JPH10338547A

JPH10338547A - ガラスペースト組成物

Info

Publication number: JPH10338547A
Application number: JP14648997A
Authority: JP
Inventors: Shiro Takahashi; 至郎高橋; Hideaki Masuko; 英明増子; Tadahiko Udagawa; 忠彦宇田川; Koji Kumano; 厚司熊野
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 1997-06-04
Filing date: 1997-06-04
Publication date: 1998-12-22
Anticipated expiration: 2017-06-04
Also published as: JP4006777B2

Abstract

(57)【要約】【課題】表面平滑性および無色透明性に優れたガ
ラス焼結体（ＰＤＰの誘電体層）を形成することができ
るガラスペースト組成物の提供。転写フィルムの製
造に好適に用いることができるガラスペースト組成物の
提供。膜形成材料層の転写性に優れた転写フィルム
を製造することのできるガラスペースト組成物の提供。【解決手段】ガラス粉末、結着樹脂および溶剤を含有
するガラスペースト組成物であって、前記ガラス粉末の
平均粒子径が１〜８μｍであり、当該ガラス粉末の粒子
径分布が下記（１）〜（２）の条件を満足する。（１）粒子径が１０μｍ以上である粒子の割合が２０重
量％以下であること。（２）粒子径が２．５〜３．８μｍの範囲にある粒子の
割合が２０重量％以上であること。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はガラスペースト組成
物に関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイパネ
ルの誘電体層などを形成するために好適に使用すること
ができるガラスペースト組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】最近において、平板状の蛍光表示体とし
てプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流
型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と
もいう。）の断面形状を示す模式図である。同図におい
て、１及び２は、対向配置されたガラス基板、３は隔壁
であり、ガラス基板１、ガラス基板２及び隔壁３により
セルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定さ
れたバス電極、５はガラス基板２に固定されたアドレス
電極、６はセル内に保持された蛍光物質、７はバス電極
４を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電
体層、８は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜であ
る。誘電体層７はガラス焼結体より形成され、その膜厚
は例えば２０〜５０μｍとされる。

【０００３】誘電体層７の形成方法としては、ガラス粉
末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物
（ガラスペースト組成物）を調製し、このガラスペース
ト組成物をスクリーン印刷法によってガラス基板１の表
面に塗布して乾燥することにより膜形成材料層を形成
し、次いでこの膜形成材料層を焼成することにより有機
物質を除去してガラス粉末を焼結させる方法が知られて
いる。

【０００４】ここに、ガラスペースト組成物を構成する
結着樹脂としては、メチルセルロース、エチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポ
リエチレングリコール、ウレタン系樹脂、メラミン系樹
脂などが知られており、これらのうち、ガラス粉末の分
散性、組成物の塗布特性、燃焼の容易性などの観点か
ら、エチルセルロースが好ましいとされている（例えば
特開平６−３２１６１９号公報参照）。

【０００５】しかして、ガラス基板１上に形成する膜形
成材料層の厚さは、焼成工程における有機物質の除去に
伴う膜厚の目減量を考慮して、形成すべき誘電体層７の
膜厚の１．３〜２．０倍程度とすることが必要であり、
例えば、誘電体層７の膜厚を２０〜５０μｍとするため
には、３０〜１００μｍ程度の厚さの膜形成材料層を形
成する必要がある。一方、前記ガラスペースト組成物を
スクリーン印刷法により塗布する場合に、１回の塗布処
理によって形成される塗膜の厚さは１５〜２５μｍ程度
である。このため、膜形成材料層を所定の厚さとするた
めには、ガラス基板の表面に対して、当該ガラスペース
ト組成物を複数回（例えば２〜７回）にわたり繰り返し
て塗布（多重印刷）する必要がある。

【０００６】しかしながら、スクリーン印刷法を利用す
る多重印刷によって膜形成材料層を形成する場合には、
当該膜形成材料層を焼成して形成される誘電体層が均一
な膜厚（例えば公差が±５％以内）を有するものとなら
ない。これは、スクリーン印刷法による多重印刷では、
ガラス基板の表面に対してガラスペースト組成物を均一
に塗布することが困難だからであり、塗布面積（パネル
サイズ）が大きいほど、また、塗布回数が多いほど誘電
体層における膜厚のバラツキの程度は大きいものとな
る。そして、多重印刷による塗布工程を経て得られるパ
ネル材料（当該誘電体層を有するガラス基板）には、そ
の面内において、膜厚のバラツキに起因する誘電特性に
バラツキが生じ、誘電特性のバラツキは、ＰＤＰにおけ
る表示欠陥（輝度ムラ）の原因となる。さらに、スクリ
ーン印刷法では、スクリーン版のメッシュ形状が膜形成
材料層の表面に転写されることがあり、このような膜形
成材料層を焼成して形成される誘電体層は、表面の平滑
性に劣るものとなる。

