン発生器であり、前記脱硝装置が還元剤として水素を
使用する脱硝装置であることを特徴とする請求項５〜８
のいずれか１項に記載の排ガスの脱硝処理装置。 - 【請求項１０】 請求項５〜９のいずれか１項に記載の
構成を有することを特徴とする道路トンネル排ガスの脱
硝装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27707197A JP3553336B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 排ガスの脱硝処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27707197A JP3553336B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 排ガスの脱硝処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11114370A true JPH11114370A (ja) | 1999-04-27 |
| JP3553336B2 JP3553336B2 (ja) | 2004-08-11 |
Family
ID=17578384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27707197A Expired - Fee Related JP3553336B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 排ガスの脱硝処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3553336B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003053132A (ja) * | 2001-08-13 | 2003-02-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理剤及びこれを利用する排ガス処理設備 |
| JP2009095801A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Toshiba Corp | 常温ガス中のＮＯｘ浄化装置 |
| WO2013031415A1 (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | ニチアス株式会社 | 二酸化窒素吸着剤、二酸化窒素吸着装置および二酸化窒素の除去方法 |
| CN103055672A (zh) * | 2012-12-31 | 2013-04-24 | 浙江工商大学 | 一种两步氧化-还原烟气脱硝方法 |
| JP2015010016A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 岩谷産業株式会社 | オゾンガスに含まれる窒素酸化物除去方法 |
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| JP2020110753A (ja) * | 2019-01-09 | 2020-07-27 | 株式会社荏原製作所 | 窒素酸化物を含むガスの処理装置、および処理方法 |
-
1997
- 1997-10-09 JP JP27707197A patent/JP3553336B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2017051899A (ja) * | 2015-09-08 | 2017-03-16 | 株式会社公害防止機器研究所 | ガス浄化方法 |
| JP2020110753A (ja) * | 2019-01-09 | 2020-07-27 | 株式会社荏原製作所 | 窒素酸化物を含むガスの処理装置、および処理方法 |
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