JPH10326747A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH10326747A5
JPH10326747A5 JP1998075034A JP7503498A JPH10326747A5 JP H10326747 A5 JPH10326747 A5 JP H10326747A5 JP 1998075034 A JP1998075034 A JP 1998075034A JP 7503498 A JP7503498 A JP 7503498A JP H10326747 A5 JPH10326747 A5 JP H10326747A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
original
exposure apparatus
movable
movable part
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1998075034A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP3890136B2 (ja
JPH10326747A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP07503498A priority Critical patent/JP3890136B2/ja
Priority claimed from JP07503498A external-priority patent/JP3890136B2/ja
Priority to US09/046,553 priority patent/US6262794B1/en
Publication of JPH10326747A publication Critical patent/JPH10326747A/ja
Publication of JPH10326747A5 publication Critical patent/JPH10326747A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3890136B2 publication Critical patent/JP3890136B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP07503498A 1997-03-25 1998-03-10 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置 Expired - Fee Related JP3890136B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07503498A JP3890136B2 (ja) 1997-03-25 1998-03-10 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置
US09/046,553 US6262794B1 (en) 1997-03-25 1998-03-24 Exposure apparatus and device manufacturing method

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9-88655 1997-03-25
JP8865597 1997-03-25
JP07503498A JP3890136B2 (ja) 1997-03-25 1998-03-10 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006294944A Division JP4208914B2 (ja) 1997-03-25 2006-10-30 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPH10326747A JPH10326747A (ja) 1998-12-08
JPH10326747A5 true JPH10326747A5 (enExample) 2004-11-11
JP3890136B2 JP3890136B2 (ja) 2007-03-07

