JPH10506642A - （−）６−クロロ−４−シクロプロピルエチニル−４−トリフルオロメチル−１，４−ジヒドロ−２ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−２−オンの不斉合成 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 キラルアミノアルコールの存在下キラル生成物を生成する、アセチリドとトリフルオロメチルケトンを含む非常に強力なＨＩＶ逆転写阻害剤（Ｉ）の改良合成を開示する。

Description

【発明の詳細な説明】(-)6- クロロ−４−シクロプロピルエチニル−４−トリフルオロメチル−１，４ −ジヒドロ−２Ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−２−オンの不斉合成 発明の背景 ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）と命名されたレトロウイルスは、免疫系の進 行的破壊（後天性免疫不全症候群；ＡＩＤＳ）及び中枢と抹消神経系の変性を含 む複合疾患の病原体である。このウイルスは依然はＬＡＶ、ＨＴＬＶ−III、又 はＡＲＶと言われていた。レトロウイルス複製の共通の性質は、ウイルス複製に 必要なステップである、ＨＩＶ配列のＤＮＡコピーを産生するためにウイルスに コードされている逆転写酵素によってＲＮＡゲノムを逆転写することである。例 えばアジドチミジン即ちＡＺＴのように、幾つかの化合物が逆転写酵素阻害剤で あり、ＡＩＤＳ及び同様の疾患の治療に有効な薬剤であることが公知である。 ＨＩＶのヌクレオチド配列決定によって、読取り枠にｐｏｌ遺伝子の存在が示 される（Ratner,L.ら、Nature，313，277(1985)）。アミノ酸配列相同性によっ て、ｐｏｌ配列は逆転写 酵素、エンドヌクレアーゼ、及びＨＩＶプロテアーゼをコードするという証拠が 示される（Toh,H.ら、EMBO J.,4,1267(1985)；Power,M.D.ら、Science，231，15 67（1986）；Pearl,L.H.ら、Nature，329，351(1987)）。 本出願人は、（−）６−クロロ−４−シクロプロピルエチニル−４−トリフル オロメチル−４−トリフルオロメチル−１，４−ジヒドロ−２Ｈ−３，１−ベン ゾオキサジン−２−オンと命名される（以後、“化合物Ａ”という）構造 を有するＨＩＶ逆転写酵素の阻害剤の非常に改良された合成を開示する。この化 合物は、他のＡＩＤＳ抗ウイルス化合物に耐性なＨＩＶ逆転写酵素にさえ、非常 に強力である。 本出願人は、化合物Ａの不斉合成方法を発明した。従来の方法ではラセミ化合 物である最後から二番目の生成物が必要であり、全体の収率は低い。本発明は、 ケトン中間体へのキラル付 加によって第３級アルコールを得ることによる光学活性な化合物Ａの直接合成（ ９５％以上のエナンチオマー過剰率）に関する。 更に、アセチリドとトリフルオロメチルケトンの反応によって光学活性生成物 が生成することは予想外である。本発明では、不斉合成経路で付加反応を仲介す るキラルアミノアルコールを用いて達成される。 本出願人は、トリフルオロケトンの添加前に、リチオ化キラルアミノアルコー ルとシクロプロピルアセチレンの混合物を加熱（次に冷却）すると、エナンチオ マー過剰率が典型的実験での約８５％から約９５％以上に上がることも見出した 。異常に高レベルの光学活性（>９５％ｅｅ）のために、本方法は有利で実用的 になる。発明の概要 （−）６−クロロ−４−シクロプロピルエチニル−４−トリフルオロメチル− １，４−ジヒドロ−２Ｈ−３，１−ベンゾオキサジン−２−オンの改良合成を開 示する。本合成は、ケトン中間体にキラル付加を行い第３級アルコールを得るこ とを含む。本化合物は、ＨＩＶ逆転写酵素（及びその耐性変異体）の阻害、 ＨＩＶ感染の予防、ＨＩＶ感染の治療、及びＡＩＤＳ及び／又はＡＲＣの治療に 、化合物、医薬として許容できる塩（適当な場合）、又は医薬組成物成分として 、他の抗ウイルス剤、抗感染剤、免疫調節剤、抗体、又はワクチンと組合せても 、組合せなくとも有用である。ＡＩＤＳ治療方法、ＨＩＶ感染の予防方法、及び ＨＩＶ感染の治療方法も開示する。