JPH1053437A - アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法 - Google Patents

アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法

Info

Publication number
JPH1053437A
JPH1053437A JP8207049A JP20704996A JPH1053437A JP H1053437 A JPH1053437 A JP H1053437A JP 8207049 A JP8207049 A JP 8207049A JP 20704996 A JP20704996 A JP 20704996A JP H1053437 A JPH1053437 A JP H1053437A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
titanium peroxide
amorphous titanium
layer
peroxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8207049A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3863599B2 (ja
Inventor
Shiro Ogata
四郎 緒方
Yoshimitsu Matsui
義光 松井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Tenshiya KK
Tao Corp
Original Assignee
Tanaka Tenshiya KK
Tao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=16533368&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH1053437(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Tanaka Tenshiya KK, Tao Corp filed Critical Tanaka Tenshiya KK
Priority to JP20704996A priority Critical patent/JP3863599B2/ja
Priority to PCT/JP1997/002677 priority patent/WO1998005589A1/ja
Priority to EP97933873A priority patent/EP0854112A4/en
Priority to KR1019980702543A priority patent/KR100356933B1/ko
Priority to CA002233876A priority patent/CA2233876C/en
Priority to US09/051,237 priority patent/US6235401B1/en
Priority to TW086111192A priority patent/TW349981B/zh
Publication of JPH1053437A publication Critical patent/JPH1053437A/ja
Priority to US09/663,710 priority patent/US6344277B1/en
Priority to US09/663,711 priority patent/US6344278B1/en
Priority to US09/810,252 priority patent/US6379811B2/en
Publication of JP3863599B2 publication Critical patent/JP3863599B2/ja
Application granted granted Critical
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
    • C23C26/02—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00 applying molten material to the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B25/00—Phosphorus; Compounds thereof
    • C01B25/04—Purification of phosphorus
    • C01B25/047—Purification of phosphorus of yellow phosphorus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J35/30—
    • B01J35/39—
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0215—Coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/024—Multiple impregnation or coating
    • B01J37/0244—Coatings comprising several layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B15/00—Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
    • C01B15/04—Metal peroxides or peroxyhydrates thereof; Metal superoxides; Metal ozonides; Peroxyhydrates thereof
    • C01B15/047—Metal peroxides or peroxyhydrates thereof; Metal superoxides; Metal ozonides; Peroxyhydrates thereof of heavy metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/256—Coating containing TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
    • C04B41/5041—Titanium oxide or titanates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
    • C04B41/87—Ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/06—Coating with compositions not containing macromolecular substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216—Metal oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1229—Composition of the substrate
    • C23C18/1233—Organic substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1254—Sol or sol-gel processing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1295—Process of deposition of the inorganic material with after-treatment of the deposited inorganic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/123—Spraying molten metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/212—TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/71—Photocatalytic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
    • C04B2111/0081—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as catalysts or catalyst carriers
    • C04B2111/00827—Photocatalysts
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer

Abstract

(57)【要約】 【課題】 その表面が撥水性を有する基体や熱可塑性を
有する基体であっても、界面活性剤等による親水性処理
をする必要がない、また基体の熱可塑性が制限とならな
いコーティング材を提供し、さらに、光触媒半導体や誘
電体・導電体セラミック材の薄層の形成及びその厚さ管
理が容易で、光触媒半導体等がバインダーによって埋没
しない造膜工法を提供すること。 【解決手段】 粘稠性アモルファス型過酸化チタン等を
基体に固定し、バインダー層として用い、また、光触媒
半導体、誘電体セラミックス又は導電体セラミックスの
微粒子を、気体中均一散乱状態で該アモルファス型過酸
化チタン層に付着させることにより、また、粘稠性アモ
ルファス型過酸化チタン等を基体に固定し、加熱焼成し
て光触媒能を有する酸化チタン層とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、アモルファス型
過酸化チタンの基体へのコーティング方法、特にその表
面が撥水性を有する基体であっても優れた接着性を有す
る粘稠性アモルファス型過酸化チタンの基体へのコーテ
ィング方法及びそれをバインダーとして用いた光触媒半
導体や誘電体・導電体セラミックスの薄層を有する基板
に関する。
【０００２】
【従来の技術】光触媒半導体や、誘電体・導電体セラミ
ック材を基板にコーティングする方法には、従来からの
技術であるスパッタリング法、蒸着法、転写印刷フィル
ムによる高温焼結法等の技術がある。光触媒半導体の固
定法では、各種有機バインダーや、シリカゲルを加えて
熱加工したものが周知であり（特開平７−１７１４０８
号公報）、また、バインダーに釉薬、無機ガラス、熱可
塑性樹脂、ハンダ等を使用することも知られており（特
開平７−２３２０８０号公報）、ＳｎＯ2を凝結材とし
て利用基板に固定する方法も知られている（特開平７−
１５５５９８号公報）。
【０００３】しかし、スパッタリング法や蒸着法では、
コーティング装置が大変コストの高いものとなり、転写
印刷法では、熱加工条件により基板等にかかる熱的スト
レスを考慮しなければならず、材料選定に制限があっ
た。また、光触媒半導体や、誘電体・導電体セラミック
材をバインダーを用いて固定する方法では、その表面が
撥水性を有する基体の場合は、基体表面を界面活性剤や
苛性ソーダの溶液で前処理する必要があった。さらに、
これら光触媒半導体や、誘電体・導電体セラミックスの
粒子が各種バインダー類に埋没して酸化還元作用や、誘
電・導電作用を十分に機能させるのが難しかった。
【０００４】また、過酸化チタンとしては、特開平７−
２８６１１４号公報に、ペルオキソチタン酸の重合物で
あるペルオキソポリチタン酸からなる被膜形成用塗布液
が記載されている。このペルオキソポリチタン酸は、酸
化チタン水和物のゲル、ゾル又はこれらの混合分散液に
過酸化水素を加え、常温で又は９０℃以下に加熱（実施
例１では８０℃で１時間加熱）すると得られる旨記載さ
れている。その他、過酸化水素化チタン水溶液を縮合さ
せた粘ちょう液乃至ゼリー状のものも知られている（特
開昭６２−２５２３１９号公報）。このものは、水素化
チタンの微粉に過酸化水素水を加え、黄色の過酸化チタ
ン水溶液を得て、常温で放置し水の蒸発と溶質の縮合を
徐々に進めることにより、黄色の膜として得られる旨記
載されている。
【０００５】しかしながら、上記特開平７−２８６１１
４号公報記載のペルオキソポリチタン酸は、酸化チタン
水和物のゲル、ゾル又はこれらの混合分散液に過酸化水
素を加え、常温で又は９０℃以下に加熱して得られるも
のであり、他方、酸化チタン水和物に過酸化水素を加
え、１５℃以下で反応させて得られる本願の「粘稠性ア
モルファス型過酸化チタン」とは、その製造方法を異に
するばかりか、物性、特に粘性においても大きく相違
し、バインダーとしての機能に劣り、光触媒半導体や誘
電体・導電体セラミック材の薄層の形成が困難であると
いう問題点があった。
【０００６】また、上記特開昭６２−２５２３１９号公
報記載の過酸化水素化チタン水溶液を縮合させた粘ちょ
う液乃至ゼリー状のものは、水素化チタンの微粉に過酸
化水素水を加え、黄色の過酸化チタン水溶液から水の蒸
発により黄色の膜として得られるものであり、他方、酸
化チタン水和物に過酸化水素を加え、１５℃以下で反応
させ、粘稠なゼリー状物として生成させる本願の「粘稠
性アモルファス型過酸化チタン」とは、その製造方法を
異にするばかりか、物性においても異なり、前記特開平
７−２８６１１４号公報（第２欄）にも記載されている
ように、極めて希薄濃度でのみ安定で、しかも長期間安
定した状態で存在しえないものであり、基材上に形成さ
れた被膜は、ヒビ、ハクリが生じやすく、また高温で焼
成した場合焼成後の被膜が多孔質になるというという問
題点があった。
【０００７】
【発明が解決すべき課題】その表面が撥水性を有する基
体や熱可塑性を有する基体であっても、界面活性剤等に
よる親水性処理をする必要がない基体の熱可塑性が制限
とならないコーティング材を提供し、また、光触媒半導
体や誘電体・導電体セラミック材の薄層の形成及びその
厚さ管理が容易で、光触媒半導体等がバインダーによっ
て埋没しない造膜工法を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究した結果、粘稠性アモルファス型
過酸化チタン等を基体に固定し、バインダー層として用
い、また、光触媒半導体、誘電体セラミックス又は導電
体セラミックスの微粒子を、気体中均一散乱状態で該ア
モルファス型過酸化チタン層に付着させることにより、
また、粘稠性アモルファス型過酸化チタン等を基体に固
定し、加熱焼成して光触媒能を有する酸化チタン層とす
ることにより本発明を完成した。
【０００９】すなわち本発明は、基体にアモルファス型
過酸化チタン層を固定する方法であって、アモルファス
型過酸化チタンゾルをコーティングし、又は、界面活性
剤等を使用する基体表面の親水性処理を行うことなく、
粘稠性アモルファス型過酸化チタンをコーティングし、
その後常温〜２５０℃未満で乾燥・焼成することを特徴
とする基板にアモルファス型過酸化チタン層を固定する
方法やこの方法により作られるアモルファス型過酸化チ
タン層を有する基板に関する。
【００１０】また、基体に酸化チタン層を固定する方法
であって、アモルファス型過酸化チタンゾルをコーティ
ングし、又は、界面活性剤等を使用する基体表面の親水
性処理を行うことなく、粘稠性アモルファス型過酸化チ
タンをコーティングし、その後２５０℃以上で乾燥・焼
成することを特徴とする基板に酸化チタン層を固定する
方法やこの方法により作られる過酸化チタン層を有する
