JPH1032154A - ロツト識別方法 - Google Patents

ロツト識別方法

Info

Publication number
JPH1032154A
JPH1032154A JP8203288A JP20328896A JPH1032154A JP H1032154 A JPH1032154 A JP H1032154A JP 8203288 A JP8203288 A JP 8203288A JP 20328896 A JP20328896 A JP 20328896A JP H1032154 A JPH1032154 A JP H1032154A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lot
lots
processing data
wafer
processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8203288A
Other languages
English (en)
Inventor
Norihiko Hara
典彦 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP8203288A priority Critical patent/JPH1032154A/ja
Publication of JPH1032154A publication Critical patent/JPH1032154A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、ロツトの誤認識を容易に防止し得る
ロツト識別方法を実現しようとするものである。 【解決手段】回路基板製造ラインを形成する複数の装置
にて処理される処理基板のロツト識別方法において、処
理基板のロツトの最初の処理基板とロツトの最後の処理
基板との少なくとも一方に、回路基板製造ラインの外部
から目視確認できる程度の大きさを有する視認マークを
設けるようにする。かくして例えば停電等のトラブルが
生じて回路基板製造ラインが停止した場合でも、その後
の復旧作業後にロツトの切れ目を確実に認識することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ロツト識別方法に
関し、例えば半導体製造ラインに適用して好適なもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年、この種の半導体製造ラインにおい
ては、ウエハプロセス、組み立てプロセス及び測定・検
査プロセス等の一連の製造プロセスを自動化するように
なされている。具体的には、一連の各プロセスの処理装
置のウエハ供給及び取出し部にそれぞれ搬送レールを取
り付け、順次後続するプロセスの処理装置をそれぞれロ
ーダユニツトを介して電気的及び機械的に連結すること
により、自動化ラインとなるようにシステム化されてい
る。
【0003】この場合、半導体製造ラインでは、一連の
各処理装置に順次供給される所定数のウエハをロツトし
て定義し、そのロツト単位で各処理装置に予め所定の処
理データを複数設定しておき、当該各処理装置間でそれ
ぞれロツト毎に対応した処理データを切り換えるように
なされている。
【0004】従来、各処理装置は、ロツトの最後のウエ
ハを処理した後、当該処理結果をロツトエンド信号とし
て後続する処理装置に送出することにより、当該ロツト
エンド信号を受けた処理装置は、複数の処理データの中
からそのロツトに応じた所定の処理データに選択的に切
り換えるようになされている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
各処理装置は、前段の処理装置から送出されるロツトエ
ンド信号に基づいて、そのロツトに応じた処理データを
選択的に切り換えることから、例えば停電等のトラブル
が生じて半導体製造ラインが停止した場合には、その後
の復旧作業によつて再び電源がオン状態にされても、各
処理装置はそれぞれロツトエンド信号を検出することが
困難となる問題があつた。
【0006】またロツトの切れ目を外観からオペレータ
が目視確認することが非常に困難であるため、ロツトの
切れ目に対する認識にずれが生じてしまい、所定のロツ
トの個数が本来処理すべき個数と異なつてしまつたり、
ロツト単位で本来処理すべきデータがずれてしまう(い
わゆるロツトずれ)が生じるという問題があつた。
