JP2002263444A - チッ素酸化物除去方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 チッ素酸化物を効率的に吸着除去する。ま
た、吸着剤を再生するときに得られる高濃度ガスで、吸
着塔の金属部が腐食されないようにする。 【解決手段】 チッ素酸化物を含有する処理ガス９を反
応管１１でオゾン酸化処理し、分解触媒充填塔１４でオ
ゾン酸化処理されたガスに含まれるオゾンを分解したの
ち、ゼオライト吸着塔１３で吸着処理する。吸着剤の再
生は、内側がガラスまたは緻密なアルミナセラミックス
でライニングされた吸着塔中で行なう。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、酸性雨などの原因
となるＮＯガスやＮＯ₂ガスなどのチッ素酸化物（以
下、ＮＯ_xともいう）の混合ガスを除去するための方法
および装置に関する。とくに、自動車、発電所、ボイラ
ー、焼却炉、バイオマス、生物分解活性汚泥などから排
出される排気ガスからＮＯ_xを低減し、環境中へ戻す方
法および装置、または、家屋、ビルディング、駐車場、
地下駐車場、トンネル、実験室などに充満したＮＯ_xを
低減する方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】「環境保全研究成果集、Ｐｔ１、２８頁
１〜２８行 １８巻（１９９４）「トンネル等閉鎖空
間の大気汚染浄化に関する基礎的研究」：綾 信博、千
阪 文武、斎藤 敬三ら」には、ゼオライトハニカムに
ＮＯガスを通過させても、ＮＯガスを吸着除去すること
は困難であるため、オゾンを添加してＮＯガスをＮＯ₂
ガスへ酸化させたのち、ゼオライトハニカムで吸着除去
する方法が報告されている。ＮＯ₂ガスはＮＯガスと比
較してゼオライトの分子ふるい吸着作用を受けやすいた
め、ＮＯガスを吸着させるよりも、効率的に吸着させる
ことが可能である。

【０００３】オゾン添加量を増加させると、ＮＯガス全
量がＮＯ₂ガスに転化し、さらに増加させると、ＮＯ₂ガ
スは硝酸ガスとなることが報告されている。硝酸ガス
は、ＮＯ₂ガスよりもさらにゼオライトの吸着作用を受
けやすい。報告では、硝酸ガスを生成するために、ＮＯ
₂ガスに対するオゾン添加量（Ｏ₃／ＮＯ）を、９．３倍
まで増加させている。

【０００４】このようにしてＮＯ_xガスを吸着させた吸
着剤の再生方法に関しては、吸着塔内部を脱気して減圧
状態にすることで、吸着剤内部からＮＯ_xガスを脱着さ
せる方法が、特開平５−１４６６３３に開示されてい
る。この操作により、吸着塔で処理されるＮＯ_xガスの
濃度を百倍程度に濃縮することが可能である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来
は、ゼオライトに吸着しにくいＮＯガスを、オゾンで酸
化させることで吸着されやすいＮＯ₂ガスまたは硝酸ガ
スに転化したのち、吸着除去していた。ＮＯ₂ガスと硝
酸ガスの吸着性能を比較すると、硝酸ガスのほうが飽和
吸着量が５〜１０倍程度多く、硝酸ガスまで酸化させた
ほうがＮＯ_xの吸着除去作用を最大限に活用することが
できる。

【０００６】本発明者らは、硝酸ガスまで充分にＮＯガ
スをオゾン酸化させ、余剰オゾンが同時に存在している
条件で吸着除去を行なったところ、つぎのような結果を
得た。

【０００７】図２６は、硝酸ガス吸着除去能力を測定す
るための装置である。図２６において、１はガラス製吸
着塔（吸着塔厚さ１０ｃｍ）であり、ここで、ＮＯガス
をオゾン酸化して得られる硝酸ガスをゼオライトペレッ
ト２に吸着させる。ガラス製吸着塔１の中にはゼオライ
トペレット２を支持するために、φ０．８ｍｍの孔の空
いた２枚のガラスメッシュ板３を１０ｃｍ間隔で設置し
てあり、この間へゼオライトペレット２を充填した。ガ
ラスメッシュ板３の面積は１００ｃｍ²である。

【０００８】ゼオライトペレット２としては、Ｓｉ／Ａ
ｌ比が１５の東ソー製水素終端Ｙ型疎水性ゼオライトＨ
ＳＺ−３６０を用いた。ゼオライトペレット２は円柱状
をしており、直径は１．６ｍｍで長さは平均で８ｍｍ程
度である。

【０００９】この吸着剤充填層に、ガス線速度が１．５
９ｍ／秒で流入するように処理ガス４を流した。処理ガ
ス４は、空気を主成分とし、水分濃度が４２００ｐｐ
ｍ、硝酸ガス濃度が１０ｐｐｍを含む。このとき、さら
に４．４〜５．７ｐｐｍの濃度範囲でオゾンガスを添加
した。

【００１０】ガス温度および吸着剤の温度は３０℃であ
る。このガラス製吸着塔１の後段に、ガス測定用のフー
リエ変換赤外分光光度計（以下ＦＴ−ＩＲという）５を
設け、ガラス製吸着塔１から漏れだしてくる硝酸ガス濃
度を測定した。

【００１１】この装置においてオゾンガスを添加した場
合と、添加しない場合のＮＯ_x吸着除去能力の違いを調
査した。

【００１２】図２７にそれぞれの破過曲線を示す。破過
曲線とは、吸着塔から漏れだしてきたガス濃度を時間に
対してプロットしたものである。図２７において、横軸
は測定時間、縦軸は吸着剤から漏れだしてきた硝酸ガス
濃度である。Ａ１は「オゾン添加なし」のときの吸着破
過曲線を示しており、Ａ２は「オゾン添加あり」ときの
吸着破過曲線を示す。

【００１３】オゾン添加なしのとき、漏れだしてきた硝
酸ガス濃度は、オゾン添加した場合よりも低い。これ
は、オゾンを添加することでゼオライトが硝酸ガスを吸
着し難くなり、少量の硝酸ガスしか吸着しきれず、すば
やく飽和してしまうことを示している。

【００１４】このときの飽和吸着量を表わす吸着平衡定
数は、それぞれオゾン添加なしで、５．５×１０⁵［ｃ
ｍ³／ｇ］，オゾン添加ありで２．７×１０⁵［ｃｍ³／
ｇ］である。

【００１５】吸着平衡定数とは、吸着ガス濃度が数十ｐ
ｐｍ以下の範囲で、 ｑ＝βＣ （１） ｑ：ゼオライト単位量あたりの飽和吸着ガス量［ｇ／
ｇ］ β：吸着平衡定数［ｃｍ³／ｇ］ Ｃ：ガス濃度［ｇ／ｃｍ³］ の関係があり、ある同じガス濃度で吸着させたときに、
ゼオライトが飽和するまでどれだけの吸着能力をもって
いるかを示す指標である。

【００１６】硝酸ガスをより効率的に吸着するには、オ
ゾンが共存しないほうがよいことが判明した。オゾンが
存在すると、オゾンもゼオライトに吸着されて吸着サイ
トを埋めてしまうために、硝酸ガスの吸着が妨害され、
硝酸ガスの吸着効率が低下すると考えられる。

【００１７】また、吸着剤にＮＯ₂ガスおよび硝酸ガス
を吸着させ、こののち、吸着剤を加熱再生または減圧脱
着再生すると同時に脱着ガスを高濃度濃縮することが可
能である。しかし、脱着ガスが高濃度であると、吸着塔
の金属部と腐食反応し易く、耐久性を著しく低下させ、
かつ金属部と反応して高濃度を保てなくなるという問題
がある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】従来方法や実験結果か
ら、ＮＯガスをオゾン酸化してＮＯ_xとすることで、効
率的に吸着除去することが可能である。ＮＯ₂ガスの吸
着平衡定数は１．４５×１０⁵［ｃｍ³／ｇ］程度であ
り、硝酸ガスと比較して飽和吸着量が低いため、さらに
硝酸ガス状態で吸着させることが最も効率的である。

【００１９】しかしながら、前記実験結果から硝酸ガス
を効率的に吸着させるには、ゼオライトに処理ガスを流
入させるときにオゾンが存在しないことが望ましいこと
が判明した。

【００２０】本発明は、ＮＯガスやＮＯ₂ガスをオゾン
酸化させ、硝酸ガスまで酸化させたのち、余剰のオゾン
を除去することで、最も効率的な吸着除去を達成する方
法と装置に関する。

【００２１】また、前記のような吸着剤を再生するとき
に得られる高濃度ガスで、吸着塔の金属部が腐食され
ず、かつ脱着ガスが高濃度を保つことができるように工
夫した方法と装置に関する。

【００２２】すなわち、本発明の第１の除去方法は、チ
ッ素酸化物を含有するガスをオゾン酸化処理したのちに
吸着処理するチッ素酸化物の除去方法において、吸着処
理前にオゾン酸化処理されたガス中に含まれるオゾンを
分解することを特徴とするチッ素酸化物の除去方法に関
する。

【００２３】本発明の第２の除去方法は、チッ素酸化物
を含有するガスをオゾン酸化処理したのちに吸着処理す
るチッ素酸化物の除去方法において、吸着処理前にオゾ
ン酸化処理されたガス中に含まれる余剰オゾンを検知
し、オゾン生成量を制御することを特徴とするチッ素酸
化物の除去方法に関する。

【００２４】本発明の第３の除去方法は、チッ素酸化物
を含有するガスをオゾン酸化処理したのちに第１加圧タ
ンクに加圧貯蔵し、第１加圧タンクが所定の圧力に達す
ると圧力を開放し、吸着剤と接触させて吸着除去し、前
記第１加圧タンクが開放されている間、第２加圧タンク
に前記オゾン酸化したガスを加圧貯蔵し、第２加圧タン
クが所定の圧力に達するとともに圧力を開放し、前記吸
着剤と接触させて吸着除去し、以後第１と第２の加圧タ
ンクを交互に動作させることを特徴とするチッ素酸化物
の除去方法に関する。

【００２５】本発明の第４の除去方法は、チッ素酸化物
を含有するガスをオゾン酸化処理したのちに吸着処理す
るチッ素酸化物の除去方法において、吸着処理前にオゾ
ン酸化処理されたガスをメンブランフィルタに透過さ
せ、フィルタに透過しなかったオゾンをオゾン分解触媒
で接触・分解することを特徴とするチッ素酸化物の除去
方法に関する。