基板に関する。
【００１１】さらに、基体に、アモルファス型過酸化チ
タンゾルをコーティングし、又は、界面活性剤等を使用
する基体表面の親水性処理を行うことなく、粘稠性アモ
ルファス型過酸化チタンをコーティングし、アモルファ
ス型過酸化チタン層を形成し、該アモルファス型過酸化
チタン層が付着性を有している間に、光触媒半導体、誘
電体セラミックス又は導電体セラミックスの微粒子を、
気体中均一散乱状態で該アモルファス型過酸化チタン層
に付着させることを特徴とする光触媒半導体、誘電体セ
ラミックス又は導電体セラミックスの薄層を固定する方
法やこの方法により作られる、基体と、該基体上に形成
されるアモルファス型過酸化チタン層と、該アモルファ
ス型過酸化チタン層上に形成される光触媒半導体、誘電
体セラミックス又は導電体セラミックスの薄層とからな
る基板に関する。
【００１２】さらにまた、四塩化チタン溶液と水酸化ア
ンモニウム溶液とをｐＨ２〜６の酸性領域で反応させた
後、沈降する淡青味白色のオルトチタン酸を洗浄後、希
釈又は濃縮して固形分濃度を０．２〜０．６重量％に調
整した水溶液に過酸化水素水を加え、低温下、望ましく
は１５℃以下、特に望ましくは約５℃〜８℃で撹拌しな
がら反応せしめた後、常温で養生することを特徴とする
粘稠性アモルファス型過酸化チタンの製造法、及びこの
方法で製造された粘稠性アモルファス型過酸化チタンに
関する。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明における「アモルファス型
過酸化チタンゾル」は、例えば次のようにして製造する
ことができる。四塩化チタンＴｉＣｌ4 のようなチタン
塩水溶液に、アンモニア水ないし水酸化ナトリウムのよ
うな水酸化アルカリを加えｐＨ６〜７で反応させる。生
じる淡青味白色、無定形の水酸化チタンＴｉ（ＯＨ）4
（オルトチタン酸Ｈ4ＴｉＯ4とも呼ばれる。）を洗浄・
分離後、過酸化水素水で処理すると、アモルファス形態
の過酸化チタンゾルが得られる。
【００１４】このようにして得られる本発明における
「アモルファス型過酸化チタンゾル」は、ｐＨ６〜７、
粒子径８〜２０ｎｍであり、その外観は黄色透明の液体
であり、常温で長期間保存しても安定である。また、ゾ
ル濃度は通常１．４〜１．６重量％に調整されている
が、必要に応じてその濃度を調整することができ、低濃
度で使用する場合は、蒸留水等で希釈して使用する。
【００１５】また、このアモルファス型過酸化チタンゾ
ルは、常温ではアモルファスの状態で未だアナターゼ型
酸化チタンには結晶化しておらず、密着性に優れ、成膜
性が高く、均一でフラットな薄膜を作成することがで
き、かつ、乾燥被膜は水に溶けないという性質を有して
いる。なお、アモルファス型の過酸化チタンのゾルを１
００℃以上で数時間加熱すると、アナターゼ型酸化チタ
ンゾルになり、アモルファス型過酸化チタンゾルを基体
にコーティング後乾燥固定したものは、２５０℃〜９４
０℃の加熱によりアナターゼ型酸化チタンになる。
【００１６】本発明における「粘稠性アモルファス型過
酸化チタン」は、例えば次のようにして製造することが
できる。四塩化チタンＴｉＣｌ4 のようなチタン塩水溶
液に、アンモニア水ないし水酸化ナトリウムのような水
酸化アルカリを加え、ｐＨを酸性領域、望ましくはｐＨ
２〜６、特に望ましくはｐＨ２で反応させる。沈降する
淡青味白、無定形の水酸化チタンＴｉ（ＯＨ）4（オル
トチタン酸Ｈ4ＴｉＯ4とも呼ばれる。）を洗浄・分離
後、過酸化水素水で処理し、低温下、望ましくは１５℃
以下、特に望ましくは５〜８℃で撹拌しながら反応せし
めた後、常温で７〜１０日養生することにより得られ
る。
【００１７】このようにして得られる本発明の「粘稠性
アモルファス型過酸化チタン」は、ｐＨ２〜４、粒子径
８〜２０ｎｍ程度であり、その外観は黄色透明の少し粘
性のあるゾル〜半ゼリー状の、すなわち種々の粘性を有
するもので、大変強い付着力を有しており、常温で長期
間保存しても安定である。また、その固形分濃度は、通
常０．２〜０．６重量％、望ましくは０．３重量％に調
整されているが、必要に応じてその濃度を調整すること
ができる。
【００１８】この本発明における「粘稠性アモルファス
型過酸化チタン」は、その製造過程において、四塩化チ
タンＴｉＣｌ4 のようなチタン塩水溶液と、アンモニア
水ないし水酸化ナトリウムのような水酸化アルカリとの
反応時のｐＨを酸性領域、望ましくはｐＨ２〜６の範囲
内で変えることにより、また、固形分濃度を０．２〜
０．６重量％の範囲内で変えることにより、種々の粘性
を有するものが得られ、その粘性に応じて種々の用途が
考えられるが、均一な膜厚の薄膜を形成するという目的
からは、均質な半ゼリー状程度の粘性を有するものが望
ましい。
【００１９】そして、上記反応のｐＨが６を越えると、
粘性が少ないアモルファス型過酸化チタンゾルとなり、
撥水性の強い金属及びプラスチック等の基体表面へのコ
ーティングに際しては界面活性剤等による親水性処理が
必要になり、ｐＨが２未満になるとオルトチタン酸の析
出が極端に少なくなるという不都合が生じる。また、固
形分濃度が、０．６重量％を越えると、不均質な半ゼリ
ー状となり均一な膜厚の薄膜の形成が困難となるという
問題が生じ、他方０．２重量％未満であると、基体表面
のコーティングに際しては界面活性等による親水性処理
が必要になってくるという不都合が生じる。
【００２０】このように、本発明の粘稠性アモルファス
型過酸化チタンは、黄色透明で粘性を有する新規物質で
あり、常温ではアモルファスの状態で未だアナターゼ型
酸化チタンには結晶化しておらず、その密着・付着性
は、撥水性を有する基体をはじめとしてあらゆる材種の
基体において極めて優れている。また、成膜性が高く、
均一でフラットな薄膜を容易に作成することができ、か
つ、乾燥被膜は水に溶けないという性質を有している。
【００２１】そして、この粘稠性アモルファス型過酸化
チタンは、それを基体にコーティングして、常温〜２５
０℃で乾燥・焼成すると、大変強い付着力を有するアモ
ルファス型過酸化チタン層を形成する。また、２５０℃
〜９４０℃で加熱乾燥・焼成すると、アナターゼ型酸化
チタン層を形成し、９４０℃以上で加熱すると、ルチル
型酸化チタン層を形成し、光触媒の機能が極端に低下す
る。
【００２２】本発明において、「基体」としては、セラ
ミックス、ガラスなどの無機材質、プラスチック、ゴ
ム、木、紙などの有機材質、並びにアルミニウム、鋼な
どの金属材質のものを用いることができる。これらの中
でも特に、アクリロニトリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポ
リカーボネイト樹脂、メチルメタクリレート樹脂（アク
リル樹脂）、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機高分子樹脂材への適用が優れた効果を発揮する。ま
た、その大きさや形には制限されず、フィルム状、ハニ
カム状、ファイバー状、濾過シート状、ビーズ状、発砲
状やそれらが集積したものでもよい。さらに、紫外線を
通過する基体であればその内面に適用できるし、また塗
装した物品にも適用しうる。
【００２３】基体にアモルファス型過酸化チタンゾル、
粘稠性アモルファス型過酸化チタンを塗布してコーティ
ングするには、例えば、ディッピング、吹付スプレー等
の公知の方法が利用できる。
【００２４】前記のようにして塗布あるいは吹き付けた
りしてコーティングした後、２５０℃未満で乾燥・焼成
させ、固化させて本発明のアモルファス型過酸化チタン
層を有する基板を製造することができる。また、コーテ
ィング後、２５０℃〜４００℃前後で焼結してアナター
ゼ型酸化チタン層を固化坦持させた基板を製造すること
もできる。かかる基板は光触媒機能を有することになる
から、基体として光触媒によって分解を受けやすい有機
高分子樹脂、高性能エンプラであるポリ四フッ化エチレ
ン（ＰＴＦＥ）や、超耐熱性エンプラであるポリアミド
イミド（ＰＡＩ）やポリイミド（ＰＩ）等を使用する場
合は、酸化チタンの光触媒機能はナトリウムイオンによ
って低下することを利用して、コーティングに先立っ
て、水酸化ナトリウム溶液等ナトリウムイオンを含有す
る物質で樹脂表面をクリーニングする等してナトリウム
源を存在させておくのが有利である。
【００２５】アモルファス型過酸化チタンゾル又は粘稠
性アモルファス型過酸化チタンからなるコーティング組
成物は、１回のコーティングで所定の厚みを得ることが
出来るという特色を持っている。そしてコーティングに
より形成される、これら過酸化チタン層又は２５０℃以
上の加熱焼成によって得られる酸化チタン層の薄膜の厚
さは、粘稠性アモルファス型過酸化チタンなどの中の過
酸化チタンの濃度（重量％）、粘度及び乾燥前のコーテ
ィング厚さによっても調節することができる。なお、必
要に応じて上記コーティング材を重ねて塗布することも
できる。
【００２６】上記のアモルファス型過酸化チタン層を有
する基板は、耐候性に優れ高分子有機材料等よりなる基
体を紫外線等から保護し得る他、該基板の上に光触媒半
導体層を設けた場合、光触媒機能により分解されやすい
有機高分子材料等の基体を保護しうる。
【００２７】本発明において、「光触媒半導体」として
は、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ3、ＣｄＳ、Ｃｄ０、
ＣａＰ、ＩｎＰ、Ｉｎ2Ｏ3、ＣａＡｓ、ＢａＴｉＯ3、
Ｋ2ＮｂＯ3、Ｆｅ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＷＯ3、ＳａＯ2、Ｂ
ｉ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｕ2Ｏ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2、Ｍｏ
Ｓ2、ＭｏＳ3、ＩｎＰｂ、ＲｕＯ2、ＣｅＯ2などを挙げ
ることができるが、これらの中でも酸化チタンＴｉＯ2
が好ましく、光触媒半導体は、その直径が０．００１μ
ｍ〜２０μｍ程度の微粒子状又は微粉末状の形態で使用
する。
【００２８】また、光触媒機能の補完用にＰｔ、Ａｇ、
Ｒｈ、ＲｕＯ2、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｓｎ、ＮｉＯなどを添加
剤として用いることもできる。
【００２９】本発明において、「誘電体セラミックス」
材料としては、ＳｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＳｒＴｉ
Ｏ3、ＢａＴｉＯ3、Ｐｂ系ペロブスカイト化合物を挙げ
ることができる。また、「導電性セラミックス」材料と
しては、銅、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム
などの卑金属合金等をそれぞれ挙げることができる。こ
れらセラミックス材料は、その直径が０．００１μｍ〜
２０μｍ程度の微粒子状又は微粉末状の形態で使用す
る。このような微粉末は、気体中均一・分散状態に浮遊
させることができる。
【００３０】本発明において、「光触媒半導体、誘電体
セラミックス又は導電体セラミックスの薄層を固定する
方法」を図１に基づいて説明すると、界面活性剤等によ
り親水性処理を施した基体３にアモルファス型過酸化チ
タンゾルをコーティングするか、又は親水性処理を施す
ことなく直接基体に粘稠性アモルファス型過酸化チタン
をコーティングし、アモルファス型過酸化チタン層２を
形成し、該アモルファス型過酸化チタン層が付着性を有
している間（通常コーティング後、常温で１〜１０分以
内）に、上記光触媒半導体、誘電体セラミックス又は導
電体セラミックスの微粒子１を、密閉・常圧容器を用い
て気体中に均一散乱状態とし、自然付着又は気流圧付着
によりアモルファス型過酸化チタン層に付着させ、余剰
の微粒子を除去する方法が挙げられる。また、光触媒半
導体、誘電体セラミックス又は導電体セラミックスの薄
層をアモルファス型過酸化チタン層に固定した後、加圧
することによって、各層間の付着性が著しく向上する。
このようにして、均質な薄膜を作ることができる。
【００３１】このような光触媒半導体、誘電体セラミッ
クス又は導電体セラミックスの薄層を形成することによ
り、電子機器等の小型軽量化や小型容量化が達成でき
る。また光触媒機能基板としては、光触媒半導体の積層
薄膜によって、光触媒半導体の酸化還元時に電子移動に
よる粒子表面の相互干渉による機能の低下や膜厚による
経済的ロスをなくす効果がある。
【００３２】
【実施例】以下に、実施例を掲げてこの発明を更に具体
的に説明するが、この発明の範囲はこれらの例示に限定
されるものではない。
【００３３】参考例１（アモルファス型過酸化チタンゾ
ルの製造） 四塩化チタンＴｉＣｌ4の５０％溶液（住友シティクス
株式会社）１００ｍｌを蒸留水で７０倍に希釈したもの
と、水酸化アンモニウムＮＨ4ＯＨの２５％溶液（高杉
製薬株式会社）を蒸留水で１０倍に希釈したものを、ｐ
Ｈ６．５〜６．８に調整し反応を行う。反応後、しばら
く放置した後上澄液を捨てる。残ったＴｉ（ＯＨ）4の
ゲル量の約４倍の蒸留水を加え十分に撹拌し放置する。
電導度計で電導度が２〜１０μＳになるまで水洗を繰り