【0007】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、ロツトの誤認識を容易に防止し得るロツト識別方法
を提案しようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、回路基板製造ラインを形成する複
数の装置にて処理される処理基板のロツト識別方法にお
いて、処理基板のロツトの最初の処理基板とロツトの最
後の処理基板との少なくとも一方に、回路基板製造ライ
ンの外部から目視確認できる程度の大きさを有する視認
マークを設けるようにする。かくして例えば停電等のト
ラブルが生じて回路基板製造ラインが停止した場合で
も、その後の復旧作業後にロツトの切れ目を確実に認識
することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
【0010】図1は、半導体製造ラインのうちリソグラ
フイ工程における製造ライン1を示し、キヤリア2内に
格納されている複数のウエハを所定の搬送機構(図示せ
ず)によつて順次1個ずつ取り出してスピンコータ装置
3に搬送した後、当該スピンコータ装置3を介してその
後段に順次連結されたベーク装置4及び露光装置5に供
給するようになされている。
【0011】この場合、スピンコータ装置3及びベーク
装置4間、並びに当該ベーク装置4及び露光装置5間に
はそれぞれ搬送機構6及び7が設けられ、当該搬送機構
6及び7がそれぞれ前段の装置から送出されるウエハを
順次後段の装置に供給するようになされている。
【0012】実際上、このリソグラフイ工程における製
造ライン1においては、スピンコータ装置3は、洗浄後
のウエハ表面の中心部に一定量のレジストを滴下させた
後に高速スピンによりウエハ全面にレジスト膜を塗布さ
せる。またベーク装置4は、レジスト膜が塗布されたウ
エハに加熱処理を施す。さらに露光装置5は、所定のマ
スクパターンをウエハ上に露光する。
【0013】ここで、スピンコータ装置3、ベーク装置
4及び露光装置5は、キヤリア2から順次1個ずつ供給
されるウエハをロツト単位で処理データを切り換えて処
理するようになされている。なお、スピンコータ装置
3、ベーク装置4及び露光装置5は、それぞれ取り込み
可能なウエハの数が予め設定されており、それぞれ3
個、5個及び3個ずつ取り込み得るようになされてい
る。
【0014】本実施例では、3種類のロツトL1〜L3
が、ロツトL1、ロツトL2及びロツトL3の順で各装
置内部に供給される場合について説明する。この場合、
図2(A)に示すように、ロツトL1は3個のウエハA
1 〜A3 でなり、最後のウエハA3 の所定位置にロツト
エンドマークEM1が形成されている。またロツトL2
は5個のウエハB1 〜B5 でなり、最後のウエハB5
所定位置にロツトエンドマークEM2が形成されてい
る。さらにロツトL3は3個のウエハC1 〜C3でな
り、最後のウエハC3 の所定位置にロツトエンドマーク
EM3が形成されている。これらロツトエンドマークE
M1、EM2及びEM3は、それぞれ外部からオペレー
タが目視確認し得る程度の大きさを有する遮光性の視認
マークでなる。
【0015】また、スピンコータ装置3、ベーク装置4
及び露光装置5には、それぞれマーク検出部8、9及び
10が設けられ、当該各マーク検出部8、9及び10は
それぞれ内部に設けられた光電センサ(図示せず)を用
いて各ロツトL1〜L3の最後のウエハに形成されたロ
ツトエンドマークEM1〜EM3を検出した後、当該検
出結果でなるマーク検出信号S1、S2及びS3をそれ
ぞれ各装置内に設けられた制御部11、12及び13に
送出するようになされている。
【0016】さらに、各制御部11、12及び13には
それぞれRAM14、15及び16が接続され、当該各
RAM14、15及び16には、それぞれ予め各ロツト
L1〜L3に対応した処理データが3種類ずつ格納され
ている。これにより各制御部11、12及び13は、そ
れぞれ対応するマーク検出部8、9及び10から得られ
るマーク検出信号S1、S2及びS3に基づいて、所定
のロツトに応じた処理データに選択的に切り換える。
【0017】ここで、図2(B)に示すように、各RA
M14、15及び16にはロツト毎に種々の処理データ
が格納されている。すなわちRAM14には、ロツトL
1に対応する処理データD1Xと、ロツトL2に対応す
る処理データD2Xと、ロツトL3に対応する処理デー
タD3Xとが格納されている。またRAM15には、ロ
ツトL1に対応する処理データD1Yと、ロツトL2に
対応する処理データD2Yと、ロツトL3に対応する処
