JPH10282507A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】絶縁基板と補助層との剥離を防止することによ
り、表示不良の発生をも防止することが可能な液晶表示
装置を提供する。 【解決手段】ガラス材から成る相対向する各透明絶縁基
板１１，１２の間には、液晶が充填された液晶層１３が
設けられている。透明絶縁基板１１上には、配線層を形
成するアルミニウム合金膜１４、アクリル系樹脂から成
る平坦化絶縁膜１５、ポリイミド系樹脂から成る配向膜
１６が積層形成されている。透明絶縁基板１２上には、
ＩＴＯから成る透明電極１７、ポリイミド系樹脂から成
る配向膜１８が積層形成されている。各透明絶縁基板１
１，１２の端部間には、各透明絶縁基板１１，１２間か
ら液晶層１３が漏出するのを防ぐために、エポキシ系樹
脂から成るシール材１９が設けられている。シール材１
９の下側の透明絶縁基板１１上には、複数のスリット１
４ａによって突条１４ｂを成すアルミニウム合金膜１４
が形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】図５は、従来の液晶表示装置の一部断面
図である。ガラス材から成る相対向する各透明絶縁基板
１１，１２の間には、液晶が充填された液晶層１３が設
けられている。透明絶縁基板１１上には、配線層を形成
するアルミニウム合金膜１４、アクリル系樹脂から成る
平坦化絶縁膜１５、ポリイミド系樹脂から成る配向膜１
６が積層形成されている。透明絶縁基板１２上には、Ｉ
ＴＯ（Indium Tin Oxide）から成る透明電極１７、ポリ
イミド系樹脂から成る配向膜１８が積層形成されてい
る。各透明絶縁基板１１，１２の端部間には、各透明絶
縁基板１１，１２間から液晶層１３が漏出するのを防ぐ
ために、エポキシ系樹脂から成るシール材１９が設けら
れている。すなわち、シール材１９は、各透明絶縁基板
１１，１２の周縁部において、各透明絶縁基板１１，１
２の各配向膜１６，１８間に形成されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】シール材１９は各透明
絶縁基板１１，１２の全周縁部に設けられている。その
シール材１９が設けられた透明絶縁基板１１の領域（シ
ール形成領域）上には、アルミニウム合金膜１４がベタ
に形成されている。

【０００４】ここで、ガラス材から成る透明絶縁基板１
１とアクリル系樹脂から成る平坦化絶縁膜１５との密着
強度が高いのに対して、アルミニウム合金膜１４と平坦
化絶縁膜１５との密着強度は低い。そのため、アルミニ
ウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５とは剥離しやすく、
そのような剥離が生じると液晶表示装置に表示不良が発
生することになる。特に、透明絶縁基板１１の周縁部の
シール形成領域にはシール材１９の下地を平坦にするた
めに、補助層がアルミニウム合金膜１４と一体でベタに
形成されている。そのため、アルミニウム合金膜１４と
平坦化絶縁膜１５との剥離は透明絶縁基板１１の周縁部
のシール形成領域で生じやすい。

【０００５】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、絶縁基板と補助層との
剥離を防止することにより、表示不良の発生をも防止す
ることが可能な液晶表示装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、絶縁基板の周縁部のシール形成領域にスリットが形
成された補助層が設けられたことをその要旨とする。

【０００７】請求項２に記載の発明は、相対向する第１
および第２の透明絶縁基板と、第１および第２の透明絶
縁基板間に充填された液晶から成る液晶層と、第１の透
明絶縁基板上に形成された補助層と、補助層上に形成さ
れた平坦化絶縁膜と、第１および第２の透明絶縁基板の
全周縁部における各透明絶縁基板間に設けられたシール
材と、第１の透明絶縁基板におけるシール材の形成領域
上に形成された補助層とを備え、そのシール材の形成領
域上の補助層には少なくとも１本以上のスリットが形成
され、スリットから露出した第１の透明絶縁基板と平坦
化絶縁膜とが直接密着していることをその要旨とする。

【０００８】請求項３に記載の発明は、請求項１または
請求項２に記載の液晶表示装置において、補助層にスリ
ットが複数形成され、突条を成していることをその要旨
とする。

