JPH1068093A - 金属薄板のエッチング装置および剥膜装置 - Google Patents

金属薄板のエッチング装置および剥膜装置

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JPH1068093A
JPH1068093A JP24566396A JP24566396A JPH1068093A JP H1068093 A JPH1068093 A JP H1068093A JP 24566396 A JP24566396 A JP 24566396A JP 24566396 A JP24566396 A JP 24566396A JP H1068093 A JPH1068093 A JP H1068093A
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JP
Japan
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etching
main surface
metal sheet
metal
scattering prevention
Prior art date
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Application number
JP24566396A
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English (en)
Inventor
Tatsuo Hirota
辰男 廣田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄槽に設けられた飛散防止カバーの内面に
付着したエッチング液の結晶化物を適宜除去して、飛散
防止カバー内面への結晶の付着が原因となって起こる様
々な問題点を解消できるエッチング装置を提供する。 【解決手段】 洗浄槽36の飛散防止カバー44内に、
塩酸供給源に流路接続された塩酸供給管26を配設し、
塩酸供給管に、飛散防止カバーの内面に対し塩酸を噴射
する複数の噴射口34を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、カラーブラウン
管用のシャドウマスク、トリニトロン(登録商標)管用
のアパーチャグリル、半導体装置用のリードフレームな
どを、フォトエッチング法を用いて製造する場合におい
て、主面に所定のパターン画像を有するレジスト膜が形
成された長尺の金属薄板をエッチング処理する金属薄板
のエッチング装置、並びに、エッチング処理後の金属薄
板の主面からレジスト膜を剥離する金属薄板の剥膜装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】シャドウマスクなどを製造する際に使用
される金属薄板のエッチング装置は一般に、例えば特開
平8−74072号公報などに開示されているように、
主面に所定のパターン画像を有するレジスト膜が形成さ
れた長尺の金属薄板を、その長手方向に搬送させなが
ら、金属薄板の主面へスプレイノズルからエッチング液
を吹き付け、金属薄板の主面の、レジスト膜で被覆され
ていない露出部分をエッチングするエッチングチャンバ
と、このエッチングチャンバに隣接して設けられ、エッ
チングチャンバから搬出されてきて長手方向に搬送され
る金属薄板の主面へ噴射ノズルから洗浄液、例えば水を
吹き付けて、金属薄板の主面に付着したエッチング液を
除去する洗浄槽とを備えている。
【0003】また、特公昭57−26345号公報など
には、エッチングを2回に分けて段階的に行う方法が開
示されている。この方法では、両主面にそれぞれ所定の
パターン画像を有するレジスト膜が形成された長尺の金
属薄板の一方の主面又は両主面へスプレイノズルからエ
ッチング液を吹き付けて1回目のエッチングを行い、金
属薄板に貫通孔が形成される前の段階で一旦エッチング
を中止して、金属薄板の一方の主面又は両主面に多数の
凹窩部を形成し、その後に、金属薄板の一方の主面又は
両主面へ噴射ノズルから洗浄液、例えば水を吹き付け
て、金属薄板の一方の主面又は両主面に付着したエッチ
ング液を除去し、乾燥させる。次に、金属薄板の、多数
の凹窩部が形成された一方の主面の全面にUV樹脂など
の耐エッチング剤を塗布し、金属薄板の一方の主面に耐
エッチング性被膜を形成する。そして、金属薄板の、耐
エッチング性被膜で被覆されていない他方の主面へスプ
レイノズルからエッチング液を吹き付けて2回目のエッ
チングを行い、金属薄板に、一方の主面に形成された多
数の凹窩部に連通する多数の透孔を形成し、その後に、