【００２６】本発明の第１の除去装置は、チッ素酸化物
を含有するガスをオゾン酸化処理する手段と、オゾン酸
化処理されたガスを吸着処理する吸着手段を有するチッ
素酸化物の除去装置において、吸着処理前にオゾン酸化
処理されたガスに含まれるオゾンの分解手段を備えたこ
とを特徴とするチッ素酸化物の除去装置に関する。

【００２７】本発明の第２の除去装置は、第１の除去装
置において、オゾン分解手段が、二酸化マンガンおよび
／または二酸化コバルトをオゾン分解触媒として有する
チッ素酸化物の除去装置に関する。

【００２８】本発明の第３の除去装置は、第１または第
２の除去装置において、オゾン分解触媒の加熱手段を有
するチッ素酸化物の除去装置に関する。

【００２９】本発明の第４の除去装置は、第１の除去装
置において、オゾン分解手段が、加熱手段およびオゾン
を接触・熱分解するゼオライトであるチッ素酸化物の除
去装置に関する。

【００３０】本発明の第５の除去装置は、第１の除去装
置において、オゾン分解手段が、放熱側を処理ガス流の
上流側に向けて設置し、放熱側にゼオライトを接触させ
て、該ゼオライトを加熱することによってオゾンを接触
・熱分解するペルチェ素子であって、該ペルチェ素子の
冷却側を吸着剤に接触させ、吸着剤温度を室温以下に冷
却することを特徴とするチッ素酸化物の除去装置に関す
る。

【００３１】本発明の第６の除去装置は、第１の除去装
置において、オゾン分解手段が、加熱手段およびオゾン
を接触・熱分解する白金メッキ金属板もしくはハニカム
であるチッ素酸化物の除去装置に関する。

【００３２】本発明の第７の除去装置は、第１の除去装
置において、オゾン分解手段が、加熱手段およびオゾン
を接触・熱分解する白金担持ゼオライトであるチッ素酸
化物の除去装置に関する。

【００３３】本発明の第８の除去装置は、チッ素酸化物
を含有するガスをオゾン酸化処理する手段と、オゾン酸
化処理されたガスを吸着処理する吸着手段を有するチッ
素酸化物の除去装置において、吸着処理前にオゾン酸化
処理されたガス中に含まれる余剰オゾンを検知するセン
サ、およびこのセンサに接続されたコントローラによっ
てオゾン生成量を制御するオゾナイザを有するチッ素酸
化物の除去装置に関する。

【００３４】本発明の第９の除去装置は、オゾナイザ
が、コロナ放電によるイオン化部でオゾンを生成する電
気集塵機である請求項１２記載のチッ素酸化物の除去装
置に関する。

【００３５】本発明の第１０の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理したのちに加圧貯蔵
する第１加圧タンク、第１加圧タンクが所定の圧力に達
すると圧力を開放する手段、吸着剤と接触させることに
よる吸着除去手段、前記第１加圧タンクが開放されてい
る間、前記オゾン酸化したガスを加圧貯蔵する第２加圧
タンク、第２加圧タンクが所定の圧力に達すると圧力を
開放する手段、吸着剤と接触させることによる吸着除去
手段、第１と第２の加圧タンクを交互に動作させる手段
を有することを特徴とするチッ素酸化物の除去装置に関
する。

【００３６】本発明の第１１の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段と、オゾン
酸化処理されたガスを吸着処理する吸着手段を有するチ
ッ素酸化物の除去装置において、吸着処理前にオゾン酸
化処理されたガスをメンブランフィルタに透過させる手
段、フィルタに透過しなかったオゾンをオゾン分解触媒
で接触・分解するオゾンの分解手段を備えたことを特徴
とするチッ素酸化物の除去装置に関する。

【００３７】本発明の第１２の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段、オゾン酸
化処理されたガスを接触により吸着除去する吸着手段、
吸着手段を高温ガスで処理して再生する再生手段、吸着
塔を減圧して脱着されたガスを脱硝手段へ導く手段、お
よび、脱着されたガスを脱硝する脱硝手段を有するチッ
素酸化物の除去装置において、吸着剤を充填した吸着塔
の内側がガラスまたは緻密なアルミナセラミックスでラ
イニングされていることを特徴とするチッ素酸化物の除
去装置に関する。

【００３８】本発明の第１３の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段、オゾン酸
化処理されたガスを接触により吸着除去する吸着手段、
吸着手段を加熱して再生する再生手段、吸着塔を減圧し
て脱着されたガスを脱硝手段へ導く手段、および、脱着
されたガスを脱硝する脱硝手段を有するチッ素酸化物の
除去装置において、吸着剤を充填した吸着塔の内側がガ
ラスまたは緻密なアルミナセラミックスでライニングさ
れていることを特徴とするチッ素酸化物の除去装置に関
する。

【００３９】本発明の第１４の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段、オゾン酸
化処理されたガスを接触により吸着除去する吸着手段、
マグネトロン、吸着剤にマグネトロンよりのマイクロ波
を照射して再生する再生手段、吸着塔を減圧して脱着さ
れたガスを脱硝手段へ導く手段、および、脱着されたガ
スを脱硝する脱硝手段を有するチッ素酸化物の除去装置
において、吸着手段がマイクロ波を吸収して発熱する材
料を含み、吸着手段のガス出入り口が金属ゲートで遮断
され、吸着剤を充填した吸着塔の内側がガラスまたは緻
密なアルミナセラミックスでライニングされていること
を特徴とするチッ素酸化物の除去装置に関する。

【００４０】本発明の第１５の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段、オゾン酸
化処理されたガスを接触により吸着除去する吸着手段、
熱プラズマ脱硝手段から放熱された熱を熱交換手段を介
して吸着手段に伝えて吸着手段を加熱脱着再生する再生
手段、吸着手段を減圧して脱着されたガスを脱硝手段へ
導く手段、および、脱着されたガスを脱硝する熱プラズ
マ脱硝手段を有するチッ素酸化物の除去装置において、
吸着剤を充填した吸着塔の内側および熱交換手段がガラ
スまたは緻密なアルミナセラミックスでライニングされ
ていることを特徴とするチッ素酸化物の除去装置に関す
る。

【００４１】本発明の第１６の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段、オゾン酸
化処理されたガスを接触により吸着除去する第１吸着手
段、第１吸着手段にマグネトロンが発生するマイクロ波
を照射して再生する第１再生手段、第１再生手段により
脱着されたガスを吸着処理する第２吸着手段、第２吸着
手段にマグネトロンが発生するマイクロ波を照射して再
生する第２再生手段、第２再生手段により脱着されたガ
スを脱硝する脱硝手段を有するチッ素酸化物の除去装置
において、第１吸着手段および第２吸着手段がマイクロ
波を吸収して発熱する材料を含み、吸着剤を充填した吸
着塔の内側がガラスまたは緻密なアルミナセラミックス
でライニングされていることを特徴とするチッ素酸化物
の除去装置に関する。

【００４２】本発明の第１７の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段、オゾン酸
化処理されたガスを接触により吸着除去する第１吸着手
段、第１吸着手段にマグネトロンが発生するマイクロ波
を照射して再生する第１再生手段、第１吸着剤を再生す
る間オゾン酸化処理されたガスを吸着処理する第２吸着
手段、第２吸着剤にマイクロ波を照射して再生する第２
再生手段、および、第１再生手段ならびに第２再生手段
により脱着されたガスを脱硝する脱硝手段を有するチッ
素酸化物の除去装置において、第１吸着剤および第２吸
着剤がマイクロ波を吸収して発熱する材料を含み、第１
吸着剤および第２吸着剤を充填した吸着塔の内側がガラ
スまたは緻密なアルミナセラミックスでライニングされ
てなるチッ素酸化物の除去装置に関する。

【００４３】本発明の第１８の除去装置は、チッ素酸化
物を含有するガスをオゾン酸化処理する手段、オゾン酸
化処理されたガスを、円柱を複数個に金属隔壁で放射状
に分け、その中にμ波吸収発熱剤を含有する吸着剤を充
填した円柱状吸着塔に通過させ吸着除去する吸着手段、
複数個にわけられたうちの１つの吸着塔の出入口を金属
板で閉じ、マグネトロンより発生するマイクロ波を導入
し、発熱剤の昇温により加熱再生する再生手段、脱着さ
れたガスを脱硝する熱プラズマ脱硝手段、および、１つ
の吸着塔の再生が終わると、他の１つの吸着塔を再生・
脱硝するために円柱状吸着塔を回転させる手段を有する
チッ素酸化物の除去装置において、円柱状吸着塔の隔壁
表面がガラスまたは緻密なアルミナセラミックでライニ
ングされていることを特徴とするチッ素酸化物の除去装
置に関する。

【００４４】

【発明の実施の形態】実施の形態１ 図１は、実施の形態１におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図１において、９は処理ガス、１０はオゾン化
ガス、１１は反応管、１２は混合ガス、１３はゼオライ
ト吸着塔、１４は分解触媒充填塔、１５は浄化ガスであ
る。ここで、オゾン化ガスとは、オゾンに対して不活性
であるチッ素、酸素、二酸化炭素を成分とするガスとオ
ゾンを混合したガスのことであり、具体的にはオゾンを
含む乾燥空気またはオゾンを含む高純度酸素などがあげ
られる。

【００４５】ＮＯ_xガスを含んだ空気を主成分とする処
理ガス９とオゾン化ガス１０を中空のパイプである反応
管１１へ流入させる。反応管１１は、ＮＯ_xガスを含ん
だ処理ガス９とオゾン化ガス１０を混合し、ＮＯ_xガス
をオゾン酸化させる反応場である。反応管１１の中で、
ＮＯガスはオゾンによりＮＯ₂ガスに酸化され、さらに
ＮＯ₂ガスはオゾンと水分と反応して硝酸ガスまで酸化
される。

