JPH10280131A - 薄膜を被着するための真空処理装置 - Google Patents
薄膜を被着するための真空処理装置Info
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- JPH10280131A JPH10280131A JP10097027A JP9702798A JPH10280131A JP H10280131 A JPH10280131 A JP H10280131A JP 10097027 A JP10097027 A JP 10097027A JP 9702798 A JP9702798 A JP 9702798A JP H10280131 A JPH10280131 A JP H10280131A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 種々異なったサイズの、特に極度に複雑な形
状のサブストレートを個々のコンテナ内に配置して加工
できるばかりでなく、真空室を通気してサブストレート
をサブストレート支持体から別のサブストレート支持体
へ引渡す必要なしに、サブストレートに多種の処理を施
せるようにする。 【解決手段】 真空室２の真空室密閉蓋５８内及び／又
は真空室ボトムプレート１２内には軸１４又はねじスピ
ンドルが、処理室開口平面に対して平行に延在するよう
に軸支されており、前記軸１４又はねじスピンドルが、
これによって保持されかつ動かされて処理室開口４〜７
を密閉するための閉鎖プレート２３〜２６と、該閉鎖プ
レートを半径方向内寄りの開放位置から半径方向外寄り
の閉鎖位置へ移動させるための作動子１９〜２２とを備
えている。
状のサブストレートを個々のコンテナ内に配置して加工
できるばかりでなく、真空室を通気してサブストレート
をサブストレート支持体から別のサブストレート支持体
へ引渡す必要なしに、サブストレートに多種の処理を施
せるようにする。 【解決手段】 真空室２の真空室密閉蓋５８内及び／又
は真空室ボトムプレート１２内には軸１４又はねじスピ
ンドルが、処理室開口平面に対して平行に延在するよう
に軸支されており、前記軸１４又はねじスピンドルが、
これによって保持されかつ動かされて処理室開口４〜７
を密閉するための閉鎖プレート２３〜２６と、該閉鎖プ
レートを半径方向内寄りの開放位置から半径方向外寄り
の閉鎖位置へ移動させるための作動子１９〜２２とを備
えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空室のリング状
又はフレーム状の側壁によって保持されていて成膜処理
工具を内蔵する複数の定置の処理室と、外周から内方へ
前記真空室の中心に向かって方位づけられていて互いに
平行な平面内で延びる処理室開口とを備えた形式のサブ
ストレートに薄膜を被着するための真空処理装置に関す
る。
又はフレーム状の側壁によって保持されていて成膜処理
工具を内蔵する複数の定置の処理室と、外周から内方へ
前記真空室の中心に向かって方位づけられていて互いに
平行な平面内で延びる処理室開口とを備えた形式のサブ
ストレートに薄膜を被着するための真空処理装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】主室もしくは分配室を備え、該主室又は
分配室の内部で、成膜処理すべきサブストレート（基
板）又はワークを搬送機構によって少なくとも２つの加
工室間、もしくは１つのエアロック室と少なくとも１つ
の加工室間を搬送するようにした真空処理装置が欧州特
許第０５５５７６４号明細書に基づいて公知であり、こ
の場合加工室の一部又は全部が、油圧又は空圧作動式の
シール装置によって前記の主室又は分配室に対して気密
