JPH10339944A - ペリクルの製造方法 - Google Patents
ペリクルの製造方法Info
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- JPH10339944A JPH10339944A JP15085197A JP15085197A JPH10339944A JP H10339944 A JPH10339944 A JP H10339944A JP 15085197 A JP15085197 A JP 15085197A JP 15085197 A JP15085197 A JP 15085197A JP H10339944 A JPH10339944 A JP H10339944A
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- film
- pellicle
- substrate
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- pellicle film
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】高い張力を持ち、しわや膜のゆるみもないペリ
クルを歩留りよく生産できるぺリクルの製造方法を提供
する。 【解決手段】基板表面に形成したペリクル膜表面に、こ
の膜を剥離するための支持枠を接着して膜を剥離した
後、この支持枠のみを加熱・膨張させるか、またはこの
支持枠を均等に外側に拡げて、このペリクル膜を延伸す
る。
クルを歩留りよく生産できるぺリクルの製造方法を提供
する。 【解決手段】基板表面に形成したペリクル膜表面に、こ
の膜を剥離するための支持枠を接着して膜を剥離した
後、この支持枠のみを加熱・膨張させるか、またはこの
支持枠を均等に外側に拡げて、このペリクル膜を延伸す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はペリクル膜の製造方
法、特にはLSI 、超LSI などの半導体デバイスあるいは
液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用されるペ
リクルの製造方法に関するものである。
法、特にはLSI 、超LSI などの半導体デバイスあるいは
液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用されるペ
リクルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】LSI 、超LSI などの半導体デバイスある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハー
あるいは液晶用原板に光を照射してパターニングをする
が、この時用いる露光原版にゴミが付着していると、こ
のゴミが光を吸収したり、光を反射してしまうため、転
写したパターニングが変形したり、エッジががさついた
りしてしまい、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導
体装置や液晶表示板などの性能や製造歩留りの低下をき
たすという問題があった。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハー
あるいは液晶用原板に光を照射してパターニングをする
が、この時用いる露光原版にゴミが付着していると、こ
のゴミが光を吸収したり、光を反射してしまうため、転
写したパターニングが変形したり、エッジががさついた
りしてしまい、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導
体装置や液晶表示板などの性能や製造歩留りの低下をき
たすという問題があった。
【０００３】このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われるが、クリーンルーム内でも露光原版を常
に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面にゴミ
よけのための露光用の光を良く通過させるペリクルを貼
着する方法が行われている。この場合、ゴミは露光原版
の表面には直接付着せず、ペリクル膜上に付着するた
め、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に
合わせておけば、ペリクル上のゴミは転写に無関係とな
る。ペリクルは光を良く通過させるニトロセルロース、
酢酸セルロース、フッ素樹脂などからなる透明なペリク
ル膜を、アルミニウム、ステンレスなどからなるペリク
ル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接
着する方法（特開昭58-219023 号公報参照）や、アクリ
ル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着する（米国特
許第4,861,402 号明細書、 特公昭63-27707号公報参照）
などの方法が採られている。
ームで行われるが、クリーンルーム内でも露光原版を常
に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面にゴミ
よけのための露光用の光を良く通過させるペリクルを貼
