JP2002350818A - 液晶ディスプレイ用基板製造装置、及び液晶ディスプレイ用基板製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のように製造途中で基板表面に水滴が再
付着するのを防止する液晶ディスプレイ用基板製造装置
及び液晶ディスプレイ用基板製造方法を提供する。 【解決の手段】 乾燥室５に高圧ガスノズル１０を取り
付け、液切りナイフ６下流の基板搬送通路の両側または
片側から、液晶ディスプレイ用基板７直上でかつ、液晶
ディスプレイ用基板７に対して水平もしくは上方に向け
て高圧ガスを吹き付けて、基板直上に気流１６をつく
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
用基板の製造に用いられる液を用いた枚葉式洗浄装置、
あるいは枚葉式エッチング装置、あるいは枚葉式レジス
ト剥離装置などに適用され、特に、乾燥方法として液切
りナイフ方式を備えた液晶ディスプレイ用基板製造装
置、及び液晶ディスプレイ用基板製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ用基板製造装置におけ
る製造過程には、薬液を用いて基板に対して洗浄処理を
行う洗浄装置、基板に対してフォトリソによって形成さ
れた所定のパターンのエッチング処理を行うエッチング
装置、パターンニングのためにフォトリソにて被エッチ
ング部をカバーリングしたレジストをエッチングによっ
てパターンニング処理後、上記基板上のレジストを除去
するための剥離処理を行うレジスト剥離装置が設置さ
れ、連続的に各処理が行われる。

【０００３】ここで、従来の薬液を用いた洗浄装置、エ
ッチング装置、レジスト剥離装置の、各装置の工程は基
本的に同様なものであるので、その一例を図５に示す。
図５、従来の液晶ディスプレイ用基板製造装置の概略構
成図である。図５において、液晶ディスプレイ用基板製
造装置は、ニュートラル室１と、薬液シャワー１４を有
する薬液処理室２と、液切りナイフ６を有する液切り処
理室３と、水洗シャワー１５を有する水洗処理室４と、
排気口８及び液切りナイフ６を有する乾燥室５と、を備
えたものであり、基板搬送方向９に従って液晶ディスプ
レイ用基板７を搬送する。なお、搬送方法は、上記各処
理室に搬送ローラー１３が設けられており、この搬送ロ
ーラ１３上に液晶ディスプレイ用基板７を乗せて搬送す
る。

【０００４】上記構成の液晶ディスプレイ用基板製造装
置による液晶ディスプレイ用基板７の製造方法について
説明する。まず、ニュートラル室１は、液晶ディスプレ
イ用基板７を１枚ずつ薬液処理室２へ搬送する。次に、
薬液処理室２は、薬液シャワー１４から薬液を噴射し
て、液晶ディスプレイ用基板７の薬液処理（洗浄、エッ
チング、レジスト剥離）を行い、液切り処理室３へ搬送
する。

【０００５】次に、液切り処理室３は、液切りナイフ６
により、液晶ディスプレイ用基板７の表面に付着してい
る薬液の除去を行い、水洗処理室４へ搬送する。次に、
水洗処理室４は、水洗シャワー１５から水を噴射して、
液晶ディスプレイ用基板７を水洗処理し、乾燥室５へ搬
送する。次に、乾燥室５は、液切りナイフ６により液晶
ディスプレイ用基板７の表面を乾燥する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の洗浄装置、エッチング装置、剥離装置において、液
切りナイフ６による乾燥時に、乾燥室５に設置された排
気口８の排気能力だけでは、液切りナイフ６によって発
生した水滴の除去は不可能である。これは、液切りナイ
フ６のガス圧と排気口８の排気圧の関係により、乾燥室
内での気流の滞留などによるものであり、液切りナイフ
６によって除去された水滴の一部分が、液切りナイフ下
流にて乾燥された液晶ディスプレイ用基板７表面に再付
着することがある。この水滴は、基板表面に形成された
薄膜と化学反応などを引き起こす恐れがある。例えば、
Si上に水滴が付着した場合、後の工程の熱処理などでそ
の部分のSiが酸化してしまいトランジスタの特性に悪影
響を及ぼす。

【０００７】このように、基板上に形成された薄膜が腐
食、あるいは変質し、これが起因して、液晶ディスプレ
イ用基板を使用してディスプレイ表示を行ったときに、
画像ムラや薄膜トランジスタの動作不良などが発生し、
画質が低下したり、あるいは表示の信頼性に問題が生じ
る。