理データD3Yとが格納されている。さらにRAM16
には、ロツトL1に対応する処理データD1Zと、ロツ
トL2に対応する処理データD2Zと、ロツトL3に対
応する処理データD3Zとが格納されている。
【0018】この場合、各処理データD1X〜D3X
は、スピンコータ装置3におけるレジスト膜の膜厚量の
設定条件が入力されている。また、各処理データD1Y
〜D3Yは、ベーク装置4における加熱時間の設定条件
が入力されている。さらに各処理データD1Z〜D3Z
は、露光装置5における露光時間の設定条件が入力され
ている。
【0019】なお、スピンコータ装置3の制御部11
は、ロツトL1、L2又はL3の最後のウエハA3 、B
5 又はC3 の処理を終了したことを表わすロツトエンド
信号S4を通信ケーブルを介してベーク装置4の制御部
12に送出する。これによりベーク装置4の制御部12
は、ロツトエンド信号S4に基づいて、ロツトL1、L
2又はL3に応じた処理データD1Y、D2Y又はD3
Yに選択的に切り換えるようになされている。
【0020】さらにベーク装置4の制御部12は、ロツ
トL1、L2又はL3の最後のウエハA3 、B5 又はC
3 の処理を終了したことを表わすロツトエンド信号S5
を通信ケーブルを介して露光装置5の制御部13に送出
する。これにより露光装置5の制御部13は、ロツトエ
ンド信号S5に基づいて、ロツトL1、L2又はL3に
応じた処理データD1Z、D2Z又はD3Zに選択的に
切り換えるようになされている。
【0021】以上の構成において、製造ライン1のスピ
ンコータ装置3、ベーク装置4及び露光装置5を順次介
してロツトL1を処理する場合について説明する。まず
スピンコータ装置3は、ロツトL1の先頭のウエハA1
を処理データD1Xで処理を開始した後(図3
(A))、続くウエハA2 及びA3 も当該処理データD
1Xで処理する。このとき、スピンコータ装置3は、ロ
ツトL1の最後のウエハA3 の処理を終了した後、当該
ウエハA3 のロツトエンドマークEM1を検出すること
により、ロツトL1に対応する処理データD1Xをロツ
トL2に対応する処理データD2Xに切り換える(図3
(B))。
【0022】またこれと同時に、スピンコータ装置3
は、ロツトL1の最後のウエハA3 をベーク装置4に供
給した時点からロツトL2の先頭のウエハB1 を供給す
るまでの間に、ロツトL1の最後のウエハA3 の処理を
終了したことを表わすロツトエンド信号S4を通信ケー
ブルを介してベーク装置4に送出する。これによりベー
ク装置4は、ロツトエンド信号S4に基づいて、ロツト
L1に応じた処理データD1Yに切り換える(図3
(B))。
【0023】続いてベーク装置4は、ロツトL1のウエ
ハA1 、A2 、……を処理データD1Yで順次処理する
と共に、スピンコータ装置3は、ロツトL2のウエハB
1 、B2 、……を処理データD2Xで順次処理する。こ
の後、ベーク装置4は、ロツトL1の最後のウエハA3
のロツトエンドマークEM1を検出することにより、ロ
ツトL1に対応する処理データD1YをロツトL2に対
応する処理データD2Yに切り換える。これと共に、ス
ピンコータ装置3は、ロツトL2の最後のウエハB5
ロツトエンドマークEM2を検出することにより、ロツ
トL2に対応する処理データD2XをロツトL3に対応
する処理データD3Xに切り換える(図3(C))。
【0024】これと同時に、ベーク装置4は、ロツトL
1の最後のウエハA3 をベーク装置4に供給した時点か
らロツトL2の先頭のウエハB1 を供給するまでの間
に、ロツトL1の最後のウエハA3 の処理を終了したこ
とを表わすロツトエンド信号S5を通信ケーブルを介し
て露光装置5に送出する。これにより露光装置5は、ロ
ツトエンド信号S5に基づいて、ロツトL1に応じた処
理データD1Zに切り換える(図3(C))。
【0025】続いて、露光装置5は、ロツトL1のウエ
ハA1 、A2 、……を処理データD1Zで順次処理する
と共に、ベーク装置4は、ロツトL2のウエハB1 、B
2 、……を処理データD2Yで順次処理し、さらにスピ
ンコータ装置3は、ロツトL3のウエハC1 、C2 、…
…を処理データD3Xで順次処理する。この後、露光装
置5は、ロツトL1の最後のウエハA3 のロツトエンド
マークEM1を検出することにより、ロツトL1に対応
する処理データD1ZをロツトL2に対応する処理デー
タD2Zに切り換えると共に、ベーク装置3は、ロツト
L2の最後のウエハB5 のロツトエンドマークEM2を