に隔離可能であり、しかも当該公知の真空処理装置は円
筒形に構成されており、かつ加工すべきサブストレート
を受容するための少なくとも１つの受容室又はコンテナ
が、円形又は円筒形の分配室のジャケットに沿って配置
されており、該受容室又はコンテナは各加工位置では、
加工室又は処理室を形成するために、円筒ジャケット内
に配置された相応の加工ステーションに対向させられ、
また前記受容室もしくはコンテナ或いは円筒ジャケット
は円筒中心軸線を中心として回転可能に配置されてい
る。
分配室の内部で、成膜処理すべきサブストレート（基
板）又はワークを搬送機構によって少なくとも２つの加
工室間、もしくは１つのエアロック室と少なくとも１つ
の加工室間を搬送するようにした真空処理装置が欧州特
許第０５５５７６４号明細書に基づいて公知であり、こ
の場合加工室の一部又は全部が、油圧又は空圧作動式の
シール装置によって前記の主室又は分配室に対して気密
に隔離可能であり、しかも当該公知の真空処理装置は円
筒形に構成されており、かつ加工すべきサブストレート
を受容するための少なくとも１つの受容室又はコンテナ
が、円形又は円筒形の分配室のジャケットに沿って配置
されており、該受容室又はコンテナは各加工位置では、
加工室又は処理室を形成するために、円筒ジャケット内
に配置された相応の加工ステーションに対向させられ、
また前記受容室もしくはコンテナ或いは円筒ジャケット
は円筒中心軸線を中心として回転可能に配置されてい
る。
【０００３】また真空下で担体面に薄膜層を被着するた
めの成膜装置、特に電気的な層コンデンサの製造時に担
体面に金属層とグロー重合層とを交互に被着するための
成膜装置もドイツ連邦共和国特許第２８４８４８０号明
細書に基づいて公知であり、該成膜装置は、エアロック
ゲートによって互いに隔離された少なくとも２つの真空
室を有し、この場合、運転中には第１真空室内の残留圧
は、第２真空室の残留圧力又は、搬送装置を有するその
他の室の残留圧よりも低い。なお前記搬送装置とは、成
膜処理を施すべき担体を夫々特別のエアロックゲートを
介して第１真空室から第２真空室へ搬送し、そこから再
び第１真空室へか、又は第３真空室へ搬送するための搬
送装置であり、また当該装置は真空室内に、搬送装置に
載っている担体に薄膜を被着する装置を有しており、か
つこの装置では各エアロックゲートは、搬送装置の表面
に直接向き合って位置して該表面に対して極く狭いギャ
ップを残すにすぎない複数のジョーを有し、かつその都
度２つのジョー間には残留ガスを吸出するためのサクシ
ョン管を有している。この場合前記搬送装置は、一方向
にしか運動できず、かつ、搬送装置の運動方向で見て第
１真空室の前方に位置しているエアロックゲートは、搬
送装置の運動方向で見て第１真空室の後方に位置してい
るエアロックゲートよりも長い拡散距離を有している。
めの成膜装置、特に電気的な層コンデンサの製造時に担
体面に金属層とグロー重合層とを交互に被着するための
成膜装置もドイツ連邦共和国特許第２８４８４８０号明
細書に基づいて公知であり、該成膜装置は、エアロック
ゲートによって互いに隔離された少なくとも２つの真空
室を有し、この場合、運転中には第１真空室内の残留圧
は、第２真空室の残留圧力又は、搬送装置を有するその
他の室の残留圧よりも低い。なお前記搬送装置とは、成
膜処理を施すべき担体を夫々特別のエアロックゲートを
介して第１真空室から第２真空室へ搬送し、そこから再
び第１真空室へか、又は第３真空室へ搬送するための搬
送装置であり、また当該装置は真空室内に、搬送装置に
載っている担体に薄膜を被着する装置を有しており、か
つこの装置では各エアロックゲートは、搬送装置の表面
に直接向き合って位置して該表面に対して極く狭いギャ