発明の詳細な説明及び好適実施態様 本発明で、構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有するキラル化合物の不斉合成方法であって、 （ａ）構造 （式中、ＲはＣ_1-4アルキル、又は−ＮＲ₂はピロリジニルもしくはピペリジニル を形成する） を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−置換ノルエフェドリン、過剰のシクロプロ ピルアセチレン、及びｎ−ブチルリチウム又はｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅ ｒｔ−ブチルリチウムから選択される過剰のリチオ化剤の混合物を、温度約−７ ８℃〜約１０℃で非プロトン性溶媒中で提供すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有する反応体の約１当量と混合し、得られた反応混合物を温度約−７８℃〜約 −２０℃に維持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を得ること； の各工程を含むことを特徴とする上記方法を開示する。 本発明の一つの実施態様は、構造 を有するキラル化合物Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−［（Ｒ ）−シクロプロピルエチニル−ヒドロキシ−トリフルオロメチル］−メチル−ア ニリンの不斉合成方法であって、 （ａ）構造 （式中、ＲはＣ_1-4アルキル、又は−ＮＲ₂はピロリジニルもしくはピペリジニル を形成する） を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−置換ノルエフェドリン、過剰のシクロプロ ピルアセチレン、及びｎ−ブチルリチウム又はｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅ ｒｔ−ブチルリチウムから 選択される過剰のリチオ化剤の混合物を、温度約−７８℃〜約１０℃で非プロト ン性溶媒中で提供すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 を有する反応体Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−（２−トリフ ルオロ−１−オキソ−エチル）−アニリンの約１当量と混合し、得られた反応混 合物を温度約−７８℃〜約−２０℃に維持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を得ること； の各工程を含むことを特徴とする上記方法である。 本発明のもう一つの実施態様は、構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有するキラル化合物の不斉合成方法であって、 （ａ）構造 を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−ピロリジニルノルエフェドリン、過剰のシ クロプロピルアセチレン、及びｎ−ブチルリチウム又はｓｅｃ−ブチルリチウム 又はｔｅｒｔ−ブチルリチウムから選択される過剰のリチオ化剤の混合物を、温 度約−１５℃で非プロトン性溶媒中で提供すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有する反応体の約１当量と混合し、得られた反応混合物を温 度約−４０℃に維持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を得ること； の各工程含むことを特徴とする上記方法である。 本発明のもう一つの実施態様は、構造 を有するキラル化合物Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−［（Ｒ ）−シクロプロピルエチニル−ヒドロキシ−トリフルオロメチル］−メチル−ア ニリンの不斉合成方法であって、 （ａ）構造 を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−ピロリジニルノルエフェドリン、過剰のシ クロプロピルアセチレン、及び過剰のｎ−ブチルリチウムの混合物を、温度約− １５℃で非プロトン性溶媒中で提供すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 を有する反応体Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−（２−トリフ ルオロ−１−オキソ−エチル）−アニリンの約１当量と混合し、得られた反応混 合物を温度約−４０℃に維持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を収率８５％以上、９５％以上のｅｅで得ること； の各工程を含むことを特徴とする上記方法である。 上記方法のいずれも、更なる加熱工程を工程（ａ）と工程（ｂ）の間に行うこ と（次に冷却すること）、即ち工程（ａ）の混合 物を約−１０℃〜約１０℃に少なくとも５分間加熱し、次にトリフルオロケトン の添加前に温度約−７８℃〜約−２０℃に冷却することによって、エナンチオマ ー過剰率を改良するように改変できる。