JP2001021872A - 液晶ディスプレイ用基板の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶ディスプレイ用基板の薬液処理後の液切
りナイフによる液切り乾燥において、基板裏面の液切り
により除去した水滴が基板表面に再付着して薄膜が腐
食，劣化するのを防止し、ディスプレイとしての信頼性
を向上する。 【解決手段】 乾燥室に、搬送される液晶ディスプレイ
用基板９を介して上下に、ガスを吹き付けて液を除去す
る一対若しくは複数対の液切りナイフ６，７を配置し、
かつ上段の液切りナイフ６は、下段の液切りナイフ７に
対して液晶ディスプレイ用基板９の搬送方向１４の下流
側に位置をずらせて配置する。搬送される液晶ディスプ
レイ用基板が下段ナイフ７の作用領域１３から外れて
も、基板上面は上段ナイフの作用領域１２にあり、水滴
の基板表面への再付着を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
用基板の製造に用いられる液を用いた枚葉式洗浄装置、
あるいは枚葉式エッチング装置、あるいは枚葉式レジス
ト剥離装置などに適用され、特に乾燥方法として液切り
ナイフ方式を採用し、基板裏面に付着している液を除去
するときに、この水滴が基板表面に再付着することを防
止するために有効な液晶ディスプレイ用基板の製造装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ用基板の製造装置にお
ける製造過程には、薬液を用いて基板に対して洗浄処理
を行う洗浄装置、基板に対してフォトリソグラフィによ
って形成された所定のパターンのエッチング処理を行う
エッチング装置、パターニングのためにフォトリソグラ
フィにて被エッチング部をカバーリングしたレジストを
エッチングによってパターニング処理後、上記基板上の
レジストを除去するための剥離処理を行うレジスト剥離
装置が設置されて連続的に各種処理が行われる。

【０００３】図５は、従来の薬液を用いた洗浄装置、エ
ッチング装置、レジスト剥離装置等の基本的な構成図で
あり、各装置の工程は基本的に同様なものであるのでそ
の一例を示す。図５において、液晶ディスプレイ用基板
９は、ニュートラル室１から１枚ずつ薬液処理室２に搬
送されて、薬液による基板の処理（洗浄、エッチング、
レジスト剥離等）が行われる。薬液処理後に液晶ディス
プレイ用基板９は、液切り処理室３において薬液が除去
された後、水洗処理室４において水洗され、乾燥室５に
搬送され、液切りナイフにより基板表面及び裏面が液切
り乾燥される。

【０００４】このとき、図６に示すように、上段の液切
りナイフ（以下、上段ナイフと記す）６と下段の液切り
ナイフ（以下、下段ナイフと記す）７は、その取り付け
位置を表すセンターずれ量８が零となる同一位置に設置
され、図７に示すように、上段ナイフ６のガス領域１０
と下段ナイフ７のガス領域１１とによってそれぞれ決ま
る上段ナイフの作用領域１２と下段ナイフの作用領域１
３とが同一位置となる。このため、液晶ディスプレイ用
基板９が搬送方向１４に進んで、上段ナイフの作用領域
１２と下段ナイフの作用領域１３から液晶ディスプレイ
用基板９が同時に外れるので、下段ナイフ７によって除
去された薬液の水滴が液晶ディスプレイ用基板９の表面
に再付着することがある。

【０００５】また、上段ナイフの吹付けガス１５となる
窒素、あるいは空気の流量，圧力と、下段ナイフの吹付
けガス１６の流量，圧力とが同一であるため、下段ナイ
フ７にて基板裏面の液を除去したときの水滴が基板表面
に再付着することがある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、前記従来
の洗浄装置、エッチング装置、剥離装置では、液切りナ
イフによる乾燥をするとき、基板裏面に付着した液を下
段ナイフによって除去したときにこの一部分が、水滴と
なって基板表面に再付着することがあり、この水滴は、
基板表面に形成された薄膜と化学反応などを引き起こす
恐れがある。この化学反応は基板上に形成された薄膜を
腐食、あるいは変質させ、これが起因して液晶ディスプ
レイ用基板を使用してディスプレイ表示を行ったとき
に、画像むらや薄膜トランジスタの動作不良などを発生
させ、画質を低下させたり、あるいは表示の信頼性に問
題を生じさせることになる。