返し、最後に上澄液を捨てて沈殿物のみを残す。場合に
よっては濃縮機により濃縮処理を行うことができる。こ
の淡青味白色のＴｉ（ＯＨ）4３６００ｍｌに、３５％
過酸化水素水２１０ｍｌを３０分毎２回に分けて添加
し、約５℃で一晩撹拌すると黄色透明のアモルファス型
過酸化チタンゾル約３８００ｍｌが得られる。なお、上
記の工程において、発熱を抑えないとメタチタン酸等の
水に不溶な物質が析出する可能性があるので、すべての
工程は発熱を抑えて行うのが望ましい。
【００３４】実施例１（粘稠性アモルファス型過酸化チ
タンの製造） 四塩化チタンＴｉＣｌ4の５０％溶液（住友シティクス
株式会社）１００ｍｌを蒸留水で７０倍に希釈したもの
と、水酸化アンモニウムＮＨ4ＯＨの２５％溶液（高杉
製薬株式会社）を蒸留水で１０倍に希釈したものを、ｐ
Ｈが２．０になるよう混合・調整し反応を行った。反応
後、しばらく放置した後上澄液を捨てる。残ったオルト
チタン酸Ｔｉ（ＯＨ）4のゲル量の約４倍の蒸留水を加
え十分に撹拌し放置する。電導度計で電導度が２〜１０
μＳになるまで水洗を繰り返し、最後に上澄液を捨てて
沈殿物のみを残す。場合によっては濃縮機により濃縮処
理を行うことができる。この淡青味白色のオルトチタン
酸Ｔｉ（ＯＨ）4水溶液２５５０ｍｌに、３５％過酸化
水素水２００ｍｌを３０分毎２回に分けて添加し、約５
℃で一晩撹拌した後、７〜１０日常温で養生すると、黄
色透明のゼリー状の粘稠性アモルファス型過酸化チタン
約２８００ｍｌが得られた。
【００３５】実施例２（種々の粘性の粘稠性アモルファ
ス型過酸化チタンの製法） 実施例１において、反応時のｐＨを３、４及び５とする
他は実施例１と同様に行ったところ、実施例１で得られ
た粘稠性アモルファス型過酸化チタンよりもｐＨが上昇
するにしたがって固いゼリー状のものが得られ、固形分
濃度も次第に増加していった。
【００３６】実施例３ 基体として、アクリル樹脂板とメタクリル樹脂板とメチ
ルメタクリレート樹脂板を用いた。これら樹脂板の表面
を水洗後乾燥し、これら樹脂板に、実施例１で作った粘
稠性過酸化チタン０．３重量％をデッピングにて１回コ
ーティングした。コーティング表面が湿潤状態のとき
に、容器中においてアナターゼ型酸化チタン粉末ＳＴ−
０１（石原産業株式会社製）を気体均一浮遊状態で付着
させ、５０℃で乾燥後、加圧下２００℃で加熱し次いで
洗浄して光触媒半導体基板を作成した。これら基板は、
光触媒層が薄膜であり、厚膜の従来のものに比べて剥離
の危険性はなく、また有機化合物分解性能が全く変わる
ことのないという点で格段に優れていた。
【００３７】実施例４ 基体として、半磁器施釉タイル（ＩＮＡＸ株式会社製：
１００×１００×５ｍｍ）、セラミックコーティングス
チール板（２１０×２９６×０．８ｍｍ）ケラミット板
（施釉タイプ：１５７×２２３×４ｍｍ）を用いた。こ
れらの表面を洗浄し、常温で乾燥した後、実施例１で作
った粘稠性過酸化チタン０．３重量％をスクイズ板に
て、半磁器施釉タイルには０．１〜０．２ｇ／枚、セラ
ミックコーティングスチール板には２．０〜２．３ｇ／
枚、ケラミット板には１．５〜１．８ｇ／枚、それぞれ
コーティングした。コーティング表面が湿潤状態のとき
に、容器中においてアナターゼ型酸化チタン粉末ＳＴ−
０１（石原産業株式会社製）を気体均一浮遊状態で１分
間付着させたところ、半磁器施釉タイルには０．０１〜
０．０２ｇ／枚、セラミックコーティングスチール板に
は０．１〜０．２ｇ／枚、ケラミット板には０．１ｇ／
枚、それぞれアナターゼ型酸化チタン粉末が付着してお
り、これを５０℃で乾燥し、５００℃で３０分間焼成し
て光触媒半導体基板を作成した。これら基板の光触媒機
能は、化粧性や付着性の点で格段に優れていた。
【００３８】実施例５ 基体として、ポリエステル・レーヨン系の不織布（３０
０×３００ｍｍ）を使用した。この不織布を水洗いした
後乾燥し、実施例１で作った粘稠性過酸化チタン０．３
重量％をデッピングにて付着させ、次いでアナターゼ型
酸化チタン粉末ＳＴ−０１（石原産業株式会社製）を気
体均一浮遊状態で付着させ５０℃で乾燥・固定した。そ
の後、この乾燥品を１２０〜１５０℃でアイロンにて加
圧し、各層間の付着性を一層向上せしめた。この基板
は、化粧性や付着性ばかりでなく、分解性能が特に優れ
ていた。
【００３９】実施例６ 有機物質の分解試験を次のようにして行った。基体に
は、縦横２１０×２９６ｍｍのパラグラス（クラレ株式
会社製メタクリル樹脂）を使用した。この基体に実施例
１で作った粘稠性過酸化チタン０．３重量％をデッピン
グにて付着させ、次いでアナターゼ型酸化チタン粉末Ｓ
Ｔ−０１（石原産業株式会社製）を気体均一浮遊状態で
付着させ５０℃で乾燥・固定した。その後、この乾燥品
を１２０〜１５０℃でアイロンにて加圧し、各層間の付
着性を一層向上せしめた。光触媒を坦持した光触媒体を
得た。これら試験用の光触媒体を試験容器の中に入れ、
次いで、容器内に被分解有機物質の着色溶液を深さが１
ｃｍとなるように注水した。この着色溶液は、モノアゾ
レッドの水性分散体（赤色液状物）であるポルックスレ
ッドＰＭ−Ｒ（住化カラー株式会社製）を３０倍に希釈
したものである。次に、容器内の着色溶液の蒸発を防ぐ
ために、容器にフロートグラス（波長３００ｎｍ以下を
カット）で蓋をした。該試験容器の上方５ｃｍ、基板か
ら９．５ｃｍのところに紫外線放射器（２０ｗのブルー
カラー蛍光管）を１３ｃｍ離して２本設置し、上記光触
媒体に照射し、着色溶液の色が消えた時点をもって有機
物の分解が終了したものとした。その結果試験開始から
２日後には色が完全に消え、優れた光触媒機能を有する
ことがわかった。
【００４０】
【発明の効果】本発明による粘稠性アモルファス型過酸
化チタンを用いると、あらゆる基体に界面活性剤等によ
る親水性処理を施すことなく、アモルファス型過酸化チ
タン層を形成することができ、その優れた付着力により
光触媒半導体、誘電体セラミックス又は導電体セラミッ
クスの薄層を固定することが可能となり、それを用いた
電子機器等の小型軽量化や小型容量化が達成できる。ま
た光触媒機能基板としては、光触媒半導体の積層薄膜に
よって、光触媒半導体の酸化還元時に電子移動による粒
子表面の相互干渉による機能の低下や膜厚による経済的
ロスをなくす効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】光触媒半導体、誘電体セラミックス又は導電体
セラミックスの薄層を固定する方法を示した説明図であ
る。
【符号の説明】
１ 光触媒半導体、誘電体セラミックス又は導電体セラ
ミックスの微粒子 ２ アモルファス型過酸化チタン層 ３ 基体