【００４６】以下に硝酸ガス生成反応式を示す。

【００４７】 ＮＯ＋Ｏ₃ → ＮＯ₂＋Ｏ₂ （２） ＮＯ₂＋Ｏ₃ → ＮＯ₃＋Ｏ₂ （３） ＮＯ₂＋ＮＯ₃ → Ｎ₂Ｏ₅ （４） Ｎ₂Ｏ₅＋Ｈ₂Ｏ → ２ＨＮＯ₃ （５） ＮＯ１分子に対して式（２）〜（５）をまとめると、 ＮＯ＋１．５Ｏ₃＋０．５Ｈ₂Ｏ → ＨＮＯ₃＋１．５Ｏ₂ （６） となる。したがって、ＮＯ１分子に対してオゾンを１．
５分子の割合でオゾンを注入することで、もっとも少な
いオゾン量で硝酸ガスの生成を行なうことが可能であ
る。しかし、この関係は、反応時間を充分長くとった場
合にのみ成り立つ。

【００４８】反応時間が充分にとれない場合は、オゾン
濃度を増加させて反応速度を増加させる必要がある。た
とえば、ＮＯ１分子に対して２〜２０分子の割合でオゾ
ンを注入する。このとき未反応のオゾンやＮＯ_xガスが
残存することになり、反応管出口からは、空気ベースの
硝酸ガスと未反応のＮＯ_xガスとオゾンの混合ガス１２
が流出してくる。

【００４９】この混合ガス１２中のオゾンを分解するた
めに、ＮＯ_xガスや硝酸ガスの吸着剤である水素終端Ｙ
型疎水性ゼオライトを充填したゼオライト吸着塔１３の
前段に、オゾン分解触媒である二酸化マンガン、二酸化
コバルト、または、これらの混合物を充填した分解触媒
充填塔１４を設ける。前述のオゾンを含んだ混合ガス１
２がここを通過することで、混合ガス１２中のオゾンは
二酸化マンガンおよび二酸化コバルトの触媒作用を受け
て分解し、酸素に戻る。

【００５０】こののち、分解触媒充填塔１４の後段に設
けたゼオライト吸着塔１３で硝酸ガスおよびＮＯ₂ガス
が吸着される。分解触媒充填塔１４では、オゾンすべて
が分解されることが望ましいが、充填塔規模の制限によ
り、それが達成されず、部分的にオゾンが分解される場
合も、全く分解されない場合と比較すると、吸着性能が
改善される。具体的には、オゾンが９０％以上分解され
ることが好ましく、さらには残留（余剰）オゾン濃度が
０．０５ｐｐｍ以下になるまで分解されることが好まし
い。

【００５１】また、ゼオライト吸着塔１３には、疎水性
ゼオライトのみならず、親水性ゼオライトを用いてもよ
い。ただし、硝酸ガスを吸着除去するため、吸着剤とし
ては耐酸性のある疎水性ゼオライトが望ましい。耐酸性
は、Ｓｉ／Ａｌ比が高いほど強く、ゼオライトの吸着劣
化が抑制されるが、Ｓｉ／Ａｌ比が高くなると、吸着サ
イトである水素カチオンを支えるＡｌの、ゼオライト単
位量あたりに占める割合が低減することとなり、吸着性
能を高効率に保つには、Ｓｉ／Ａｌ比が５．５〜２０
０、とくには１５程度のものがよい。さらに、Ｙ型のみ
ならず、モルデナイト型やＺＳＭ型のゼオライトをもち
いてもよい。カチオンタイプでは、末端の全て、もしく
は一部をＮａカチオン、Ｃｕカチオンで終端したものが
使用できる。

【００５２】実施の形態２ 図２は、実施の形態２におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図２において、１６はヒータである。

【００５３】実施の形態２では、実施の形態１の分解触
媒充填塔１４に、ヒータ１６を備える。分解触媒充填塔
１４に充填されているオゾン分解触媒は、オゾン分解効
率を高めるために、一般に室温〜３００℃に加熱するこ
とが好ましい。分解触媒充填塔１４に二酸化マンガンが
充填されている場合、４０〜３００℃、とくには４０℃
程度に加熱するのが望ましい。また、分解触媒充填塔１
４に二酸化コバルトが充填されている場合、２０〜６０
℃に加熱することが望ましい。加熱温度が低すぎると、
触媒活性が乏しくなりオゾンが充分に分解されない傾向
があり、高すぎると、オゾンだけでなくＮＯ₂ガスや硝
酸ガスも吸着剤に吸着されにくいＮＯに分解してしまう
傾向がある。

【００５４】実施の形態３ 図３は、実施の形態３におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図３において、１７はゼオライト充填塔であ
る。

【００５５】実施の形態３では、実施の形態２の分解触
媒充填塔１４に代えて、分解用水素終端Ｙ型疎水性ゼオ
ライト充填塔１７を設置する。水素終端Ｙ型疎水性ゼオ
ライトを１５０〜３００℃、とくには１５０℃程度で加
熱することで、オゾンを分解する。加熱温度が１５０℃
未満では、分解用水素終端Ｙ型ゼオライトがＮＯ₂ガス
や硝酸ガスを吸着し、吸着されたＮＯ₂ガスや硝酸ガス
を脱硝することが不可能になる傾向があり、３００℃を
こえると、オゾンだけでなくＮＯ₂ガスや硝酸ガスも吸
着剤に吸着されにくいＮＯに分解してしまう傾向があ
る。水素終端Ｙ型疎水性ゼオライトの温度が１５０℃程
度であると、硝酸ガスやＮＯ_xガスを吸着する能力を失
うため、このゼオライト充填塔１７では、オゾンだけを
分解することができる。

【００５６】ゼオライト充填塔１７を通過したガスは、
室温に設定した水素終端Ｙ型疎水性ゼオライト吸着塔１
３において、硝酸ガスやＮＯ_xガスが吸着される。

【００５７】ゼオライト充填塔１７の疎水性ゼオライト
としては、実施の形態１で用いたＳｉ／Ａｌ比が１５程
度の耐酸性ゼオライトが好ましい。

【００５８】実施の形態４ 図４は、実施の形態４におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図４において、１８はペルチェ素子であり、１
９はペルチェ素子の加熱側、２０は冷却側を示す。

【００５９】実施の形態４では、実施の形態３のヒータ
１６を取り外し、ペルチェ素子１８を取り付ける。ペル
チェ素子１８は、ゼオライト充填塔１７と加熱側１９が
接するように、またゼオライト吸着塔１３と冷却側２０
が接するように設置する。これにより、ペルチェ素子に
所定の電力を印加することで、ゼオライト充填塔１７を
１５０℃程度まで加熱することができる。また、ゼオラ
イト吸着塔１３を冷却してゼオライト温度を低下させる
ことにより、硝酸ガスおよびＮＯ_xガスの吸着能力を高
めることが可能となる。ゼオライト吸着塔１３のゼオラ
イトは３０℃以下に冷却されることが好ましい。ゼオラ
イト吸着塔１３のゼオライトは、冷却するほど吸着能力
が高くなる傾向がある。

【００６０】実施の形態５ 図５は、実施の形態５におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図５において、２１は白金ハニカムである。

【００６１】実施の形態５では、実施の形態２の分解触
媒充填塔１４に代えて、白金ハニカム２１を設置する。
硝酸ガスおよびＮＯ_xガスは、白金とは高温においても
反応しないので、白金ハニカム２１をヒータ１６で加熱
することにより、白金ハニカム２１に接触したオゾンの
みを破壊し、酸素に戻すことが可能である。白金ハニカ
ム２１の加熱温度は室温〜３００℃とすることが好まし
い。加熱温度が高いほどオゾン分解効率は高くなる傾向
があるが、３００℃をこえると、オゾンだけでなくＮＯ
₂ガスや硝酸ガスも吸着剤に吸着されにくいＮＯに分解
してしまう傾向がある。

【００６２】白金ハニカム２１のかわりに、硝酸ガスと
反応しないガラスや金を素材とするハニカムを用いても
よい。

【００６３】実施の形態６ 図６は、実施の形態６におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図６において、２２は白金担持ゼオライト充填
塔である。

【００６４】実施の形態６では、実施の形態３のゼオラ
イト充填塔１７に代えて、白金を担持させた分解用水素
終端Ｙ型疎水性ゼオライトを充填した白金担持ゼオライ
ト充填塔２２を備える。白金をゼオライト表面へ分散担
持させ、ヒータで１５０℃以上に加熱すると、白金がオ
ゾン分解触媒として作用するので、実施の形態３より
も、さらにオゾン分解効率が高くなる。

【００６５】実施の形態７ 図７は、実施の形態７におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図７において、２３ａはオゾンセンサ、２３ｂ
はコントローラ、２４はオゾナイザ、２５は制御信号で
ある。

【００６６】実施の形態７では、オゾン化ガス１０をオ
ゾナイザ２４により発生させる。反応管から流出する混
合ガス１２のオゾン濃度をオゾンセンサ２３ａで検出
し、混合ガス１２の中に一定濃度以上のオゾンが存在す
ると、オゾンセンサ２３ａに取り付けられたコントロー
ラ２３ｂから制御信号２５が出し、オゾナイザ２４の出
力を低減し、オゾン発生量を減少させる。これにより、
混合ガス１２中にオゾンが存在しなくなるまで制御す
る。

【００６７】このようにしてオゾン発生量を制御するこ
とにより、オゾン化ガス１０は反応管１１ですべてＮＯ
_xガスと反応して消滅することになり、ゼオライト吸着
塔１３においてオゾンによる吸着能力の低下を招かなく
なる。

【００６８】オゾンセンサ２３ａとしては、紫外線吸光
光度計，ＦＴ−ＩＲや半導体センサを用いることが可能
である。ゼオライト吸着塔１３にもちいるゼオライトと
しては、実施の形態１に示したようなゼオライトが好ま
しい。

【００６９】実施の形態８ 図８は、実施の形態８におけるＮＯ_x除去装置の模式図
である。図８において、２６はコロナ放電リアクタであ
る。

【００７０】実施の形態８では、処理ガス９を、電気集
塵機を兼ねたコロナ放電リアクタ２６に流入させて、オ
ゾン化ガスを得る。

【００７１】コロナ放電リアクタ２６の一例の概略図を
図９〜１２に示す。図９〜１２において、２７は平板接
地電極、２８はダクト、２９は高電圧平板電極、３０は
円筒型接地電極、３１は接地ワイヤ電極、４６は高電圧
ワイヤ電極である。

