JPS62179116A

JPS62179116A - 半導体製造装置

Info

Publication number: JPS62179116A
Application number: JP61020228A
Authority: JP
Inventors: Masanori Numata; 沼田　正徳
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1986-02-03
Filing date: 1986-02-03
Publication date: 1987-08-06
Also published as: JPH0587007B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の屈する分野］本発明は半導体製造装置に関し、特に装置の部分障害発
生時に障害部分のみを初期化させ、装置全体を継続動作
させる半導体製造装置に関する。

［従来の技術］半導体製造工程における製造自動化に伴い、半導体製造
装置の高機能化、自動化、高スルーブツト化が計られて
きている。これら高機能化、自動化等に伴い、装置自体
も複雑化、大型化してきている。このような状況の元で
は、誤動作等の装置障害が一度でも発生した場合にその
復旧への迅速性、簡便性および確実性が非常に重要なも
のとなる。

一般に半導体製造装置の動作の概略は以下のようなもの
であり、これらの動作がシーケンシャルに実行される。

■装置の初期化。

■装置動作パラメータの設定および取り込み。

■使用レチクルの選択搬入および装置との位置合せ。

■ウェハの供給搬入。

■ウェハとマスクの位置合せおよび露光。

■ウェハの回収搬出。

なお、上記■〜■については、１枚のウェハについて■
〜■の処理をシーケンシャルに実行し、これを複数のウ
ェハについて繰返し処理している。

今、例えば、■のウェハ供給搬入の動作の際、ウェハ搬
送系に障害が発生し動作シーケンスが先に進めない状態
に陥ったとする。このとき従来の半導体製造装置におい
ては、装置全体を一遍に初期化（リセット）していた。

従って、以前の処理を継続させるためには、リセット後
再度■〜■迄の過程を同じように行わなければならず、
その間装置の運用が止まり生産性（スループット）の低
下をもたらすという不都合があった。また、■で既に合
わせてあったマスクは初期化によりずれてしまう。この
場合、ずれたマスクを再度合せ直しても以前と全く同じ
状態にすることは難しいため、製品の均一性を保つこと
ができず、この点でも大きな欠点を持っていた。

［発明の目的］本発明は、上述従来例の問題点に鑑み、部分障害が発生
した際、装置全体を初期化させることなく障害発生した
ユニットだけを初期化せしめる事により、障害からの復
帰を簡便に、迅速に、かつ確実に行うことのできる半導
体製造装置を提供することを目的とする。

［実施例の説明］以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。

第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
を示す。同図において、１は集積回路パターンを備えた
マスク（レチクル）で、他にマスクアライメントマーク
やマスク・ウェハ・アライメントマークを備えている。

２はマスクステージで、マスク１を保持してマスク１を
平面内（ＸＹ方向）および回転方向（θ方向）に移動さ
せる。

３は縮小投影レンズ、４は感光層を備えるウェハで、マ
スク・ウェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハア
ライメントマークを備えている。５はウェハステージで
ある。ウェハステージ５はウェハ４を保持してそれを平
面内および回転方向に移動させるものであり、またウェ
ハ焼付位ｖ１（投影視野内）とテレビ・ウェハアライメ
ント位ｆｆｌ？ｆｌを移動する。６はテレビ・ウェハア
ライメント用検知装置の対物レンズ、７は撮像管または
固体撮像素子、９は双眼ユニットで、投影レンズ３を介
してウェハ４の表面を観察するために役立つ。１０は照
明光学系およびマスク・ウェハ・アライメント用の検知
装置を収容する上部ユニットである。

１１は投影露光装置本体に指令を与えるコンソールのモ
ニタ受像ＩＩ（コンソールＣＲＴ）、１２は装置に指令
を与えたりパラメータを入力するキーボードである。１
３はウェハ搬送ユニットで、未露光のウェハをウェハス
テージ５に供給搬送し、また露光流のウェハを回収搬送
する。１４はマスク・チェンジャ・ユニットで、指定し
たマスクをマスク・ステージ２上にセットし、またはマ
スク・ステージ２上のマスク１を回収するユニットであ
る。

第２図は、第１図の投影露光装置の電気回路構成を示す
ブロック図である。同図において、２１は装置全体の制
御を司る本体ＣＰＬＩで、マイクロコンピュータまたは
ミニコンピユータ等の中央演算処理装置からなる。２２
はウェハステージ駆動装置、２３はアライメント検出系
、２４はレチクルステージ駆動装置、２５は照明系、２
６はシャッタ駆動装置、２７はフォーカス検出系、２８
は２駆動装置で、これらは、本体ＣＰ　ｔＪ　２１によ
り制御される。