【０００８】本発明は、上記問題点を解消するためにな
されたものであり、乾燥処理方法を改善して液晶ディス
プレイ用基板の不良を無くすようにした液晶ディスプレ
イ用基板製造装置及び液晶ディスプレイ用基板製造方法
を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の請求項１に記載の液晶ディスプレイ用基板
製造装置では、ニュートラル室より搬送された液晶ディ
スプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射して薬液
処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理された液晶ディ
スプレイ用基板に付着している薬液を液切りナイフを用
いて除去する液切り処理室と、水洗シャワーより水を噴
射して上記薬液処理後の液晶ディスプレイ用基板の水洗
処理を行う水洗処理室と、上記水洗処理後の液晶ディス
プレイ用基板に付着している水滴を液切りナイフを用い
て除去して乾燥する乾燥室と、を備えた液晶ディスプレ
イ用基板製造装置であって、上記乾燥室は、上記液切り
ナイフ下流の基板搬送通路の両側または片側から、上記
液晶ディスプレイ用基板直上でかつ、上記液晶ディスプ
レイ用基板に対して水平もしくは上方に向けて高圧ガス
を吹き付ける高圧ガス吹き付け手段を有する、ことを特
徴とするものである。これにより、高圧ガスにより液晶
ディスプレイ用基板上に強制的に気流を作り、水滴が液
晶ディスプレイ用基板に再付着するのを防止し、その結
果、基板不良の発生率を低下させて、長期にわたって安
定した特性を有する液晶ディスプレイ用基板を製造する
ことができる。

【００１０】本発明の請求項２に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造装置では、ニュートラル室より搬送された
液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射
して薬液処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理された
液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナ
イフを用いて除去する液切り処理室と、水洗シャワーよ
り水を噴射して上記薬液処理後の液晶ディスプレイ用基
板の水洗処理を行う水洗処理室と、上記水洗処理後の液
晶ディスプレイ用基板に付着している水滴を液切りナイ
フを用いて除去して乾燥する乾燥室と、を備えた液晶デ
ィスプレイ用基板製造装置であって、上記水洗処理室
は、水に電荷を持つよう制御する水用電荷制御手段を有
し、上記乾燥室は、上記液晶ディスプレイ用基板に上記
水の電荷と同極の電荷を持つよう制御する基板用電荷制
御手段を有し、該基板用電荷制御手段を、基板搬送方向
下流に設置する、ことを特徴とするものである。これに
より、液切りナイフ下流にて、液切りによって発生した
水滴と液晶ディスプレイ用基板とが静電気によって反発
して、液晶ディスプレイ用基板に水滴が再付着するのを
防止し、その結果、基板不良の発生率を低下させて、長
期にわたって安定した特性を有する液晶ディスプレイ用
基板を製造することができる。

【００１１】本発明の請求項３に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造装置では、ニュートラル室より搬送された
液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射
して薬液処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理された
液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナ
イフを用いて除去する液切り処理室と、水洗シャワーよ
りイオン水を噴射して上記薬液処理後の液晶ディスプレ
イ用基板の水洗処理を行う水洗処理室と、上記液晶ディ
スプレイ用基板に上記イオン水の電荷と同極の電荷を持
つよう制御する基板用電荷制御手段を有し、上記水洗処
理後の液晶ディスプレイ用基板に付着している水滴を液
切りナイフを用いて除去して乾燥する乾燥室と、を備え
た、ことを特徴とするものである。これにより、液切り
ナイフ下流にて、液切りによって発生した水滴と液晶デ
ィスプレイ用基板とが静電気によって反発して、液晶デ
ィスプレイ用基板に水滴が再付着するのを防止し、その
結果、基板不良の発生率を低下させて、長期にわたって
安定した特性を有する液晶ディスプレイ用基板を製造す
ることができる。

【００１２】本発明の請求項４に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造装置では、請求項２または請求項３に記載
の液晶ディスプレイ用基板製造装置において、上記乾燥
室の側壁は、上記水及び液晶ディスプレイ用基板の電荷
と逆極の電荷を持つものである、ことを特徴とする。こ
れにより、静電気により反発した水を乾燥室の側壁に引
きつけ、液晶ディスプレイ用基板に水滴が再付着するの
を防止することができる。

【００１３】本発明の請求項５に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法では、ニュートラル室より薬液処理室
に液晶ディスプレイ用基板を搬送して、該搬送された液
晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射し
て薬液処理を行い、上記薬液処理された液晶ディスプレ
イ用基板を液切り処理室に搬送して、該搬送された液晶
ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナイフ
を用いて除去し、上記薬液除去された液晶ディスプレイ
用基板を水洗処理室に搬送し、該搬送された液晶ディス
プレイ用基板に水洗シャワーより水を噴射して水洗処理
を行い、上記水洗処理された液晶ディスプレイ用基板を
乾燥室に搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ用基
板に付着している水滴を液切りナイフを用いて除去する
とともに、高圧ガス吹き付け手段により上記液切りナイ
フ下流の基板搬送通路の両側または片側から、上記液晶
ディスプレイ用基板直上でかつ、上記液晶ディスプレイ
用基板に対して水平もしくは上方に向けて高圧ガスを吹
き付けて乾燥する、ことを特徴とするものである。これ
により、高圧ガスにより液晶ディスプレイ用基板上に強
制的に気流を作り、水滴が液晶ディスプレイ用基板に再
付着するのを防止し、その結果、基板不良の発生率を低
下させて、長期にわたって安定した特性を有する液晶デ
ィスプレイ用基板を製造することができる。