【０００９】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の液晶表示装置において、補助層は導電層により形成さ
れ、信号配線の一部を成していることをその要旨とす
る。請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか
１項に記載の液晶表示装置において、補助層はアルミニ
ウム合金から成ることをその要旨とする。

【００１０】請求項６に記載の発明は、請求項１〜５の
いずれか１項に記載の液晶表示装置において、平坦化絶
縁膜はアクリル系樹脂から成ることをその要旨とする。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
形態を図面に従って説明する。尚、本実施形態におい
て、従来の形態と同じ構成部材については符号を等しく
してその詳細な説明を省略する。

【００１２】図１は、本実施形態の液晶表示装置の一部
断面図である。図２は、本実施形態の液晶表示装置にお
ける透明絶縁基板１１の平面図である。本実施形態にお
いて、図５に示した従来の形態と異なるのは、シール材
１９が設けられた透明絶縁基板１１の領域（シール形成
領域）上に形成されたアルミニウム合金膜１４に、複数
のスリット１４ａが形成されている点にある。すなわ
ち、各透明絶縁基板１１，１２の全周縁部にはシール材
１９が設けられており、そのシール材１９の下側の透明
絶縁基板１１のシール形成領域上には、複数のスリット
１４ａによって突条１４ｂを成すアルミニウム合金膜１
４が形成されている。

【００１３】次に、本実施形態の作用および効果につい
て説明する。ガラス材から成る透明絶縁基板１１とアク
リル系樹脂から成る平坦化絶縁膜１５との密着強度が高
いのに対して、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜
１５との密着強度は低い。そのため、アルミニウム合金
膜１４と平坦化絶縁膜１５とは剥離しやすく、そのよう
な剥離が生じると液晶表示装置に表示不良が発生する。

【００１４】しかし、本実施形態においては、透明絶縁
基板１１の周縁部のアルミニウム合金膜１４に複数のス
リット１４ａが形成されており、そのスリット１４ａか
らは透明絶縁基板１１が露出している。つまり、各スリ
ット１４ａにおいて、透明絶縁基板１１とアルミニウム
合金膜１４とは、平坦化絶縁膜１５を介すことなく直接
密着している。そのため、透明絶縁基板１１の周縁部の
シール形成領域において、アルミニウム合金膜１４と平
坦化絶縁膜１５とが剥離するのを確実に防止することが
できる。その結果、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶
縁膜１５との剥離が原因で液晶表示装置に表示不良の発
生するのを回避することができる。

【００１５】図３に、本実施形態のアクティブマトリッ
クス方式液晶表示装置のブロック構成を示す。画素部
（液晶パネル）１０１には各走査線（ゲート配線）Ｇ1
…Ｇn,Ｇn+1 …Ｇm と各データ線（ドレイン配線）Ｄ1
…Ｄn,Ｄn+1 …Ｄm とが配置されている。各ゲート配線
Ｇ1 〜Ｇm と各ドレイン配線Ｄ1 〜Ｄm とはそれぞれ直
交し、その直交部分に画素１０２が設けられている。そ
して、各ゲート配線Ｇ1 〜Ｇm はゲートドライバ１０３
に接続され、ゲート信号（走査信号）が印加されるよう
になっている。また、各ドレイン配線Ｄ1 〜Ｄm はドレ
インドライバ（データドライバ）１０４に接続され、デ
ータ信号（ビデオ信号）が印加されるようになってい
る。これらのドライバ１０３，１０４によって周辺駆動
回路部１０５が構成されている。そして、各ドライバ１
０３，１０４のうち少なくともいずれか一方を画素部１
０１と同一基板１１上に形成した液晶表示装置は、一般
にドライバ一体型（ドライバ内蔵型）液晶表示装置と呼
ばれる。尚、ゲートドライバ１０３が、画素部１０１の
両側に設けられている場合もある。また、ドレインドラ
イバ１０４が、画素部１０１の両側に設けられている場
合もある。