また、２９は本体ＣＰ　Ｕ　２１との情報の授受をしつ
つウェハ搬送ユニット１３（第１図のものと同一）全体
の制御を司るウェハ搬送系のＣＰＵで、マイクロコンピ
ュータ等の中央処理装置から成っている。３０はウェハ
搬送制御系で、ウェハ搬送系ＣＰＩＪ２９の指令により
ウェハ搬送を制御する。３１は本　］体ＣＰ　Ｕ２１と
の情報の授受をしつつ、マスク・チェンジャ・ユニット
１４（第１図のものと同一）全体の制御を司るマスク・
チェンジャＣＰＵである。

３２はマスク・チェンジャ制御系で、マスク・チェンジ
ャＣＰ　Ｕ　３１の指令によりマスクの交換等を制御す
る。３３はコンソールユニットで、本体ＣＰＵ２１にこ
の露光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与
えるためのものである。３４はコンソールＣＰＵ１３５
はパラメータ等を記憶する外部メモリである。なお、Ｃ
Ｒ丁１１およびキーボード１２は第１図のものと同一で
ある。

３８はリセット制御系で本発明の特徴とする部分である
。このリセット制御系３８は、コンソール・ユニット３
３、本体ＣＰ　Ｕ　２１、ウェハ搬送ユニット１３（＋
５よびマスク・チェンジャ・ユニット１４の各ユニット
に対し、各々独立に、または同時に、初期化（リセット
）させるための信号を発生するものであり、スイッチと
制御回路等で構成されている。

第３図は、本装置の本体動作を中心とした概略フローチ
ャートである。

第１図〜第３図を参照して、まず装置がパワーオンする
と、装置本体の各部分２１〜２８、コンソールユニット
３３、ウェハ搬送ユニット１３およびマスク・チェンジ
ャ・ユニット１４の初期化がなされる（ステップ８１）
。次に、コンソールユニット３３のキーボード１２から
動作パラメータを設定入力する（ステップ８２）。設定
入力されたパラメータは本体ＣＰ　ＬＪ　２１に転送さ
れる（ステップ８３）。

次に、本体ＣＰ　Ｕ　２１からの指令によりマスク・チ
ェンジャ・ユニット１４は指定マスクをマスク・ステー
ジ２上に搬送しセットする（ステップ８４）。

乗せられたマスク１は、レチクルステージ駆動系２４と
アライメント検出系２３により、本体上の定位置に位置
決めされる（ステップ８５）。次に、コンソールユニッ
ト３３からの処理スタート待ちの状態になる（ステップ
Ｓ６）。ここで、スタートの指令がコンソールキーボー
ド１２から入力されると、その旨は本体ＣＰ　Ｕ　２１
に伝えられる。本体ＣＰＵ２１はウェハ搬送ユニット１
３に対しウェハステージ５上にウェハを乗せるべく指令
を出し、これによりウェハがウェハ・ステージ５に供給
される（ステップ８７）。次に、ウェハ４とマスク１の
位置合せが行われる（ステップ３８）。そして、シャッ
タが開かれマスク１上のパターンはウェハ４上に転写焼
付は露光される（ステップＳ９）。次に、本体ＣＰ　Ｕ
　２１からウェハ搬送ユニット１３に指令が行き、露光
流のウェハが回収される（ステップ＄１０）。以上で１
枚のウェハの露光が完了する。次に、１０ット分のウェ
ハについてすべて露光が完了したかチェックしくステッ
プ５１１）、まだ未露光のウェハがあればステップ８７
〜３１１を繰返し処理し１０ット分のウェハすべての焼
付けを行う。

ステップ８１１で１０ット分すべて完了したらステップ
Ｓ６のスタート待ちの状態に戻る。以上が本装置の通常
の概略動作である。

次に、本実施例の装置の動作説明として、上記ステップ
Ｓ７のウェハ搬送（供給）の時、ウェハ搬送ユニット１
３に偶発的障害が発生し、いくら待ってもウェハ・ステ
ージ４上にウェハが供給されない状態を例にとり、その
障害に対するリカバリ動作を第４図および第５図を参照
して説明する。

第４図は、第３図のステップＳ７の部分の詳細フローチ
ャー１・である。第５図は、ウェハ搬送系ユニット１３
を初期化（リセット）した時の動作フローチャートであ
る。

まず、第４図を参照して正常動作を説明する。

本体ＣＰ　Ｕ　２１は、ウェハ搬送ユニット１３に対し
ウェハ供給指令を送信する（ステップ３７−１）。その
後、ＣＰ　Ｕ　２１はウェハ搬送ユニット１３からの受
信待ちになる（ステップ３７−２）。ここでＣＰＵ２１
が何らかの信号を受信するとこのループを扱けて次のス
テップに入る。そして、受信情報がウェハ供給完了かを
チェックする（ステップ８７−３）。