【０００７】スクリーン印刷法によって膜形成材料層を
形成する場合における上記のような問題を解決する手段
として、本発明者らは、ガラスペースト組成物を支持フ
ィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層を形成
し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極
が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜
形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表
面に誘電体層を形成する方法（以下、「ドライフィルム
法」という。）を含むＰＤＰの製造方法を提案している
（特願平８−１９６３０４号明細書参照）。ここに、ド
ライフィルム法における転写工程の一例としては、支持
フィルム上に膜形成材料層が形成されてなる複合フィル
ム（以下、「転写フィルム」という。）をガラス基板の
表面（電極固定面）に重ね合わせた後、当該転写フィル
ム上に加熱ローラを移動させることにより、膜形成材料
層をガラス基板の表面に加熱接着させ、次いで、ガラス
基板の表面に接着固定された膜形成材料層から支持フィ
ルムを剥離除去する方法を挙げることができる。そし
て、このようなドライフィルム法を含むＰＤＰの製造方
法によれば、膜厚均一性および表面平滑性の良好な誘電
体層を形成することができる。また、この製造方法によ
れば、誘電体層の形成材料である転写フィルムをロール
状に巻き取って保存することができる点からも有利であ
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、セルロ
ース誘導体などの従来公知の樹脂を含有するガラスペー
スト組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を
形成する（転写フィルムを製造する）場合において、転
写フィルムを構成する膜形成材料層が、ガラス基板に対
して十分な接着性（加熱接着性）を有するものではない
ため、支持フィルムからガラス基板の表面に転写されに
くいという問題がある。また、ＰＤＰを構成する誘電体
層に良好な電気的特性を発現させる観点から、当該誘電
体層には、更に優れた表面平滑性が要求される。さら
に、ＰＤＰを構成する誘電体層には、光透過率が高く、
無色透明性に優れていることが要求される。

【０００９】本発明は以上のような事情に基いてなされ
たものである。本発明の第１の目的は、表面平滑性に優
れたガラス焼結体を形成することができるガラスペース
ト組成物を提供することにある。本発明の第２の目的
は、無色透明性に優れたガラス焼結体を形成することが
できるガラスペースト組成物を提供することにある。本
発明の第３の目的は、比較的低温条件（６００℃以下）
で行われる焼成処理によって結着樹脂を完全に分解除去
することができ、これに由来する有機物質を含有しない
無色透明性に優れたガラス焼結体を形成することのでき
るガラスペースト組成物を提供することにある。本発明
の第４の目的は、ＰＤＰの誘電体層として好適なガラス
焼結体を形成することができるガラスペースト組成物を
提供することにある。本発明の第５の目的は、転写フィ
ルムの製造に好適に用いることができるガラスペースト
組成物を提供することにある。本発明の第６の目的は、
膜形成材料層の転写性（ガラス基板に対する膜形成材料
層の加熱接着性）に優れた転写フィルムを製造すること
のできるガラスペースト組成物を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明のガラスペースト
組成物は、（Ａ）平均粒子径が１〜８μｍであり、粒子
径分布が下記（１）および（２）に示す条件を満足する
ことを特徴とするガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂および
（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする。（１）粒子径が１０μｍ以上である粒子の割合が２０重
量％以下であること。（２）粒子径が２．５〜３．８μｍの範囲にある粒子の
割合が２０重量％以上であること。本発明の組成物においては、当該組成物中に占めるガラ
ス粉末の割合が５０重量％以上であることが好ましい。
また、本発明の組成物における結着樹脂はアクリル樹脂
であることが好ましい。