【００１４】本発明の請求項６に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法では、ニュートラル室より薬液処理室
に液晶ディスプレイ用基板を搬送して、該搬送された液
晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射し
て薬液処理を行い、上記薬液処理された液晶ディスプレ
イ用基板を液切り処理室に搬送して、該搬送された液晶
ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナイフ
を用いて除去し、上記薬液除去された液晶ディスプレイ
用基板を水洗処理室に搬送し、該搬送された液晶ディス
プレイ用基板に水洗シャワーより水を噴射して水洗処理
を行うとともに、水用電荷制御手段により上記水に電荷
を持つよう制御し、上記水洗処理された液晶ディスプレ
イ用基板を乾燥室に搬送して、該搬送された液晶ディス
プレイ用基板に付着している水滴を液切りナイフを用い
て除去するとともに、基板用電荷制御手段により上記液
晶ディスプレイ用基板に上記水の電荷と同極の電荷を持
つよう制御する、ことを特徴とするものである。これに
より、液切りナイフ下流にて、液切りによって発生した
水滴と液晶ディスプレイ用基板とが静電気によって反発
して、液晶ディスプレイ用基板に水滴が再付着するのを
防止し、その結果、基板不良の発生率を低下させて、長
期にわたって安定した特性を有する液晶ディスプレイ用
基板を製造することができる。

【００１５】本発明の請求項７に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法では、ニュートラル室より薬液処理室
に液晶ディスプレイ用基板を搬送して、該搬送された液
晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射し
て薬液処理を行い、上記薬液処理された液晶ディスプレ
イ用基板を液切り処理室に搬送して、該搬送された液晶
ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナイフ
を用いて除去し、上記薬液除去された液晶ディスプレイ
用基板を水洗処理室に搬送し、該搬送された液晶ディス
プレイ用基板に水洗シャワーよりイオン水を噴射して水
洗処理を行い、上記水洗処理された液晶ディスプレイ用
基板を乾燥室に搬送して、該搬送された液晶ディスプレ
イ用基板に付着している水滴を液切りナイフを用いて除
去するとともに、基板用電荷制御手段により上記液晶デ
ィスプレイ用基板に上記水の電荷と同極の電荷を持つよ
う制御する、ことを特徴とするものである。これによ
り、液切りナイフ下流にて、液切りによって発生した水
滴と液晶ディスプレイ用基板とが静電気によって反発し
て、液晶ディスプレイ用基板に水滴が再付着するのを防
止し、その結果、基板不良の発生率を低下させて、長期
にわたって安定した特性を有する液晶ディスプレイ用基
板を製造することができる。

【００１６】本発明の請求項８に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法では、請求項６または請求項７に記載
の液晶ディスプレイ用基板製造方法において、上記乾燥
室の側壁は、上記水及び液晶ディスプレイ用基板の電荷
と逆極の電荷を持つものである、ことを特徴とするもの
である。これにより、静電気により反発した水を乾燥室
の側壁に引きつけ、液晶ディスプレイ用基板に水滴が再
付着するのを防止する。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。なお、ここで示す実施
の形態はあくまでも一例であって、必ずしもこれに限定
されるものではない。

【００１８】（実施の形態１）以下に、本実施の形態１
による液晶ディスプレイ用基板製造装置について説明す
る。図１は、本実施の形態１による液晶ディスプレイ用
基板製造装置の概略構成図である。

【００１９】図１において、液晶ディスプレイ用基板製
造装置は、ニュートラル室１と、薬液シャワー１４を備
えた薬液処理室２と、液切り処理室３と、水洗シャワー
１５を備えた水洗処理室４と、排気口８及び高圧ガス吹
き付け手段１８を備えた乾燥室５と、を設けたものであ
り、基板搬送方向９に従って液晶ディスプレイ用基板７
を搬送する。なお、搬送方法は、上記各処理室に搬送ロ
ーラー１３が設けられており、この搬送ローラ１３を用
いて液晶ディスプレイ用基板７を搬送する。