ップを残すにすぎない複数のジョーを有し、かつその都
度２つのジョー間には残留ガスを吸出するためのサクシ
ョン管を有している。この場合前記搬送装置は、一方向
にしか運動できず、かつ、搬送装置の運動方向で見て第
１真空室の前方に位置しているエアロックゲートは、搬
送装置の運動方向で見て第１真空室の後方に位置してい
るエアロックゲートよりも長い拡散距離を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
で述べた形式の真空処理装置を改良して、種々異なった
サイズの、特に極度に複雑な形状のサブストレートを個
々のコンテナ内に配置して加工できるばかりでなく、真
空室を通気してサブストレートをサブストレート支持体
から別のサブストレート支持体へ引渡す必要なしに、サ
ブストレートに多種の処理を施せるようにすることであ
る。
で述べた形式の真空処理装置を改良して、種々異なった
サイズの、特に極度に複雑な形状のサブストレートを個
々のコンテナ内に配置して加工できるばかりでなく、真
空室を通気してサブストレートをサブストレート支持体
から別のサブストレート支持体へ引渡す必要なしに、サ
ブストレートに多種の処理を施せるようにすることであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の本発明の構成手段は、真空室のリング状又はフレーム
状の側壁によって保持されかつ成膜処理工具を内蔵した
複数の定置の処理室が設けられており、該処理室が、エ
アロックゲートを介して前記サブストレートを搬入・搬
出するために、外周から内方へ前記真空室の中心に向か
って方位づけられて互いに平行な平面内で延びる処理室
開口を備えており、前記真空室の真空室密閉蓋内及び／
又は真空室ボトムプレート内には軸又はねじスピンドル
が、前記処理室開口平面に対して平行に延在するように
軸支されており、前記の軸又はねじスピンドルが、これ
によって保持されかつ動かされて前記処理室開口を密閉
するための閉鎖プレートと、該閉鎖プレートを半径方向
内寄りの開放位置から半径方向外寄りの閉鎖位置へ移動
させるための作動子とを備えており、しかも前記の軸又
はねじスピンドルと協働する作動子が、レバー伝動機構
又はテレスコープ運動可能なブラケットとして構成され
ており、かつ前記閉鎖プレートが夫々、処理室に対面し
た側面にサブストレートホルダー又はサブストレートグ
リッパを有している点にある。
の本発明の構成手段は、真空室のリング状又はフレーム
状の側壁によって保持されかつ成膜処理工具を内蔵した
複数の定置の処理室が設けられており、該処理室が、エ
アロックゲートを介して前記サブストレートを搬入・搬
出するために、外周から内方へ前記真空室の中心に向か
って方位づけられて互いに平行な平面内で延びる処理室
開口を備えており、前記真空室の真空室密閉蓋内及び／
又は真空室ボトムプレート内には軸又はねじスピンドル
が、前記処理室開口平面に対して平行に延在するように
軸支されており、前記の軸又はねじスピンドルが、これ
によって保持されかつ動かされて前記処理室開口を密閉
するための閉鎖プレートと、該閉鎖プレートを半径方向
内寄りの開放位置から半径方向外寄りの閉鎖位置へ移動
させるための作動子とを備えており、しかも前記の軸又
はねじスピンドルと協働する作動子が、レバー伝動機構
又はテレスコープ運動可能なブラケットとして構成され
ており、かつ前記閉鎖プレートが夫々、処理室に対面し
た側面にサブストレートホルダー又はサブストレートグ
リッパを有している点にある。
【０００６】本発明のその他の特徴及び有利な構成手段
は、請求項２以降に記載した通りである。
は、請求項２以降に記載した通りである。
【０００７】