【００７２】コロナ放電リアクタ２６は、図９〜１２に
示すように放電電極で構成されており、この放電電極に
直流高電圧、交流高電圧またはパルス高電圧が印加さ
れ、ワイヤおよび平板電極周辺で大気圧コロナ放電が生
成する。

【００７３】図９のコロナ放電リアクタの場合、ダクト
２８内部を処理ガス９が通過する間、高電圧ワイヤ電極
４６と平板接地電極２７に直流高電圧、交流高電圧また
はパルス高電圧を印加し、高電圧ワイヤ電極４６周辺で
大気圧コロナ放電を生成させる。

【００７４】図１０のコロナ放電リアクタの場合、ダク
ト２８内部を処理ガス９が通過する間、高電圧平板電極
２９と平板接地電極２７に直流高電圧、交流高電圧また
はパルス高電圧を印加し、高電圧平板電極２９と平板接
地電極２７の間で大気圧コロナ放電を生成させる。

【００７５】図１１のコロナ放電リアクタの場合、円筒
接地電極３０内部を処理ガス９が通過する間、高電圧ワ
イヤ電極４６と円筒接地電極３０に直流高電圧、交流高
電圧またはパルス高電圧を印加し、高電圧ワイヤ電極４
６周辺で大気圧コロナ放電を生成させる。

【００７６】図１２のコロナ放電リアクタの場合、ダク
ト２８内部を処理ガス９が通過する間、高電圧ワイヤ電
極４６と接地ワイヤ電極３１に直流高電圧、交流高電圧
またはパルス高電圧を印加し、高電圧ワイヤ電極４６と
接地ワイヤ電極３１の間で大気圧コロナ放電を生成させ
る。

【００７７】大気中のコロナ放電によりオゾンが生成
し、処理ガス９がここを通過することで、オゾン酸化を
受けてＮＯガスがＮＯ₂ガスに、ＮＯ₂ガスが硝酸ガスに
酸化される。このＮＯ_xガス、硝酸ガスおよびオゾンガ
スの混合ガスが反応管１１へ流入され、ここでさらにオ
ゾン酸化が進行する。

【００７８】反応管１１からの混合ガス１２をオゾンセ
ンサ２３ａでオゾン検出する。オゾンセンサ２３ａは、
混合ガス１２中にオゾンが存在すると、オゾンセンサ２
３ａに取り付けられたコントローラ２３ｂから制御信号
２５を出して、コロナ放電リアクタ２６の放電電圧を低
減し、電極間のオゾン発生量を減少させる。この操作に
より、混合ガス１２の中にオゾンが存在しなくなるまで
制御する。

【００７９】このようにしてオゾン発生量を制御するこ
とにより、コロナ放電リアクタ２６で発生したオゾンは
反応管１１ですべてＮＯ_xガスと反応して消滅するの
で、ゼオライト吸着塔１３においてオゾンによる吸着能
力の低下を招かなくなる。

【００８０】オゾンセンサ２３ａとしては、実施の形態
７と同様に、紫外線吸光光度計、ＦＴ−ＩＲや半導体セ
ンサを用いることが可能である。水素終端Ｙ型疎水性ゼ
オライト吸着塔１３に用いるゼオライトとしては、実施
の形態１に示したようなゼオライトが好ましい。

【００８１】実施の形態９ 図１３は、実施の形態９におけるＮＯ_x除去装置の模式
図である。図１３において、３２はポンプ、３３は加圧
混合ガス、３４、３５、３６、３７はバルブ、３８、３
９は加圧タンク、４０はＮＯ_x硝酸混合ガスである。

【００８２】実施の形態９では、反応管出口から流出す
る混合ガス１２を、ポンプ３２で吸引し、バルブ３４を
開放して加圧混合ガス３３を加圧タンク３８へ導入す
る。このときバルブ３５を閉じておくことで、加圧タン
ク３８に加圧混合ガス３３を所定の圧力まで貯蔵するこ
とが可能となる。

【００８３】加圧タンク３８内部では、加圧混合ガスが
高圧であるため、オゾン、ＮＯ_xガスおよび硝酸ガスの
粒子密度が増加する。これにより、オゾンとＮＯ_xガス
の酸化反応速度が増加する。さらに、加圧混合ガスを貯
蔵すると、ガス滞留時間を増加させ、オゾン酸化反応時
間を増加させることになり、オゾン酸化効率を上昇させ
ることが可能となる。

【００８４】加圧混合ガス３３は、加圧タンク３８に２
〜１００気圧まで貯蔵することが好ましい。貯蔵圧力が
２気圧未満では、充分な反応時間と反応速度の増加が得
られず、充分なオゾン酸化効率が得られない傾向があ
る。また、１００気圧までに充分な反応時間と反応速度
を得ることができ、１００気圧をこえて加圧貯蔵して
も、１００気圧以上を耐圧とした装置はコストが高くな
り、装置コストからみたオゾン酸化効率の向上効果は小
さい傾向がある。

【００８５】加圧タンク３８が、所定の圧力に達したと
ころで、バルブ３４を閉じ、ついでバルブ３５を開放す
る。加圧タンク３８からは、オゾンの全てまたは一部が
消費されたＮＯ_x硝酸混合ガス４０が排出され、ゼオラ
イト吸着塔１３に導入される。ここで硝酸ガスおよびＮ
Ｏ₂ガスが吸着され、清浄ガス１５が排出される。

【００８６】この排出プロセスの間、もう一つ備えた加
圧タンク３９へ加圧混合ガス３３を導入することで、処
理ガス９を連続的に処理することが可能となる。そして
加圧タンク３９が所定の圧力に達したところで、流路を
切り換えて、加圧タンク３８で貯蔵を開始し、以降サイ
クリックに連続動作させる。

【００８７】実施の形態１０ 図１４は、実施の形態１０におけるＮＯ_x除去装置の模
式図である。図１４において、４１は円筒型テフロン
（登録商標）メンブレムフィルタ、４２は容器、４３は
真空ポンプ、４４はオゾン分解塔である。

【００８８】実施の形態１０では、反応管出口から流出
する混合ガス１２を、円筒型テフロンメンブレンフィル
タ４１を備えた容器３５へ導入する。円筒型テフロンメ
ンブレンフィルタ４１は、空気、硝酸ガスおよびＮＯ₂
ガスをその表面に溶解させ、メンブレンフィルタの反対
側へと拡散させる。メンブレンフィルタの反対側は、真
空ポンプ４３で減圧されているため、メンブレンフィル
タ４１の反対側まで到達した空気、硝酸ガスおよびＮＯ
₂ガスは、真空ポンプ４３によって引き出され、ゼオラ
イト吸着塔１３に導入される。ここで、硝酸ガスおよび
ＮＯ₂ガスが吸着される。

【００８９】一方、容器４２内で円筒型テフロンメンブ
レンフィルタ４１に溶解しないオゾンは、そのまま空気
とともに容器４２の外へ押し出される。容器４２の後段
にはオゾン分解塔４４が設置されてあり、ここでオゾン
は分解され、清浄ガス１５として大気へ排出される。

【００９０】ゼオライト吸着塔１３としては、実施の形
態１のようなものが望ましい。

【００９１】オゾン分解塔４４には、実施の形態１また
は２で用いた二酸化マンガンまたは二酸化コバルトを充
填し、さらにヒータを取り付けるとよい。また、これら
の他に、活性炭やセカードを用いてオゾンを分解しても
よい。

【００９２】実施の形態１１ 図１５は、実施の形態１１におけるＮＯ_xおよび硝酸ガ
スを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図である。図
１５において、４５は吸着塔、４７、４８、４９、５０
はバルブ、５１は加熱空気、５２は加熱器、５３は真空
ポンプ、５３は流量制御バルブ、５５は空気入り口、５
７は脱硝装置、５８は清浄空気、５９、６０はチューブ
である。

【００９３】吸着塔４５を再生するとき、バルブ４７を
閉めてＮＯ_xガスや硝酸ガスを含んだ混合ガス１２の流
入を停止すると同時に、清浄ガスを排出していたバルブ
４８も閉じる。つぎに、それまで閉じられていたバルブ
４９とバルブ５０を開けて、加熱空気５１が吸着塔４５
を通過するようにする。加熱空気５１は、加熱装置５２
で１５０℃以上に加熱されたもので、真空ポンプ５３に
よって装置内部を通過する。加熱前は流量制御バルブ５
４で装置内部に流入する空気流量を制御しながら、空気
入口５５から取り入れられる。流量制御バルブ５４で流
量を絞ることで、真空ポンプ５３を用いて装置内部を減
圧状態に保つ。このとき、装置内部は０．００５〜０．
５気圧に減圧されることが好ましい。０．００５気圧未
満では、真空ポンプ５３を作動させてからその気圧に達
するまでの時間がきわめて長くなる傾向があり、０．５
気圧をこえると、後述する脱着ガスを高濃度で得ること
ができず、３０体積％に到達しない傾向がある。

【００９４】加熱空気５１は、吸着塔４５へ流入するこ
とで吸着剤を加熱する。これにより吸着ガスは吸着剤か
ら脱着され、吸着剤が再生される。このとき装置内部は
減圧されているため、脱着ガスを希釈するガス分子数が
少なく、体積比で示される濃度は、きわめて高いものと
なる。

【００９５】このとき脱着されたガスは、高濃度のＮＯ
_xガスまたは硝酸ガスもしくは、その両方が混合したガ
スであり、それらのガスで吸着塔が腐食されないよう
に、吸着塔はガラスまたは石英ガラスで構成されてい
る。それ以外に金属のボディの内側をガラスライニング
されたもの、または緻密な密度で溶射されたセラミック
溶射膜でライニングされたものが吸着塔４５として用い
られる。

【００９６】これらの高濃度ガスは、真空ポンプ５３に
より１気圧以上の高濃度ガス５６としてポンプから排出
される。排出された高濃度ガスは、脱硝装置５７へ導入
され、ＮＯ_xガスおよび硝酸ガスが無害化され、清浄空
気５８として排出される。

【００９７】脱硝装置５７としては、熱プラズマを用い
てＮＯ_xガスおよび硝酸ガスをチッ素と酸素と水に還元
分解する熱プラズマ脱硝装置、もしくはアンモニアを添
加してＮＯ_xガスおよび硝酸ガスをチッ素と水に還元分
解するアンモニア脱硝装置が使用できる。また、脱硝装
置５７のかわりに、水中でこの高濃度ガスをバブリング
して水吸収する装置や、水散布方式の吸収装置、もしく
はこのガスを中和吸収する水酸化カルシウム充填塔を用
いてもよい。