【００２０】以下に、液晶ディスプレイ用基板製造方法
について説明する。まず、ニュートラル室１より、液晶
ディスプレイ用基板７を１枚ずつ薬液処理室２へ搬送す
る。次に、薬液処理室２は、液晶ディスプレイ用基板７
に対し薬液シャワー１４より薬液を噴射して、液晶ディ
スプレイ用基板７の薬液処理（洗浄、エッチング、レジ
スト剥離）を行う。そして、液切り処理室３へ搬送す
る。

【００２１】次に、液切り処理室３は、液切りナイフ６
により、薬液処理された液晶ディスプレイ用基板７の表
面に付着している薬液の除去を行う。そして、水洗処理
室４へ搬送する。次に、水洗処理室４は、水洗シャワー
１５より水を噴射し、薬液除去された液晶ディスプレイ
用基板７を水洗する。そして、乾燥室５へ搬送する。次
に、乾燥室５は、液切りナイフ６により、水洗処理され
た液晶ディスプレイ用基板７の表面に付着している水滴
を除去する。このとき、高圧ガス吹き付け手段１８によ
り高圧ガスを吹き付ける。

【００２２】ここで、高圧ガス吹き付け手段１８として
図２に示すように高圧ガスノズル１０を設置した場合に
ついて説明する。図２（ａ）は乾燥室５の側面図、図２
（ｂ）は乾燥室５の搬送方向下流側から見た断面図であ
る。

【００２３】図２（ａ）に示すように、液切りナイフ６
の基板搬送方向９下流側の基板搬送通路９の両側または
片側に高圧ガスノズル１０を設置し、図２（ｂ）に示す
ように上記液晶ディスプレイ用基板直上でかつ、上記液
晶ディスプレイ用基板に対して水平もしくは上方に向け
て、高圧ガスを吹き付ける。このようにすれば、高圧ガ
スの気流１９により液晶ディスプレイ用基板７に水滴が
再付着するのを防ぐ。

【００２４】このような実施の形態１による液晶ディス
プレイ製造装置では、乾燥室５に、液切りナイフ６下流
の基板搬送通路の両側または片側から、液晶ディスプレ
イ用基板７直上でかつ、液晶ディスプレイ用基板７に対
して水平もしくは上方に向けて高圧ガスを吹き付ける高
圧ガスノズル１０を備えたことより、高圧ガスにより液
晶ディスプレイ用基板７上に強制的に気流１６を作り、
水滴が液晶ディスプレイ用基板７に再付着するのを防止
し、その結果、従来のように製造途中で基板表面に再付
着した水滴で薄膜が腐食、劣化、損傷などを生ずること
がなくなり、基板の不良発生率を低下させることがで
き、歩留まりの向上、しかも特性が安定して、この基板
を液晶ディスプレイに用いて表示させた場合に、長期に
わたって画像ムラやトランジスタ部の動作不良の発生を
抑制することができる。

【００２５】（実施の形態２）以下に、本実施の形態２
による液晶ディスプレイ用基板製造装置について説明す
る。図３は、本実施の形態２による液晶ディスプレイ用
基板製造装置の概略構成図である。

【００２６】図３において、１１は、水に電荷を持つよ
う制御する水用電荷制御装置である。１２は、液晶ディ
スプレイ用基板７に水の電荷と同極の電荷を持つよう制
御する基板用電荷制御装置であり、基板搬送方向９下流
に設置される。なお、図３において、図１と同一または
相当する構成要素については同じ符号を用い、その説明
を省略する。

【００２７】以下に、液晶ディスプレイ用基板製造方法
について説明する。まず、ニュートラル室１より、液晶
ディスプレイ用基板７を１枚ずつ薬液処理室２へ搬送す
る。次に、薬液処理室２は、液晶ディスプレイ用基板７
に対し薬液シャワー１４より薬液を噴射して、液晶ディ
スプレイ用基板７の薬液処理（洗浄、エッチング、レジ
スト剥離）を行う。そして、液切り処理室３へ搬送す
る。

【００２８】次に、液切り処理室３は、液切りナイフ６
により、薬液処理された液晶ディスプレイ用基板７の表
面に付着している薬液の除去を行う。そして、水洗処理
室４へ搬送する。

【００２９】次に、水洗処理室４は、水洗シャワー１５
より水を噴射し、薬液除去された液晶ディスプレイ用基
板７を水洗するとともに、水用電荷制御装置１１により
水に電荷を持つよう制御する。そして、乾燥室５へ搬送
する。

【００３０】次に、乾燥室５は、液切りナイフ６によ
り、水洗処理された液晶ディスプレイ用基板７の表面に
付着している水滴を除去するとともに、基板用電荷制御
装置１２により液晶ディスプレイ用基板７に水の電荷と
同極の電荷を持つよう制御する。