工程（ａ）の混合物の温度が既に約−１ ０℃〜約１０℃になっている場合には、温度を上げてもエナンチオマー過剰率を 改良しえない可能性がある。 エナンチオマー過剰率の改良の一つの好適改変は、更なる加熱工程を工程（ａ ）と工程（ｂ）の間に行うこと（次に冷却すること）、即ち、トリフルオロケト ンの添加前に、工程（ａ）の混合物を約−１０℃〜約０℃に約１０分〜約６０分 間加熱し、次に温度少なくとも約−４０℃に冷却することである。 本発明は、構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である）を有する化合物も包含する。 本発明が包含する別の化合物は、構造 を有するＮ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−［（Ｒ）−シクロプ ロピルエチニル−ヒドロキシ−トリフルオロメチル］−メチル−アニリンである 。 最初に、非プロトン性溶媒中の過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−置換ノルエフェド リンを過剰のシクロプロピルアセチレンと混合し、過剰のｎ−ＢｕＬｉ又はｓｅ ｃ−ブチルリチウム又はｔｅｒｔ−ブチルリチウムによるリチオ化によって酸性 プロトンを除去する。得られた混合物を、約−７８℃〜約１０℃の温度、好まし くは約−１５℃に保つ。 得られた混合物を約−１０℃〜約１０℃に加熱すると、生成物６が非常に大き いエナンチオマー過剰率、典型的には約８５％以下の代わりに約９５％で生成す る。本発明の幾つかの方 法ではこの加熱工程を省き、他の方法では含む。 本発明の方法では、Ｐは適切なアミノ保護基のいずれでもよく、非置換の、又 はＣ_1-4アルキルで置換されたベンジル；パラメトキシベンジル；パラ−ニトロ ベンジル；パラ−クロロベンジル；２，４−ジクロロベンジル；２，４−ジメト キシベンジル；４−メチルスルフィニルベンジル；９−アントリルメチル；ジフ ェニルメチル；又はＮ−トリアルキルシリル基（T.W.Greeneら、Protective gro ups in Organic synthesis ２版 John Wiley 1991，pp.309-405に記載されてい る）などがあるが、これらに限定されない。好適なアミノ保護基はパラ−メトキ シベンジルである。約１当量のケトン５、即ちトリフルオロケトンを添加して反 応を開始するときには、得られた反応混合物を約−７８℃〜約−２０℃、好まし くは約−４０℃に保つ。反応は非プロトン性溶媒又はエーテル性溶媒中で行う。 非プロトン性溶媒の例は、ＴＨＦ、ジオキサン、Ｅｔ₂Ｏ、ベンゼン、ＤＭＥ、 ＰｈｅＭＥ、ｎ−オクタン、ｎ−ヘキサン、及びシクロヘキサン、又はそれらの 混合物などである。一つの好適な溶媒はＴＨＦである。この反応のインキュベー ション時間は、ケトン添加後少なくとも２〜３分である。 この時点で、反応混合物の反応を水媒質中のプロトン源、典型的には温和な酸 の添加によって止める。任意のこのようなプロトン源が適切であり、例えば一つ の好適なプロトン源は１Ｍクエン酸であり、もう一つは１Ｍ酢酸である。 キラル生成物６は通常の技術で精製される。 本発明の化合物は不斉中心を有しえ、特に記載されていなければラセミ化合物 、ラセミ混合物、又は個々のジアステレオマーとして、又はエナンチオマーとし て存在しうるが、全ての異性体は本発明に含まれるものとする。（＋／−）とい う用語は、（＋）光学異性体又は（−）光学異性体又はそれらの混合物を包含す るものとする。 変化しうる基（例えばＲ）が説明文又は式Ｉで二度以上存在するときには、各 存在での定義は他のあらゆる存在とは無関係である。また、置換基及び／又は変 化しうる基の組合せは、このような組合せによって安定な化合物ができる場合の み許される。 特に記載されていなければ、本明細書で使用する“アルキル”は、特定数の炭 素原子を有する、分岐鎖及び直鎖の飽和脂肪族炭化水素基であるものとする。炭 素原子数が特定されていない 場合は、“アルキル”は１〜４個の炭素原子の、分岐鎖及び直鎖の飽和脂肪族炭 化水素基を含むものとする。本明細書で使用する“ハロゲン”又は“ハロ”は、 フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードを意味する。 化合物Ａは以下の方法で合成できる。 ６の生成で反応物であるシクロプロピルアセチレンは、以下の別のスキームに よって製造する。 （C.E.Hudsonら、J.Am.Chem.Soc.,94,1158(1972)及びW．Schoberthら、Synthe sis,703(1972)にも記載されている） スキームIIＢは実施例３で説明するが、好適なものである。 化合物Ａは、抗ウイルス化合物のスクリーニングアッセイの構築と実施に有用 である。例えば、化合物Ａは、より強力な抗 ウイルス化合物の良好なスクリーニングツールである酵素変異体の単離のために 有用である。