【０００７】本発明は、前記従来の問題点を解決し、良
好な乾燥処理が行われ、液晶ディスプレイ用基板の不良
を無くすようにした液晶ディスプレイ用基板の製造装置
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、薬液を用いて処理した液晶ディスプレイ
用基板を液切りナイフを用いて液切り乾燥させるとき、
基板裏面に付着している液が除去されて水滴となって基
板表面に再付着しないように、上段ナイフの取付位置を
下段ナイフより下流側に設置し、また、下段ナイフの吹
付けガスの流量、あるいは圧力を上段ナイフより低下さ
せることで、液晶ディスプレイ用基板上に形成された薄
膜などの特性を低下、あるいは劣化させることを防止す
るようにした。

【０００９】すなわち、本発明の請求項１に記載の発明
は、液晶ディスプレイ用基板に対する液処理室と、液処
理後に液切りナイフによる液切り乾燥を行う乾燥室とを
備えた液晶ディスプレイ用基板の製造装置であって、前
記乾燥室は、搬送される液晶ディスプレイ用基板を介し
て上下に、ガスを吹き付けて液を除去する一対若しくは
複数対の液切りナイフが配置されており、かつ各対の上
段の液切りナイフは、下段の液切りナイフに対して液晶
ディスプレイ用基板の搬送方向下流側に位置をずらせて
配置されていることを特徴とする。

【００１０】各対の上段と下段の液切りナイフの位置関
係は、液晶ディスプレイ用基板が存在しないとき、上段
の液切りナイフのガス領域と下段の液切りナイフのガス
領域が液晶ディスプレイ用基板の下面と略同一平面以下
で交差し、かつ上段の液切りナイフのガス領域が直接下
段の液切りナイフにかからないような位置とすることが
好ましい。

【００１１】また、液切りナイフは、その先端から、搬
送される液晶ディスプレイ用基板に対して空気もしくは
窒素ガスを吹き付ける手段を有し、各対の上段の液切り
ナイフのガス圧力を、下段の液切りナイフのガス圧力よ
り強くすることも好ましい。

【００１２】上記構成によれば、下段ナイフによって、
基板裏面の液が除去され、これが水滴となって液晶ディ
スプレイ用基板表面上に再付着することを防止すること
ができ、したがって、基板不良の発生率を低下させて、
長期にわたって安定した特性を有する液晶ディスプレイ
用基板を製造することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１４】図１は、本発明の実施の形態における液晶
ディスプレイ用基板の製造装置を示したもので、基本的
に同様な構成を有する洗浄装置、エッチング装置、レジ
スト剥離装置等に適用される。１はニュートラル室、２
は薬液処理室、３は液切り処理室、４は水洗処理室、５
は乾燥室、６は上段ナイフ、７は下段ナイフである。

【００１５】このような構成において、液晶ディスプレ
イ用基板９は、ニュートラル室１から１枚ずつ薬液処理
室２に搬送されて、薬液による基板の処理が行なわれ
る。薬液処理後に液晶ディスプレイ用基板９は、液切り
処理室３において薬液が除去された後、水洗処理室４に
おいて水洗され、乾燥室５に搬送されて、液切りナイフ
により基板表面及び裏面が液切り乾燥される。

【００１６】ここで、本実施の形態では、図２に示すよ
うに、上段ナイフ６の取り付け位置を、下段ナイフ７の
取り付け位置に対して、各ナイフのセンターずれ量８だ
け液晶ディスプレイ用基板の搬送方向１４下流側にずら
せて設置する。このため、上段ナイフ６より下段ナイフ
7の方が先に処理を終了し、基板裏面に付着していた液
を下段ナイフ７により除去し終えた時点でも、上段ナイ
フ6は基板表面に付着した液の除去を継続している。こ
れによって基板裏面から除去された水滴が、基板表面に
再付着するのを防止することができ、したがって、基板
表面及び裏面とも、完全に水滴が除去された状態にな
る。

【００１７】図３は、その水滴を完全に除去する処理を
さらに詳細に示したものである。上段と下段との液切り
ナイフの位置関係は、液晶ディスプレイ用基板が存在し
ないとき、上段ナイフ６のガス領域１０と下段ナイフ７
のガス領域１１が液晶ディスプレイ用基板９の下面と略
同一平面以下で交差するようにし、かつ上段ナイフ６の
ガス領域１０が直接下段ナイフ７にかからないような位
置としている。