【００１１】

【作用】（１）組成物中に分散されるガラス粉末の平均粒子径お
よび粒子径分布を特定の範囲に制御することにより、優
れた表面平滑性と無色透明性とを兼ね備えたガラス焼結
体（例えば、ＰＤＰの誘電体層）を形成することができ
る。（２）結着樹脂としてアクリル樹脂が含有されているこ
とにより、形成される膜形成材料層には、ガラス基板に
対する優れた加熱接着性が発揮される。従って、本発明
の組成物を支持フィルム上に塗布して転写フィルムを製
造する場合において、得られる転写フィルムは、膜形成
材料層の転写性（ガラス基板への転写性）に優れたもの
となる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明のガラスペースト組
成物について詳細に説明する。本発明のガラスペースト
組成物は、ガラス粉末、アクリル樹脂からなる結着樹脂
および溶剤を必須成分として含有する。

【００１３】＜ガラス粉末の構成材料＞本発明の組成物
を構成するガラス粉体としては、その軟化点が４００〜
６００℃の範囲内にあるものが好ましい。ガラス粉末の
軟化点が４００℃未満である場合には、当該組成物によ
る膜形成材料層の焼成工程において、結着樹脂などの有
機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶
融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の
一部が残留し、この結果、誘電体層が着色されて光透過
率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が
６００℃を超える場合には、６００℃より高温で焼成す
る必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しや
すい。好適なガラス粉末の具体例としては、酸化
鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−Ｓｉ
Ｏ₂系）の混合物、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケ
イ素（ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）の混合物、
酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム
（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃系）の混合
物、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）の混合物な
どを例示することができる。

【００１４】＜ガラス粉末の平均粒子径＞本発明の組成
物を構成するガラス粉末の平均粒子径は、通常１〜８μ
ｍとされ、好ましくは２〜５μｍとされる。ガラス粉末
の平均粒子径が１μｍ未満であるガラスペースト組成物
を使用する場合には、当該組成物による膜形成材料層を
焼成処理するときに、ガラス粉末の分散媒である結着樹
脂などが分解除去されにくくなり、最終的に形成される
ガラス焼結体（誘電体層）に有機物質が残留してしま
う。そして、この結果、当該ガラス焼結体が着色された
り、白濁したりして、無色透明性の著しい低下を招く。
一方、ガラス粉末の平均粒子径が８μｍを超えるガラス
ペースト組成物を使用する場合には、当該組成物による
膜形成材料層を焼成処理して形成されるガラス焼結体
（誘電体層）が優れた表面平滑性（例えば中心線平均粗
さＲａの値が０．２μｍ以下）を有するものとならな
い。なお、「ガラス粉末の平均粒子径」は、レーザー回
折散乱法により測定された粒子径から求められる値をい
うものとする。

【００１５】＜ガラス粉末の粒子径分布＞本発明の組成
物を構成するガラス粉末の粒子径分布としては、先ず、
粒子径が１０μｍ以上である粒子の割合が２０重量％以
下であることが必要である。ガラス粉末の平均粒子径が
１〜８μｍの範囲内にあっても、粒子径が１０μｍ以上
である粗大粒子の割合が２０重量％を超える場合には、
最終的に形成されるガラス焼結体が、表面平滑性に劣る
ものとなる。さらに、ガラス粉末の粒子径分布として、
粒子径が２．５〜３．８μｍの範囲にある粒子の割合が
２０重量％以上であることが必要である。ガラス粉末の
平均粒子径が１〜８μｍの範囲内にあり、粗大粒子の割
合が２０重量％以下であっても、粒子径が２．５〜３．
８μｍの範囲にある粒子の割合が２０重量％未満である
場合には、ガラス粉末の粒度分布にバラつきが生じ、得
られる転写フィルムのフィルム強度が不均一になるた
め、形成されるガラス焼結体にひび割れが起こる場合が
ある。なお、「ガラス粉末の粒子径分布」は、レーザー
回折散乱法により測定された粒子径から求められる値を
いうものとする。

【００１６】ガラス粉末のＢＥＴ比表面積は１．５〜
５．５ｍ²／ｇの範囲にあることが好ましい。ＢＥＴ比
表面積が１．５ｍ²／ｇ未満である場合には、ガラスペ
ースト組成物における結着樹脂の吸着面積が小さすぎて
得られる転写フィルムのフィルム強度が小さくなるた
め、形成されるガラス焼結体が基板から剥離したり、ひ
び割れが起こったりする場合がある。一方、ＢＥＴ比表
面積が５．５ｍ²／ｇを超える場合には、ガラス粉末と
結着樹脂との吸着が強すぎて、焼成処理の際に結着樹脂
が除去されにくくなり、ガラス焼結体に残留してしまう
場合がある。