更に、化合物Ａは、ＨＩＶ逆転写酵素の他の抗ウイルス剤の結合部 位を、例えば競合阻害によって確立又は決定するのに有用である。従って、化合 物Ａはこれらの目的のための市販品である。 化合物Ａは、ＨＩＶ逆転写酵素の阻害、ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）の感 染の予防又は治療、及びＡＩＤＳなどの結果として起る病理的状態の治療に有用 である。ＡＩＤＳの治療又はＨＩＶ感染の予防もしくは治療は、ＨＩＶ感染の広 範囲の状態、即ちＡＩＤＳ、ＡＲＳ（ＡＩＤＳ関連症候群）、有症候及び無症候 、並びにＨＩＶへの実際の接触又は接触の可能性の治療を含むものとして定義さ れるが、それらに限定されない。例えば、化合物Ａは、ＨＩＶへの過去の接触の 疑い、例えば輸血、体液交換、刺傷、注射針突刺事故、又は手術中に患者の血液 と接触することなどの後、ＨＩＶ感染を治療するのに有用である。 化合物Ａの特別の利点は、Ｌ−６９７，６６１（３−［（４，７−ジクロロ− １，３−ベンゾオキサゾル−２−イル）メチル］−アミノ）−５−エチル−６− メチル−ピリジン−２（１Ｈ）−オン）又はＬ−６９６，２２９（３−［２−（ １，３−ベン ゾオキサゾル−２−イル）エチル］−５−エチル−６−メチル−ピリジン−２（ １Ｈ）−オン）又はＡＺＴなどの他の抗ウイルス剤に耐性なＨＩＶ逆転写酵素に 対する強力な阻害である。 これらの目的のために、化合物Ａは、通常の非毒性の医薬として許容できる担 体、アジュバント及びビヒクルを含む投与単位形態で、経口、非経口（皮下注射 、静脈注射、筋肉注射、胸骨注射、又は輸液技術を含む）、吸入噴霧、又は経直 腸で投与できる。 従って、本発明によって、ＨＩＶ感染及びＡＩＤＳ治療方法並びにＨＩＶ感染 及びＡＩＤＳ治療用医薬組成物を提供する。治療は、このような治療の必要のあ る患者に、医薬担体と治療上有効量の本発明の化合物を含む医薬組成物を投与す ることを含む。 これらの医薬組成物は、経口投与可能懸濁液又は錠剤；鼻内噴霧液；例えば滅 菌注射可能水性又は油性懸濁液などの滅菌注射可能製剤；あるいは座薬の形態で ありうる。 懸濁液として経口投与する場合、これらの組成物は、製剤業界周知の技術に従 い製造され、当業界公知の、増嵩剤として微結晶性セルロース、懸濁剤としてア ルギン酸もしくはアルギン 酸ナトリウム、粘度増強剤としてメチルセルロース、及び甘味剤／着香剤を含み うる。即時放出型錠剤として、これらの組成物は、当業界公知の、微結晶セルロ ース、リン酸二カルシウム、澱粉、ステアリン酸ナトリウム及び乳糖及び／又は 他の賦形剤、結合剤、伸展剤、崩壊剤、希釈剤及び潤滑剤を含みうる。 鼻内エアゾル又は吸入によって投与される場合、これらの組成物は、製剤業界 周知の技術に従い製造され、当業界公知の、ベンジルアルコール又は他の適切な 保存剤、生物利用性を高める吸収促進剤、フルオロカーボン、及び／又は他の可 溶化剤又は分散剤を用いて生理食塩水中の溶液として製造できる。 注射可能溶液又は懸濁液は、適切な非毒性の非経口の許容できる希釈剤又は溶 媒、例えばマンニトール、１，３−ブタンジオール、水、リンゲル液もしくは等 張性塩化ナトリウム溶液、又は適切な分散剤もしくは湿潤剤及び懸濁剤、例えば 滅菌柔和不揮発性油（合成モノもしくはジグリセリド、及びオレイン酸を含む脂 肪酸を含む）を用い、公知技術に従い製造できる。 座薬の形態で直腸に投与する場合、これらの組成物は、通常の温度では固体で あるが、直腸内では液化及び／又は溶解し、薬剤を放出する、カカオバター、合 成グリセリドエステル又は ポリエチレングリコールなどの、適切な非刺激性賦形剤と薬剤を混合して製造で きる。 化合物Ａは、分割投与で、１〜１００ｍｇ／体重１ｋｇの投与量範囲でヒトに 経口で投与できる。一つの好適投与量範囲は、分割投与で、経口で、０．１〜１ ０ｍｇ／体重１ｋｇである。別の好適投与量範囲は、分割投与で、経口で、０． １〜２０ｍｇ／体重１ｋｇである。ヌクレオシドアナログとの組合せ治療の場合 、好適投与量範囲は、分割投与、経口で投与されるときには本発明の化合物０． １〜２０ｍｇ／体重１ｋｇ、及びヌクレオシドアナログ５０ｍｇ〜５ｇ／体重１ ｋｇである。しかし、特定の患者のための特定の投与レベルと投与回数は、変化 しえ、使用する特定の化合物の活性、代謝安定性及びその化合物の作用時間、年 齢、体重、全般的健康、性別、食餌、投与方法及び投与時間、排出速度、薬剤組 合せ、特定の疾患の程度、並びに治療を受ける患者などの種々の因子によること が理解されよう。 実施例１ ４−クロロフェニル−ピバルアミドの製造 トルエン（６００ｍＬ）中の４−クロロアニリン（７６ｇ）の溶液に飽和Ｎａ₂ ＣＯ₃（９３ｍＬ）を加えた。バッチを１０℃に冷却し、塩化ピバロイル（７４ ｍＬ）を４５分かけて滴下添加した。