検出することにより、ロツトL2に対応する処理データ
D2YをロツトL3に対応する処理データD3Yに切り
換える(図3(D))。
【0026】このようにして、スピンコータ装置3、ベ
ーク装置4及び露光装置5は、ロツトL1の最後のウエ
ハA3 のロツトエンドマークEM1に基づいて、後続す
るロツトL2に応じた処理データD2X、D2Y及びD
2Zにそれぞれ切り換えることができる。さらに上述と
同様の方法で、スピンコータ装置3、ベーク装置4及び
露光装置5は、ロツトL2の最後のウエハB5 のロツト
エンドマークEM2に基づいて、後続するロツトL3に
応じた処理データD3X、D3Y及びD3Zにそれぞれ
切り換えることができる。
【0027】以上の構成によれば、各ロツトL1、L2
及びL3の最後のウエハA3 、B5及びC3 の所定位置
にそれぞれ外部から目視確認し得る程度の大きさを有す
る遮光性のロツトエンドマークEM1、EM2及びEM
3を形成することにより、例えば停電等のトラブルが生
じて製造ライン1が停止した場合でも、その後の復旧作
業後にロツトL1、L2及びL3の切れ目を確実に認識
することができ、この結果、ロツトの誤認識を容易に防
止することができる。
【0028】なお上述の実施例においては、製造ライン
1におけるスピンコータ装置3、ベーク装置4及び露光
装置5の内部にそれぞれ制御部11、12及び13並び
にRAM14、15及び16を設けた場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、図1との対応部分に同一
符号を付した図4に示すように、製造ライン20におい
て、スピンコータ装置21、ベーク装置22及び露光装
置23に対して共通の制御部24を設け、当該制御部2
4をバス25を介して各装置内に設けられたマーク検出
部8、9及び10と接続するようにしても良い。
【0029】この場合、制御部24は、スピンコータ装
置21、ベーク装置22及び露光装置23にそれぞれ各
ロツトL1〜L3に応じた処理データ(図2(B))を
上述したような所定のタイミングで自動的に送出するよ
うにすれば良い。これによりスピンコータ装置21、ベ
ーク装置22及び露光装置23にそれぞれRAMを設け
る必要がなくて済み、またオペレータによつて上述の処
理データを設定する煩雑さを回避し得る。さらにこの製
造ライン20では、オペレータの介在は皆無であり、各
ロツトL1、L2及びL3の最後のウエハA3 、B5
びC3 を誤認識した場合には大量のウエハを不良品とし
て生産するおそれがあるため、本発明によるロツト識別
方法は非常に有効である。
【0030】また上述の実施例においては、各ロツトL
1、L2及びL3の最後のウエハA3 、B5 及びC3
それぞれロツトエンドマークEM1、EM2及びEM3
を形成した場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、これに加えて各ロツトL1、L2及びL3の全ての
ウエハに、ロツト毎に異なる種類でかつ製造工程上支障
のない程度の大きさを有する所定のマークを形成するよ
うにしても良い。これによりウエハ個々の処理データの
照合を確実に行うことができる。
【0031】さらに所定のマークに代えて、各処理デー
タを符号化してなるバーコードを個々のウエハに形成す
ると共に、各装置内のマーク検出部8〜10(図1)に
代えてバーコード検出部(図示せず)を設けるようにす
れば、各バーコード検出部がこれらバーコードを読み取
ることにより、一層確実に処理データの誤認識を防止す
ることができる。
【0032】さらに上述の実施例においては、各ロツト
L1、L2及びL3の最後のウエハA3 、B5 及びC3
にそれぞれロツトエンドマークEM1、EM2及びEM
3を形成した場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、各ロツトL1、L2及びL3間(すなわちウエハ
3 及びB1 間並びにウエハB5 及びC1 間)にウエハ
とほぼ同じ大きさでかつプラスチツク製でなるダミー基
板を設けるようにしても良い。この場合、ダミー基板に
はロツトエンド情報を書き込んでおき、さらに前後のウ
エハとの差異が明瞭となるように着色等を施しておけば
良い。これによりオペレータが目視確認してロツトエン
ド情報を瞬時に判断することができ、ロツトの切れ目を
確実に識別する時間を格段と短縮することができる。
【0033】さらに上述の実施例においては、各ロツト
L1、L2及びL3の最後のウエハA3 、B5 及びC3