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基体にアモルファス型過酸化チタン層を
    固定する方法であって、アモルファス型過酸化チタンゾ
    ルをコーティングし、その後常温〜２５０℃未満で乾燥
    ・焼成することを特徴とする基板にアモルファス型過酸
    化チタン層を固定する方法。
  2. 【請求項２】 基体にアモルファス型過酸化チタン層を
    固定する方法であって、界面活性剤等を使用する基体表
    面の親水性処理を行うことなく、粘稠性アモルファス型
    過酸化チタンをコーティングし、その後常温〜２５０℃
    未満で乾燥・焼成することを特徴とする基板にアモルフ
    ァス型過酸化チタン層を固定する方法。
  3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載の方法により
    作られるアモルファス型過酸化チタン層を有する基板。
  4. 【請求項４】 基体に酸化チタン層を固定する方法であ
    って、アモルファス型過酸化チタンゾルをコーティング
    し、その後２５０℃以上で焼成することを特徴とする基
    板に酸化チタン層を固定する方法。
  5. 【請求項５】 基体に酸化チタン層を固定する方法であ
    って、界面活性剤等を使用する基体表面の親水性処理を
    行うことなく、粘稠性アモルファス型過酸化チタンをコ
    ーティングし、その後２５０℃以上で焼成することを特
    徴とする基板に酸化チタン層を固定する方法。
  6. 【請求項６】 請求項４又は請求項５記載の方法により
    作られる酸化チタン層を有する基板。
  7. 【請求項７】 基体に、アモルファス型過酸化チタンゾ
    ルをコーティングし、アモルファス型過酸化チタン層を
    形成し、該アモルファス型過酸化チタン層が付着性を有
    している間に、光触媒半導体、誘電体セラミックス又は
    導電体セラミックスの微粒子を、気体中均一散乱状態で
    該アモルファス型過酸化チタン層に付着させることを特
    徴とする光触媒半導体、誘電体セラミックス又は導電体
    セラミックスの薄層を固定する方法。
  8. 【請求項８】 基体に、界面活性剤等を使用する基体表
    面の親水性処理を行うことなく、粘稠性アモルファス型
    過酸化チタンをコーティングし、アモルファス型過酸化
    チタン層を形成し、該アモルファス型過酸化チタン層が
    付着性を有している間に、光触媒半導体、誘電体セラミ
    ックス又は導電体セラミックスの微粒子を、気体中均一
    散乱状態で該アモルファス型過酸化チタン層に付着させ
    ることを特徴とする光触媒半導体、誘電体セラミックス
    又は導電体セラミックスの薄層を固定する方法。
  9. 【請求項９】 請求項７又は請求項８記載の方法により
    作られる、基体と、該基体上に形成されるアモルファス
    型過酸化チタン層と、該アモルファス型過酸化チタン層
    上に形成される光触媒半導体、誘電体セラミックス又は
    導電体セラミックスの薄層とからなる基板。
  10. 【請求項１０】 四塩化チタン溶液と水酸化アンモニウ
    ム溶液とをｐＨ２〜６の酸性領域で反応させた後、沈降
    する淡青味白色のオルトチタン酸水和物に過酸化水素水
    を加え、低温下撹拌しながら反応せしめた後、常温で養
    生することを特徴とする粘稠性アモルファス型過酸化チ
    タンの製造法。
  11. 【請求項１１】 請求項１０記載の方法で製造された粘
    稠性アモルファス型過酸化チタン。
JP20704996A 1996-08-06 1996-08-06 アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法 Expired - Lifetime JP3863599B2 (ja)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20704996A JP3863599B2 (ja) 1996-08-06 1996-08-06 アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法
PCT/JP1997/002677 WO1998005589A1 (fr) 1996-08-06 1997-08-01 Procede de revetement de peroxyde de titane amorphe
EP97933873A EP0854112A4 (en) 1996-08-06 1997-08-01 METHOD FOR TREATING ANORPHEMIC TITANIUM PEROXIDE
KR1019980702543A KR100356933B1 (ko) 1996-08-06 1997-08-01 무정형과산화티탄층의기체에의고정방법및점조성무정형과산화티탄의제조방법
CA002233876A CA2233876C (en) 1996-08-06 1997-08-01 Coating method of amorphous type titanium peroxide
US09/051,237 US6235401B1 (en) 1996-08-06 1997-08-01 Method for coating amorphous titanium peroxide
TW086111192A TW349981B (en) 1996-08-06 1997-08-05 Method of coating of non-crystal titanium peroxide
US09/663,710 US6344277B1 (en) 1996-08-06 2000-09-18 Coating method of amorphous type titanium peroxide
US09/663,711 US6344278B1 (en) 1996-08-06 2000-09-18 Coating method of amorphous type titanium peroxide
US09/810,252 US6379811B2 (en) 1996-08-06 2001-03-19 Coating method of amorphous type titanium peroxide