【００３１】このような実施の形態２による液晶ディス
プレイ用基板製造装置では、水洗処理室４に水用電荷制
御装置１１を、乾燥室５に基板用電荷制御装置１２を取
り付けることより、液切りナイフ下流にて、液切りによ
って発生した水滴と基板７とが静電気によって反発し、
液晶ディスプレイ用基板７に水滴が再付着するのを防止
でき、その結果、従来のように製造途中で基板表面に再
付着した水滴で薄膜が腐食、劣化、損傷などを生ずるこ
とがなくなり、基板の不良発生率を低下させることがで
き、歩留まりの向上、しかも特性が安定して、この基板
７を液晶ディスプレイに用いて表示させた場合に、長期
にわたって画像ムラやトランジスタ部の動作不良の発生
を抑制することができる。

【００３２】（実施の形態３）以下に、本実施の形態３
による液晶ディスプレイ用基板製造装置について説明す
る。図４は、本実施の形態３による液晶ディスプレイ用
基板製造装置の概略構成図である。図４において、１７
はイオン水である。なお、図４において、図３と同一ま
たは相当する構成要素については同じ符号を用い、その
説明を省略する。

【００３３】以下に、液晶ディスプレイ用基板製造方法
について説明する。まず、ニュートラル室１より、液晶
ディスプレイ用基板７を１枚ずつ薬液処理室２へ搬送す
る。次に、薬液処理室２は、液晶ディスプレイ用基板７
に対し薬液シャワー１４より薬液を噴射して、液晶ディ
スプレイ用基板７の薬液処理（洗浄、エッチング、レジ
スト剥離）を行う。そして、液切り処理室３へ搬送す
る。

【００３４】次に、液切り処理室３は、液切りナイフ６
により、薬液処理された液晶ディスプレイ用基板７の表
面に付着している薬液の除去を行う。そして、水洗処理
室４へ搬送する。次に、水洗処理室４は、水洗シャワー
１５よりイオン水を噴射し、薬液除去された液晶ディス
プレイ用基板７を水洗する。そして、乾燥室５へ搬送す
る。次に、乾燥室５は、液切りナイフ６により、水洗処
理された液晶ディスプレイ用基板７の表面に付着してい
る水滴を除去するとともに、基板用電荷制御装置１２に
より液晶ディスプレイ用基板７に水の電荷と同極の電荷
を持つよう制御する。

【００３５】このような実施の形態３による液晶ディス
プレイ用基板製造装置では、洗浄水にイオン水１７を使
用し、乾燥室５に基板用電荷制御装置１２を取りつけた
ことより、液切りナイフ下流にて、液切りによって発生
した水滴と液晶ディスプレイ用基板７とが静電気によっ
て反発し、液晶ディスプレイ用基板７に水滴が再付着す
るのを防ぐことができ、その結果、従来のように製造途
中で基板表面に再付着した水滴で薄膜が腐食、劣化、損
傷などを生ずることがなくなり、基板の不良発生率を低
下させることができ、歩留まりの向上、しかも特性が安
定して、この基板を液晶ディスプレイに用いて表示させ
た場合に、長期にわたって画像ムラやトランジスタ部の
動作不良の発生を抑制することができる。

【００３６】なお、実施の形態２及び実施の形態３にお
いて、乾燥室５の側壁を水滴と逆極の電荷を持つように
すれば、水滴が乾燥室の側壁に静電気によって引きよせ
られ、さらなる効果を得ることができる。

【００３７】

【発明の効果】本発明の請求項１に記載の液晶ディスプ
レイ用基板製造装置によれば、ニュートラル室より搬送
された液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液
を噴射して薬液処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理
された液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液
切りナイフを用いて除去する液切り処理室と、水洗シャ
ワーより水を噴射して上記薬液処理後の液晶ディスプレ
イ用基板の水洗処理を行う水洗処理室と、上記水洗処理
後の液晶ディスプレイ用基板に付着している水滴を液切
りナイフを用いて除去して乾燥する乾燥室と、を備えた
液晶ディスプレイ用基板製造装置であって、上記乾燥室
は、上記液切りナイフ下流の基板搬送通路の両側または
片側から、上記液晶ディスプレイ用基板直上でかつ、上
記液晶ディスプレイ用基板に対して水平もしくは上方に
向けて高圧ガスを吹き付ける高圧ガス吹き付け手段を有
することより、高圧ガスにより液晶ディスプレイ用基板
上に強制的に気流を作り、水滴が液晶ディスプレイ用基
板に再付着するのを防止し、その結果、基板不良の発生
率を低下させて、長期にわたって安定した特性を有する
液晶ディスプレイ用基板を製造することができる。