着する方法が行われている。この場合、ゴミは露光原版
の表面には直接付着せず、ペリクル膜上に付着するた
め、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に
合わせておけば、ペリクル上のゴミは転写に無関係とな
る。ペリクルは光を良く通過させるニトロセルロース、
酢酸セルロース、フッ素樹脂などからなる透明なペリク
ル膜を、アルミニウム、ステンレスなどからなるペリク
ル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接
着する方法（特開昭58-219023 号公報参照）や、アクリ
ル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着する（米国特
許第4,861,402 号明細書、 特公昭63-27707号公報参照）
などの方法が採られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ペリクル膜は、これら
の膜材料を溶媒を用いて3 〜10% の濃度の溶液に調整し
た後、スピンコーターやナイフコーターを用いる溶液キ
ャスト法でシリコンウエハーやガラス基板の上で成膜さ
せる方法で製造されており、このペリクル膜は基板から
剥離され、ペリクル枠に上記に示した溶媒や接着剤など
で接着される。しかし、通常ペリクル膜は高い透過率を
得るために非常に薄い高分子膜でできており、剛性がな
いため、基板から剥離を行うときやフレームに接着する
ときに、膜面にしわが発生するという問題点がある。ま
た、僅かな製造工程上の条件のずれにより、製品として
出来上がったペリクル膜の張力が小さくなり、外気の振
動の影響を受けて膜面が振動するなど、使い勝手に問題
点があった。
の膜材料を溶媒を用いて3 〜10% の濃度の溶液に調整し
た後、スピンコーターやナイフコーターを用いる溶液キ
ャスト法でシリコンウエハーやガラス基板の上で成膜さ
せる方法で製造されており、このペリクル膜は基板から
剥離され、ペリクル枠に上記に示した溶媒や接着剤など
で接着される。しかし、通常ペリクル膜は高い透過率を
得るために非常に薄い高分子膜でできており、剛性がな
いため、基板から剥離を行うときやフレームに接着する
ときに、膜面にしわが発生するという問題点がある。ま
た、僅かな製造工程上の条件のずれにより、製品として
出来上がったペリクル膜の張力が小さくなり、外気の振
動の影響を受けて膜面が振動するなど、使い勝手に問題
点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
問題点を解決するため鋭意検討を重ねた結果、基板表面
に形成したペリクル膜の剥離後に、該ペリクル膜を延伸
し、該膜を高い張力を持たせたままペリクルフレームに
接着すれば、上記の問題点を解決できることを見出だし
て本発明を完成させた。
問題点を解決するため鋭意検討を重ねた結果、基板表面
に形成したペリクル膜の剥離後に、該ペリクル膜を延伸
し、該膜を高い張力を持たせたままペリクルフレームに
接着すれば、上記の問題点を解決できることを見出だし
て本発明を完成させた。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明でのペリクル膜を延伸する
方法としては、基板表面に形成したペリクル膜表面に、
該膜を剥離するための支持枠を接着層を介して接着して
該膜を剥離した後、該支持枠のみを加熱・膨張させて該
ペリクル膜を延伸する方法、該支持枠を機械的に均等に
外側に拡げて該ペリクル膜を延伸する方法、または基板
表面に形成したペリクル膜表面に、該膜を剥離するため
の多角形支持枠を接着剤を介して接着して該膜を剥離し
た後、該支持枠を機械的に均等に前記多角形の各辺の垂
直方向に拡げて該膜を延伸する方法とすればよい。本発
明ではこのようにしてペリクル膜を延伸し、該膜を高い
張力を持たせたままペリクルフレームに接着することを
特徴とするものである。
方法としては、基板表面に形成したペリクル膜表面に、
該膜を剥離するための支持枠を接着層を介して接着して
該膜を剥離した後、該支持枠のみを加熱・膨張させて該
ペリクル膜を延伸する方法、該支持枠を機械的に均等に
外側に拡げて該ペリクル膜を延伸する方法、または基板
表面に形成したペリクル膜表面に、該膜を剥離するため
の多角形支持枠を接着剤を介して接着して該膜を剥離し
た後、該支持枠を機械的に均等に前記多角形の各辺の垂
直方向に拡げて該膜を延伸する方法とすればよい。本発
明ではこのようにしてペリクル膜を延伸し、該膜を高い
張力を持たせたままペリクルフレームに接着することを
特徴とするものである。
【０００７】以下これを図に基いて詳細に説明する。ペ
リクル膜の支持枠のみを加熱・膨張させてペリクル膜を
延伸する方法としては、支持枠を外部から熱源を用いて
加熱してもよいし、支持枠自体にヒーターを取りつけて
加熱してもよい。図１は、加熱により支持枠１のみが熱
膨張してペリクル膜２が延伸される様子を模式的に示し
たものであるが、この場合支持枠１は方形に限定される
ものではない。また、支持枠を均等に外側に拡げてペリ
クル膜を延伸する方法としては、図２に示したように分
割された支持枠３を機械的に均等に外側に拡げることに
より行えばよい。この場合の支持枠の形状は円形に限定
されるものではない。更に多角形支持枠を用いる方法と
しては、図３に示したように、８個の支持枠片６からな