【００１７】また、ガラス粉末のＢｌａｉｎ値は６，０
００〜２０，０００の範囲にあることが好ましい。ここ
で、「Ｂｌａｉｎ値」とは、空気透過法により測定され
る比表面積であり、一般に、凝集二次粒子の比表面積を
表すと言われている。ガラス粉末のＢｌａｉｎ値が６，
０００未満である場合には、ガラスペースト組成物中に
凝集二次粒子が多く存在し、得られるガラス焼結体の表
面平滑性に悪影響を与える場合がある。一方、Ｂｌａｉ
ｎ値が２０，０００を超える場合には、ガラス粉末と結
着樹脂との吸着が強すぎて、焼成処理の際に結着樹脂が
除去されにくくなり、ガラス焼結体に残留してしまう場
合がある。

【００１８】本発明の組成物中に占めるガラス粉末の割
合としては、形成されるガラス焼結体に更に優れた無色
透明性（高い光透過率）を付与するという観点から、５
０重量％以上であることが好ましい。

【００１９】＜結着樹脂＞本発明の組成物は、結着樹脂
がアクリル樹脂であることが好ましい。結着樹脂として
アクリル樹脂が含有されていることにより、形成される
膜形成材料層には、ガラス基板に対する優れた（加熱）
接着性が発揮される。従って、本発明の組成物を支持フ
ィルム上に塗布して転写フィルムを製造する場合におい
て、得られる転写フィルムは、膜形成材料層の転写性
（ガラス基板への転写性）に優れたものとなる。かかる
アクリル樹脂としては、適度な粘着性を有してガラス粉
末を結着させることができ、膜形成材料の焼成処理温度
（４００℃〜６００℃）によって完全に酸化除去される
（共）重合体の中から選択される。かかるアクリル樹脂
には、下記一般式（１）で表される（メタ）アクリレー
ト化合物の単独重合体、下記一般式（１）で表される
（メタ）アクリレート化合物の２種以上の共重合体、お
よび下記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート
化合物と他の共重合性単量体との共重合体が含まれる。

【００２０】

【化１】

【００２１】〔式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を
示し、Ｒ²は１価の有機機を示す。〕

【００２２】上記一般式（１）で表される（メタ）アク
リレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メ
タ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）
アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペン
チル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレー
ト、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メ
タ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オ
クチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノ
ニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレー
ト、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メ
タ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アク
リレート、イソステアリル（メタ）アクリレートなどの
アルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー
ト、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロ
キシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート；フェノキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ル（メタ）アクリレートなどのフェノキシアルキル（メ
タ）アクリレート；２−メトキシエチル（メタ）アクリ
レート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２
−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル
（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキル（メ
タ）アクリレート；ポリエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチ
レングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプ
ロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポ
リプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニル
フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレ
ートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレ
ート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチ
ルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペン
タニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）ア
クリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メ
タ）アクリレートなどのシクロアルキル（メタ）アクリ
レート；ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル（メタ）アクリレートなどを挙げることがで
きる。これらのうち、上記一般式（１）中、Ｒ²で示さ
れる基が、アルキル基またはオキシアルキレン基を含有
する基であることが好ましく、特に好ましい（メタ）ア
クリレート化合物として、メチル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イ
ソデシル（メタ）アクリレートおよび２−エトキシエチ
ル（メタ）アクリレートを挙げることができる。（メ
タ）アクリレート化合物との共重合に供される他の共重
合性単量体としては、上記（メタ）アクリレート化合物
と共重合可能な化合物であれば特に制限はなく、例えば
（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、ビ
ニルフタル酸などの不飽和カルボン酸類；ビニルベンジ
ルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレンなど
のビニル基含有ラジカル重合性化合物を挙げることがで
きる。本発明の組成物を構成するアクリル樹脂におい
て、上記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート
化合物由来の共重合成分は、通常７０重量％以上、好ま
しくは９０重量％以上、さらに好ましくは１００重量％
である。本発明の組成物を構成する結着樹脂の分子量と
しては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子
量として２，０００〜３００，０００であることが好ま
しく、さらに好ましくは５，０００〜２００，０００と
される。