【００３８】本発明の請求項２に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造装置によれば、ニュートラル室より搬送さ
れた液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を
噴射して薬液処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理さ
れた液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切
りナイフを用いて除去する液切り処理室と、水洗シャワ
ーより水を噴射して上記薬液処理後の液晶ディスプレイ
用基板の水洗処理を行う水洗処理室と、上記水洗処理後
の液晶ディスプレイ用基板に付着している水滴を液切り
ナイフを用いて除去して乾燥する乾燥室と、を備えた液
晶ディスプレイ用基板製造装置であって、上記水洗処理
室は、水に電荷を持つよう制御する水用電荷制御手段を
有し、上記乾燥室は、上記液晶ディスプレイ用基板に上
記水の電荷と同極の電荷を持つよう制御する基板用電荷
制御手段を有し、該基板用電荷制御手段を、基板搬送方
向下流に設置することより、液切りナイフ下流にて、液
切りによって発生した水滴と液晶ディスプレイ用基板と
が静電気によって反発して、液晶ディスプレイ用基板に
水滴が再付着するのを防止し、その結果、基板不良の発
生率を低下させて、長期にわたって安定した特性を有す
る液晶ディスプレイ用基板を製造することができる。

【００３９】本発明の請求項３に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造装置では、ニュートラル室より搬送された
液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射
して薬液処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理された
液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナ
イフを用いて除去する液切り処理室と、水洗シャワーよ
りイオン水を噴射して上記薬液処理後の液晶ディスプレ
イ用基板の水洗処理を行う水洗処理室と、上記液晶ディ
スプレイ用基板に上記イオン水の電荷と同極の電荷を持
つよう制御する基板用電荷制御手段を有し、上記水洗処
理後の液晶ディスプレイ用基板に付着している水滴を液
切りナイフを用いて除去して乾燥する乾燥室と、を備え
たことより、液切りナイフ下流にて、液切りによって発
生した水滴と液晶ディスプレイ用基板とが静電気によっ
て反発して、液晶ディスプレイ用基板に水滴が再付着す
るのを防止し、その結果、基板不良の発生率を低下させ
て、長期にわたって安定した特性を有する液晶ディスプ
レイ用基板を製造することができる。

【００４０】本発明の請求項４に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造装置によれば、請求項２または請求項３に
記載の液晶ディスプレイ用基板製造装置において、上記
乾燥室の側壁は、上記水及び液晶ディスプレイ用基板の
電荷と逆極の電荷を持つものであることより、静電気に
より反発した水を乾燥室の側壁に引きつけ、液晶ディス
プレイ用基板に水滴が再付着するのを防止することがで
きる。

【００４１】本発明の請求項５に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法によれば、ニュートラル室より薬液処
理室に液晶ディスプレイ用基板を搬送して、該搬送され
た液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴
射して薬液処理を行い、上記薬液処理された液晶ディス
プレイ用基板を液切り処理室に搬送して、該搬送された
液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナ
イフを用いて除去し、上記薬液除去された液晶ディスプ
レイ用基板を水洗処理室に搬送し、該搬送された液晶デ
ィスプレイ用基板に水洗シャワーより水を噴射して水洗
処理を行い、上記水洗処理された液晶ディスプレイ用基
板を乾燥室に搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ
用基板に付着している水滴を液切りナイフを用いて除去
するとともに、高圧ガス吹き付け手段により上記液切り
ナイフ下流の基板搬送通路の両側または片側から、上記
液晶ディスプレイ用基板直上でかつ、上記液晶ディスプ
レイ用基板に対して水平もしくは上方に向けて高圧ガス
を吹き付けて乾燥するようにしたので、高圧ガスにより
液晶ディスプレイ用基板上に強制的に気流を作り、水滴
が液晶ディスプレイ用基板に再付着するのを防止し、そ
の結果、基板不良の発生率を低下させて、長期にわたっ
て安定した特性を有する液晶ディスプレイ用基板を製造
することができる。

【００４２】本発明の請求項６に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法によれば、ニュートラル室より薬液処
理室に液晶ディスプレイ用基板を搬送して、該搬送され
た液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴
射して薬液処理を行い、上記薬液処理された液晶ディス
プレイ用基板を液切り処理室に搬送して、該搬送された
液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナ
イフを用いて除去し、上記薬液除去された液晶ディスプ
レイ用基板を水洗処理室に搬送し、該搬送された液晶デ
ィスプレイ用基板に水洗シャワーより水を噴射して水洗
処理を行うとともに、水用電荷制御手段により上記水に
電荷を持つよう制御し、上記水洗処理された液晶ディス
プレイ用基板を乾燥室に搬送して、該搬送された液晶デ
ィスプレイ用基板に付着している水滴を液切りナイフを
用いて除去するとともに、基板用電荷制御手段により上
記液晶ディスプレイ用基板に上記水の電荷と同極の電荷
を持つよう制御するようにしたので、液切りナイフ下流
にて、液切りによって発生した水滴と液晶ディスプレイ
用基板とが静電気によって反発して、液晶ディスプレイ
用基板に水滴が再付着するのを防止し、その結果、基板
不良の発生率を低下させて、長期にわたって安定した特
性を有する液晶ディスプレイ用基板を製造することがで
きる。