【００９８】吸着塔４５と真空ポンプ５３を接続するチ
ューブ５９、および真空ポンプ５３と脱硝装置５７をつ
なぐチューブ６０は、吸着塔４５と同様に、ガラスまた
は石英ガラスで構成されることが好ましい。その他、内
側がガラスライニングされた金属のチューブ、または、
緻密な密度で溶射されたセラミック溶射膜でライニング
されたチューブでもよい。さらに、表面に高濃度ガスが
吸着しないように、ヒータでこれらのチューブを加熱す
ることが好ましい。

【００９９】実施の形態１２ 図１６は、実施の形態１２におけるＮＯ_xおよび硝酸ガ
スを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図である。図
１６において、６１はヒータつき吸着塔である。

【０１００】ヒータつき吸着塔６１を再生するとき、バ
ルブ４７を閉めてＮＯ_xガスや硝酸ガスを含んだ混合ガ
ス４６の流入を停止すると同時に、清浄ガスを排出して
いたバルブ４８も閉じる。つぎに、それまで閉じられて
いたバルブ５０を開け、真空ポンプ５３を作動させ、ヒ
ータつき吸着塔６１の内部を減圧状態に保つ。ヒータつ
き吸着塔６１のヒータを作動させて、吸着剤を加熱す
る。これによって吸着剤から吸着ガスが脱着され、吸着
剤を再生することが可能となる。

【０１０１】吸着塔６１は、実施の形態１１と同様に、
脱着ガスで吸着塔が腐食されないように、ガラスまたは
石英ガラスで構成される。その他、内側がガラスライニ
ングされた、または、緻密な密度で溶射されたセラミッ
ク溶射膜でライニングされた金属ボディで構成される。

【０１０２】高濃度ガス５６は、実施の形態１１と同様
にして脱硝または吸収され、無害化される。

【０１０３】つぎに、ヒータつき吸着塔６１の一例の断
面図を図１７に示す。図１７において、６２は吸着剤、
６３はメッシュ板、６４は吸着塔入口、６５は吸着塔出
口、６６はボディ、６７はボディの内側、６８はヒータ
である。

【０１０４】吸着剤６２を支持するために、メッシュ板
６３で吸着剤６２を挟み込んでいる。メッシュ板６３
は、高濃度ガスに腐食されないように、ガラスまたは石
英ガラスおよび緻密な密度をもつセラミックでできてい
る。吸着操作時には、吸着塔入口６４から処理ガスが流
入し、メッシュ板６３と吸着剤６２を通過して吸着塔出
口６５から出て行く。

【０１０５】ヒータつき吸着塔６１のボディ６６は金属
が好ましく、ボディの内側６７がガラスライニング６７
されたもの、または緻密な密度で溶射されたセラミック
溶射膜でライニングされたものが好ましい。ヒータ６８
は、ゼオライト吸着剤に直接触れるように、ヒータつき
吸着塔６１の中に均等に配置されるのが好ましく、また
脱着された高濃度ガスに腐食されないように、ガラスラ
イニングされたもの、または緻密な密度で溶射されたセ
ラミック溶射膜でライニングされたものが好ましい。

【０１０６】実施の形態１３ 図１８は、実施の形態１３におけるＮＯ_xおよび硝酸ガ
スを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図である。図
１８において、６９はマグネトロンつき吸着塔、７０は
ゲート、７１はマグネトロンである。

【０１０７】マグネトロンつき吸着塔６９を再生すると
き、バルブ４７を閉めてＮＯ_xガスや硝酸ガスを含んだ
混合ガス１２の流入を停止すると同時に、清浄ガスを排
出していたバルブ４８を閉じる。つぎに、それまで閉じ
られていたバルブ５０を開け、真空ポンプ５３を作動さ
せ、マグネトロンつき吸着塔６９の内部を減圧状態に保
つ。つぎにマグネトロンつき吸着塔６９のガス出入口に
備えたゲート７０を閉じる。このゲートはマグネトロン
７１から発生するマイクロ波を外部に漏れないように遮
断する目的で備える。

【０１０８】吸着剤としてゼオライトを用いる場合、ゼ
オライトはマグネトロン７１から出力されるマイクロ波
の吸収性がきわめて低いので、マイクロ波を吸収して発
熱する吸収剤をゼオライトに含有させておくとよい。マ
イクロ波吸収剤としては、鉄粉や酸化アルミニウム、チ
タン酸バリウムの粉末を用いるとよい。マグネトロン７
１の作動により吸収剤の昇温による間接加熱で吸着剤の
温度が上昇すると、吸着ガスは吸着剤から脱着され、吸
着剤が再生する。

【０１０９】吸着塔６９は、実施の形態１１と同様に、
脱着ガスで吸着塔が腐食されないように、脱着ガスで吸
着塔が腐食されないように、ガラスまたは石英ガラスで
構成される。その他、内側がガラスライニングされた、
または、緻密な密度で溶射されたセラミック溶射膜でラ
イニングされた金属ボディで構成される。

【０１１０】充分に吸着剤が加熱されたところで、マグ
ネトロン７１を停止し、ついでゲート７０を開放し、真
空ポンプ５３も作動させる。これにより、実施の形態１
１に示すような方法で高濃度ガスを脱硝装置５７に入力
し、分解することが可能となる。

【０１１１】実施の形態１４ 図１９は、実施の形態１４におけるＮＯ_xおよび硝酸ガ
スを吸着した吸着剤を再生する装置の断面図である。図
１９において、７３は吸着剤充填部、７４はプラズマト
ーチ、７５は熱交換部、７６は清浄空気出口、７７は熱
交換フィン、７８は吸着塔ボディである。

【０１１２】実施の形態１４では、吸着剤充填部７３、
真空ポンプ５３および脱硝装置としてプラズマトーチが
一体型に組み込まれる。この装置が吸着塔として動作す
るときは、吸着塔入口６４から処理ガスを導入し、つい
で吸着剤充填部７３を通過させ、処理ガス中の有害ガス
を吸着除去する。これにより清浄化された処理ガスは、
真空ポンプ５３に引き込まれ、停止したプラズマトーチ
７４を通過した後、熱交換部７５を通過し、清浄空気出
口６４から排出される。

【０１１３】この装置のＸ−Ｘ断面図を図２０に示す。
熱交換部７５の円筒外側には熱交換フィン７７が放射状
にとりつけられている。この熱交換フィン７７と吸着塔
ボディ７８が吸着剤を保持するように構成されている。

【０１１４】吸着剤充填部７３の吸着剤が処理ガスによ
って飽和すると、吸着剤の再生プロセスに移行する。始
めに吸着塔入口６４を閉じる。これにより吸着剤充填部
７３の内部が真空ポンプ５３によって減圧される。これ
と同時にプラズマトーチ７４を点火して、熱プラズマを
発生させる。プラズマトーチ７４を通過したガスは、こ
の熱プラズマにより３０００Ｋ以上の高温に昇温させ
る。この高温ガスが熱交換部７５へ導かれると、熱交換
部７５から熱交換フィン７７へ高温ガスの熱が伝わり、
これによって吸着剤充填部７３の吸着剤が加熱される。

【０１１５】吸着剤が加熱されると、吸着剤の脱着再生
が始まり、高濃度ガスが脱着され、これをプラズマトー
チ７４で分解・無害化することが可能となる。この装置
は、プラズマトーチ７４で発生した熱を効率的に回収す
るものである。

【０１１６】なお、吸着塔内部や熱交換フィンは、脱着
ガスで腐食されないように、表面がガラスライニングさ
れた、もしくは緻密な密度で溶射されたセラミック溶射
膜でライニングされた金属のボディとする。

【０１１７】また、実施の形態１２と同様のヒータを吸
着剤充填部７３に設置して、昇温速度を改善することも
可能である。

【０１１８】実施の形態１５ 図２１は、実施の形態１５におけるＮＯ_xおよび硝酸ガ
スを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図である。図
２１において、７９はマグネトロンつき吸着塔Ａ、８
２、８３、８４、８５、８６はバルブ、８７、９０は真
空ポンプ、８８はマグネトロンつき吸着塔Ｂである。

【０１１９】実施の形態１５では、吸着塔を直列に配置
し、２段で脱着ガスを濃縮することにより、１段の場合
に比べ高濃度の脱着ガスを得る。

【０１２０】ＮＯ_xガスや硝酸ガスを含んだ混合ガス１
２をマグネトロンつき吸着塔Ａ７９を通して、混合ガス
１２を吸着除去し、清浄ガス１５を生成する。この清浄
ガス１５は、バルブ８２を通して外部へ排気される。

【０１２１】マグネトロンつき吸着塔Ａ７９内部の吸着
剤を再生するとき、バルブ８２、８３および８４を閉
じ、バルブ８５と８６を開ける。そして真空ポンプ８７
を作動させ、マグネトロンつき吸着塔Ａ７９内部を減圧
する。こののち、実施の形態１３と同様の方法で、吸着
剤を加熱再生して高濃度ガスを得る。この高濃度ガスは
マグネトロンつき吸着塔Ｂ８８へ導かれ、この内部の吸
着剤によって濃縮された二酸化チッ素および硝酸ガスは
吸着除去され、このとき生じた清浄ガス１５はバルブ８
６を通って外部へ排気される。

【０１２２】マグネトロンつき吸着塔Ａ７９内部におい
て高濃度ガスが充分に排気されると、バルブ８５を閉
じ、真空ポンプ８７を停止し、マグネトロンつき吸着塔
Ａ７９は再び混合ガス１２を吸着除去するプロセスに入
る。以後、前記の吸脱着再生プロセスを何度か繰り返
す。

【０１２３】この再生プロセスを何度か繰り返すとマグ
ネトロンつき吸着塔Ｂ８８も飽和し始める。このときマ
グネトロンつき吸着塔Ｂ８８の再生プロセスを開始す
る。バルブ８５と８６を閉じ、バルブ８４を開放する。
続いて真空ポンプ９０を作動させ、マグネトロンつき吸
着塔Ｂ８８内部を減圧する。つぎに実施の形態１３ど同
様の方法で吸着剤を加熱再生し、高濃度ガスを得る。こ
の高濃度ガスはマグネトロンつき吸着塔Ａ７９を再生し
て得た脱着ガスよりも高濃度であり、このガスを脱硝装
置５７に導き分解する。