Family

ID=26416190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07503498A Expired - Fee Related JP3890136B2 (ja) 1997-03-25 1998-03-10 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6262794B1 (enExample)
JP (1) JP3890136B2 (enExample)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW448487B (en) * 1997-11-22 2001-08-01 Nippon Kogaku Kk Exposure apparatus, exposure method and manufacturing method of device
EP1134793A4 (en) * 1998-06-17 2006-07-26 Nikon Corp EXPOSURE METHOD AND DEVICE
JP4408010B2 (ja) * 1999-07-01 2010-02-03 富士通株式会社 Ｗｄｍ用光送信装置
KR100625625B1 (ko) * 1999-10-07 2006-09-20 가부시키가이샤 니콘 기판, 스테이지 장치, 스테이지 구동 방법, 노광 장치 및노광 방법
JP2001118773A (ja) * 1999-10-18 2001-04-27 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2001297960A (ja) * 2000-04-11 2001-10-26 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
JP2002184662A (ja) * 2000-10-04 2002-06-28 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
US6593997B1 (en) * 2000-11-16 2003-07-15 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction assembly
US6603531B1 (en) * 2000-11-16 2003-08-05 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction assembly that is connected by actuators
US6958808B2 (en) * 2000-11-16 2005-10-25 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6757053B1 (en) 2000-11-16 2004-06-29 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction mass assembly
US6885430B2 (en) * 2000-11-16 2005-04-26 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
JP2002176761A (ja) 2000-12-08 2002-06-21 Canon Inc リニアモータ及び該リニアモータを用いた露光装置
JP4724297B2 (ja) 2000-12-26 2011-07-13 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法
JP3963426B2 (ja) * 2001-11-28 2007-08-22 キヤノン株式会社 ステージ装置および露光装置
US6724466B2 (en) * 2002-03-26 2004-04-20 Nikon Corporation Stage assembly including a damping assembly
US7061577B2 (en) 2002-03-26 2006-06-13 Nikon Corporation Image adjustor including damping assembly
JP2004207502A (ja) * 2002-12-25 2004-07-22 Canon Inc 誤操作防止方法
US20040252287A1 (en) * 2003-06-11 2004-12-16 Michael Binnard Reaction frame assembly that functions as a reaction mass
JP3826118B2 (ja) * 2003-07-08 2006-09-27 キヤノン株式会社 露光装置
JP3870182B2 (ja) * 2003-09-09 2007-01-17 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
US7221433B2 (en) 2004-01-28 2007-05-22 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction assembly having a connector assembly
JP4383911B2 (ja) * 2004-02-03 2009-12-16 キヤノン株式会社 露光装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2006120798A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Canon Inc 露光装置
US7193683B2 (en) 2005-01-06 2007-03-20 Nikon Corporation Stage design for reflective optics
JP2013538447A (ja) * 2010-08-05 2013-10-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． インプリントリソグラフィ
TWI513811B (zh) * 2011-10-27 2015-12-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 自動解蠟裝置
KR102409486B1 (ko) * 2020-04-21 2022-06-16 (주)하드램 마이크로 엘이디 제조 장치
JP7689871B2 (ja) * 2020-08-12 2025-06-09 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62200726A (ja) * 1986-02-28 1987-09-04 Canon Inc 露光装置
JP2808677B2 (ja) 1989-06-20 1998-10-08 株式会社ニコン ステージ駆動方法
JPH03107639A (ja) 1989-09-20 1991-05-08 Nikon Corp 振動防止型位置決め装置
US5684856A (en) * 1991-09-18 1997-11-04 Canon Kabushiki Kaisha Stage device and pattern transfer system using the same
DE69322983T2 (de) * 1992-02-21 1999-07-15 Canon K.K., Tokio/Tokyo System zum Steuern von Trägerplatten
JP3217522B2 (ja) * 1992-03-02 2001-10-09 キヤノン株式会社 精密位置決め装置
JP3107639B2 (ja) 1992-03-31 2000-11-13 株式会社トクヤマ アセチルアミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エステルアミドヒドロラーゼおよびその製造方法
US5477304A (en) * 1992-10-22 1995-12-19 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
KR0139039B1 (ko) * 1993-06-30 1998-06-01 미타라이 하지메 노광장치와 이것을 이용한 디바이스 제조방법
US5699145A (en) * 1993-07-14 1997-12-16 Nikon Corporation Scanning type exposure apparatus
US5850280A (en) * 1994-06-16 1998-12-15 Nikon Corporation Stage unit, drive table, and scanning exposure and apparatus using same
JP3613291B2 (ja) * 1995-03-08 2005-01-26 株式会社ニコン 露光装置
JP3815750B2 (ja) * 1995-10-09 2006-08-30 キヤノン株式会社 ステージ装置、ならびに前記ステージ装置を用いた露光装置およびデバイス製造方法
JP3918200B2 (ja) * 1995-11-16 2007-05-23 株式会社ニコン リソグラフィ装置の製造方法及びリソグラフィ装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10326747A5 (enExample)
US6873404B2 (en) Stage apparatus and method of driving the same
US6177978B1 (en) Stage device and exposure apparatus using the same
JP4164905B2 (ja) 電磁力モータ、ステージ装置および露光装置
JP3635600B2 (ja) 送り装置
JP3890136B2 (ja) 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置
JP2000106344A (ja) ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法
US6603531B1 (en) Stage assembly including a reaction assembly that is connected by actuators
JP3155936B2 (ja) リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法
US6724466B2 (en) Stage assembly including a damping assembly
NL8902472A (nl) Positioneerinrichting.
JP3526202B2 (ja) ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法
US6320645B1 (en) Stage system and exposure apparatus, and device manufacturing method using the same
JP2003318082A (ja) 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP3286184B2 (ja) 走査露光装置および方法
JPH11142556A5 (ja) ステージの制御方法、ステージ装置、露光装置及び露光方法
US20030218732A1 (en) Stage assembly including a reaction assembly
US7468783B2 (en) Exposure apparatus, control method for the same, and device manufacturing method
JP2002150982A (ja) ステージ装置及び露光装置
JPH10149974A (ja) ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP2007258356A (ja) ステージ装置
JP2004152902A5 (enExample)
JPH1012538A (ja) 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置
KR20220002100A (ko) 스테이지 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법
JPH11164586A (ja) リニアモータ、ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法