【００４３】本発明の請求項７に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法によれば、ニュートラル室より薬液処
理室に液晶ディスプレイ用基板を搬送して、該搬送され
た液晶ディスプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴
射して薬液処理を行い、上記薬液処理された液晶ディス
プレイ用基板を液切り処理室に搬送して、該搬送された
液晶ディスプレイ用基板に付着している薬液を液切りナ
イフを用いて除去し、上記薬液除去された液晶ディスプ
レイ用基板を水洗処理室に搬送し、該搬送された液晶デ
ィスプレイ用基板に水洗シャワーよりイオン水を噴射し
て水洗処理を行い、上記水洗処理された液晶ディスプレ
イ用基板を乾燥室に搬送して、該搬送された液晶ディス
プレイ用基板に付着している水滴を液切りナイフを用い
て除去するとともに、基板用電荷制御手段により上記液
晶ディスプレイ用基板に上記水の電荷と同極の電荷を持
つよう制御するようにしたので、液切りナイフ下流に
て、液切りによって発生した水滴と液晶ディスプレイ用
基板とが静電気によって反発して、液晶ディスプレイ用
基板に水滴が再付着するのを防止し、その結果、基板不
良の発生率を低下させて、長期にわたって安定した特性
を有する液晶ディスプレイ用基板を製造することができ
る。

【００４４】本発明の請求項８に記載の液晶ディスプレ
イ用基板製造方法によれば、請求項６または請求項７に
記載の液晶ディスプレイ用基板製造方法において、上記
乾燥室の側壁は、上記水及び液晶ディスプレイ用基板の
電荷と逆極の電荷を持つものであることより、静電気に
より反発した水を乾燥室の側壁に引きつけ、液晶ディス
プレイ用基板に水滴が再付着するのを防止する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１による液晶ディスプレイ
用基板製造装置の概略構成図である。

【図２】本発明の実施の形態１による液晶ディスプレイ
用基板製造装置における、高圧ガス吹き付け手段を設け
た乾燥室の概略構成図である。

【図３】本発明の実施の形態２による液晶ディスプレイ
用基板製造装置の概略構成図である。

【図４】本発明の実施の形態３による液晶ディスプレイ
用基板製造装置の概略構成図である。

【図５】従来の液晶ディスプレイ用基板製造装置の概略
構成図である。

【符号の説明】

１ ニュートラル室 ２ 薬液処理室 ３ 液切り処理室 ４ 水洗処理室 ５ 乾燥室 ６ 液切りナイフ ７ 液晶ディスプレイ用基板 ８ 排気口 ９ 基板搬送方向 １０ 高圧ガスノズル １１ 水用電荷制御装置 １２ 基板用電荷制御装置 １３ 搬送ローラー １４ 薬液シャワー １５ 水洗シャワー １６ 気流 １７ イオン水 １８ 高圧ガス吹き付け手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H088 FA21 FA30 MA20 2H090 JC19 JD00 3B201 AA02 AB14 BB21 BB89 CC01 CC12 4G059 AA08 AC30 5G435 AA17 BB12 KK05 KK10