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20704996A JP3863599B2 (ja) 1996-08-06 1996-08-06 アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1053437A true JPH1053437A (ja) 1998-02-24
JP3863599B2 JP3863599B2 (ja) 2006-12-27

Family

ID=16533368

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20704996A Expired - Lifetime JP3863599B2 (ja) 1996-08-06 1996-08-06 アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法

Country Status (7)

Country Link
US (4) US6235401B1 (ja)
EP (1) EP0854112A4 (ja)
JP (1) JP3863599B2 (ja)
KR (1) KR100356933B1 (ja)
CA (1) CA2233876C (ja)
TW (1) TW349981B (ja)
WO (1) WO1998005589A1 (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10237352A (ja) * 1997-02-24 1998-09-08 Tao:Kk 多機能コーティング剤
WO2000018686A1 (fr) * 1998-09-28 2000-04-06 Tao Inc. Procede de production d'une solution de peroxyde de titane amorphe et d'un sol d'oxyde de titane du type «anatase»
JP2000135442A (ja) * 1998-08-28 2000-05-16 Tao:Kk 撥水性基体
US6267944B1 (en) 1999-07-05 2001-07-31 Morioki Sangyo Company Limited Method of preparing a solution for titania film
JP2001220141A (ja) * 2000-02-03 2001-08-14 Toho Titanium Co Ltd 酸化チタン分散体
JP2001262522A (ja) * 2000-03-16 2001-09-26 Sekisui Jushi Co Ltd 自浄性再帰反射体及びその製造方法
US6458274B1 (en) 1999-06-07 2002-10-01 Morioki Sangyo Company Limited Device for treating a fluid with ultra-high magnetic force
KR20030054616A (ko) * 2001-12-26 2003-07-02 천우바이오(주) 이산화티타늄막이 코팅된 공기정화기의 세라믹기판의제조방법
JP2004196647A (ja) * 2003-09-09 2004-07-15 Monet Associates:Kk 水過酸化チタン溶液の製造方法
JP2006240333A (ja) * 2005-02-28 2006-09-14 Central Res Inst Of Electric Power Ind ロケット部品
JP2006240320A (ja) * 2005-02-28 2006-09-14 Central Res Inst Of Electric Power Ind 飛行体
US7718270B2 (en) 2005-02-24 2010-05-18 Central Research Institute Of Electric Power Industry Multifunctional material
US7722923B2 (en) 2005-02-24 2010-05-25 Central Research Institute Of Electric Power Industry Process for producing multifunctional material
JP2011136297A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法
JP2011178633A (ja) * 2010-03-03 2011-09-15 Sekisui Chem Co Ltd アモルファス過酸化チタンの製造方法
JP2017523913A (ja) * 2014-08-06 2017-08-24 エルジー・ハウシス・リミテッドＬｇ Ｈａｕｓｙｓ，Ｌｔｄ． 光触媒機能性フィルム及びこの製造方法

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7257589B1 (en) * 1997-12-22 2007-08-14 Ricoh Company, Ltd. Techniques for targeting information to users
EP0978690A3 (en) * 1998-08-05 2002-06-05 Nitto Denko Corporation Air cleaning unit
KR100351633B1 (ko) * 2000-04-04 2002-09-11 한국화학연구원 금속염화물로 처리된 필름형 광활성물질과 이의 제조방법
AU2001268405B2 (en) * 2000-06-28 2005-11-24 The Procter & Gamble Company Structures and compositions increasing the stability of peroxide actives
FR2824846B1 (fr) * 2001-05-16 2004-04-02 Saint Gobain Substrat a revetement photocatalytique
EP1398146A1 (en) * 2001-06-11 2004-03-17 Murakami Corporation Antifogging element and method for forming the same
ATE337417T1 (de) * 2001-10-04 2006-09-15 Nittetsu Mining Co Ltd Herstellungsverfahren für mit titanoxidfilm beschichtetes pulver
FR2836229B1 (fr) * 2002-02-15 2004-09-17 Lilian Martinez Procede de controle de l'integrite et/ou de la degradation d'un revetement susceptible de presenter sous une excitation electromagnetique une luminescence, ainsi qu'un tel revetement et des procedes de depot d'un tel revetement
JP2003246622A (ja) * 2002-02-25 2003-09-02 Sumitomo Chem Co Ltd 酸化チタン前駆体、その製造方法およびそれを用いる酸化チタンの製造方法
EP1479733A4 (en) * 2002-02-27 2009-09-09 Sustainable Titania Technology SOLUTION FOR FORMING ULTRA-HYDROPHILIC PHOTOCATALYST FILM, STRUCTURE COMPRISING SAID FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
US8524200B2 (en) 2002-09-11 2013-09-03 The Procter & Gamble Company Tooth whitening products
US6884752B2 (en) * 2002-12-31 2005-04-26 Prizmalite Industries, Inc. Photocatalytically-active, self-cleaning aqueous coating compositions and methods
US7205049B2 (en) * 2004-04-16 2007-04-17 Tioxoclean Inc. Metal peroxide films
US7892662B2 (en) * 2006-04-27 2011-02-22 Guardian Industries Corp. Window with anti-bacterial and/or anti-fungal feature and method of making same
US7846492B2 (en) 2006-04-27 2010-12-07 Guardian Industries Corp. Photocatalytic window and method of making same
US7659226B2 (en) * 2007-02-26 2010-02-09 Envont Llc Process for making photocatalytic materials
US20090041632A1 (en) * 2007-08-08 2009-02-12 Novapure Systems Inc. Air Purifier System and Method
US20090145855A1 (en) * 2007-12-06 2009-06-11 Novapure Systems Inc. Water Purifier System and Method
US20090162560A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Envont L.L.C. Hybrid vehicle systems
US20090163647A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Envont Llc Hybrid metal oxides
US20090163656A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Envont Llc Hybrid vehicle systems
EP2370361A1 (en) * 2008-12-05 2011-10-05 Dublin Institute of Technology High temperature stable anatase phase titanium dioxide
WO2012032518A2 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Yissum Research Development Company Of The Hebrew University Of Jerusalem, Ltd A process for the formation of metal oxide nanoparticles coating of a solid substrate
EP2752897A4 (en) * 2011-10-07 2015-04-29 Konica Minolta Inc METHOD FOR MANUFACTURING LED DEVICE AND DISPERSED FLUORESCENT MATERIAL SOLUTION USED THEREIN
JP5869846B2 (ja) * 2011-11-16 2016-02-24 株式会社ダイセル 酸化チタン塗布液
CN102426928A (zh) * 2011-12-23 2012-04-25 彩虹集团公司 一种染料敏化太阳能电池用二氧化钛致密膜的制备方法
JP6652196B2 (ja) * 2016-09-12 2020-02-19 信越化学工業株式会社 可視光応答型光触媒酸化チタン微粒子分散液、分散液の製造方法、光触媒薄膜、及び光触媒薄膜を表面に有する部材
US10611679B2 (en) 2017-10-26 2020-04-07 Guardian Glass, LLC Coated article including noble metal and polymeric hydrogenated diamond like carbon composite material having antibacterial and photocatalytic properties, and/or methods of making the same
US11253842B1 (en) * 2021-04-02 2022-02-22 TiCoat, Inc. Titanium dioxide containing peroxo titanium complex and methods of manufacturing and application of the same
CN113651299B (zh) * 2021-08-24 2022-07-12 武汉拓材科技有限公司 一种高纯磷的制备工艺及装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1412937A (en) * 1971-10-22 1975-11-05 Atomic Energy Authority Uk Titanium dioxide gels and sols
JPH0231008B2 (ja) * 1986-04-23 1990-07-11 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Kojundosankachitanmakunoseizoho
JPH0231008A (ja) 1988-07-20 1990-02-01 Kayaba Ind Co Ltd シリンダ装置
AU4245993A (en) 1992-07-01 1994-01-31 Upjohn Company, The Control of algae with antibiotics
AU676299B2 (en) 1993-06-28 1997-03-06 Akira Fujishima Photocatalyst composite and process for producing the same
JP3309591B2 (ja) 1993-12-28 2002-07-29 東陶機器株式会社 光触媒機能を有する多機能材
JPH07155598A (ja) 1993-12-10 1995-06-20 Toto Ltd 光触媒被膜及び光触媒被膜の形成方法
EP0684075B1 (en) * 1993-12-10 2003-03-26 Toto Ltd. Multi-functional material having photo-catalytic function and production method therefor
JP3506481B2 (ja) 1994-04-19 2004-03-15 触媒化成工業株式会社 被膜形成用塗布液および被膜付基材
JP3690864B2 (ja) * 1996-03-29 2005-08-31 株式会社ティオテクノ 光触媒体の製造法