る８角形支持枠５を用い、これを接着層７を介して基板
表面に形成したペリクル膜２の表面に接着し、基板表面
から剥離したのちスライダー８により心棒９を押しあげ
て各支持枠片６を矢印の方向に伸展することによって、
ペリクル膜を均等に多角形の各辺の垂直方向に延伸して
もよい。この場合の支持枠片の数は８個に限定されるも
のではない。
リクル膜の支持枠のみを加熱・膨張させてペリクル膜を
延伸する方法としては、支持枠を外部から熱源を用いて
加熱してもよいし、支持枠自体にヒーターを取りつけて
加熱してもよい。図１は、加熱により支持枠１のみが熱
膨張してペリクル膜２が延伸される様子を模式的に示し
たものであるが、この場合支持枠１は方形に限定される
ものではない。また、支持枠を均等に外側に拡げてペリ
クル膜を延伸する方法としては、図２に示したように分
割された支持枠３を機械的に均等に外側に拡げることに
より行えばよい。この場合の支持枠の形状は円形に限定
されるものではない。更に多角形支持枠を用いる方法と
しては、図３に示したように、８個の支持枠片６からな
る８角形支持枠５を用い、これを接着層７を介して基板
表面に形成したペリクル膜２の表面に接着し、基板表面
から剥離したのちスライダー８により心棒９を押しあげ
て各支持枠片６を矢印の方向に伸展することによって、
ペリクル膜を均等に多角形の各辺の垂直方向に延伸して
もよい。この場合の支持枠片の数は８個に限定されるも
のではない。
【０００８】本発明において用いられる膜形成用基板と
しては、シリコン単結晶や石英ガラスなどが例示される
が、これらに特に限定されるものではない。また基板の
形は円形、方形などとすればよいが、特に限定されるも
のではない。さらに、膜を剥離するための支持枠の材質
はステンレス、アルミニウムなどの金属類、窒化珪素、
炭化珪素などのセラミックス、ポリイミド樹脂、ポリカ
ーボネート、ポリテトラフルオロエチレンなどのプラス
チック類などが例示されるが、特にこれらに限定される
ものではない。
しては、シリコン単結晶や石英ガラスなどが例示される
が、これらに特に限定されるものではない。また基板の
形は円形、方形などとすればよいが、特に限定されるも
のではない。さらに、膜を剥離するための支持枠の材質
はステンレス、アルミニウムなどの金属類、窒化珪素、
炭化珪素などのセラミックス、ポリイミド樹脂、ポリカ
ーボネート、ポリテトラフルオロエチレンなどのプラス
チック類などが例示されるが、特にこれらに限定される
ものではない。
【０００９】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例を示す。 ［実施例１］スピンコート法により、外径200mm のシリ
コンウエハー基板上にフッ素樹脂の膜（旭ガラス社製サ
イトップ）を形成した後、膜を基板から剥離するための
ステンレス製支持枠をエポキシ接着剤を介して該膜に接
着した。ついで、この膜を水中で基板から剥離した後、
支持枠のみを80℃に３分間加熱して該支持枠のみを膨張
させ、該膜を延伸してこれに高い張力を持たせ、そのま
まの状態で更に一辺150mm の四角形状ペリクルフレーム
に該膜を接着して最終製品としてのペリクルを完成させ
た。この方法により100 枚のペリクルを製作したとこ
ろ、膜にしわができたものはなく、外気の振動の影響を
受けて膜面が振動してしまうという問題も発生しなかっ
た。
コンウエハー基板上にフッ素樹脂の膜（旭ガラス社製サ
イトップ）を形成した後、膜を基板から剥離するための
ステンレス製支持枠をエポキシ接着剤を介して該膜に接
着した。ついで、この膜を水中で基板から剥離した後、
支持枠のみを80℃に３分間加熱して該支持枠のみを膨張
させ、該膜を延伸してこれに高い張力を持たせ、そのま
まの状態で更に一辺150mm の四角形状ペリクルフレーム
に該膜を接着して最終製品としてのペリクルを完成させ
た。この方法により100 枚のペリクルを製作したとこ
ろ、膜にしわができたものはなく、外気の振動の影響を
受けて膜面が振動してしまうという問題も発生しなかっ
た。
【００１０】［実施例２］スピンコート法により、一辺
が200mm の方形の石英ガラス基板上にフッ素樹脂の膜
（旭ガラス社製サイトップ）を形成した後、膜を基板か
ら剥離するための分割可能なステンレス製支持枠をエポ
キシ接着剤を介して該膜に接着した。ついで、この膜を
水中で基板から剥離した後、支持枠を機械的に各辺方向
に１mmづつ外側に拡げ、該膜を延伸してこれに高い張力
を持たせ、そのままの状態で更に一辺150mm の四角形状
ペリクルフレームに該膜を接着して最終製品としてのペ
リクルを完成させた。この方法により100 枚のペリクル
を製作したところ、膜にしわができたものはなく、外気
に振動の影響を受けて膜面が振動してしまうという問題
も発生しなかった。
が200mm の方形の石英ガラス基板上にフッ素樹脂の膜
（旭ガラス社製サイトップ）を形成した後、膜を基板か
ら剥離するための分割可能なステンレス製支持枠をエポ
キシ接着剤を介して該膜に接着した。ついで、この膜を
水中で基板から剥離した後、支持枠を機械的に各辺方向
に１mmづつ外側に拡げ、該膜を延伸してこれに高い張力
を持たせ、そのままの状態で更に一辺150mm の四角形状
ペリクルフレームに該膜を接着して最終製品としてのペ
リクルを完成させた。この方法により100 枚のペリクル
を製作したところ、膜にしわができたものはなく、外気