反応の進行をＨＰＬＣでモニターしながら 、バッチを５〜１０℃で６０分間攪拌した。 アニリンへの塩化ピバロイルの添加は発熱的であった。 ＨＰＬＣ条件：Ｃ−８カラム、ＣＨ₃ＣＮ、水、リン酸；４ ０：６０：１→８０：２０：０．１（２０分）のグラジエント溶出、流速＝１． ０ｍＬ／分、ＵＶ検出２４５ｎｍ、出発物質ｔＲ＝７．２分、ピバルアミド＝１ ２．６分。 生成物は濾過で単離し、脱イオン水（３×７５ｍＬ）で洗浄し、１０分間の吸 引下で空気乾燥した。生成物を、Ｎ₂パージ下４０℃で１６時間真空乾燥し、生 成物１０８．５ｇを白色微針状結晶として得た（８６％）。 実施例２ ４−クロロ−ケト−アニリン４の製造 ５００ｍＬ容の３首フラスコ中の乾燥ＴＨＦ（７５ｍＬ）にピバルアミド（１ ０ｇ）を溶解し、混合液を０℃に冷却した。この溶液にｎ−ＢｕＬｉ／ヘキサン （２．５Ｍ，３８ｍＬ）を滴下添加し、その間内部温度が＋１５℃に上がった。 バッチを０℃で２時間放置した。 ピバルアミドへのｎ−ＢｕＬｉの最初の１当量の添加は、非常に発熱的であっ た。発熱を添加速度によって制御した。 得られた淡黄色懸濁液に純粋のトリフルオロ酢酸エチル（６．７ｍＬ）を加え 、その間内部温度が＋１０℃に上がった。反応の進行をＨＰＬＣでモニターした 。 ＨＰＬＣ条件：Ｃ−８カラム、ＣＨ₃ＣＮ、水、リン酸；４０：６０：０．１ →８０：２０：０．１（２０分）のグラジエント溶出、流速＝１．０ｍＬ／分、 ＵＶ検出２４５ｎｍ、出 発ピバルアミドｔＲ＝１２．６分、ケト−ピバルアミドｔＲ＝１１．６分。典型 的には、８５Ａ％生成物と１０〜１５Ａ％未反応ピバルアミドが存在した。 反応を、６Ｎ ＨＣｌ（１０ｍＬ）と脱イオン水（２０ｍＬ）を添加して止め た。 この時点で、ＨＰＬＣアッセイにより、生成物１３．１ｇ（９０％）が生成し たことが分った。 溶液を約５０ｍＬに真空濃縮し、エタノール（５０ｍＬ）でフラッシュし、ヘ キサンとＴＨＦを除去した。バッチに６Ｎ ＨＣｌ（４０ｍＬ）を加え、混合液 を１時間加熱還流（８０℃）した。 ＨＰＬＣアッセイにより、ケト−アニリン８５〜９０Ａ％、未反応ピバルアミ ド１０Ａ％の存在が分った。従って、アシル化物質が加水分解し、未反応ピバル アミドは変化せずに残る。この時点で、アッセイ収率は７．７８ｇ（７４％）で あった。 バッチを約５０ｍＬに真空濃縮し、その時点で沈殿物が生成した（恐らく生成 物のＨＣｌ塩）。蒸留を止め、バッチを０℃に冷却した。１時間放置後、バッチ を濾過し、ヘキサン（３×３０ｍＬ）で洗浄した。 ヘキサン洗浄により、生成物から未反応ピバルアミドが除去される。固体をＨ ＰＬＣで検討し、この時点で未反応ピバルアミドが完全に除去されていることを 確認する。濾液と洗浄液は典型的には生成物１．２〜１．５ｇ（８〜１２％）を 含む。生成物損失の大部分は濾過水に存在した。 塩を４０℃で１６時間真空オーブンで乾燥し、固体１０．４ｇを得、それは純 度７１．４重量％であった（収率７０％）。塩を脱イオン水（２６０ｍＬ）でス ラリーにし、２Ｎ ＮａＯＨ（１５ｍＬ）でｐＨ約６〜７に中和した。 生成物分解のため、ｐＨを９．０以上にしないことが重要である。 得られた明黄色固体を濾過で単離し、脱イオン水（２×２５ｍＬ）で洗浄した 。生成物を４０℃で１６時間真空オーブンで乾燥し、ケトアニリン６ｇを得たが 、それは純度９６．６重量％（収率５４％）であった。 ヘキサンからの再結晶化により生成物を更に精製した。 実施例３ Ｎ−４−メトキシベンジル−ケト−アニリン５の製造 ２５０ｍＬ容フラスコに、ケト−アニリン（１５．５ｇ）、活性化４Å分子篩 （５０ｇ）、及びトルエン（７５ｎＬ）を入れた。混合物をＮ₂下２３℃で２４ 時間撹拌した。ＨＰＬＣによるアッセイは、生成物と出発物資の約１：１混合物 を示した。 ＨＰＬＣ条件：Ｃ−８カラム、ＣＨ₃ＣＮ、水、リン酸；６５：３５：０．１ のイソクラティック溶出（２０分）、流速 ＝１．０ｍＬ／分、ＵＶ検出２６０ｎｍ、トルエンｔＲ＝５．７分、出発ケト− アニリンｔＲ＝６．５分、生成物ｔＲ＝１５．０分。典型的には、トルエン２５ Ａ％が存在した。 反応物を新鮮な分子篩（４０ｇ）にチャージし、２３℃で更に３日間撹拌した 。反応は完全であると判定され、出発物質の２Ａ％未満が残っていた。 あるいは、塩基性アルミナ又はシリカゲルを分子篩の代わりに用い、系からＨ Ｃｌを除去できる。 混合液をセライトで濾過し、黄色の大部分がセライトから洗浄されるまで、ア セトン（７×７５ｍＬ）でセライトを洗浄した。濾液を濃縮し、黄橙色の油状物 ２７ｇを得たが、それは放置すると固化した。その固体を熱ヘキサン（１００ｍ Ｌ）に溶解して精製した。バッチを室温に冷却し、次に氷−Ｈ₂Ｏ浴で０℃に冷 却した。１．５時間放置後、バッチを濾過し、冷ヘキサン（２×１０ｍＬ）で洗 浄した。バッチを１０分間の吸引により空気乾燥し、次に４０℃で２時間真空オ ーブンで乾燥した。