金属薄板の他方の主面へ噴射ノズルから洗浄液、例えば
水を吹き付けて、金属薄板の他方の主面に付着したエッ
チング液を除去するようにする。
【0004】また、特開平5−9755号公報には、エ
ッチングを2回に分けて行う上記方法において、1回目
のエッチングの後に、金属薄板の一方の主面又は両主面
を洗浄する際に、金属薄板の一方の主面へ高圧の水を吹
き付けることにより、金属薄板の主面に付着したエッチ
ング液を除去するとともに、金属薄板の一方の主面に形
成された多数の凹窩部の周縁より凹窩部の中心方向へ張
り出したレジスト膜の張り出し部分(庇部)をレジスト
膜から除去するようにする方法が開示されている。
【0005】また、エッチング処理の終了後には、エッ
チングによって多数の透孔が形成された金属薄板の主面
からレジスト膜を剥離する剥膜処理が行われるが、特開
平8−74072号公報には、長尺の金属薄板を長手方
向に搬送しながら、金属薄板の主面へ噴射ノズルから剥
膜液、例えば水を高圧で吹き付けて、金属薄板の主面か
らレジスト膜を剥離する金属薄板の剥膜装置が開示され
ている。
【0006】上記した金属薄板のエッチング装置の洗浄
槽には、噴射ノズルから噴射された洗浄液や金属薄板の
表面で跳ね返った洗浄液、さらに、特開平5−9755
号公報に開示されたような装置ではレジスト膜から除去
された庇部の滓などが周囲へ飛散するのを防止するため
に、槽全体を覆うように飛散防止カバーが設けられてい
る。また、特開平8−74072号公報に開示されてた
ような金属薄板の剥膜装置にも、噴射ノズルから噴射さ
れた剥膜液や金属薄板の表面で跳ね返った剥膜液、金属
薄板の主面から剥離したレジスト片などが周囲へ飛散す
るのを防止するために、飛散防止カバーが設けられてい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記した金
属薄板のエッチング装置の洗浄槽では、金属薄板の主面
へ洗浄液を吹き付けて、金属薄板の主面に付着したエッ
チング液を除去したときに、その除去されたエッチング
液の一部が飛散防止カバーの内面に付着する。そして、
この飛散防止カバーの内面に付着したエッチング液は、
乾燥して塩化鉄などの結晶となり、その結晶が飛散防止
カバーの内面に付着した状態となる。
【0008】飛散防止カバーの内面に付着した結晶がカ
バーの内面から剥がれて金属薄板上に落下すると、それ
以降に配置されたローラと金属薄板とが接触する際に金
属薄板にペコと呼ばれる不良(金属薄板の凹凸)が発生
する。また、飛散防止カバーの内面に付着した結晶がロ
ーラ上に落下してローラの周囲に付着すると、金属薄板
にペコ不良が発生したり、ローラの回転不良の原因とな
ったりする。また、結晶の付着による飛散防止カバーの
汚れにより、洗浄槽内の噴射ノズルなどの点検がやり辛
くなる。さらに、飛散防止カバーの内面に結晶が多量に
付着して、それがカバー内面から一度に剥がれると、洗
浄槽の排水に支障を来たすことがある。
【0009】また、エッチングを2回に分けて行うエッ
チング装置では、上記した問題点のほか、飛散防止カバ
ーの内面に付着した結晶が金属薄板上に落下して、1回
目のエッチングで金属薄板の一方の主面に形成された凹
窩部に結晶が入り込んだりすると、酸の洗浄効果が低下
して、後に行われる耐エッチング性被膜の形成工程にお
いてUV樹脂の硬化不良などの原因になったりするとい
った問題点がある。さらにまた、特開平5−9755号
公報に開示されたように、1回目のエッチングの後に金
属薄板の一方の主面へ高圧の水を吹き付けて、金属薄板
の主面に付着したエッチング液の除去と共に金属薄板の
一方の主面に形成されたレジスト膜の庇部の除去を行う
エッチング装置では、上記したように、飛散防止カバー
の内面に付着した結晶がローラ上に落下してローラの周
囲に付着すると、金属薄板を裏側から支持するローラ周
面に凹凸が出来るため、そのローラに支持された部分の
金属薄板に対し高圧の水を吹き付けてレジスト膜の庇部
を除去しようとしたときに、庇部の除去を均一に行えな
くなる、といった問題点もある。
【0010】また、特開平8−74072号公報に開示
されたように、金属薄板の主面へ水などの剥膜液を高圧
で吹き付けて、金属薄板の主面からレジスト膜を剥離す
る剥膜装置では、金属薄板の主面に僅かに残存している
エッチング液が、剥膜液と共に飛び散って飛散防止カバ
ーの内面に付着し、乾燥して結晶となり、その結晶が飛
散防止カバーの内面に付着する、といったことが起こ
る。このため、このような剥膜装置においても、上記し
たエッチング装置の洗浄槽における場合と同様の問題点
を生じる可能性がある。