【発明の実施の形態】次に図面に基づいて本発明の実施
例を詳説する。
例を詳説する。
【０００８】なお本発明は種々異なった形態で実施する
ことができるが、その内、特に３つの代表的な有利な実
施形態が図１乃至図３に概略的に図示されている。
ことができるが、その内、特に３つの代表的な有利な実
施形態が図１乃至図３に概略的に図示されている。
【０００９】図１に示したように真空処理装置は主とし
て、全部で４つの処理室開口４，５，６，７を有するフ
レーム状の側壁３と、４つのボックス形の処理室８，
９，１０，１１と、前記側壁３の下側を密封する真空室
ボトムプレート１２と、図示は省いたが前記側壁３の上
側を密封する真空室密閉蓋と、前記の真空室ボトムプレ
ート１２及び真空室密閉蓋内で回転可能に鉛直に軸支さ
れている軸１４と、該軸に固着されていて星形に水平に
延びる腕１５〜１８と、該腕１５〜１８に枢着結合され
た抗張・抗圧ストラット１９〜２２と、前記の各処理室
８〜１１に配設されていて前記抗張・抗圧ストラット１
９〜２２の端部に枢着結合された閉鎖プレート２３〜２
６と、該閉鎖プレートに固定された例えばサブストレー
トホルダー又はサブストレートグリッパとして形成され
るサブストレート支持体３２，３３，３４，３５と、前
記軸１４に相対回動不能に固着結合されたガイドプレー
ト２７と、該ガイドプレート上に固着されていて前記閉
鎖プレート２３〜２６を保持しかつガイドするためのレ
ール対２８〜３１と、前記４つの処理室８〜１１内に配
置されていて例えばグロー陰極及びスパッタ陰極４１，
４２のような成膜工具とから成っている。
て、全部で４つの処理室開口４，５，６，７を有するフ
レーム状の側壁３と、４つのボックス形の処理室８，
９，１０，１１と、前記側壁３の下側を密封する真空室
ボトムプレート１２と、図示は省いたが前記側壁３の上
側を密封する真空室密閉蓋と、前記の真空室ボトムプレ
ート１２及び真空室密閉蓋内で回転可能に鉛直に軸支さ
れている軸１４と、該軸に固着されていて星形に水平に
延びる腕１５〜１８と、該腕１５〜１８に枢着結合され
た抗張・抗圧ストラット１９〜２２と、前記の各処理室
８〜１１に配設されていて前記抗張・抗圧ストラット１
９〜２２の端部に枢着結合された閉鎖プレート２３〜２
６と、該閉鎖プレートに固定された例えばサブストレー
トホルダー又はサブストレートグリッパとして形成され
るサブストレート支持体３２，３３，３４，３５と、前
記軸１４に相対回動不能に固着結合されたガイドプレー
ト２７と、該ガイドプレート上に固着されていて前記閉
鎖プレート２３〜２６を保持しかつガイドするためのレ
ール対２８〜３１と、前記４つの処理室８〜１１内に配
置されていて例えばグロー陰極及びスパッタ陰極４１，
４２のような成膜工具とから成っている。
【００１０】図１に示した真空処理装置を稼働させるに
当たって、閉鎖プレート２３〜２６に固定的に配置され
たサブストレート支持体３２〜３５にサブストレート
（基板）３６〜３９が装備され、この装備は例えば、処
理室８の密閉蓋４０を矢印Ａの方向に開放し、前記処理
室８を通してサブストレート３７を導きかつ処理室開口
７の前に位置しているサブストレート支持体３５に装架
することによって可能に成り、このために前記ガイドプ
レート２７は、軸１４及び該軸に前記の腕と抗張抗圧ス
テーを介して枢着された閉鎖プレート２３〜２６と共に
矢印Ｂの方向に回転可能であり、かつ前記閉鎖プレート
２３〜２６は、ガイドプレート２７が静止していても軸
１４は回転可能であるので、半径方向に前記レール対に
沿ってシフト可能である。
当たって、閉鎖プレート２３〜２６に固定的に配置され
たサブストレート支持体３２〜３５にサブストレート
（基板）３６〜３９が装備され、この装備は例えば、処