に振動の影響を受けて膜面が振動してしまうという問題
も発生しなかった。
【００１１】［実施例３］スピンコート法により、外径
200mm のシリコンウエハー基板上にフッ素樹脂（旭ガラ
ス社製サイトップ）を形成した後、膜を基板から剥離す
るために図３に示した８個の支持枠片からなる８角形状
のステンレス製の多角形支持枠をエポキシ接着剤を介し
て該膜に接着した。ついで、この膜を水中で基板から剥
離した後、各支持枠片を図３（ｂ）のようにスライダー
８を介して心棒９を押し上げて矢印の方向に伸展させた
ところ、該膜は高い張力を持つものになったので、これ
をそのままの状態で更に一辺150 mmの四角形状ペリクル
フレームに該膜を接着して最終製品としてのペリクルを
完成させた。この方法により100 枚のペリクルを製作し
たところ、膜にしわができたものはなく、外気の振動の
影響を受けて膜面が振動してしまうという問題も発生し
なかった。
200mm のシリコンウエハー基板上にフッ素樹脂（旭ガラ
ス社製サイトップ）を形成した後、膜を基板から剥離す
るために図３に示した８個の支持枠片からなる８角形状
のステンレス製の多角形支持枠をエポキシ接着剤を介し
て該膜に接着した。ついで、この膜を水中で基板から剥
離した後、各支持枠片を図３（ｂ）のようにスライダー
８を介して心棒９を押し上げて矢印の方向に伸展させた
ところ、該膜は高い張力を持つものになったので、これ
をそのままの状態で更に一辺150 mmの四角形状ペリクル
フレームに該膜を接着して最終製品としてのペリクルを
完成させた。この方法により100 枚のペリクルを製作し
たところ、膜にしわができたものはなく、外気の振動の
影響を受けて膜面が振動してしまうという問題も発生し
なかった。
【００１２】［比較例］スピンコ−ト法により、一辺が
200mm の方形の石英ガラス基板上にフッ素樹脂の膜（旭
ガラス社製サイトップ）を形成した後、膜を基板から剥
離するためのステンレス製支持枠をエポキシ接着剤を介
して該膜に接着した。ついで、この膜を水中で基板から
剥離した後、該膜を延伸せずにそのままの状態で、更に
一辺150mm の四角形状ペリクルフレームに該膜を接着し
て最終製品としてのペリクルを完成させた。しかし、こ
の方法により100 枚のペリクルを製作したところ、23枚
のペリクルフレームのコーナー部にしわまたは膜の緩み
が発生していた。
200mm の方形の石英ガラス基板上にフッ素樹脂の膜（旭
ガラス社製サイトップ）を形成した後、膜を基板から剥
離するためのステンレス製支持枠をエポキシ接着剤を介
して該膜に接着した。ついで、この膜を水中で基板から
剥離した後、該膜を延伸せずにそのままの状態で、更に
一辺150mm の四角形状ペリクルフレームに該膜を接着し
て最終製品としてのペリクルを完成させた。しかし、こ
の方法により100 枚のペリクルを製作したところ、23枚
のペリクルフレームのコーナー部にしわまたは膜の緩み
が発生していた。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、高い張力を持ったペリ
クルをしわや膜のゆるみもなく、歩留りよく生産するこ
とができるので、目的とするペリクルを低価格で、しか
も高品質のものとして得ることができる。
クルをしわや膜のゆるみもなく、歩留りよく生産するこ
とができるので、目的とするペリクルを低価格で、しか
も高品質のものとして得ることができる。
【図１】加熱により支持枠のみが熱膨張してペリクル膜
が延伸される方法を模式的に示した図である。
が延伸される方法を模式的に示した図である。
【図２】分割された支持枠が均等に外側に拡がり、ペリ
クル膜が延伸される方法を模式的に示した図である。
クル膜が延伸される方法を模式的に示した図である。
【図３】多角形支持枠を用いてペリクル膜を均等に外側
に拡げる方法を模式的に示した図で、（ａ）はその平面
図、（ｂ）は（ａ）のＡ一Ａ′面の断面図を示したもの
である。
に拡げる方法を模式的に示した図で、（ａ）はその平面
図、（ｂ）は（ａ）のＡ一Ａ′面の断面図を示したもの
である。
１……加温可能な支持枠 ２……ペリクル膜 ３……分割可能な支持枠 ５……多角形支持枠 ６……支持枠片 ７……接着層 ８……スライダー ９……心棒 10……ピン
Claims (4)
- 【請求項１】平面基板上にペリクル膜を形成し、該基板
表面からペリクル膜を剥離した後、該ペリクル膜を延伸
し、該膜を高い張力を持たせたままペリクルフレームに
接着することを特徴とするペリクルの製造方法。 - 【請求項２】基板表面に形成したペリクル膜表面に、該
膜を剥離するための支持枠を接着層を介して接着して該
膜を剥離した後、該支持枠のみを加熱・膨張させて該ペ
リクル膜を延伸する請求項１に記載したペリクルの製造
方法。 - 【請求項３】基板表面に形成したペリクル膜表面に、該
膜を剥離するための支持枠を接着層を介して接着して該
膜を剥離した後、該支持枠を機械的に均等に半径方向に
拡げて該ペリクル膜を延伸する請求項１に記載したペリ
クルの製造方法。 - 【請求項４】基板表面に形成したペリクル膜表面に、該
膜を剥離するための多角形支持枠を接着層を介して接着
して該膜を剥離した後、該支持枠を機械的に均等に前記
多角形の各辺の垂直方向に拡げることで該膜を延伸する