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10237352A (ja) * 1997-02-24 1998-09-08 Tao:Kk 多機能コーティング剤
JP2000135442A (ja) * 1998-08-28 2000-05-16 Tao:Kk 撥水性基体
WO2000018686A1 (fr) * 1998-09-28 2000-04-06 Tao Inc. Procede de production d'une solution de peroxyde de titane amorphe et d'un sol d'oxyde de titane du type «anatase»
US6458274B1 (en) 1999-06-07 2002-10-01 Morioki Sangyo Company Limited Device for treating a fluid with ultra-high magnetic force
US6267944B1 (en) 1999-07-05 2001-07-31 Morioki Sangyo Company Limited Method of preparing a solution for titania film
JP2001220141A (ja) * 2000-02-03 2001-08-14 Toho Titanium Co Ltd 酸化チタン分散体
JP2001262522A (ja) * 2000-03-16 2001-09-26 Sekisui Jushi Co Ltd 自浄性再帰反射体及びその製造方法
KR20030054616A (ko) * 2001-12-26 2003-07-02 천우바이오(주) 이산화티타늄막이 코팅된 공기정화기의 세라믹기판의제조방법
JP2004196647A (ja) * 2003-09-09 2004-07-15 Monet Associates:Kk 水過酸化チタン溶液の製造方法
US7718270B2 (en) 2005-02-24 2010-05-18 Central Research Institute Of Electric Power Industry Multifunctional material
US7722923B2 (en) 2005-02-24 2010-05-25 Central Research Institute Of Electric Power Industry Process for producing multifunctional material
JP2006240333A (ja) * 2005-02-28 2006-09-14 Central Res Inst Of Electric Power Ind ロケット部品
JP2006240320A (ja) * 2005-02-28 2006-09-14 Central Res Inst Of Electric Power Ind 飛行体
JP2011136297A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法
JP2011178633A (ja) * 2010-03-03 2011-09-15 Sekisui Chem Co Ltd アモルファス過酸化チタンの製造方法
JP2017523913A (ja) * 2014-08-06 2017-08-24 エルジー・ハウシス・リミテッドＬｇ Ｈａｕｓｙｓ，Ｌｔｄ． 光触媒機能性フィルム及びこの製造方法
US10220372B2 (en) 2014-08-06 2019-03-05 Lg Hausys, Ltd. Photocatalyst functional film and method for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990064064A (ko) 1999-07-26
US20010019776A1 (en) 2001-09-06
WO1998005589A1 (fr) 1998-02-12
US6344278B1 (en) 2002-02-05
US6379811B2 (en) 2002-04-30
JP3863599B2 (ja) 2006-12-27
KR100356933B1 (ko) 2002-12-18
EP0854112A4 (en) 1998-12-02
US6235401B1 (en) 2001-05-22
CA2233876C (en) 2005-11-01
CA2233876A1 (en) 1998-02-12
EP0854112A1 (en) 1998-07-22
US6344277B1 (en) 2002-02-05
TW349981B (en) 1999-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1053437A (ja) アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法
US5885657A (en) Production of ceramic layers and their use
KR100318109B1 (ko) 광촉매코팅조성물및광촉매담지구조체
KR100935065B1 (ko) 산화티탄계 광촉매와 그 제조 방법 및 용도
KR100822540B1 (ko) 산화티탄계 광촉매와 그 제조방법 및 그 이용
JP3524342B2 (ja) 薄膜形成用二酸化チタンゾル及び薄膜
KR100696201B1 (ko) 산화티탄졸, 박막 및 그들의 제조법
EP1127844B1 (en) Finely particulate titanium-containing substance, coating fluid containing the same, processes for producing these, and molded article having thin film comprising the substance
JPH1067516A (ja) アナターゼ分散液およびその製造方法
KR101078946B1 (ko) 광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복제품
JP4112691B2 (ja) 表面親水性基体
JP3748978B2 (ja) 吸着機能体
JPH072522A (ja) 酸化チタン膜の製造方法
JP4117371B2 (ja) シリカ−チタニア複合膜とその製造方法及び複合構造体
JPH08309203A (ja) 光触媒組成物
JPH1119520A (ja) 光触媒活性を有する機能材料の製造方法
Katagiri et al. Low temperature crystallization of TiO2 in layer-by-layer assembled thin films formed from water-soluble Ti-complex and polycations
JP2001031483A (ja) 光触媒機能を備えるセラミックス建材の製造方法
KR101218871B1 (ko) 광촉매 담지체 및 그 제조방법
KR100572438B1 (ko) 광촉매 산화물이 코팅된 자동차 사이드 미러의 코팅방법
JPH10337478A (ja) 酸化チタン光触媒用ゾル、光触媒多機能部材の製造方法および使用方法
JPH10249211A (ja) 光触媒活性を有する薄膜の製造方法
JPH11171537A (ja) 被膜構成体及びその製造方法
JP2004043304A (ja) 二酸化チタン薄膜の形成方法およびその二酸化チタン薄膜を有する触媒等
JPH1171138A (ja) 光触媒薄膜の形成方法、光触媒薄膜形成用型、及び光触媒薄膜

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060831

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060925

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060929

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101006

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111006

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111006

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131006

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term