【0011】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、飛散防止カバーの内面に付着したエ
ッチング液の結晶化物を適宜除去して、飛散防止カバー
内面への結晶の付着が原因となって起こる上記した様々
な問題点を解消することができる金属薄板のエッチング
装置並びに金属薄板の剥膜装置を提供することを目的と
する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】請求項1に係る発明
は、主面に所定のパターン画像を有するレジスト膜が形
成され長手方向に搬送される長尺の金属薄板の主面へエ
ッチング液を供給し、金属薄板の主面の、レジスト膜で
被覆されていない露出部分をエッチングして、金属薄板
に多数の透孔を形成するエッチングチャンバと、飛散防
止カバーを有し、前記エッチングチャンバから搬出され
飛散防止カバー内へ搬入されて長手方向に搬送される前
記金属薄板の主面へ洗浄液を吹き付けて、金属薄板の主
面に付着したエッチング液を除去する洗浄槽とを備えた
エッチング装置において、また、請求項2および請求項
3に係る各発明は、両主面にそれぞれ所定のパターン画
像を有するレジスト膜が形成され長手方向に搬送される
長尺の金属薄板の一方の主面又は両主面へエッチング液
を供給し、金属薄板の主面の、レジスト膜で被覆されて
いない露出部分をエッチングして、金属薄板の一方の主
面又は両主面に多数の凹窩部を形成する第1エッチング
チャンバと、飛散防止カバーを有し、前記第1エッチン
グチャンバから搬出され飛散防止カバー内へ搬入されて
長手方向に搬送される前記金属薄板の一方の主面又は両
主面へ洗浄液を吹き付けて、金属薄板の一方の主面又は
両主面に付着したエッチング液を除去する第1洗浄槽
と、この第1洗浄槽から搬送されてくる前記金属薄板
の、多数の凹窩部が形成された一方の主面に耐エッチン
グ性被膜を形成する被膜形成手段と、一方の主面が前記
耐エッチング性被膜で被覆され長手方向に搬送される前
記金属薄板の他方の主面へエッチング液を供給し、金属
薄板の他方の主面の、レジスト膜で被覆されていない露
出部分をエッチングして、金属薄板に、一方の主面に形
成された多数の凹窩部にそれぞれ連通する多数の透孔を
形成する第2エッチングチャンバと、飛散防止カバーを
有し、前記第2エッチングチャンバから搬出され飛散防
止カバー内へ搬入されて長手方向に搬送される前記金属
薄板の他方の主面へ洗浄液を吹き付けて、金属薄板の他
方の主面に付着したエッチング液を除去する第2洗浄槽
とを備えたエッチング装置において、請求項1に係る発
明では前記洗浄槽の前記飛散防止カバー内に、請求項2
に係る発明では前記第1洗浄槽の前記飛散防止カバー内
に、また、請求項3に係る発明では前記第2洗浄槽の前
記飛散防止カバー内に、それぞれ、酸性液供給源に流路
接続された酸性液供給管を配設し、その酸性液供給管
に、飛散防止カバーの内面に対し酸性液を噴射する複数
の噴射口を設けたことを特徴とする。
【0013】請求項4に係る発明は、請求項2又は請求
項3記載のエッチング装置において、上記第1洗浄槽に
おいて金属薄板の一方の主面へ吹き付けられる洗浄液を
高圧の洗浄液として、金属薄板の一方の主面に形成され
た多数の凹窩部の周縁より凹窩部の中心方向へ張り出し
たレジスト膜の張り出し部分がそれぞれ除去されるよう
にしたことを特徴とする。
【0014】請求項5に係る発明は、飛散防止カバーを
有し、主面に所定のパターン画像を有するレジスト膜が
形成されエッチングによって多数の透孔が形成された長
尺の金属薄板を、前記飛散防止カバー内において長手方
向に搬送しながら、金属薄板の主面へ剥膜液を吹き付け
て、金属薄板の主面から前記レジスト膜を剥離する剥膜
装置において、前記飛散防止カバー内に、酸性液供給源
に流路接続された酸性液供給管を配設し、その酸性液供
給管に、飛散防止カバーの内面に対し酸性液を噴射する
複数の噴射口を設けたことを特徴とする。
【0015】請求項1ないし請求項3に係る各発明の金
属薄板のエッチング装置においては、洗浄槽内で金属薄
板の主面へ洗浄液を吹き付けて、金属薄板の主面に付着
したエッチング液を除去したときに、その除去されたエ
ッチング液の一部が飛散防止カバーの内面に付着し、そ
のエッチング液が乾燥して結晶が飛散防止カバーの内面
に付着しても、適宜、酸性液供給管の複数の噴射口から
飛散防止カバーの内面に対し酸性液を噴射させることに
より、飛散防止カバーの内面に付着した結晶は、酸性液
によって溶解され、飛散防止カバーの内面から洗い流さ
れる。
【0016】請求項4に係る発明のエッチング装置で
は、エッチングを2回に分けて行う場合において、1回