理室８の密閉蓋４０を矢印Ａの方向に開放し、前記処理
室８を通してサブストレート３７を導きかつ処理室開口
７の前に位置しているサブストレート支持体３５に装架
することによって可能に成り、このために前記ガイドプ
レート２７は、軸１４及び該軸に前記の腕と抗張抗圧ス
テーを介して枢着された閉鎖プレート２３〜２６と共に
矢印Ｂの方向に回転可能であり、かつ前記閉鎖プレート
２３〜２６は、ガイドプレート２７が静止していても軸
１４は回転可能であるので、半径方向に前記レール対に
沿ってシフト可能である。
【００１１】サブストレート支持体３２〜３５にサブス
トレート３６〜３９を装備しかつ密閉蓋４０を閉鎖した
後、真空室２及び該真空室に接続された処理室８〜１１
を排気することが可能である。いまガイドプレート２７
を静止させた状態で軸１４が逆時計回り方向に約９０゜
回動されると、４つの閉鎖プレート２３〜２６が全て半
径方向外向きに運動して処理室開口４〜７が前記閉鎖プ
レートによって閉鎖される。成膜処理工具、例えばグロ
ー陰極及びスパッタ陰極４１，４２のスイッチ・オンに
よってサブストレート３６〜３９に成膜処理が施され
る。ところで処理室内に異種の処理工具が配置されてい
る場合には、４つの処理室８〜１１の夫々に各サブスト
レートを順々に搬送して所望の順序で処理することが可
能である。処理を施した後サブストレート３６〜３９
は、装備と同じ方式で取外すことができる。
トレート３６〜３９を装備しかつ密閉蓋４０を閉鎖した
後、真空室２及び該真空室に接続された処理室８〜１１
を排気することが可能である。いまガイドプレート２７
を静止させた状態で軸１４が逆時計回り方向に約９０゜
回動されると、４つの閉鎖プレート２３〜２６が全て半
径方向外向きに運動して処理室開口４〜７が前記閉鎖プ
レートによって閉鎖される。成膜処理工具、例えばグロ
ー陰極及びスパッタ陰極４１，４２のスイッチ・オンに
よってサブストレート３６〜３９に成膜処理が施され
る。ところで処理室内に異種の処理工具が配置されてい
る場合には、４つの処理室８〜１１の夫々に各サブスト
レートを順々に搬送して所望の順序で処理することが可
能である。処理を施した後サブストレート３６〜３９
は、装備と同じ方式で取外すことができる。
【００１２】図２に示した真空処理装置の実施形態で
は、腕１５〜１８並びに該腕に枢着された抗張・抗圧ス
トラット１９〜２２を備えた軸１４に代えて、軸１４′
と共に回転可能に真空室ボトムプレート１２上に支承さ
れたケーシングが設けられており、該ケーシングは、そ
の内部に保持されてガイドされる４つのブラケット４３
〜４６を備えている。該ブラケット４３〜４６は前記ケ
ーシングに対して矢印Ｅ及びＦの方向にテレスコープ運
動可能に構成されているので、ブラケット４３〜４６の
自由端部に固着された閉鎖プレート２３〜２６は処理室
開口４〜７の前へ、或いは図示を省いた起点位置へ運動
可能である。
は、腕１５〜１８並びに該腕に枢着された抗張・抗圧ス
トラット１９〜２２を備えた軸１４に代えて、軸１４′
と共に回転可能に真空室ボトムプレート１２上に支承さ
れたケーシングが設けられており、該ケーシングは、そ
の内部に保持されてガイドされる４つのブラケット４３
〜４６を備えている。該ブラケット４３〜４６は前記ケ
ーシングに対して矢印Ｅ及びＦの方向にテレスコープ運
動可能に構成されているので、ブラケット４３〜４６の
自由端部に固着された閉鎖プレート２３〜２６は処理室
開口４〜７の前へ、或いは図示を省いた起点位置へ運動
可能である。
【００１３】図３に示した真空処理装置の実施形態で
は、軸１４に代えてねじスピンドル４７が使用されてお
り、該ねじスピンドルはナット４８，４９と協働し、該
ナットは、ねじスピンドルに沿ってガイドされるヨーク