【０１２４】このように２段の吸着塔で構成された吸着
濃縮装置を用いると、極めて高濃度の脱着ガスを得るこ
とが可能であり、脱硝装置５７としては、数十体積％の
高濃度ガスを高効率で分解することが可能な熱プラズマ
脱硝装置が適している。さらに高濃度である数十〜５０
体積％の濃縮ガスを得るために、吸着塔を３段以上に直
列に構成してもよい。

【０１２５】また、吸着塔はマグネトロンつき吸着塔の
みならず、実施の形態１１や１２と同様の吸着塔を用い
てもよい。

【０１２６】実施の形態１６ 図２２は、実施の形態１６におけるＮＯ_xおよび硝酸ガ
スを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図である。図
２２において、９２はマグネトロンつき吸着塔Ｃ、９３
はマグネトロンつき吸着塔Ｄ、９５、９６、９７、９
８、９９、１００はバルブである。

【０１２７】実施の形態１６では、マグネトロンつき吸
着塔Ｃ９２を再生している間、もう一台のマグネトロン
つき吸着塔Ｄ９３で、ＮＯ_xガスや硝酸ガスを含んだ混
合ガス１２を吸着除去する。

【０１２８】マグネトロンつき吸着塔Ｃ９２を再生して
いる間、バルブ９５および９６を閉じ、バルブ９７およ
び９８を開放して、ＮＯ_xガスや硝酸ガスを含んだ混合
ガス１２をマグネトロンつき吸着塔Ｄ９３に通過させ、
処理する。

【０１２９】つぎに、マグネトロンつき吸着塔Ｃ９２の
再生が終了すると、マグネトロンつき吸着塔Ｃ９２をし
ばらく停止させておき、マグネトロンつき吸着塔Ｄ９３
の再生処理が始まるとき、混合ガス１２の流路を切り換
えて、マグネトロンつき吸着塔Ｃ９２の吸着プロセスを
開始する。

【０１３０】マグネトロンつき吸着塔Ｄ９３を再生する
ときは、バルブ９５、９６、９９を開放し、バルブ９
７、９８、１００を閉じる。実施の形態１３と同様の加
熱再生プロセスを行ない、高濃度ガスを得る。この高濃
度ガスは、真空ポンプ５３によって脱硝装置５７に導か
れて、実施の形態１１と同様にして分解・無害化され
る。

【０１３１】以後、マグネトロンつき吸着塔Ａ９２とＢ
９３を交互に切り換えることで、混合ガス１２を連続的
に処理することが可能となる。さらに吸着塔を３段以上
に並列に構成して実施してもよい。

【０１３２】また、吸着塔は、マグネトロンつき吸着塔
のみならず、実施の形態１１や１２と同様の吸着塔を用
いてもよい。

【０１３３】実施の形態１７ 図２３は、実施の形態１７における吸着塔の概略図であ
る。図２３において、１０３はガラスライニングフレー
ム、１０４は発熱剤つき吸着剤、１０５は軸受け、１０
６はタイミングベルト、１０７はモータ、１０８は円柱
状吸着塔である。

【０１３４】実施の形態１７では、複数個の吸着塔を一
体型にした円柱状吸着塔１０８を使用する。図２３の円
柱状吸着塔１０８には、ガラスライニングフレーム１０
３で放射状に隔壁が設られており、１２個の吸着塔が並
列に並べられている。１２個の吸着塔には、発熱剤つき
吸着剤１０４が充填されている。円柱状吸着塔１０８の
中心には、軸受け１０５が設けてあり、これを中心に回
転させることが可能である。円柱状吸着塔１０８の外側
には、タイミングベルト１０６が掛けてあり、モータ１
０７により、円柱状吸着塔１０８を連続的または段階的
に回転させることが可能である。

【０１３５】図２４は、円柱状吸着塔１０８に充填され
たＮＯ_xおよび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装
置の模式図である。図２４において、１０９、１１０は
金属ふた、１１１、１１２はアームつき自走車、１１３
はレール、１１７は熱プラズマ脱硝装置である。

【０１３６】金属ふた１０９、１１０は、隔壁で囲まれ
た１つの吸着塔を覆うことが可能である。金属ふた１０
９および１１０は、アーム付き自走車１１１および１１
２に取り付けられており、この自走車１１１および１１
２がレール１１３の上を自走することで、金属ふた１０
９および１１０で吸着塔の開放が可能となっている。

【０１３７】金属ふた１０９の一例を図２５に示す。図
２５において、１１５はマイクロ波入り口である。金属
ふた１０９には、マグネトロン１１４から発生するマイ
クロ波を漏洩しないように、段差が設けられており、円
柱状吸着塔１０８のガラスライニングフレーム１０３に
密着するようになっている。また、マイクロ波入口１１
５が設けられており、この入り口の外側に取り付けられ
たマグネトロン１１４からマイクロ波を導入して、吸着
塔内部の発熱剤つき吸着剤１０４を加熱することが可能
である。

【０１３８】金属ふた１１０も１０９と同様の形状であ
り、金属ふた１１０の場合、孔は高濃度ガスの出口とな
っている。この出口の外側に、真空ポンプ５３が設置さ
れており、吸着塔の中から高濃度ガスを引き出し、熱プ
ラズマ脱硝装置１１７に高濃度ガスを導入することが可
能である。

【０１３９】金属ふた１０９および１１０は、吸着塔の
再生時に高濃度ガスで腐食されないように、表面をガラ
スライニングされたもの、または緻密な密度で溶射され
たセラミック溶射膜でライニングされたものがよい。

【０１４０】前述のような過程で、一つの吸着塔が再生
されると、モータ１０７を作動させて、段階的に円柱状
吸着塔１０８を１／１２回転させて、つぎの吸着塔の加
熱再生プロセスに進む。以降これを繰り返すことで、連
続的に円柱状吸着塔１０８に処理ガスを流通させ浄化す
ることが可能となる。

【０１４１】

【発明の効果】本発明の第１の除去方法および第１の除
去装置によれば、チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
酸化することで、一酸化チッ素を二酸化チッ素または硝
酸ガスもしくはその両方にすることが可能となる。二酸
化チッ素および硝酸ガスは、吸着剤に吸着されやすい特
性があり、吸着除去効果が著しく改善される。この吸着
剤において、オゾンとこれらのチッ素酸化物が競争吸着
することがあり、吸着処理前にオゾンを分解すること
で、チッ素酸化物の吸着特性を最大にすることが可能と
なる。

【０１４２】本発明の第２の除去装置によれば、オゾン
分解触媒として二酸化マンガンや二酸化コバルトを用い
ることにより、オゾンを分解することができる。

【０１４３】本発明の第３の除去装置によれば、オゾン
分解触媒を適切な温度で加熱し、温度を維持すること
で、オゾン分解効果を最大にすることができる。

【０１４４】本発明の第４の除去装置によれば、加熱さ
れたゼオライトにより、オゾン酸化されたチッ素酸化物
を吸着せずにオゾンを接触・熱分解することができる。

【０１４５】本発明の第５の除去装置によれば、ペルチ
ェ素子の放熱側で加熱されたゼオライトにより、オゾン
酸化されたチッ素酸化物を吸着せずにオゾンを接触・熱
分解することができる。さらに、ペルチェ素子の冷却側
で吸着剤を室温以下に冷却することにより、オゾン酸化
されたチッ素酸化物を吸着しやすくし、吸着特性を著し
く改善することが可能となる。

【０１４６】本発明の第６の除去装置によれば、加熱さ
れた金属板またはハニカムにより、オゾンを接触・熱分
解することができる。かつ、金属板またはハニカムは、
表面が白金で被覆されているので、オゾン酸化されたチ
ッ素酸化物によって腐食されない。

【０１４７】本発明の第７の除去装置によれば、加熱さ
れたゼオライトにより、オゾン酸化されたチッ素酸化物
を吸着させずにオゾンを接触・熱分解することができ
る。さらに、ゼオライト上に担持された白金上の触媒作
用により、オゾンを分解することができる。

【０１４８】本発明の第２の除去方法および第８の除去
装置によれば、吸着処理前に余剰オゾンを検知してオゾ
ン酸化処理に用いるオゾンの生成量を制御することによ
り、余剰オゾンを除去し、チッ素酸化物の吸着特性を最
大にすることが可能となる。

【０１４９】本発明の第９の除去装置によれば、チッ素
酸化物や埃を含む処理ガスをコロナ放電によるイオン化
部を備えた電気集塵機を通過させることで、オゾンを発
生させ、チッ素酸化物をオゾン酸化処理することがで
き、埃をイオン化させて除去することができる。

【０１５０】本発明の第３の除去方法および第１０の除
去装置によれば、加圧タンクを設け、オゾン酸化処理し
たガスを加圧タンクへ加圧貯蔵することにより、オゾン
とチッ素酸化物の反応時間を延長するとともに、圧力の
増加によりオゾン酸化反応を促進させ、未反応の余剰オ
ゾンを減少させ、チッ素酸化物の吸着特性を最大にする
ことが可能となる。さらに、加圧タンクを２機備え、交
互に加圧操作と圧力開放操作を行なうことで、処理ガス
を連続的に処理することができる。

【０１５１】本発明の第４の除去方法および第１１の除
去装置によれば、チッ素酸化物をオゾン酸化することで
得た二酸化チッ素および硝酸ガスを透過させやすく、オ
ゾンガスを透過させ難いメンブランフィルタを用いて、
二酸化チッ素および硝酸ガスのみを透過させ、吸着剤に
接触させることにより、チッ素酸化物の吸着特性を最大
にすることが可能となる。

【０１５２】本発明の第１２の除去装置によれば、ガス
中のチッ素酸化物を酸化することで、チッ素酸化物を二
酸化チッ素または硝酸ガスもしくはまたはその両方にす
る。二酸化チッ素および硝酸ガスは、吸着剤に吸着され
やすい特性があり、吸着除去効果が著しく改善される。

【０１５３】かつ、高温ガスで処理することにより、吸
着剤を脱着再生することができ、減圧状態とするのでよ
り高濃度化された脱着ガスを得ることができる。吸着塔
の内側がガラスまたは緻密なアルミナセラミックでライ
ニングされているので、この吸着剤を脱着再生する際に
放出される二酸化チッ素または硝酸ガスのような酸性ガ
スによる腐食を防止することができ、装置の長寿命化を
図ることができる。また、腐食により二酸化チッ素およ
び硝酸ガスがガス中から失われないので、脱着ガスの濃
度低下を防ぐことができる。脱着ガスを熱プラズマなど
で脱硝する場合は、脱着ガスが高濃度であればあるほ
ど、脱硝効率がよいという特徴があるため、高濃度を保
つことにより、脱硝効率を改善することができる。

【０１５４】本発明の第１３の除去装置によれば、吸着
剤を加熱することにより脱着再生することができ、減圧
状態とするのでより高濃度化された脱着ガスを得ること
ができる。吸着塔の内側がガラスまたは緻密なアルミナ
セラミックでライニングされているので、吸着剤を脱着
再生する際に放出される二酸化チッ素または硝酸ガスの
ような酸性ガスによる腐食を防止することができ、装置
の長寿命化を図ることができる。また、腐食により二酸
化チッ素および硝酸ガスがガス中から失われないので、
脱着ガスの濃度低下を防ぐことができる。

【０１５５】本発明の第１４の除去装置によれば、吸着
剤にマイクロ波を吸収して発熱する材料を含有させてお
き、これにマグネトロンからのマイクロ波を照射して発
熱させることにより、吸着剤をより急速加熱し、脱着再
生することができ、減圧状態とするのでより高濃度化さ
れた脱着ガスを得ることができる。吸着塔の内側がガラ
スまたは緻密なアルミナセラミックでライニングされて
いるので、吸着剤を脱着再生する際に放出される二酸化
チッ素または硝酸ガスのような酸性ガスによる腐食を防
止することができ、装置の長寿命化を図ることができ
る。また、腐食により二酸化チッ素および硝酸ガスがガ
ス中から失われないので、脱着ガスの濃度低下を防ぐこ
とができる。

【０１５６】本発明の第１５の除去装置によれば、吸着
処理後の吸着剤から脱着されたガスを熱プラズマによっ
て脱硝し、このとき放熱された熱を熱交換手段により吸
着剤に伝えて加熱することによって、熱プラズマの余剰
なエネルギーを回収して省エネを図りながら、吸着剤を
脱着再生することができ、減圧状態とするのでより高濃
度化された脱着ガスを得ることができる。吸着塔の内側
および熱交換手段がガラスまたは緻密なアルミナセラミ
ックでライニングされているので、吸着剤を脱着再生す
る際に放出される二酸化チッ素または硝酸ガスのような
酸性ガスによる腐食を防止することができ、装置の長寿
命化を図ることができる。また、腐食により二酸化チッ
素および硝酸ガスがガス中から失われないので、脱着ガ
スの濃度低下を防ぐことができる。

【０１５７】本発明の第１６の除去装置によれば、吸着
塔を直列に配置し、２段で濃縮することにより、１段の
場合にくらべ高濃度化された脱着ガスを得ることが可能
である。吸着塔の内側がガラスまたは緻密なアルミナセ
ラミックでライニングされているので、吸着剤を脱着再
生する際に放出される二酸化チッ素または硝酸ガスのよ
うな酸性ガスによる腐食を防止することができ、装置の
長寿命化を図ることができる。また、腐食により二酸化
チッ素および硝酸ガスがガス中から失われないので、脱
着ガスの濃度低下を防ぐことができる。

【０１５８】本発明の第１７の除去装置によれば、２機
の吸着塔を並列に配置し、交互に吸着操作と脱着操作を
行なうことにより、処理ガスを連続的に処理することが
できる。吸着塔の内側がガラスまたは緻密なアルミナセ
ラミックでライニングされているので、吸着剤を脱着再
生する際に放出される二酸化チッ素または硝酸ガスのよ
うな酸性ガスによる腐食を防止することができ、装置の
長寿命化を図ることができる。また、腐食により二酸化
チッ素および硝酸ガスがガス中から失われないので、脱
着ガスの濃度低下を防ぐことができる。

【０１５９】本発明の第１８の除去装置によれば、複数
の吸着塔を一体化させた円柱状吸着塔を用い、これを回
転させて順次再生・脱硝することにより、加熱再生する
ためのマグネトロンおよび脱硝するための熱プラズマ脱
硝手段の数を１機にすることができる。円柱状吸着塔の
隔壁表面がガラスまたは緻密なアルミナセラミックでラ
イニングされているので、吸着剤を脱着再生する際に放
出される二酸化チッ素または硝酸ガスのような酸性ガス
による腐食を防止することができ、装置の長寿命化を図
ることができる。また、腐食により二酸化チッ素および
硝酸ガスがガス中から失われないので、脱着ガスの濃度
低下を防ぐことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態１におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図２】 本発明の実施の形態２におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図３】 本発明の実施の形態３におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図４】 本発明の実施の形態４におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図５】 本発明の実施の形態５におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図６】 本発明の実施の形態６におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図７】 本発明の実施の形態７におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図８】 本発明の実施の形態８におけるＮＯ_x除去装
置の模式図である。

【図９】 本発明の実施の形態８におけるコロナ放電リ
アクタの一例の概略図である。

【図１０】 本発明の実施の形態８におけるコロナ放電
リアクタの一例の概略図である。

【図１１】 本発明の実施の形態８におけるコロナ放電
リアクタの一例の概略図である。

【図１２】 本発明の実施の形態８におけるコロナ放電
リアクタの一例の概略図である。

【図１３】 本発明の実施の形態９におけるＮＯ_x除去
装置の模式図である。

【図１４】 本発明の実施の形態１０におけるＮＯ_x除
去装置の模式図である。

【図１５】 本発明の実施の形態１１におけるＮＯ_xお
よび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装置の模式
図。

【図１６】 本発明の実施の形態１２におけるＮＯ_xお
よび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図

【図１７】 本発明の実施の形態１２におけるヒータつ
き吸着塔の一例の断面図である。

【図１８】 本発明の実施の形態１３におけるＮＯ_xお
よび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図
である。

【図１９】 本発明の実施の形態１４におけるＮＯ_xお
よび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装置の断面図
である。

【図２０】 図１９の装置のＸ−Ｘ断面図である。

【図２１】 本発明の実施の形態１５におけるＮＯ_xお
よび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図
である。

【図２２】 本発明の実施の形態１６におけるＮＯ_xお
よび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図
である。

【図２３】 本発明の実施の形態１７における吸着塔の
概略図である。

【図２４】 本発明の実施の形態１７におけるＮＯ_xお
よび硝酸ガスを吸着した吸着剤を再生する装置の模式図
である。

【図２５】 本発明の実施の形態１７における金属ふた
の一例を示す図である。

【図２６】 従来の硝酸ガス吸着除去能力を測定するた
めの装置である。

【図２７】 オゾンガスを添加した場合と、添加しない
場合のＮＯ_x吸着破過曲線である。

【符号の説明】

１ ガラス製吸着塔、２ ゼオライトペレット、３ ガ
ラスメッシュ板、４ 処理ガス、５ フーリエ変換赤外
分光光度計、６ 清浄ガス、７ 吸着塔ガス入口、８
吸着塔ガス出口、９ 処理ガス、１０ オゾン化ガス、
１１ 反応管、１２ 混合ガス、１３ ゼオライト吸着
塔、１４ 分解触媒充填塔、１５ 清浄ガス、１６ ヒ
ータ、１７ ゼオライト充填塔、１８ ペルチェ素子、
１９ 加熱側、２０ 冷却側、２１ 金属ハニカム、２
２ 白金担持ゼオライト充填塔、２３ オゾンセンサ、
２４ オゾナイザ、２５ 制御信号、２６ コロナ放電
リアクタ、２７ 平板設置電極、２８ ダクト、３０
円筒型設置電極、３１ 設置ワイヤ電極、３２ ポン
プ、３３ 加圧混合ガス、３４，３５，３６，３７ バ
ルブ、３８，３９ 加圧タンク、４０ ＮＯ_x硝酸混合
ガス、４１ 円筒型テフロンメンブレンフィルタ、４２
容器、４３ 真空ポンプ、４４ オゾン分解塔、４５
吸着塔、４６ 高電圧ワイヤ電極、４７，４８，４
９，５０ バルブ、５１ 加熱空気、５２ 加熱器、５
３ 真空ポンプ、５４ 流量制御バルブ、５５ 空気入
り口、５６ 高濃度ガス、５７ 脱硝装置、５８ 清浄
空気、５９，６０ チューブ、６１ ヒータつき吸着
塔、６２ 吸着剤、６３ メッシュ板、６４ 吸着塔入
口、６５ 吸着塔出口、６６ ボディ、６７ ボディ内
側、６８ ヒータ、６９ マグネトロンつき吸着塔、７
０ ゲート、７１ マグネトロン、７３ 吸着剤充填
部、７４ プラズマトーチ、７５ 熱交換部、７６ 清
浄空気出口、７７ 熱交換フィン、７８ 吸着塔ボデ
ィ、７９ マグネトロンつき吸着塔Ａ、８２，８３，８
４，８５，８６ バルブ、８７ 真空ポンプ、８８ マ
グネトロンつき吸着塔Ｂ、８９ 清浄ガス、９０ 真空
ポンプ、９２ マグネトロンつき吸着塔Ｃ、９３ マグ
ネトロンつき吸着塔Ｄ、９５〜１００ バルブ、１０３
ガラスライニングフレーム、１０４ 発熱剤つき吸着
剤、１０５ 軸受け、１０６ タイミングベルト、１０
７ モータ、１０８ 円柱状吸着塔、１０９，１１０
金属ふた、１１１，１１２ アームつき自走車、１１３
レール、１１４ マグネトロン、１１５ マイクロ
波、１１７ 熱プラズマ脱硝装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 葛本 昌樹 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 稲永 康隆 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 和田 昇 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 4D002 AA11 AA12 AC01 AC04 AC10 BA04 BA05 BA09 CA07 CA13 DA51 EA01 GA04 GB02 GB04 4D006 GA41 KA01 KA72 KB30 PB19 PB70 4D048 AA12 AB03 BA11X BA28X BA30X BA37X BA41X BB02 BB03 CC36 CC52 CC53 CC54 CC61 CD01 DA01 DA02 DA09 DA10 DA13 EA03 EA07 EA08