【００１６】図４に、ゲート配線Ｇn とドレイン配線Ｄ
n との直交部分に設けられている画素１０２の等価回路
を示す。画素１０２は、画素駆動素子としてのＴＦＴ
（Thin Film Transistor）１０６、液晶セルLC、補助容
量（蓄積容量または付加容量）SCから構成されている。
ゲート配線Ｇn にはＴＦＴ１０６のゲートが接続され、
ドレイン配線Ｄn にはＴＦＴ１０６のドレインが接続さ
れている。そして、ＴＦＴ１０６のソースには、液晶セ
ルLCの表示電極（画素電極）と補助容量SCとが接続され
ている。この液晶セルLCと補助容量SCとにより、前記信
号蓄積素子が構成される。液晶セルLCの対向電極（表示
電極の反対側の電極。共通電極とも呼ばれる）には電圧
Ｖcom が印加されている。一方、補助容量SCにおいて、
ＴＦＴのソースと接続される側の電極（以下、蓄積電極
という）の反対側の電極（以下、補助容量電極という）
には定電圧ＶR が印加されている。この液晶セルLCの対
向電極は、文字どおり全ての画素１０２に対して共通し
た電極となっている。そして、液晶セルLCの表示電極と
対向電極との間には静電容量が形成されている。尚、補
助容量SCの補助容量電極は、隣のゲート配線Ｇn+1 と接
続されている場合もある。

【００１７】本実施形態の液晶表示装置においては、突
条１４ｂを成すアルミニウム合金膜１４によって各配線
Ｇ1 〜Ｇm ，Ｄ1 〜Ｄm が形成されている。そのため、
各配線Ｇ1 〜Ｇm ，Ｄ1 〜Ｄm を別個に形成する場合に
比べて、透明絶縁基板１１の面積を小さくすることが可
能になり、その分だけ材料コストを低減することができ
る。

【００１８】尚、上記実施形態は以下のように変更して
もよく、その場合でも同様の作用および効果を得ること
ができる。 （１）アルミニウム合金膜１４を各種高融点金属膜など
の他の金属膜に置き代える。

【００１９】（２）平坦化絶縁膜１５の材質をアクリル
系樹脂ではなく、他の絶縁材料（酸化シリコン、ＳＯＧ
（Spin On Glass ），各種シリケートガラス（ＢＳＧ、
ＰＳＧ，ＢＰＳＧなど）、窒化シリコン、各種有機絶縁
物など）に置き代える。

【００２０】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、絶
縁基板と補助層との剥離を防止することにより、表示不
良の発生をも防止することが可能な液晶表示装置を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施形態の一部断面図。

【図２】一実施形態の平面図。

【図３】一実施形態のブロック構成図。

【図４】一実施形態の画素の等価回路図。

【図５】従来の形態の一部断面図。

【符号の説明】

１１…第１の透明絶縁基板 １２…第２の透明絶縁基板 １３…液晶層 １４…アルミニウム合金膜 １４ａ…スリット １４ｂ…突条 １５…平坦化絶縁膜 １９…シール材 Ｄ1 〜Ｄm …データ線（ドレイン配線） Ｇ1 〜Ｇm …走査線（ゲート配線）

フロントページの続き (72)発明者 奥 規夫 大阪府守口市京阪本通２丁目５番５号 三 洋電機 株式会社内 (72)発明者 中野 実 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー 株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 絶縁基板の周縁部のシール形成領域にス
   リットが形成された補助層が設けられた液晶表示装置。
2. 【請求項２】 相対向する第１および第２の透明絶縁基
   板と、 第１および第２の透明絶縁基板間に充填された液晶から
   成る液晶層と、 第１の透明絶縁基板上に形成された補助層と、 補助層上に形成された平坦化絶縁膜と、 第１および第２の透明絶縁基板の全周縁部における各透
   明絶縁基板間に設けられたシール材と、 第１の透明絶縁基板におけるシール材の形成領域上に形
   成された補助層とを備え、そのシール材の形成領域上の
   補助層には少なくとも１本以上のスリットが形成され、
   スリットから露出した第１の透明絶縁基板と平坦化絶縁
   膜とが直接密着している液晶表示装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の液晶表
   示装置において、 前記補助層に前記スリットが複数形成され、突条を成し
   ている液晶表示装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の液晶表示装置におい
   て、 前記補助層は導電層により形成され、信号配線の一部を
   成している液晶表示装置。
5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項に記載の液
   晶表示装置において、 前記補助層はアルミニウム合金から成る液晶表示装置。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか１項に記載の液
   晶表示装置において、 前記平坦化絶縁膜はアクリル系樹脂から成る液晶表示装
   置。