５０，５１の構成部分である。ねじスピンドル４７の回
転運動に基づいて、前記ヨーク５０，５１に枢着結合さ
れた抗張・抗圧ストラット５２，５３；５４，５５は閉
鎖プレート２４，２６を、ねじスピンドル４７の回転方
向に応じて半径方向外向きにか又は半径方向内向きにシ
フトさせ、その場合、閉鎖プレート２４，２６はレール
対２８，２８ａ；３０，３０ａに沿ってガイドされ、し
かも閉鎖プレート２４，２６はその滑りシュー５６，５
７でもって前記レール対内に係合している。
は、軸１４に代えてねじスピンドル４７が使用されてお
り、該ねじスピンドルはナット４８，４９と協働し、該
ナットは、ねじスピンドルに沿ってガイドされるヨーク
５０，５１の構成部分である。ねじスピンドル４７の回
転運動に基づいて、前記ヨーク５０，５１に枢着結合さ
れた抗張・抗圧ストラット５２，５３；５４，５５は閉
鎖プレート２４，２６を、ねじスピンドル４７の回転方
向に応じて半径方向外向きにか又は半径方向内向きにシ
フトさせ、その場合、閉鎖プレート２４，２６はレール
対２８，２８ａ；３０，３０ａに沿ってガイドされ、し
かも閉鎖プレート２４，２６はその滑りシュー５６，５
７でもって前記レール対内に係合している。
【００１４】各レール対２８，２８ａ；２９，２９ａ；
３０，３０ａ；３１，３１ａに配設された閉鎖プレート
２３〜２６がケーシング中心軸線或いは軸１４，１４′
又はねじスピンドル４７を基準として半径方向にしか運
動できないようにすることを前記レール対が保証してい
るのに対して、抗張・抗圧ストラット１９〜２２又はブ
ラケット４２〜４５又はレバー伝動機構５２，５３；５
４，５５に基づいて、軸１４，１４′又はねじスピンド
ル４７がガイドプレート２７に対して相対的に回転運動
する際に全ての閉鎖プレートは、同時にかつ同一方向に
しか運動できないようにされる。
３０，３０ａ；３１，３１ａに配設された閉鎖プレート
２３〜２６がケーシング中心軸線或いは軸１４，１４′
又はねじスピンドル４７を基準として半径方向にしか運
動できないようにすることを前記レール対が保証してい
るのに対して、抗張・抗圧ストラット１９〜２２又はブ
ラケット４２〜４５又はレバー伝動機構５２，５３；５
４，５５に基づいて、軸１４，１４′又はねじスピンド
ル４７がガイドプレート２７に対して相対的に回転運動
する際に全ての閉鎖プレートは、同時にかつ同一方向に
しか運動できないようにされる。
【００１５】ガイドプレート２７と軸１４，１４′又は
ねじスピンドル４７の同期的な回転運動の結果、全ての
閉鎖プレート２３〜２６は同時に、該閉鎖プレートによ
って保持されたサブストレート３６〜３９と一緒に矢印
方向に、つまり（閉鎖プレート２３〜２６が前以て起点
位置へ動かされていることを前提とすれば）１つの処理
ステーションから次の処理ステーションへと動かされ
る。
ねじスピンドル４７の同期的な回転運動の結果、全ての
閉鎖プレート２３〜２６は同時に、該閉鎖プレートによ
って保持されたサブストレート３６〜３９と一緒に矢印
方向に、つまり（閉鎖プレート２３〜２６が前以て起点
位置へ動かされていることを前提とすれば）１つの処理
ステーションから次の処理ステーションへと動かされ
る。
【図１】１本の軸の回転運動によってリンク式直線ガイ
ド機構を介して夫々対向しているエアロックゲート開口
へ向かって走行可能な４つの閉鎖プレートを装備し、し
かも回転可能なボトムプレートのガイド溝内を滑動させ
るようにした第１実施形態の真空処理装置の横断面図で
ある。
ド機構を介して夫々対向しているエアロックゲート開口
へ向かって走行可能な４つの閉鎖プレートを装備し、し
かも回転可能なボトムプレートのガイド溝内を滑動させ
るようにした第１実施形態の真空処理装置の横断面図で