供給完了であれば、これでステップＳ７のウェハ供給は
正常に完了したことになり、シーケンスはステップＳ８
（第１図）に進む。

ここでウェハ搬送系に偶発的に障害が発生し、上記ステ
ップ５７−２の受信待ちのループを繰返し回ったままに
なったとする。一般的にはここでエラー表示等が出され
る。オペレータはここで、リセット制御系３８にあるウ
ェハ搬送ユニツ］−リセット用スイッチにより当該ウェ
ハ搬送ユニット１３を初期化（リセット）する。すると
当該ユニット１３の動作は、第５図のフローチャートの
ようになる。

まず、当該ユニット１３の初期化がなされる（ステップ
５２０）。次に、当該ユニット１３が初期化開始した事
を本体ＣＰ　ｔＪ　２１に通信する（ステップ５２１）
。この通信により本体ＣＰ　Ｕ　２１はステップ８７−
２のループを抜け、ステップ５１−３を介してステップ
５７−４の判定をｒＹＥｓＪで抜ける。これにより本体
ｃ　ｐ　Ｕ　２１はウェハ搬送ユニット１３にすセット
がかけられた事を検知する（ステップ５ｌ−４）。

次に、本体ＣＰＵ２１がどの状態で侍っていたかを対応
ウェハ搬送ユニット状態情報として当該ユニット１３に
送信する（ステップ３７−５）。すると、この通信によ
り当該ユニット１３は本情報待ちのループ（ステップ５
２２）を抜けて、本体ＣＰ　ｔＪ　２１が持っていた状
態に対応した当該ユニット１３の状態に動作シーケンス
を進める（ステップ５２３）。そして次に、当該ユニッ
ト１３は本体ＣＰ　ＩＪ　２１の持っていた状態に復帰
した事を回復完了通信として本体ＣＰＬＪ２１に通信す
る（ステップｓ２４〉。この通信により本体ＣＰＬＩ２
１Ｇ；Ｌステッ７Ｓ７−ＪＳ７−７　（７）ループから
抜けでてステップ＄１−２のループを再度回りはじめる
。ここで、ステップ８２４の処理を終えた当該ユニット
１３の動作シーケンスは通常動作に分岐し、ウェハ供給
完了した後ウェハ供給完了の通信を本体ｃ　ｐ　Ｕ　２
１に送る。この通信により本体ＣＰ（Ｊ２１はステップ
５７−２のループを抜け、ステップ５７−３の判定をｒ
ＹＥｓＪで扱け、ウェハ供給動作が正常に終了したこと
になる。以上のようにして障害からの復帰を行うもので
ある。

なお、上記実施例においては、本体ＣＰＵ２１とウェハ
搬送ユニット１３との障害について述べたが、コンソー
ル・ユニット３３、マスク・チェンジャ・ユニット１４
についても全く同様に障害復帰するようにできる。

また、上記実施例中ウェハ搬送系ユニットの初期化（リ
セット）をリセット制御系３８中に設けであるスイッチ
で行っているが、コンソール・ユニット３３のキーボー
ド１２からの指令によって行ってもよい。

［発明の効果］以上説明したように、本発明によれば、半導体装置にお
いて部分的に障害が発生したユニットだけを初期化して
処理を継続しているので、装置の障害リカバリを簡便、
迅速かつ確実に行うことができ生産性の向上（スルーブ
ツトの向上）に大きな効果がある。また、製品の均一化
を保つという点でも大きな効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
図、第２図は、上記実施例の投影露光装置の制御回路を示す
ブロック図、第３図は、上記実施例の装置の動作および作用を説明す
るためのフローチャート、第４図、第５図は、上記実施例の装置の詳ｌＩＩ動作を
説明するためのフローチャートである。１・・・マスク（レチクル）、４・・・ウェハ、１１・
・・モニタ用ＣＲＴ、１２・・・キーボード、１３・・
・ウェハ搬送ユニット、１４・・・マスク・チェンジャ
・ユニット、２１・・・本体ＣＰＵ、２９・・・ウェハ
搬送系ＣＰＵ、３０・・・ウェハ搬送制御系、３１・・
・マスク・チェンジャＣＰＬＪ、３２・・・マスク・チ
ェンジャｉｄＪ　ＩＩＩ系、３３・・・コンソールユニ
ット、３８・・・リセット制御系。＠　ｌ　図第４図第５図

Claims

【特許請求の範囲】１、装置を構成する複数の構成ユニットに偶発的な部分
障害が発生したとき該構成ユニット毎に個別に初期化す
る手段と、上記初期化の後、装置の処理を継続する制御手段とを備えること特徴とする半導体製造装置。２、前記制御手段が、障害の発生した前記構成ユニット
を障害発生直前の状態に自動的に回復した後、装置の処
理を継続するものである特許請求の範囲第１項記載の半
導体製造装置。