【００２３】本発明の組成物における結着樹脂の含有割
合としては、ガラス粉末１００重量部に対して、５〜４
０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは１０
〜３０重量部とされる。結着樹脂の割合が過小である場
合には、ガラス粉末を確実に結着保持することができ
ず、一方、この割合が過大である場合には、焼成工程に
長い時間を要したり、形成されるガラス焼結体（誘電体
層）が十分な強度や膜厚を有するものとならなかったり
する。

【００２４】＜溶剤＞本発明の組成物を構成する溶剤と
しては、ガラス粉末との親和性、結着樹脂の溶解性が良
好で、ガラスペースト組成物に適度な粘性を付与するこ
とができると共に、乾燥されることにより容易に蒸発除
去できるものであることが好ましい。また、特に好まし
い溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が１０
０〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエス
テル類（以下、これらを「特定溶剤」という。）を挙げ
ることができる。かかる特定溶剤の具体例としては、ジ
エチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノー
ル、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノー
ル、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル
系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの
飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エ
チル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系
エステル類などを例示することができ、これらのうち、
メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンア
ルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、
エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。
これらの特定溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わ
せて使用することができる。特定溶剤以外の溶剤の具体
例としては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテ
ート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、
ベンジルアルコールなどを挙げることができる。本発明
の組成物における溶剤の含有割合としては、組成物の粘
度を好適な範囲に維持する観点から、ガラス粉末１００
重量部に対して、５〜５０重量部であることが好まし
く、さらに好ましくは１０〜４０重量部とされる。ま
た、全溶剤に対する特定溶剤の含有割合は、５０重量％
以上であることが好ましく、更に好ましくは７０重量％
以上とされる。

【００２５】本発明のガラスペースト組成物には、上記
の必須成分のほかに、分散剤、粘着性付与剤、可塑剤、
表面張力調整剤、安定剤、消泡剤、分散剤などの各種添
加剤が任意成分として含有されていてもよい。好ましい
ガラスペースト組成物の一例を示せば、酸化鉛５０〜８
０重量％、酸化ホウ素５〜２０重量％、酸化ケイ素１０
〜３０重量％からなる混合物からなり、平均粒子径が３
μｍ、粒子径が１０μｍ以上である粒子の割合が１重量
％、粒子径が２．５〜３．８μｍの範囲にある粒子の割
合が９０重量％、ＢＥＴ比表面積が４．５ｍ²／ｇ、Ｂ
ｌａｉｎ値が１０，０００であるガラス粉末１００重量
部と、ポリブチルメタクリレート（アクリル樹脂）１０
〜３０重量部と、プロピレングリコールモノメチルエー
テル（溶剤）１０〜５０重量部とを必須成分として含有
する組成物を挙げることができる。本発明の組成物は、
上記ガラス粉末、結着樹脂および溶剤並びに任意成分
を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、サンドミ
ルなどの混練・分散機を用いて混練することにより調製
することができる。上記のようにして調製される本発明
の組成物は、塗布に適した流動性を有するペースト状の
組成物である。

【００２６】本発明の組成物は、転写フィルムを製造す
るために特に好適に使用することができる。この転写フ
ィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成
された膜形成材料層とにより構成され、ドライフィルム
法による誘電体層の形成工程に使用される複合材料であ
る。ここに、ドライフィルム法による支持フィルムへの
塗布工程に供されるガラスペースト組成物（本発明の組
成物）の粘度としては、１，０００〜３０，０００であ
ることが好ましい。転写フィルムを構成する支持フィル
ムは、耐熱性及び耐溶剤性を有するとともに可撓性を有
する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルム
が可撓性を有することにより、ロールコーター、ブレー
ドコーターなどによって本発明の組成物を塗布すること
ができ、膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存
し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹
脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ
エステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニ
ル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロ
ン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィル
ムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
転写フィルムを構成する膜形成材料層は、本発明の組成
物を前記支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤
の一部又は全部を除去することにより形成することがで
きる。本発明の組成物を支持フィルム上に塗布する方法
としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい（例えば
２０μｍ以上）塗膜を効率よく形成することができるも
のであることが好ましく、具体的には、ロールコーター
による塗布方法、ブレードコーターによる塗布方法、カ
ーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによ
る塗布方法などを好ましいものとして挙げることができ
る。なお、本発明の組成物が塗布される支持フィルムの
表面には離型処理が施されていることが好ましい。これ
により、ガラス基板への転写工程において、支持フィル
ムの剥離操作を容易に行うことができる。また、転写フ
ィルムには、膜形成材料層の表面に保護フィルム層が設
けられてもよい。このような保護フィルム層としては、
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフ
ィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げる
ことができる。