これにより、明黄色粉末２０．５ｇ（８６％）を得た。 実施例４ シクロプロピルアセチレンの製造 Ｎ₂下、０℃のシクロヘキサン（８０ｍＬ）中の５−クロロ−１−ペンチンの 溶液に、シクロヘキサン中のｎ−ブチルリチウム（２．０Ｍ，１２２ｍＬ）を加 えた。混合液を７５℃に５時間加熱した。 アルキンへのｎ−ブチルリチウムの添加は発熱的であり、氷−Ｈ₂Ｏ浴を用い て、添加の間温度を＋５℃未満に保った。 環化工程の進行をＨＰＬＣでモニターした。反応は完全であ ると考えられ、そのときアッセイ収率は>９０％であった。 ＨＰＬＣ条件：フェニルカラム、ＣＨ₃ＣＮ、水、リン酸；５０：５０：１ア イソクラティック溶出（２０分）、流速＝１．０ｍＬ／分、ＵＶ検出１９５ｎｍ 、出発物質ｔＲ＝７．５分、シクロプロピルアセチレンｔＲ＝６．０分。生成物 は、出発物質より２０倍大きいレスポンスファクターを有した。 環化が完了したとき、反応液を０℃に冷却し、飽和ＮＨ₄Ｃｌで反応を止めた 。 ＨＰＬＣによる有機相のアッセイはシクロプロピルアセチレン５．５ｇ（収率 ８５％）を示した。 ４ｍｍガラスビーズで充填した６″×０．５″カラムを通す分留によって、生 成物を精製した。４５〜７５℃の間の沸点を有する分画を集めた。 これにより、シクロプロピルアセチレン４．２ｇ（６５％）を無色油状物とし て得た。 実施例５ アミノアルコールの製造 ピロリジニルエフェドリン（１３．１ｇ）をＴＨＦ（５５ｍＬ）に溶解し、混 合液を−１５℃に冷却した。Ｎ₂下、−１５℃の混合液に、純粋のシクロプロピ ルアセチレン（５．３ｍＬ）とｎ−ブチルリチウム（５０ｍＬ）を滴下添加した 。混合液を−５〜０℃に３０分間放置し、次に−５５℃に冷却した。 ｎ−ブチルリチウムの添加は発熱を引起したが、添加速度によって−５〜０℃ に保った。 Ｎ₂下、ＴＨＦ（２５ｍＬ）中にケトン（１０ｇ）を溶解し、１５分かけてア ニオン性混合液に加えたが、添加中内部温度が−４０℃に上がった。得られた明 橙色の溶液を−４０℃に６０分間放置し、１Ｍクエン酸（４５ｍＬ）と酢酸エチ ル（７５ｍＬ）を加えて反応を止めた。反応液を外界温度に温め、二層 を分離した。有機層を１Ｍクエン酸（４５ｍＬ）で洗浄した。反応混合液を、変 換％と生成物ｅｅのためにＨＰＬＣでアッセイした。 ＨＰＬＣ条件：Ｃ−８カラム、ＣＨ₃ＣＮ：水：リン酸、アイソクラティック 溶出、６５：３５：０．１（２０分間）、流速＝１．０ｍＬ／分、ＵＶ検出２５ ２ｎｍ、出発物質ｔＲ＝１２．８分、生成物ｔＲ＝１０．３分。 キラルＨＰＬＣ条件：アミロース固定相カラム、ヘキサン：イソプロパノール ８５：１５アイソクラティック溶出、流速＝１．０ｍＬ／分、ＵＶ検出２５２ ｎｍ、出発物質ｔＲ＝４．９分、主要エナンチオマーｔＲ＝５．５分、少量エナ ンチオマーｔＲ＝２５．０分。 エナンチオマー過剰率は９６．５％であり、反応変換は９３％（６Ａ％出発物 質）であった。アッセイ収率は８５％であった。２３℃で１８時間、１０：１ヘ プタン：トルエン（６５ｍＬ）中に混合して生成物を精製した。生成物を濾過で 単離し、３５℃でオーブン乾燥して、生成物９．５ｇ（８０％）を明黄色の粉末 として得た。 実施例６ ベンゾオキサジノンの製造 アミノ−アルコールをＴＨＦ（１５ｍＬ）に溶解し、Ｎ₂下−１０℃に冷却し た。混合液にトリエチルアミン（５．４ｍＬ）及びトルエン（４．６ｍＬ）中ホ スゲンを加えた。ホスゲンの添加により発熱したが、添加速度により２０℃未満 に維持した。 反応の進行をＨＰＬＣでモニターしたが、典型的には１５分で完了した。 ＨＰＬＣ条件：Ｃ−８カラム、ＣＨ₃ＣＮ：水：リン酸、グラジエント溶出（ ５０：５０：０．１→９０：１０：０．１、２０分）、流速＝１．５ｍＬ／分、 ＵＶ検出２５２ｎｍ、出発物質ｔＲ＝１４．６分、生成物ｔＲ＝１６．０分。 反応液を０℃に冷却し、氷冷水（１５ｍＬ）及び酢酸エチル（２０ｍＬ）で反 応を止めた。飽和ブラインを用いてエマルションを破壊した。有機層を除去し、 水層を酢酸エチル（１５ｍＬ）で抽出した。一緒にした有機層を１Ｍクエン酸（ ４０ｍＬ）及び飽和ブライン（２５ｍＬ）で洗浄した。有機層を乾燥し（Ｎａ₂ ＳＯ₄）、真空濃縮し、茶色の油状物３．８ｇを得た。 生成物を５：１ヘキサン：酢酸エチル（２５ｍＬ）から結晶化し、０℃に冷却 し、１時間放置し、濾過した。ケーキを冷５：１ ヘキサン：酢酸エチル（２× ５ｍＬ）で洗浄した。ケーキを、吸引で空気乾燥し、明橙色の固体２．９ｇ（８ ５％）を得た。 実施例７ 化合物Ａの製造 ｐ−メトキシベンジル保護化合物ＡをＣＨ₃ＣＮ（１５ｍＬ）に溶解した。こ の溶液に水（５ｍＬ）中の硝酸アンモニウムセリウム（４．４ｇ）溶液を加えた 。典型的には、ＨＰＬＣで判定して反応は２３℃で２時間で完了した。 ＨＰＬＣ条件：Ｃ−８カラム、ＣＨ₃ＣＮ：水：リン酸、グラジエント溶出（ ５０：５０：０．１→９０：１０：０．