請求項１に記載したペリクルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15085197A JP3386693B2 (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | ペリクルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15085197A JP3386693B2 (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | ペリクルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10339944A true JPH10339944A (ja) | 1998-12-22 |
| JP3386693B2 JP3386693B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=15505769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15085197A Expired - Fee Related JP3386693B2 (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | ペリクルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3386693B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012058400A (ja) * | 2010-09-07 | 2012-03-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクルの製造方法 |
| JP2013195852A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクルの製造方法及びペリクル |
| JP2013235087A (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルの製造方法 |
| KR101435226B1 (ko) * | 2008-05-02 | 2014-08-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 및 펠리클의 제조 방법 |
| JPWO2013141325A1 (ja) * | 2012-03-21 | 2015-08-03 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 |
| US10747104B2 (en) | 2017-03-27 | 2020-08-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing pellicle and apparatus for assembling pellicle |
| WO2023145604A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
-
1997
- 1997-06-09 JP JP15085197A patent/JP3386693B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR101435226B1 (ko) * | 2008-05-02 | 2014-08-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 및 펠리클의 제조 방법 |
| JP2012058400A (ja) * | 2010-09-07 | 2012-03-22 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクルの製造方法 |
| JP2013195852A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクルの製造方法及びペリクル |
| JPWO2013141325A1 (ja) * | 2012-03-21 | 2015-08-03 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 |
| JP2013235087A (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルの製造方法 |
| US10747104B2 (en) | 2017-03-27 | 2020-08-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing pellicle and apparatus for assembling pellicle |
| US11067887B2 (en) | 2017-03-27 | 2021-07-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for manufacturing pellicle |
| WO2023145604A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3386693B2 (ja) | 2003-03-17 |
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