【００２７】本発明の組成物は、上記のように、支持フ
ィルム上に膜形成材料層を形成して転写フィルムを製造
する際に特に好適に使用することができるが、これらの
用途に限定されるものではなく、従来において公知の膜
形成材料層の形成方法、すなわち、スクリーン印刷法な
どによって当該組成物をガラス基板の表面に直接塗布
し、塗膜を乾燥することにより膜形成材料層を形成する
方法にも好適に使用することができる。ここに、スクリ
ーン印刷法によるガラス基板への塗布工程に供されるガ
ラスペースト組成物（本発明の組成物）の粘度として
は、１０，０００〜２００，０００であることが好まし
い。

【００２８】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において「部」は「重量部」を示す。また、以
下において使用されたガラス粉末の「平均粒子径および
粒子径分布」、「ＢＥＴ比表面積」および「Ｂｌａｉｎ
値」、並びに、形成された誘電体層における「Ｒａ中心
線平均粗さ（Ｒａ）」は、下記のようにして測定した。

【００２９】〔平均粒子径および粒子径分布〕ガラス粉
末に精製水を加えて２分間超音波をあてて分散した後、
「マイクロトラック」（日機装社製）を用いてレーザー
回折散乱法により、平均粒子径および粒子径分布を測定
した。なお、測定は非球形粒子モードで行った。

【００３０】〔ＢＥＴ比表面積〕ガラス粉末をサンプル
セルに入れ、２００℃で２０分間脱気処理を行った。そ
の後、ＢＥＴ比表面積測定装置「ＦｌｏｗｓｏｒｂII」
（島津製作所製）を用い、吸着ガスを窒素、キャリアガ
スをヘリウムとして、ＢＥＴ１点法により、ＢＥＴ比表
面積を算出した。

【００３１】〔Ｂｌａｉｎ値〕恒圧通気式比表面積測定
装置「ＳＳ−１００」（島津製作所製）を用い、測定を
行った。計算式は、コゼニー・カーマン式を用いた。

【００３２】〔Ｒａ中心線平均粗さ〕表面形状測定装置
「アルファステップ５００」（テンコールインスツルメ
ンツ（株）製）を用い、針圧５．８ｍｇ、スキャンスピ
ード１００μｍ／秒、スキャン処理２０００μｍで誘電
体層表面をスキャンして、Ｒａ中心線平均粗さ（Ｒａ）
を求めた。

【００３３】＜実施例１＞（１）ガラスペースト組成物の調製：ガラス粉末とし
て、酸化鉛６０重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化ケ
イ素３０重量％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−Ｓｉ
Ｏ₂系の混合物（軟化点５５０℃）からなり、平均粒子
径が３μｍ、粒子径が１０μｍ以上である粒子の割合が
２重量％、粒子径が２．５〜３．８μｍの範囲にある粒
子の割合が５５重量％、ＢＥＴ比表面積が２．８ｍ²／
ｇ、Ｂｌａｉｎ値が１４０００であるガラス粉末１００
部、結着樹脂として、ブチルメタクリレートとメチルメ
タクリレートとを共重合させて得られたアクリル樹脂
（共重合割合：ブチルメタクリレート／メチルメタクリ
レート＝７０／３０（重量比）、ＧＰＣによるポリスチ
レン換算の重量平均分子量：８０，０００）２０部、溶
剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル２０
部を分散機を用いて混練することにより、粘度が７，０
００ｃｐである本発明の組成物を調製した。

【００３４】（２）転写フィルムの製造：上記（１）で
調製した本発明の組成物を、予め離型処理したポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）よりなる支持フィルム
（幅４００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にロー
ルコータを用いて塗布し、形成された塗膜を１００℃で
５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これにより、
厚さ５０μｍの膜形成材料層が支持フィルム上に形成さ
れてなる転写フィルムを製造した。この転写フィルムに
ついて、膜形成材料層の表面状態を顕微鏡を用いて観察
したところ、ガラス粉末の凝集物、筋状の塗装跡、クレ
ーター、ピンホールなどの膜欠陥は認められなかった。