にそれぞれロツトエンドマークEM1、EM2及びEM
3を形成した場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、各ロツトL1、L2及びL3の先頭のウエハ
1 、B1 及びC1 にそれぞれロツトスタートマーク
(図示せず)を形成するようにしても良い。この場合、
ロツトスタートマークには、各装置が次に処理すべきロ
ツト番号や処理データ等が書き込んでおき、各装置が処
理開始前にロツトスタートマークを読み取ることによ
り、確実に次に処理すべきロツトに対応する処理データ
に切り換えることができる。
【0034】さらに上述の実施例においては、製造ライ
ン1におけるスピンコータ装置3、ベーク装置4及び露
光装置5の3個の装置を用いた場合について述べたが、
本発明はこれに限らず、製造ライン上の装置の数は4個
以上でも良い。
【0035】さらに上述の実施例においては、3種類の
ロツトL1〜L3を用いた場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、4種類以上のロツトを用いるように
しても良い。また各ロツトを構成するウエハの数は2個
以上であればそれぞれ所望の数に設定して良い。この場
合、各ロツト毎に対応する所定の処理データを予めRA
M14、15及び16(図1)に格納しておくようにす
る。
【0036】さらに上述の実施例においては、各処理デ
ータD1X〜D3Xは、スピンコータ装置3におけるレ
ジスト膜の膜厚量の設定条件が入力され、また、各処理
データD1Y〜D3Yは、ベーク装置4における加熱時
間の設定条件が入力され、さらに各処理データD1Z〜
D3Zは、露光装置5における露光時間の設定条件が入
力されている場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、各処理データD1X〜D3X、D1Y〜D3Y及
びD1Z〜D3Zは、各装置における他の種々の処理条
件となるように設定しても良い。
【0037】さらに上述の実施例においては、半導体製
造ラインのうちリソグラフイ工程における製造ライン1
について本発明を適用した場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、半導体製造ラインのうち他の工程に
おける製造ラインについても本発明を適用し得る。さら
に半導体製造ラインのみならず、種々の回路基板製造ラ
インにも広く適用することができる。
【0038】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、回路基板
製造ラインを形成する複数の装置にて処理される処理基
板のロツト識別方法において、処理基板のロツトの最初
の処理基板とロツトの最後の処理基板との少なくとも一
方に、回路基板製造ラインの外部から目視確認できる程
度の大きさを有する視認マークを設けることにより、例
えば停電等のトラブルが生じて回路基板製造ラインが停
止した場合でも、その後の復旧作業後にロツトの切れ目
を確実に認識することができ、かくしてロツトの誤認識
を容易に防止し得るロツト識別方法を実現し得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による製造ラインの一実施例を示すブロ
ツク図である。
【図2】各ロツトを構成するウエハを示す略線図及び各
ロツトに対応する処理データを示す図表である。
【図3】各装置におけるウエハの供給状態の説明に供す
る略線図である。
【図4】他の実施例による製造ラインを示すブロツク図
である。
【符号の説明】
1……製造ライン、2……キヤリア、3、21……スピ
ンコータ装置、4、22……ベーク装置、5、23……
露光装置、6、7……搬送機構、8〜10……マーク検
出部、11〜13、24……制御部、14〜16……R
AM、L1、L2、L3……ロツト、A1 〜A3 、B1
〜B5 、C1 〜C3 ……ウエハ、EM1〜EM3……ロ
ツトエンドマーク。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】回路基板製造ラインを形成する複数の装置
    にて処理される処理基板のロツト識別方法において、 前記処理基板のロツトの最初の処理基板とロツトの最後
    の処理基板との少なくとも一方に、前記回路基板製造ラ
    インの外部から目視確認できる程度の大きさを有する視
    認マークを設けたことを特徴するロツト識別方法。
  2. 【請求項2】前記視認マークが設けられた処理基板に代