目のエッチングの後に第1洗浄槽において金属薄板の一
方の主面へ高圧の洗浄液を吹き付けて、金属薄板の主面
に付着したエッチング液を除去するとともに、金属薄板
の一方の主面に形成された多数の凹窩部の周縁より凹窩
部の中心方向へ張り出したレジスト膜の庇部を除去した
ときに、除去されたエッチング液の一部が飛散防止カバ
ーの内面に付着し、そのエッチング液が乾燥して結晶が
飛散防止カバーの内面に付着することになるが、上記し
たように、適宜、酸性液供給管の噴射口から飛散防止カ
バーの内面に対し酸性液を噴射させることにより、飛散
防止カバーの内面から結晶が洗い流される。
【0017】請求項5に係る発明の金属薄板の剥膜装置
においては、金属薄板の主面へ剥膜液を吹き付けて、金
属薄板の主面からレジスト膜を剥離させたときに、金属
薄板の主面に残存していたエッチング液が剥膜液と共に
飛び散って飛散防止カバーの内面に付着し、そのエッチ
ング液が乾燥して結晶が飛散防止カバーの内面に付着し
ても、適宜、酸性液供給管の複数の噴射口から飛散防止
カバーの内面に対し酸性液を噴射させることにより、飛
散防止カバーの内面に付着した結晶は、酸性液によって
溶解され、飛散防止カバーの内面から洗い流される。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、この発明の最良の実施形態
について図面を参照しながら説明する。
【0019】最初に、図3は、両主面にそれぞれ所定の
パターン画像を有するレジスト膜が形成された金属薄板
を、その両主面から同時にエッチングして、1回のエッ
チングにより金属薄板に貫通した多数の透孔を形成する
金属薄板のエッチング装置の概略構成を示す模式図であ
る。このエッチング装置は、エッチングチャンバ12と
洗浄槽14とを備えている。両主面にそれぞれ所定のパ
ターン画像を有するレジスト膜が形成された長尺の金属
薄板10は、その長手方向に連続して搬送され、エッチ
ングチャンバ12内に通された後、洗浄槽14内に通さ
れる。
【0020】エッチングチャンバ12には、金属薄板1
0の搬送路を挾んでその上下に、それぞれ複数のスプレ
イノズル16、16が列設されている。このエッチング
チャンバ12内を金属薄板10が通過する間に、スプレ
イノズル16から金属薄板10の両主面に対し、例えば
塩化第二鉄水溶液などのエッチング液がそれぞれ噴射さ
れ、金属薄板の両主面の、レジスト膜で被覆されていな
い露出部分がそれぞれエッチングされ、金属薄板に貫通
した多数の透孔が形成される。
【0021】洗浄槽14は、槽下部に洗浄液、例えば水
18を貯留する貯水部を有し、槽底部にドレンバルブ1
9が介設されたドレン管17が連通接続され、槽内部に
複数本の搬送ローラ20が配設されており、そのうちの
1本の搬送ローラ20は、貯水部の水18中に浸漬させ
られた状態で設けられている。また、洗浄槽14の内部
には、金属薄板10の搬送路を挾んでその両側に、それ
ぞれ複数の水噴射ノズル22が列設されている。さら
に、洗浄槽14には、搬送ローラ20および水噴射ノズ
ル22の周囲を完全に取り囲むように飛散防止カバー2
4が設けられている。そして、この洗浄槽14の内部に
は、酸性液、例えば塩酸の供給管26が配設されてお
り、塩酸供給管26は、開閉弁30およびポンプ32が
介設された配管28を通して塩酸供給源に流路接続され
ている。塩酸供給管26には、飛散防止カバー24の内
面に対し塩酸を噴射する複数の噴射口34が設けられて
いる。なお、酸性液としては、塩酸のほか、硝酸、硫
酸、蓚酸などが用いられる。
【0022】エッチングチャンバ12から搬出された金
属薄板10は、洗浄槽14内へ搬入されて洗浄槽14内
を通過する間に、水噴射ノズル22から両主面へそれぞ
れ水が吹き付けられるとともに、水貯留部の水18中に
浸漬させられる。これにより、金属薄板10の両主面に
付着したエッチング液が除去される。この際、水噴射ノ
ズル22から金属薄板10の主面に対し水が吹き付けら
れることにより、金属薄板10の主面から水と共にエッ
チング液が飛び散り、そのエッチング液の一部が飛散防
止カバー24の内面に付着する。そして、飛散防止カバ
ー24の内面に付着したエッチング液は、乾燥して塩化
鉄などの結晶となり、エッチング処理を繰り返し行って
いる間に、飛散防止カバー24の内面に次第に結晶が堆
積してくる。そこで、この装置では、適宜、例えば、週
末や週始めなどに、洗浄槽14内に金属薄板が無い状態
で、かつ、ドレンバルブ19を開いてドレン管17を通
し貯水部の水18を排出させた状態で、開閉弁30を開
きポンプ32を作動させて、塩酸供給源から配管28を
通し塩酸供給管26へ塩酸を供給し、塩酸供給管26の