ある。
【図２】処理室に対面した側にサブストレートを保持す
る腕を備えた閉鎖プレートをテレスコープ式のブラケッ
トを介して運動可能にした第２実施形態の真空処理装置
の横断面図である。
る腕を備えた閉鎖プレートをテレスコープ式のブラケッ
トを介して運動可能にした第２実施形態の真空処理装置
の横断面図である。
【図３】ねじスピンドルのナットに連接されたレバーを
介して閉鎖プレートを半径方向に運動可能にした第３実
施形態の真空処理装置の縦断面図である。
介して閉鎖プレートを半径方向に運動可能にした第３実
施形態の真空処理装置の縦断面図である。
２ 真空室、 ３ フレーム状の側壁、 ４，５，
６，７ 処理室開口、 ８，９，１０，１１ 処理
室、 １２ 真空室ボトムプレート、 １４，１４′
軸、 １５，１６，１７，１８ 腕、 １９，２
０，２１，２２抗張・抗圧ストラット、 ２３，２４，
２５，２６ 閉鎖プレート、 ２７ ガイドプレー
ト、 ２８，２８ａ；２９，２９ａ；３０，３０ａ；３
１，３１ａ レール対、 ３２，３３，３４，３５
サブストレート支持体、３６，３７，３８，３９
サブストレート、 ４０ 密閉蓋、 ４１，４２成膜
処理工具としてのグロー陰極及びスパッタ陰極、 ４
３，４４，４５，４６ ブラケット、 ４７ ねじ
スピンドル、 ４８，４９ ナット、５０，５１
ヨーク、 ５２，５３；５４，５５ レバー伝動機
構、 ５６，５７ 滑りシュー、 ５８ 真空室密
閉蓋、 Ａ 真空室密閉蓋の開放方向を示す矢印、
Ｂ ガイドプレートの回転方向を示す矢印、 Ｅ，Ｆ
ブラケットのテレスコープ運動方向を示す矢印
６，７ 処理室開口、 ８，９，１０，１１ 処理
室、 １２ 真空室ボトムプレート、 １４，１４′
軸、 １５，１６，１７，１８ 腕、 １９，２
０，２１，２２抗張・抗圧ストラット、 ２３，２４，
２５，２６ 閉鎖プレート、 ２７ ガイドプレー
ト、 ２８，２８ａ；２９，２９ａ；３０，３０ａ；３
１，３１ａ レール対、 ３２，３３，３４，３５
サブストレート支持体、３６，３７，３８，３９
サブストレート、 ４０ 密閉蓋、 ４１，４２成膜
処理工具としてのグロー陰極及びスパッタ陰極、 ４
３，４４，４５，４６ ブラケット、 ４７ ねじ
スピンドル、 ４８，４９ ナット、５０，５１
ヨーク、 ５２，５３；５４，５５ レバー伝動機
構、 ５６，５７ 滑りシュー、 ５８ 真空室密
閉蓋、 Ａ 真空室密閉蓋の開放方向を示す矢印、
Ｂ ガイドプレートの回転方向を示す矢印、 Ｅ，Ｆ
ブラケットのテレスコープ運動方向を示す矢印
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シュテファン クンケル ドイツ連邦共和国 ハーナウ ボルンガッ セ ６−８ (72)発明者 ヨハネス ボイル ドイツ連邦共和国 レーエ バーンホフシ ュトラーセ 26
Claims (4)
- 【請求項１】 サブストレート（３６〜３９）に薄膜を
被着するための真空処理装置において、真空室（２）の
リング状又はフレーム状の側壁（３）によって保持され
かつ成膜処理工具（４１，４２）を内蔵した複数の定置
の処理室（８〜１１）が設けられており、該処理室が、
エアロックゲートを介して前記サブストレート（３６〜
３９）を搬入・搬出するために、外周から内方へ前記真
空室（２）の中心に向かって方位づけられて互いに平行
な平面内で延びる処理室開口（４〜７）を備えており、
前記真空室（２）の真空室密閉蓋（５８）内及び／又は
真空室ボトムプレート（１２）内には軸（１４，１
４′）又はねじスピンドル（４７）が、前記処理室開口
平面に対して平行に延在するように軸支されており、前
記の軸（１４，１４′）又はねじスピンドル（４７）