１、 ２０分）、流速＝１．５ｍＬ／分、ＵＶ検出２５２ｎｍ、出発物質ｔＲ＝１６． ０分、生成物ｔＲ＝９．０分。 反応液を脱イオン水（５ｍＬ）で希釈し、約１／２容量まで濃縮した。得られ た水層から酢酸エチル（２×１５ｍＬ）を用いて生成物を抽出した。一緒にした 有機層を脱イオン水（２×１０ｍＬ）及びブライン（１０ｍＬ）で洗浄した。有 機層を真空濃縮し、黄色のゴム状物を得た。シリカゲルクロマトグラフィーで生 成物を単離した。 逆転写酵素アッセイ 組換えＨＩＶ逆転写酵素（ＨＩＶ ＲＴ_R）（又は他のＲＴ）による、トリチ ウム化デオキシグアノシン一リン酸の酸沈殿性ｃＤＮＡへの取込みを、ｄＧＴＰ 及びポリｒ（Ｃ）・オリゴｄ（Ｇ）_12-18のＫｍ値で測定してアッセイを行う。 ８ｍＭ［³Ｈ］ｄＧＴＰ（New England Nuclear）−０．０１％ＴｒｉｔｏｎＸ −１００−５０ｍＭエチレングリコール−ビス（β−アミノ−エチルエーテル） −Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ酢酸（ＥＧＴＡ）−１ｍＬ当りウシ血清アルブミ ン１ｍｇ １ｍＬ当り５５ｍＭ Ｔｒｉｓ（ｐＨ８．２）−３０ｍＭ ＫＣｌ− ３０ｍＭ ＭｇＣｌ₂−１ｍＭジチオトレイトール−２０ μｇ ｒＣ：ｄＧ_12-18（Pharmacia）中で、アッセイを行った。３７℃でのイン キュベーション６０分後、酸沈殿性物質を、半自動細胞ハーベスターを用いガラ スファイバー上に集めた。ＲＴを含む細菌細胞抽出液をアッセイの直線範囲内に なるように希釈し、阻害剤の存在下及び不存在下で活性を測定した。E.coliで生 成した精製ＨＩＶ−１ＲＴヘテロダイマーも対照として用いた。５０％阻害（Ｉ Ｃ₅₀重量）（ｎｍｏｌ／Ｌ）を引起す阻害剤濃度として結果を測定した。化合物 ＡのＩＣ₅₀重量値は２ｎＭであった。 二重変異体アッセイ（ｄｍ）の場合、Ａ１７ＲＴをアッセイで用いた。Ａ１７ ＲＴは、種々のアミノピリドンに耐性であり、そのことはNunberg,J.H.ら、J.Vi rol.,65,4887(1991)に記載されている。ＩＣ₅₀ｄｍ（ｎｍｏｌ／Ｌ）として結果 を測定した。化合物ＡのＩＣ₅₀ｄｍは８５ｎＭであった。 細胞伝播アッセイ 細胞培養物中でのＨＩＶの伝播の阻害は、Nunberg,J.H.ら、J.Virol.,65,4887 (1991)に従い測定した。このアッセイでは、予め決定した接種材料を用いて、Ｍ Ｔ−４ Ｔリンパ球をＨＩＶ−１（特記していなければ、野生株）で感染させ、 培養物を２ ４時間インキュベートした。この時点で、細胞の１％以下だけが間接免疫蛍光法 で陽性であった。次に細胞を広範に洗浄し、９６穴培養ディッシュに分配した。 阻害剤を連続的に２倍希釈して、それを穴に加え、培養を更に３日間加えた。感 染後４日で、対照培養物の細胞の１００％が感染した。ＨＩＶ−１ ｐ２４蓄積 はウイルス伝播と直接関連した。細胞培養阻害濃度は、少なくとも９５％、即ち ＣＩＣ₉₅だけ感染伝播が減少する阻害剤濃度（ｎｍｏｌ／Ｌ）と定義した。 上記明細書は本発明の原理を教示し、実施例は実例の目的のために記載したが 、本発明の実施は、通常の変更、適応、又は改変の全てを包含し、それらは以下 の請求の範囲及びその均等物の範囲内に入ることが理解されよう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＢ ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ， ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，Ｌ Ｔ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 コーリー，エドワード・ジー アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 グランボウスキ，エドワード・ジエイ・ジ エイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 ヤスダ，ノブヨシ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有するキラル化合物の不斉合成方法であって、 （ａ）構造 （式中、ＲはＣ_1-4アルキル、又はＮＲ₂はピロリジニルもしくはピペリジニルを 形成する） を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−置換ノルエフェドリン、過剰のシクロプロ ピルアセチレン、及びｎ−ブチルリチウム又 はｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅｒｔ−ブチルリチウムから選択される過剰の リチオ化剤の混合物を、温度約−７８℃〜約１０℃で非プロトン性溶媒中で提供 すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有する反応体の約１当量と混合し、得られた反応混合物を温度約−７８℃〜約 −２０℃に維持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を得ること； の各工程を含むことを特徴とする上記方法。 ２． 構造 を有するキラル化合物Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−［（Ｒ ）−シクロプロピルエチニル−ヒドロキシ−トリフルオロメチル］−メチル−ア ニリンの不斉合成方法であって、 （ａ）構造 （式中、ＲはＣ_1-4アルキル、又は−ＮＲ₂はピロリジニルもしくはピペリジニル を形成する） を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−置換ノルエフェドリン、過剰のシクロプロ ピルアセチレン、及びｎ−ブチルリチウム又はｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅ ｒｔ−ブチルリチウムから選択される過剰のリチオ化剤の混合物を、温度約−７ ８℃〜約１０℃で非プロトン性溶媒中で提供すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 を有する反応体Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−（２−トリフ ルオロ−１−オキソ−エチル）−アニリンの約１当量と混合し、得られた反応混 合物を温度約−７８℃〜約−２０℃に維持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を得ること； の各工程を含むことを特徴とする上記方法。 ３． 構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有するキラル化合物の不斉合成方法であって、 （ａ）構造 を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−ピロリジニルノルエフェドリン、過剰のシ クロプロピルアセチレン、及びｎ−ブチルリチウム又はｓｅｃ−ブチルリチウム 又はｔｅｒｔ−ブチルリチウムから選択される過剰のリチオ化剤の混合物を、温 度約−１５℃で非プロトン性溶媒中で提供すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有する反応体の約１当量と混合し、得られた反応混合物を温度約−４０℃に維 持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を得ること； の各工程含むことを特徴とする上記方法。 ４． 構造 を有するキラル化合物Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−［（Ｒ ）−シクロプロピルエチニル−ヒドロキシ−トリフルオロメチル］−メチル−ア ニリンの不斉合成方法であって、 （ａ）構造 を有する過剰の（１Ｒ，２Ｓ）−Ｎ−ピロリジニルノルエフェ ドリン、過剰のシクロプロピルアセチレン、及び過剰のｎ−ブチルリチウムの混 合物を、温度約−１５℃で非プロトン性溶媒中で提供すること； （ｂ）工程（ａ）の混合物を、構造 を有する反応体Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−（２−トリフ ルオロ−１−オキソ−エチル）−アニリンの約１当量と混合し、得られた反応混 合物を温度約−４０℃〜に維持すること； （ｃ）プロトン源を添加して反応を止めること； （ｄ）所望の化合物を収率８５％以上、９５％以上のｅｅで得ること； の各工程を含むことを特徴とする上記方法。 ５． 更なる加熱工程を工程（ａ）と工程（ｂ）の間に行うこと、即ち工程（ａ ）の混合物を約−１０℃〜約１０℃に少なく とも５分間加熱し、次に工程（ｂ）の前に温度約−７８℃〜約−２０℃に冷却す ることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の方法。 ６． 更なる加熱工程を工程（ａ）と工程（ｂ）の間に行うこと、即ち工程（ａ ）の混合物を約−１０℃〜約０℃に約１０分〜約６０分間加熱し、次に工程（ｂ ）の前に温度少なくとも約−４０℃に冷却することを特徴とする請求項３〜４の いずれかに記載の方法。 ７． 構造 （式中、Ｐはアミノ保護基である） を有する化合物。 ８．構造 を有する化合物Ｎ−（４−メトキシベンジル）−６−クロロ−２−［（Ｒ）−シ クロプロピルエチニル−ヒドロキシ−トリフルオロメチル］−メチル−アニリン 。