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ニュートラル室より搬送された液晶ディ
   スプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射して薬液
   処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理された液晶ディ
   スプレイ用基板に付着している薬液を液切りナイフを用
   いて除去する液切り処理室と、水洗シャワーより水を噴
   射して上記薬液処理後の液晶ディスプレイ用基板の水洗
   処理を行う水洗処理室と、上記水洗処理後の液晶ディス
   プレイ用基板に付着している水滴を液切りナイフを用い
   て除去して乾燥する乾燥室と、を備えた液晶ディスプレ
   イ用基板製造装置であって、 上記乾燥室は、上記液切りナイフ下流の基板搬送通路の
   両側または片側から、上記液晶ディスプレイ用基板直上
   でかつ、上記液晶ディスプレイ用基板に対して水平もし
   くは上方に向けて高圧ガスを吹き付ける高圧ガス吹き付
   け手段を有する、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造装置。
2. 【請求項２】 ニュートラル室より搬送された液晶ディ
   スプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射して薬液
   処理を行う薬液処理室と、上記薬液処理された液晶ディ
   スプレイ用基板に付着している薬液を液切りナイフを用
   いて除去する液切り処理室と、水洗シャワーより水を噴
   射して上記薬液処理後の液晶ディスプレイ用基板の水洗
   処理を行う水洗処理室と、上記水洗処理後の液晶ディス
   プレイ用基板に付着している水滴を液切りナイフを用い
   て除去して乾燥する乾燥室と、を備えた液晶ディスプレ
   イ用基板製造装置であって、 上記水洗処理室は、水に電荷を持つよう制御する水用電
   荷制御手段を有し、 上記乾燥室は、上記液晶ディスプレイ用基板に上記水の
   電荷と同極の電荷を持つよう制御する基板用電荷制御手
   段を有し、該基板用電荷制御手段を、基板搬送方向下流
   に設置する、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造装置。
3. 【請求項３】 ニュートラル室より搬送された液晶ディ
   スプレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射して薬液
   処理を行う薬液処理室と、 上記薬液処理された液晶ディスプレイ用基板に付着して
   いる薬液を液切りナイフを用いて除去する液切り処理室
   と、 水洗シャワーよりイオン水を噴射して上記薬液処理後の
   液晶ディスプレイ用基板の水洗処理を行う水洗処理室
   と、 上記液晶ディスプレイ用基板に上記イオン水の電荷と同
   極の電荷を持つよう制御する基板用電荷制御手段を有
   し、上記水洗処理後の液晶ディスプレイ用基板に付着し
   ている水滴を液切りナイフを用いて除去して乾燥する乾
   燥室と、を備えた、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造装置。
4. 【請求項４】 請求項２または請求項３に記載の液晶デ
   ィスプレイ用基板製造装置において、 上記乾燥室の側壁は、上記水及び液晶ディスプレイ用基
   板の電荷と逆極の電荷を持つものである、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造装置。
5. 【請求項５】 ニュートラル室より薬液処理室に液晶デ
   ィスプレイ用基板を搬送して、該搬送された液晶ディス
   プレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射して薬液処
   理を行い、 上記薬液処理された液晶ディスプレイ用基板を液切り処
   理室に搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ用基板
   に付着している薬液を液切りナイフを用いて除去し、 上記薬液除去された液晶ディスプレイ用基板を水洗処理
   室に搬送し、該搬送された液晶ディスプレイ用基板に水
   洗シャワーより水を噴射して水洗処理を行い、 上記水洗処理された液晶ディスプレイ用基板を乾燥室に
   搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ用基板に付着
   している水滴を液切りナイフを用いて除去するととも
   に、高圧ガス吹き付け手段により上記液切りナイフ下流
   の基板搬送通路の両側または片側から、上記液晶ディス
   プレイ用基板直上でかつ、上記液晶ディスプレイ用基板
   に対して水平もしくは上方に向けて高圧ガスを吹き付け
   て乾燥する、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造方法。
6. 【請求項６】 ニュートラル室より薬液処理室に液晶デ
   ィスプレイ用基板を搬送して、該搬送された液晶ディス
   プレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射して薬液処
   理を行い、 上記薬液処理された液晶ディスプレイ用基板を液切り処
   理室に搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ用基板
   に付着している薬液を液切りナイフを用いて除去し、 上記薬液除去された液晶ディスプレイ用基板を水洗処理
   室に搬送し、該搬送された液晶ディスプレイ用基板に水
   洗シャワーより水を噴射して水洗処理を行うとともに、
   水用電荷制御手段により上記水に電荷を持つよう制御
   し、 上記水洗処理された液晶ディスプレイ用基板を乾燥室に
   搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ用基板に付着
   している水滴を液切りナイフを用いて除去するととも
   に、基板用電荷制御手段により上記液晶ディスプレイ用
   基板に上記水の電荷と同極の電荷を持つよう制御する、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造方法。
7. 【請求項７】 ニュートラル室より薬液処理室に液晶デ
   ィスプレイ用基板を搬送して、該搬送された液晶ディス
   プレイ用基板に薬液シャワーより薬液を噴射して薬液処
   理を行い、 上記薬液処理された液晶ディスプレイ用基板を液切り処
   理室に搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ用基板
   に付着している薬液を液切りナイフを用いて除去し、 上記薬液除去された液晶ディスプレイ用基板を水洗処理
   室に搬送し、該搬送された液晶ディスプレイ用基板に水
   洗シャワーよりイオン水を噴射して水洗処理を行い、 上記水洗処理された液晶ディスプレイ用基板を乾燥室に
   搬送して、該搬送された液晶ディスプレイ用基板に付着
   している水滴を液切りナイフを用いて除去するととも
   に、基板用電荷制御手段により上記液晶ディスプレイ用
   基板に上記水の電荷と同極の電荷を持つよう制御する、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造方法。
8. 【請求項８】 請求項６または請求項７に記載の液晶デ
   ィスプレイ用基板製造方法において、 上記乾燥室の側壁は、上記水及び液晶ディスプレイ用基
   板の電荷と逆極の電荷を持つものである、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用基板製造方法。