が、これによって保持されかつ動かされて前記処理室開
口（４〜７）を密閉するための閉鎖プレート（２３〜２
６）と、該閉鎖プレート（２３〜２６）を半径方向内寄
りの開放位置から半径方向外寄りの閉鎖位置へ移動させ
るための作動子（１９〜２２；４３〜４６；５２〜５
５）とを備えており、しかも前記の軸（１４，１４′）
又はねじスピンドル（４７）と協働する作動子が、レバ
ー伝動機構（１９〜２２； ５２〜５５）又はテレスコ
ープ運動可能なブラケット（４３〜４６）として構成さ
れており、かつ前記閉鎖プレート（２３〜２６）が夫
々、処理室（８〜１１）に対面した側面にサブストレー
トホルダー又はサブストレートグリッパ（３２〜３５）
を有していることを特徴とする、薄膜を被着するための
真空処理装置。 - 【請求項２】 真空室密閉蓋（５８）内及び／又は真空
室ボトムプレート（１２）内に軸支された軸（１４）
が、処理室（８〜１１）の数に等しい本数の、前記軸
（１４）から半径方向に延びていて該軸（１４）に固着
結合された腕（１５〜１８）を有しており、該腕の半径
方向外端部が夫々枢着部を介して第２のレバー又は抗張
・抗圧ストラット（１９〜２２）と連結されており、前
記第２のレバー又は抗張・抗圧ストラットの各自由端部
がそれぞれ閉鎖プレート（２３〜２６）と枢着結合され
ており、該閉鎖プレートが、滑子案内又はレール対（２
８，２８ａ；〜；３１，３１ａ ）のような直線ガイド
機構内に滑動可能に配置されており、該直線ガイド機構
は、対応した処理室開口平面に対して直角な方向の運動
のみを前記閉鎖プレート（２３〜２６）に許容しかつ前
記の真空室ボトムプレート（１２）及び／又は真空室密
閉蓋（５８）に設けられている、請求項１記載の真空処
理装置。 - 【請求項３】 真空室密閉蓋（５８）内及び／又は真空
室ボトムプレート（１２）内に軸支されていてモータ駆
動可能な軸がねじスピンドル（４７）として構成されて
おり、該ねじスピンドルは単数又は複数のナット（４
８，４９）と協働し、各ナットには夫々、レバー（５２
〜５５）又は抗張・抗圧ストラット（１９〜２２）が枢
着されており、前記のレバー又は抗張・抗圧ストラット
の自由端部が夫々、閉鎖プレート（２３〜２６）と枢着
結合されており、しかも該閉鎖プレート（２３〜２６）
は滑子案内又はレール対（２８，２８ａ；〜；３１，３
１ａ）内に保持されてガイドされており、該滑子案内又
はレール対は、真空室ボトムプレート（１２）に対して
平行なガイドプレート（２７）上で半径方向に延在し、
かつ対応した処理室開口平面に対して直角な方向の運動
のみを前記閉鎖プレート（２３〜２６）に許容する、請
求項１記載の真空処理装置。 - 【請求項４】 真空室密閉蓋（５８）内及び／又は真空
室ボトムプレート（１２）内に軸支されていてモータ駆
動可能な軸（１４′）が、処理室（８〜１１）の数に等
しい本数のブラケット（４３〜４６）と連結されてお
り、各ブラケットが半径方向で処理室開口（４〜７）へ
向かってテレスコーブ運動可能であり、しかも該ブラケ
ット（４３〜４６）の各自由端部が夫々、閉鎖プレート
（２３〜２６）と固着結合されており、かつ該閉鎖プレ
ート（２３〜２６）が、前記処理室開口（４〜７）に対
面した側面に夫々作動子を装備しており、各作動子が、
閉鎖プレート（２３〜２６）に固定的に配置されてほぼ
水平に、対応した処理室開口（４〜７）の方に向かって
延びる第１アームと、該第１アームの自由端部に枢着さ
れた第２アームとから成り、該第２アームの自由端部が
サブストレート支持体（３２〜３５）又はサブストレー
トグリッパを装備している、請求項１記載の真空処理装
置。
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