複数の噴射口34から飛散防止カバー24の内面に対し
塩酸を噴射させる。これにより、飛散防止カバー24の
内面に付着した結晶が塩酸によって溶解させられ、飛散
防止カバー24の内面から洗い流されて除去される。
【0023】なお、エッチングを2回に分けて行うエッ
チング装置において、両主面にそれぞれ所定のパターン
画像を有するレジストが形成された金属薄板の両主面へ
スプレイノズルからエッチング液を吹き付けて1回目の
エッチングを行い、金属薄板の両主面にそれぞれ多数の
凹窩部を形成し、その後に、金属薄板の両主面へ噴射ノ
ズルから洗浄液を吹き付けて、金属薄板の両主面に付着
したエッチング液を除去する場合にも、図3に示した装
置構成をそのまま使用することができる。この場合に
は、エッチングチャンバ12が第1エッチングチャンバ
となり、洗浄槽14が第1洗浄槽となる。また、片面に
所定のパターン画像を有するレジスト膜が形成された金
属薄板を片面側からエッチングして、1回のエッチング
により金属薄板に貫通した多数の透孔を形成するエッチ
ング装置や、両主面にそれぞれ所定のパターン画像を有
するレジスト膜が形成された金属薄板のエッチングを2
回に分けて行い、1回目のエッチングでは、金属薄板の
一方の主面へエッチング液を吹き付けて、金属薄板の一
方の主面に多数の凹窩部を形成するエッチング装置につ
いて、この発明を適用する場合には、図3に示した装置
構成において、スプレイノズル16や水噴射ノズル22
を金属薄板10の片側だけに設けた構成とすればよい。
【0024】次に、図1は、両主面にそれぞれ所定のパ
ターン画像を有するレジスト膜が形成された金属薄板の
エッチングを2回に分けて行うエッチング装置におい
て、1回目のエッチングの後に金属薄板の一方の主面へ
高圧の洗浄液、例えば水を吹き付けて、金属薄板の主面
に付着したエッチング液の除去と同時に、金属薄板の一
方の主面に形成された多数の凹窩部の周縁より凹窩部の
中心方向へ張り出したレジスト膜の庇部を除去するよう
にした第1洗浄槽の概略構成を示す模式図である。
【0025】図1に示した第1洗浄槽36は、内部にバ
ックアップローラ38および搬送ローラ40が配設さ
れ、バックアップローラ38の周面に対向するように高
圧スプレイノズル42が配設されている。高圧スプレイ
ノズル42は、図示しない高圧ポンプに流路接続されて
いて、高圧の水が供給されるようになっている。また、
第1洗浄槽36には、バックアップローラ38、搬送ロ
ーラ40および高圧スプレイノズル42の周囲を完全に
取り囲むように飛散防止カバー44が設けられている。
さらに、第1洗浄槽36の内部には、図3に示した洗浄
槽14と同様に、複数の噴射口34が設けられた塩酸供
給管26が配設されており、塩酸供給管26は、開閉弁
30およびポンプ32が介設された配管28を通して塩
酸供給源に流路接続されている。塩酸供給管26の複数
の噴射口34は、図2に示すように、飛散防止カバー4
4の天井部内面および周壁部内面に対向するほか、ロー
ラ(図2には図示せず)の周面の方向へ向くように設け
ることができる。また、第1洗浄槽36には、洗浄液、
例えば洗浄水48を貯留した水洗槽46が併設されてお
り、第1洗浄槽36から搬出された金属薄板10が搬送
ローラ50により水洗槽46内の洗浄水48中に浸漬さ
せられて搬送されるようになっている。
【0026】図示しない第1エッチングチャンバから搬
出された金属薄板10は、この第1洗浄槽36内へ搬入
され、裏側をバックアップローラ38に支持されて搬送
される際に、スプレイノズル42から水が高圧で金属薄
板10の一方の主面へ吹き付けられる。これにより、金
属薄板10の主面に付着したエッチング液が除去され、
それと同時に、金属薄板10の一方の主面に形成された
多数の凹窩部の周縁より凹窩部の中心方向へ張り出した
レジスト膜の庇部が除去される。この際、金属薄板10
の主面から除去されたエッチング液の一部は、飛散防止
カバー44の内面に付着する。そして、飛散防止カバー
44の内面に付着したエッチング液は、乾燥して塩化鉄
などの結晶となり、飛散防止カバー44の内面に次第に
結晶が堆積する。飛散防止カバー44の内面に堆積した
結晶は、図3に示した洗浄槽14と同様に、適宜、第1
洗浄槽36内に金属薄板が無い状態で、開閉弁30を開
きポンプ32を作動させて、塩酸供給管26の複数の噴
射口34から飛散防止カバー44の内面に対し塩酸を噴
射させることにより、塩酸で溶解させられて飛散防止カ
バー44の内面から洗い流される。
【0027】次に、図4は、金属薄板のエッチングを2
回に分けて行うエッチング装置の一部を示し、2回目の
エッチングを行う第2エッチングチャンバおよび2回目
のエッチングの後の洗浄を行う第2洗浄槽の概略構成を
示す模式図である。
【0028】第2エッチングチャンバ52は、金属薄板
10の搬送路の下側のみに複数のスプレイノズル54が
配設されている。この第2エッチングチャンバ52で
は、1回目のエッチングにより一方の主面又は両主面に
多数の凹窩部が形成され被膜形成手段により一方の主面
にUV樹脂などの耐エッチング性被膜が形成された金属
薄板10が搬送される間に、金属薄板10の他方の主面
に対しスプレイノズル54からエッチング液が噴射さ
れ、金属薄板10の他方の主面がエッチングされて、金
属薄板10に、一方の主面に形成された多数の凹窩部に
それぞれ連通する多数の透孔が形成される。
【0029】第2洗浄槽56は、槽下部に洗浄液、例え
ば水58を貯留する水貯留部を有し、槽底部にドレンバ
ルブ59が介設されたドレン管57が連通接続され、槽
内部に複数本の搬送ローラ60が配設されており、その
うちの1本の搬送ローラ60は、水貯留部の水58中に
浸漬させられた状態で設けられている。また、第2洗浄
槽56の内部には、金属薄板10の片側(他方の主面
側)に複数の水噴射ノズル62が列設されている。さら
に、第2洗浄槽56には、搬送ローラ60および水噴射
ノズル62の周囲を完全に取り囲むように飛散防止カバ
ー64が設けられている。そして、第2洗浄槽56の内
部には、図3に示した洗浄槽14と同様に、複数の噴射
口34が設けられた塩酸供給管26が配設され、塩酸供
給管26は、開閉弁30およびポンプ32が介設された
配管28を通して塩酸供給源に流路接続されている。
【0030】第2エッチングチャンバ52から搬出され
てこの第2洗浄槽56内へ搬入されてきた金属薄板10
が、その他方の主面への水噴射ノズル62からの水の吹
付けによって洗浄される際に、金属薄板10の他方の主
面から除去されたエッチング液の一部が飛散防止カバー
64の内面に付着し、それが乾燥して、飛散防止カバー
64の内面に結晶が付着し堆積することになる。この結
晶は、図3に示した洗浄槽14と同様に、適宜、第2洗
浄槽56内に金属薄板10が無い状態で、かつ、ドレン
バルブ59を開いてドレン管57を通し貯水部の水58
を排出させた状態で、塩酸供給管26の複数の噴射口3
4から飛散防止カバー64の内面に対し塩酸を噴射させ
ることにより、塩酸で溶解させられて飛散防止カバー6
4の内面から洗い流される。
【0031】図5は、エッチング装置の後段側に設置さ
れる金属薄板の剥膜装置の概略構成を示す模式図であ
る。この剥膜装置は、下底部に排液部68が設けられた
剥膜槽66を有し、剥膜槽66の外部および内部に複数
本の搬送ローラ70が配設され、また、槽内部に2本の
バックアップローラ72が配設されている。そして、長
尺の金属薄板10は、複数本の搬送ローラ70および2
本のバックアップローラ72に順次掛け回されて、剥膜
槽66内へ搬入され、剥膜槽66内を搬送されて、剥膜
槽66内から搬出されるようになっている。また、剥膜
槽66の内部には、各バックアップローラ72の周面に
対向するように高圧噴射ノズル74がそれぞれ配設され
ている。各高圧噴射ノズル74は、図示しない高圧ポン
プにそれぞれ流路接続されていて、高圧の剥膜液、例え
ば水が供給されるようになっている。さらに、剥膜槽6
6には、搬送ローラ70、バックアップローラ72およ
び高圧噴射ノズル74の周囲を完全に取り囲むように飛
散防止カバー76が設けられている。そして、剥膜槽6
6の内部には、図3に示した洗浄槽14と同様に、複数
の噴射口34が設けられた塩酸供給管26が配設されて
おり、塩酸供給管26は、開閉弁30およびポンプ32
が介設された配管28を通して塩酸供給源に流路接続さ
れている。
【0032】エッチング処理が終了した金属薄板10
は、この剥膜装置の剥膜槽66内へ搬入され、各バック
アップローラ72に支持されて搬送される際に、高圧噴
射ノズル74から水が高圧で金属薄板10のそれぞれの
主面へ吹き付けられる。これにより、金属薄板10の両
主面からそれぞれレジスト膜が剥離される。この際、金
属薄板10の各主面に僅かに残存しているエッチング液
が、水と共に飛び散って飛散防止カバー76の内面に付
着し、それが乾燥して結晶となり、その結晶が飛散防止
カバー76の内面に付着し堆積する。この結晶は、図3
に示した洗浄槽14と同様に、適宜、剥膜槽76内に金
属薄板10が無い状態で、塩酸供給管26の複数の噴射
口34から飛散防止カバー76の内面に対し塩酸を噴射
させることにより、塩酸で溶解させられて飛散防止カバ
ー76の内面から洗い流される。
【0033】
【発明の効果】請求項1ないし請求項3に係る各発明の
金属薄板のエッチング装置を使用すると、洗浄槽に設け
られた飛散防止カバーの内面にエッチング液が付着しそ
れが乾燥して結晶となっても、その結晶を飛散防止カバ
ーの内面から適宜除去することができるので、飛散防止
カバーの内面への結晶の付着に起因して様々な問題が発
生するのを未然に防止することができる。
【0034】請求項4に係る発明のエッチング装置で
は、1回目のエッチングの後に第1洗浄槽において行わ
れる金属薄板の洗浄の際に、金属薄板の一方の主面へ高
圧の洗浄液が吹き付けられることにより、金属薄板の主
面に付着したエッチング液が除去されてその一部が飛散
防止カバーの内面に付着し、それが乾燥して飛散防止カ
バーの内面に結晶が付着することになるが、その結晶が
飛散防止カバーの内面から適宜除去される。
【0035】請求項5に係る発明の金属薄板の剥膜装置
を使用すると、金属薄板の主面へ剥膜液を吹き付けて金
属薄板の主面からレジスト膜を剥離させるときに、金属
薄板の主面に残存していたエッチング液が除去されてそ
の一部が飛散防止カバーの内面に付着し、そのエッチン
グ液が乾燥して結晶が飛散防止カバーの内面に付着して
も、その結晶を飛散防止カバーの内面から適宜除去する
ことができるので、飛散防止カバーの内面への結晶の付
着に起因した様々な問題の発生を未然に防止することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項4に係る発明の1実施形態を示し、金属
薄板のエッチング装置の一部を構成する第1洗浄槽の概
略構成を示す模式図である。
【図2】図1に示した第1洗浄槽の内部に配設された塩
酸供給管の構成の1例を示す部分斜視図である。
【図3】請求項1に係る発明の1実施形態を示し、金属
薄板のエッチング装置の概略構成を示す模式図である。
【図4】請求項3に係る発明の1実施形態を示し、金属
薄板のエッチング装置の一部を構成する第2エッチング
チャンバおよび第2洗浄槽の概略構成を示す模式図であ
る。
【図5】請求項5に係る発明の1実施形態を示し、金属
薄板の剥膜装置の概略構成を示す模式図である。
【符号の説明】
10 金属薄板 12 エッチングチャンバ 14 洗浄槽 16、54 スプレイノズル 20、40、50、60、70 搬送ローラ 22、62 水噴射ノズル 24、44、64、76 飛散防止カバー 26 塩酸供給管 34 塩酸供給管の噴射口 36 第1洗浄槽 38、72 バックアップローラ 42 高圧スプレイノズル 46 水洗槽 52 第2エッチングチャンバ 56 第2洗浄槽 66 剥膜槽 74 高圧噴射ノズル

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主面に所定のパターン画像を有するレジ
    スト膜が形成され長手方向に搬送される長尺の金属薄板
    の主面へエッチング液を供給し、金属薄板の主面の、レ
    ジスト膜で被覆されていない露出部分をエッチングし
    て、金属薄板に多数の透孔を形成するエッチングチャン
    バと、 飛散防止カバーを有し、前記エッチングチャンバから搬
    出され飛散防止カバー内へ搬入されて長手方向に搬送さ
    れる前記金属薄板の主面へ洗浄液を吹き付けて、金属薄
    板の主面に付着したエッチング液を除去する洗浄槽とを
    備えた金属薄板のエッチング装置において、 前記洗浄槽の前記飛散防止カバー内に、酸性液供給源に
    流路接続された酸性液供給管を配設し、その酸性液供給
    管に、飛散防止カバーの内面に対し酸性液を噴射する複
    数の噴射口を設けたことを特徴とする金属薄板のエッチ
    ング装置。
  2. 【請求項2】 両主面にそれぞれ所定のパターン画像を
    有するレジスト膜が形成され長手方向に搬送される長尺
    の金属薄板の一方の主面又は両主面へエッチング液を供
    給し、金属薄板の主面の、レジスト膜で被覆されていな
    い露出部分をエッチングして、金属薄板の一方の主面又
    は両主面に多数の凹窩部を形成する第1エッチングチャ
    ンバと、 飛散防止カバーを有し、前記第1エッチングチャンバか
    ら搬出され飛散防止カバー内へ搬入されて長手方向に搬
    送される前記金属薄板の一方の主面又は両主面へ洗浄液
    を吹き付けて、金属薄板の一方の主面又は両主面に付着
    したエッチング液を除去する第1洗浄槽と、 この第1洗浄槽から搬送されてくる前記金属薄板の、多
    数の凹窩部が形成された一方の主面に耐エッチング性被
    膜を形成する被膜形成手段と、 一方の主面が前記耐エッチング性被膜で被覆され長手方
    向に搬送される前記金属薄板の他方の主面へエッチング
    液を供給し、金属薄板の他方の主面の、レジスト膜で被
    覆されていない露出部分をエッチングして、金属薄板
    に、一方の主面に形成された多数の凹窩部にそれぞれ連
    通する多数の透孔を形成する第2エッチングチャンバ
    と、 飛散防止カバーを有し、前記第2エッチングチャンバか
    ら搬出され飛散防止カバー内へ搬入されて長手方向に搬
    送される前記金属薄板の他方の主面へ洗浄液を吹き付け
    て、金属薄板の他方の主面に付着したエッチング液を除
    去する第2洗浄槽とを備えた金属薄板のエッチング装置
    において、 前記第1洗浄槽の前記飛散防止カバー内に、酸性液供給
    源に流路接続された酸性液供給管を配設し、その酸性液
    供給管に、飛散防止カバーの内面に対し酸性液を噴射す
    る複数の噴射口を設けたことを特徴とする金属薄板のエ
    ッチング装置。
  3. 【請求項3】 両主面にそれぞれ所定のパターン画像を
    有するレジスト膜が形成され長手方向に搬送される長尺
    の金属薄板の一方の主面又は両主面へエッチング液を供
    給し、金属薄板の主面の、レジスト膜で被覆されていな
    い露出部分をエッチングして、金属薄板の一方の主面又
    は両主面に多数の凹窩部を形成する第1エッチングチャ
    ンバと、 飛散防止カバーを有し、前記第1エッチングチャンバか
    ら搬出され飛散防止カバー内へ搬入されて長手方向に搬
    送される前記金属薄板の一方の主面又は両主面へ洗浄液
    を吹き付けて、金属薄板の一方の主面又は両主面に付着
    したエッチング液を除去する第1洗浄槽と、 この第1洗浄槽から搬送されてくる前記金属薄板の、多
    数の凹窩部が形成された一方の主面に耐エッチング性被
    膜を形成する被膜形成手段と、 一方の主面が前記耐エッチング性被膜で被覆され長手方
    向に搬送される前記金属薄板の他方の主面へエッチング
    液を供給し、金属薄板の他方の主面の、レジスト膜で被
    覆されていない露出部分をエッチングして、金属薄板
    に、一方の主面に形成された多数の凹窩部にそれぞれ連
    通する多数の透孔を形成する第2エッチングチャンバ
    と、 飛散防止カバーを有し、前記第2エッチングチャンバか
    ら搬出され飛散防止カバー内へ搬入されて長手方向に搬
    送される前記金属薄板の他方の主面へ洗浄液を吹き付け
    て、金属薄板の他方の主面に付着したエッチング液を除
    去する第2洗浄槽とを備えた金属薄板のエッチング装置
    において、 前記第2洗浄槽の前記飛散防止カバー内に、酸性液供給
    源に流路接続された酸性液供給管を配設し、その酸性液
    供給管に、飛散防止カバーの内面に対し酸性液を噴射す
    る複数の噴射口を設けたことを特徴とする金属薄板のエ
    ッチング装置。
  4. 【請求項4】 第1洗浄槽において金属薄板の一方の主
    面へ吹き付けられる洗浄液を高圧の洗浄液として、金属
    薄板の一方の主面に形成された多数の凹窩部の周縁より
    凹窩部の中心方向へ張り出したレジスト膜の張り出し部
    分がそれぞれ除去されるようにした請求項2又は請求項
    3記載の金属薄板のエッチング装置。
  5. 【請求項5】 飛散防止カバーを有し、主面に所定のパ
    ターン画像を有するレジスト膜が形成されエッチングに
    よって多数の透孔が形成された長尺の金属薄板を、前記
    飛散防止カバー内において長手方向に搬送しながら、金
    属薄板の主面へ剥膜液を吹き付けて、金属薄板の主面か
    ら前記レジスト膜を剥離する金属薄板の剥膜装置におい
    て、 前記飛散防止カバー内に、酸性液供給源に流路接続され
    た酸性液供給管を配設し、その酸性液供給管に、飛散防
    止カバーの内面に対し酸性液を噴射する複数の噴射口を
    設けたことを特徴とする金属薄板の剥膜装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100691479B1 (ko) 2005-12-20 2007-03-12 주식회사 케이씨텍 대면적 기판의 식각장치
KR20180075656A (ko) * 2015-11-10 2018-07-04 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 막처리 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

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