    えて、プラスチツク製の疑似基板を用いたことを特徴と
    する請求項1に記載のロツト識別方法。
  3. 【請求項3】前記視認マークは、遮光性でなることを特
    徴とする請求項1又は請求項2に記載のロツト識別方
    法。
  4. 【請求項4】前記複数の装置の中に、前記処理基板にマ
    スクパターンを露光する露光装置が含まれていることを
    特徴とする請求項1ないし請求項3に記載のロツト識別
    方法。
  5. 【請求項5】前記複数の装置のうちの少なくとも1つの
    装置は、前記最初の処理基板と前記最後の処理基板との
    少なくとも一方を認識した後、前記装置の設定を変更す
    ることを特徴とする請求項1ないし請求項4に記載のロ
    ツト識別方法。
JP8203288A 1996-07-12 1996-07-12 ロツト識別方法 Pending JPH1032154A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8203288A JPH1032154A (ja) 1996-07-12 1996-07-12 ロツト識別方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8203288A JPH1032154A (ja) 1996-07-12 1996-07-12 ロツト識別方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1032154A true JPH1032154A (ja) 1998-02-03

Family

ID=16471570

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8203288A Pending JPH1032154A (ja) 1996-07-12 1996-07-12 ロツト識別方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1032154A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000124676A (ja) 表面実装システムの制御装置
JP2002176298A (ja) 部品実装方法、及び部品実装装置
US20020085746A1 (en) Semiconductor wafer on which recognition marks are formed and method for sawing the wafer using the recognition marks
JPH1032154A (ja) ロツト識別方法
KR19990035555A (ko) 반도체 장비 제어방법
JPH0448248A (ja) クリームはんだ印刷検査装置
JP2006019622A (ja) 基板処理装置
JPH06132696A (ja) 基板搬送装置
JPH0722787A (ja) 電子部品実装設備
JPS62179116A (ja) 半導体製造装置
JP7282007B2 (ja) 実装ライン、実装ラインの基板検査方法
KR100327101B1 (ko) 반도체 패키지 마킹 검사공정에서의 오토티칭 제어방법
JP2001356099A (ja) プリント配線板外観検査および修理装置
JPH057100A (ja) 部品実装管理方法
JP2000103033A (ja) クリーム半田印刷機
JP3335658B2 (ja) 段取り替え方法
KR20050105266A (ko) 인 라인 접속 설정 방법 및 장치 및 그리고 기판 처리 장치및 기판 처리 시스템
JP2000040039A (ja) デイジーチェーン障害回避方式
JP4857989B2 (ja) 検査方法、検査処理システム、検査処理システムにおける処理装置及び検査処理システムにおける検査装置
JP2005019563A (ja) 検査装置
JPH1140999A (ja) 多面取り基板に対する電子部品実装方法
JP2006005187A (ja) プリント基板の識別子印字方法
JP2000201000A (ja) 回路基板の位置決め方法及び回路基板
JPH10303547A (ja) 半田印刷検査処理方法およびこの方法に使用する基板、半田印刷機
KR200155050Y1 (ko) 반도체 제조장치의 제어회로

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees