JPH1051005A5 - - Google Patents
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- JPH1051005A5 JPH1051005A5 JP1996219314A JP21931496A JPH1051005A5 JP H1051005 A5 JPH1051005 A5 JP H1051005A5 JP 1996219314 A JP1996219314 A JP 1996219314A JP 21931496 A JP21931496 A JP 21931496A JP H1051005 A5 JPH1051005 A5 JP H1051005A5
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- JP
- Japan
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- active layer
- film
- thermal oxide
- oxide film
- gate insulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21931496A JPH1051005A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | 半導体装置およびその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21931496A JPH1051005A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | 半導体装置およびその作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1051005A JPH1051005A (ja) | 1998-02-20 |
| JPH1051005A5 true JPH1051005A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2004-08-12 |
Family
ID=16733551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21931496A Withdrawn JPH1051005A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | 半導体装置およびその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1051005A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5998838A (en) | 1997-03-03 | 1999-12-07 | Nec Corporation | Thin film transistor |
| JP4030193B2 (ja) | 1998-07-16 | 2008-01-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
| JP3643067B2 (ja) | 2001-10-11 | 2005-04-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体表示装置の設計方法 |
-
1996
- 1996-08-01 JP JP21931496A patent/JPH1051005A/ja not_active Withdrawn
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