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン酸
   化処理したのちに吸着処理するチッ素酸化物の除去方法
   において、吸着処理前にオゾン酸化処理されたガス中に
   含まれるオゾンを分解することを特徴とするチッ素酸化
   物の除去方法。
2. 【請求項２】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン酸
   化処理したのちに吸着処理するチッ素酸化物の除去方法
   において、吸着処理前にオゾン酸化処理されたガス中に
   含まれる余剰オゾンを検知し、オゾン生成量を制御する
   ことを特徴とするチッ素酸化物の除去方法。
3. 【請求項３】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン酸
   化処理したのちに第１加圧タンクに加圧貯蔵し、第１加
   圧タンクが所定の圧力に達すると圧力を開放し、吸着剤
   と接触させて吸着除去し、前記第１加圧タンクが開放さ
   れている間、第２加圧タンクに前記オゾン酸化したガス
   を加圧貯蔵し、第２加圧タンクが所定の圧力に達すると
   ともに圧力を開放し、前記吸着剤と接触させて吸着除去
   し、以後第１と第２の加圧タンクを交互に動作させるこ
   とを特徴とするチッ素酸化物の除去方法。
4. 【請求項４】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン酸
   化処理したのちに吸着処理するチッ素酸化物の除去方法
   において、吸着処理前にオゾン酸化処理されたガスをメ
   ンブランフィルタに透過させ、フィルタに透過しなかっ
   たオゾンをオゾン分解触媒で接触・分解することを特徴
   とするチッ素酸化物の除去方法。
5. 【請求項５】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン酸
   化処理する手段と、オゾン酸化処理されたガスを吸着処
   理する吸着手段を有するチッ素酸化物の除去装置におい
   て、吸着処理前にオゾン酸化処理されたガスに含まれる
   オゾンの分解手段を備えたことを特徴とするチッ素酸化
   物の除去装置。
6. 【請求項６】 オゾン分解手段が、二酸化マンガンおよ
   び／または二酸化コバルトをオゾン分解触媒として有す
   る請求項５記載のチッ素酸化物の除去装置。
7. 【請求項７】 オゾン分解触媒の加熱手段を有する請求
   項５または６記載のチッ素酸化物の除去装置。
8. 【請求項８】 オゾン分解手段が、加熱手段およびオゾ
   ンを接触・熱分解するゼオライトである請求項５記載の
   チッ素酸化物の除去装置。
9. 【請求項９】 オゾン分解手段が、放熱側を処理ガス流
   の上流側に向けて設置し、放熱側にゼオライトを接触さ
   せて、該ゼオライトを加熱することによってオゾンを接
   触・熱分解するペルチェ素子であって、該ペルチェ素子
   の冷却側を吸着剤に接触させ、吸着剤温度を室温以下に
   冷却することを特徴とする請求項５記載のチッ素酸化物
   の除去装置。
10. 【請求項１０】 オゾン分解手段が、加熱手段およびオ
    ゾンを接触・熱分解する白金メッキ金属板もしくはハニ
    カムである請求項５記載のチッ素酸化物の除去装置。
11. 【請求項１１】 オゾン分解手段が、加熱手段およびオ
    ゾンを接触・熱分解する白金担持ゼオライトである請求
    項５記載のチッ素酸化物の除去装置。
12. 【請求項１２】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段と、オゾン酸化処理されたガスを吸着
    処理する吸着手段を有するチッ素酸化物の除去装置にお
    いて、吸着処理前にオゾン酸化処理されたガス中に含ま
    れる余剰オゾンを検知するセンサ、およびこのセンサに
    接続されたコントローラによってオゾン生成量を制御す
    るオゾナイザを有するチッ素酸化物の除去装置。
13. 【請求項１３】 オゾナイザが、コロナ放電によるイオ
    ン化部でオゾンを生成する電気集塵機である請求項１２
    記載のチッ素酸化物の除去装置。
14. 【請求項１４】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理したのちに加圧貯蔵する第１加圧タンク、第１
    加圧タンクが所定の圧力に達すると圧力を開放する手
    段、吸着剤と接触させることによる吸着除去手段、前記
    第１加圧タンクが開放されている間、前記オゾン酸化し
    たガスを加圧貯蔵する第２加圧タンク、第２加圧タンク
    が所定の圧力に達すると圧力を開放する手段、吸着剤と
    接触させることによる吸着除去手段、第１と第２の加圧
    タンクを交互に動作させる手段を有することを特徴とす
    るチッ素酸化物の除去装置。
15. 【請求項１５】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段と、オゾン酸化処理されたガスを吸着
    処理する吸着手段を有するチッ素酸化物の除去装置にお
    いて、吸着処理前にオゾン酸化処理されたガスをメンブ
    ランフィルタに透過させる手段、フィルタに透過しなか
    ったオゾンをオゾン分解触媒で接触・分解するオゾンの
    分解手段を備えたことを特徴とするチッ素酸化物の除去
    装置。
16. 【請求項１６】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段、オゾン酸化処理されたガスを接触に
    より吸着除去する吸着手段、吸着手段を高温ガスで処理
    して再生する再生手段、吸着塔を減圧して脱着されたガ
    スを脱硝手段へ導く手段、および、脱着されたガスを脱
    硝する脱硝手段を有するチッ素酸化物の除去装置におい
    て、吸着剤を充填した吸着塔の内側がガラスまたは緻密
    なアルミナセラミックスでライニングされていることを
    特徴とするチッ素酸化物の除去装置。
17. 【請求項１７】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段、オゾン酸化処理されたガスを接触に
    より吸着除去する吸着手段、吸着手段を加熱して再生す
    る再生手段、吸着塔を減圧して脱着されたガスを脱硝手
    段へ導く手段、および、脱着されたガスを脱硝する脱硝
    手段を有するチッ素酸化物の除去装置において、吸着剤
    を充填した吸着塔の内側がガラスまたは緻密なアルミナ
    セラミックスでライニングされていることを特徴とする
    チッ素酸化物の除去装置。
18. 【請求項１８】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段、オゾン酸化処理されたガスを接触に
    より吸着除去する吸着手段、マグネトロン、吸着剤にマ
    グネトロンよりのマイクロ波を照射して再生する再生手
    段、吸着塔を減圧して脱着されたガスを脱硝手段へ導く
    手段、および、脱着されたガスを脱硝する脱硝手段を有
    するチッ素酸化物の除去装置において、吸着手段がマイ
    クロ波を吸収して発熱する材料を含み、吸着手段のガス
    出入り口が金属ゲートで遮断され、吸着剤を充填した吸
    着塔の内側がガラスまたは緻密なアルミナセラミックス
    でライニングされていることを特徴とするチッ素酸化物
    の除去装置。
19. 【請求項１９】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段、オゾン酸化処理されたガスを接触に
    より吸着除去する吸着手段、熱プラズマ脱硝手段から放
    熱された熱を熱交換手段を介して吸着手段に伝えて吸着
    手段を加熱脱着再生する再生手段、吸着手段を減圧して
    脱着されたガスを脱硝手段へ導く手段、および、脱着さ
    れたガスを脱硝する熱プラズマ脱硝手段を有するチッ素
    酸化物の除去装置において、吸着剤を充填した吸着塔の
    内側および熱交換手段がガラスまたは緻密なアルミナセ
    ラミックスでライニングされていることを特徴とするチ
    ッ素酸化物の除去装置。
20. 【請求項２０】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段、オゾン酸化処理されたガスを接触に
    より吸着除去する第１吸着手段、第１吸着手段にマグネ
    トロンが発生するマイクロ波を照射して再生する第１再
    生手段、第１再生手段により脱着されたガスを吸着処理
    する第２吸着手段、第２吸着手段にマグネトロンが発生
    するマイクロ波を照射して再生する第２再生手段、第２
    再生手段により脱着されたガスを脱硝する脱硝手段を有
    するチッ素酸化物の除去装置において、第１吸着手段お
    よび第２吸着手段がマイクロ波を吸収して発熱する材料
    を含み、吸着剤を充填した吸着塔の内側がガラスまたは
    緻密なアルミナセラミックスでライニングされているこ
    とを特徴とするチッ素酸化物の除去装置。
21. 【請求項２１】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段、オゾン酸化処理されたガスを接触に
    より吸着除去する第１吸着手段、第１吸着手段にマグネ
    トロンが発生するマイクロ波を照射して再生する第１再
    生手段、第１吸着剤を再生する間オゾン酸化処理された
    ガスを吸着処理する第２吸着手段、第２吸着剤にマイク
    ロ波を照射して再生する第２再生手段、および、第１再
    生手段ならびに第２再生手段により脱着されたガスを脱
    硝する脱硝手段を有するチッ素酸化物の除去装置におい
    て、第１吸着剤および第２吸着剤がマイクロ波を吸収し
    て発熱する材料を含み、第１吸着剤および第２吸着剤を
    充填した吸着塔の内側がガラスまたは緻密なアルミナセ
    ラミックスでライニングされてなるチッ素酸化物の除去
    装置。
22. 【請求項２２】 チッ素酸化物を含有するガスをオゾン
    酸化処理する手段、オゾン酸化処理されたガスを、円柱
    を複数個に金属隔壁で放射状に分け、その中にμ波吸収
    発熱剤を含有する吸着剤を充填した円柱状吸着塔に通過
    させ吸着除去する吸着手段、複数個にわけられたうちの
    １つの吸着塔の出入口を金属板で閉じ、マグネトロンよ
    り発生するマイクロ波を導入し、発熱剤の昇温により加
    熱再生する再生手段、脱着されたガスを脱硝する熱プラ
    ズマ脱硝手段、および、１つの吸着塔の再生が終わる
    と、他の１つの吸着塔を再生・脱硝するために円柱状吸
    着塔を回転させる手段を有するチッ素酸化物の除去装置
    において、円柱状吸着塔の隔壁表面がガラスまたは緻密
    なアルミナセラミックでライニングされていることを特
    徴とするチッ素酸化物の除去装置。