KR100608452B1 - 플라즈마를 이용한 tft-lcd 세정방법 및 이를이용한 tft-lcd제조장비 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (11)
- TFT-LCD를 반송수단에 로딩하는 단계;상기 반송수단에 의해 상기 TFT-LCD를 일방향으로 진행시키면서, 상기 TFT-LCD 표면에 오염된 유기물을 제거 또는 적어도 활성 상태로 여기할 수 있도록, 상기 TFT-LCD의 표면을 플라즈마 처리하는 단계;상기 TFT-LCD를 계속 진행시키면서, 상기 TFT-LCD에 액체를 분사함으로써, 상기 플라즈마 처리에 의하여 여기된 유기물을 제거하는 단계; 및상기 TFT-LCD를 계속 진행시키면서, 상기 TFT-LCD 상의 잔류하는 액체를 건조시키는 단계를 포함하여, 하나의 TFT-LCD에 대하여 전단에서 세정 또는 세정 및 건조 작업이 진행되는 동안 후단에서 플라즈마 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정방법.
- 제1항에 있어서, 상기 액체를 건조시키는 단계 이후,상기 TFT-LCD를 계속 진행시키면서, 상기 TFT-LCD 표면에 여전히 남아 있는 오염된 유기물을 제거 또는 적어도 활성 상태로 여기할 수 있도록, 상기 TFT-LCD의 표면을 플라즈마 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 액체로는 세정액, 식각액, 박리액 또는 현 상액을 분사하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정방법.
- TFT-LCD를 로딩하여 일방향으로 진행시키는 반송수단;상기 TFT-LCD 표면에 오염된 유기물을 제거 또는 적어도 활성 상태로 여기할 수 있도록, 상기 반송수단 상부에 설치되어 상기 반송수단에 의해 진행되는 상기 TFT-LCD의 표면을 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리장치;상기 반송수단에 의해 진행되는 상기 TFT-LCD에 액체를 분사함으로써 상기 플라즈마 처리에 의하여 여기된 유기물을 제거할 수 있도록, 상기 반송수단 상부에 상기 플라즈마 처리장치 후단으로 설치된 하나 이상의 고유속 샤워기; 및상기 반송수단에 의해 진행되는 상기 TFT-LCD 상의 잔류하는 액체를 건조시킬 수 있도록, 상기 반송수단 상부에 상기 고유속 샤워기 후단으로 설치된 에어 나이프를 포함하여 하나의 TFT-LCD에 여러 세정기능이 동시에 적용되도록 하고, 하나의 TFT-LCD에 대하여 전단에서 세정 또는 세정 및 건조 작업이 진행되는 동안 후단에서 플라즈마 처리를 수행하도록 하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
- 제4항에 있어서, 상기 반송수단 상부에 상기 에어 나이프 후단으로,상기 반송수단에 의해 진행되는 상기 TFT-LCD의 표면에 여전히 남아 있는 오염된 유기물을 제거 또는 적어도 활성 상태로 여기할 수 있도록, 상기 TFT-LCD의 표면을 플라즈마 처리하는 다른 플라즈마 처리장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
- 제5항에 있어서, 상기 에어 나이프와 상기 다른 플라즈마 처리장치 사이에 간섭 배제용 에어커튼을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
- 제4항에 있어서, 상기 플라즈마 처리장치와 고유속 샤워기 사이에 간섭 배제용 에어커튼을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
- 제4항에 있어서, 상기 플라즈마 처리장치는 2개 이상 설치된 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
- 제4항에 있어서, 상기 플라즈마 처리장치는 상압 또는 상압보다 저압에서 플라즈마를 발생시키는 장치인 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
- 제4항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 고유속 샤워기 및/또는 에어 나이프를 상기 TFT-LCD에 대하여 상하 대칭으로 설치한 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
- 제10항에 있어서, 상기 액체로는 세정액, 식각액, 박리액 또는 현상액을 사용하는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 제조장비.
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