【００３５】（３）膜形成材料層の転写：２０インチパ
ネル用のガラス基板の表面（バス電極の固定面）に、膜
形成材料層の表面が当接されるよう、上記（２）で製造
した転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加
熱ロールにより熱圧着した。ここで、圧着条件として
は、加熱ロールの表面温度を１１０℃、ロール圧を３ｋ
ｇ／ｃｍ²、加熱ロールの移動速度を１ｍ／分とした。
熱圧着処理の終了後、膜形成材料層から支持フィルムを
剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に膜形成
材料層が転写されて密着した状態となった。

【００３６】（４）膜形成材料層の焼成処理および誘電
体層の評価：上記（３）により膜形成材料層を転写形成
したガラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を、常
温から１０℃／分の昇温速度で５６０℃まで昇温し、５
６０℃の温度雰囲気下３０分間にわたって焼成処理する
ことにより、ガラス基板の表面に、無色透明なガラス焼
結体よりなる誘電体層を形成した。この誘電体層の形状
を目視で観察したところ、ひび割れ、基板からの剥離な
どは認められなかった。この誘電体層の膜厚（平均膜厚
および公差）を測定したところ３０μｍ±１．０μｍの
範囲にあり、膜厚の均一性に優れているものであった。
また、この誘電体層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定し
たところ０．１μｍであり、表面平滑性に優れているこ
とが確認された。さらに、このようにして、誘電体層を
有するガラス基板よりなるパネル材料を５台分作製し、
形成された誘電体層の光透過率（測定波長６００ｎｍ）
を測定したところ９０％であり、良好な透明性を有する
ものであることが認められた。以上の結果をまとめて表
１に示す。

【００３７】＜実施例２〜５および比較例１〜５＞表１
に示す処方に従って、物性の異なるガラス粉末（酸化鉛
６０重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化ケイ素３０重
量％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系の混
合物）を使用したこと以外は実施例１と同様にして本発
明のガラスペースト組成物および比較用のガラスペース
ト組成物を調製した。次いで、得られたガラスペースト
組成物の各々を使用したこと以外は実施例１と同様にし
て転写フィルムを製造した。この転写フィルムにおいて
膜形成材料層の表面状態は、いずれもガラス粉末の凝集
物、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠
陥は認められなかった。その後、得られた転写フィルム
の各々を使用したこと以外は実施例１と同様にして、膜
形成材料層の転写および膜形成材料層の焼成処理を行っ
て、２０インチパネル用のガラス基板の表面に誘電体層
（厚さ３０μｍ±１．０μｍ）を形成した。

【００３８】実施例２〜５および比較例１〜５に係る組
成物の各々について、形成された誘電体層の形状を
評価し、当該誘電体層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を
測定し、当該誘電体層の光透過率（６００ｎｍ）を
測定した。ここに、誘電体層の形状は、ひび割れ、基板
からの剥離などの欠陥がなかった場合を「良好」と判定
した。以上の結果を表１に示す。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【発明の効果】本発明の組成物によれば下記のような効
果が奏される。（１）優れた表面平滑性（例えば、中心線平均粗さＲａ
が０．２μｍ以下）と、優れた無色透明性（高い光透過
率）とを兼ね備えたガラス焼結体を形成することがで
き、当該ガラス焼結体は、ＰＤＰの誘電体層として好適
である。（２）比較的低温条件（６００℃以下）で行われる焼成
によって結着樹脂を完全に分解除去することができ、こ
れに由来する有機物質を含有しない無色透明性に優れた
ガラス焼結体を形成することができる。（３）転写フィルムの製造に好適に使用することができ
る。（４）膜形成材料層の転写性（ガラス基板に対する膜形
成材料層の加熱接着性）に優れた転写フィルムを製造す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形
状を示す模式図である。

【符号の説明】

１ガラス基板２ガラス基板３隔壁４バス電極５アドレス電極６蛍光物質７誘電体層８保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者熊野厚司東京都中央区築地２丁目11番24号日本合成ゴム株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）平均粒子径が１〜８μｍであり、
粒子径分布が下記（１）および（２）に示す条件を満足
することを特徴とするガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂およ
び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするガラスペース
ト組成物。（１）粒子径が１０μｍ以上である粒子の割合が２０重
量％以下であること。（２）粒子径が２．５〜３．８μｍの範囲にある粒子の
割合が２０重量％以上であること。