【００１８】このような位置関係にすると、液晶ディス
プレイ用基板９の下面が下段ナイフのガス領域１１を通
って基板搬送方向１４に進み、下段ナイフの作用領域１
３から外れても、液晶ディスプレイ用基板９の上面は上
段ナイフの作用領域１２にあり、なおかつ、上段ナイフ
の吹付けガス１５の流量，圧力に対し、下段ナイフの吹
付けガス１６の流量，圧力を基板裏面の液切り状態が不
十分とならない程度に低下させることにより、下段ナイ
フ７により基板裏面の液を除去したときの水滴が基板表
面に再付着するのを防止することができる。

【００１９】前記のように製造された基板では、従来の
ように製造途中で基板表面に再付着した水滴で薄膜が腐
食，劣化，損傷などを生ずるようなことがなくなり、基
板の不良発生率を低下させることができ、歩留まりの向
上、しかも特性が安定化して、この基板を液晶ディスプ
レイに用いて表示させた場合に、長期にわたって画像む
らやトランジスタ部の動作不良の発生を抑制することが
できる。

【００２０】なお、実施の形態では、上段ナイフ６と下
段ナイフ７と一対備えた場合について説明したが、図４
に示す本発明の他の実施の形態のように、二対、または
それ以上の複数対を有するものであってもよい。これに
より、より効果的に乾燥効果を得ることができる。

【００２１】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、従来の、
液を用いた枚葉式洗浄装置、枚葉式エッチング装置、枚
葉式レジスト剥離装置などの液晶ディスプレイ用基板の
製造装置において問題であった、下段ナイフが除去した
水滴が基板表面に再付着することを防止することがで
き、このため基板表面の薄膜の水滴による腐食，変質，
損傷をなくし、基板の不良発生を低下させて歩留まりを
向上させ、しかも特性が安定化するため、この基板を液
晶ディスプレイに用いて表示させた場合に、長期にわた
って画像むらやトランジスタ部の動作不良の発生を抑制
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態における液晶ディスプレイ
用基板の製造装置の概略構成図

【図２】本発明の実施の形態における上下ナイフの設置
位置を示す図

【図３】本発明の実施の形態における作用を説明する図

【図４】本発明の他の実施の形態における上下ナイフの
配置を示す図

【図５】従来例の液晶ディスプレイ用基板の製造装置の
概略構成図

【図６】従来例の上下ナイフの設置位置を示す図

【図７】従来例の作用を説明する図

【符号の説明】

１ ニュートラル室 ２ 薬液処理室 ３ 液切り処理室 ４ 水洗処理室 ５ 乾燥室 ６ 上段ナイフ ７ 下段ナイフ ８ 上段ナイフと下段ナイフのセンターずれ量 ９ 液晶ディスプレイ用基板 １０ 上段ナイフのガス領域 １１ 下段ナイフのガス領域 １２ 上段ナイフの作用領域 １３ 下段ナイフの作用領域 １４ 基板搬送方向 １５，１６ 吹付けガス

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶ディスプレイ用基板に対する液処理
   室と、液処理後に液切りナイフによる液切り乾燥を行う
   乾燥室とを備えた液晶ディスプレイ用基板の製造装置で
   あって、前記乾燥室は、搬送される液晶ディスプレイ用
   基板を介して上下に、ガスを吹き付けて液を除去する一
   対若しくは複数対の液切りナイフが配置されており、か
   つ各対の上段の液切りナイフは、下段の液切りナイフよ
   りも液晶ディスプレイ用基板の搬送方向下流側に位置し
   ていることを特徴とする液晶ディスプレイ用基板の製造
   装置。
2. 【請求項２】 各対の上段と下段の液切りナイフの位置
   関係は、液晶ディスプレイ用基板が存在しないとき、上
   段の液切りナイフのガス領域と下段の液切りナイフのガ
   ス領域が液晶ディスプレイ用基板の下面と略同一平面以
   下で交差し、かつ上段の液切りナイフのガス領域が直接
   下段の液切りナイフにかからないような位置とすること
   を特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ用基板の
   製造装置。
3. 【請求項３】 液切りナイフは、その先端から、搬送さ
   れる液晶ディスプレイ用基板に対して空気もしくは窒素
   ガスを吹き付ける手段を有し、各対の上段の液切りナイ
   フのガス圧力を、下段の液切りナイフのガス圧力より強
   くしたことを特徴とする請求項１または請求項２記載の
   液晶ディスプレイ用基板の製造装置。