CN1201720A - 用于涂覆薄层的真空处理设备 - Google Patents

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Abstract

在一种在基片(36—38)上涂覆薄层的真空处理设备中,配备了一根与开口平面平行地延伸的且支承在真空室(2)的真空室盖板和/或真空室底板(12)中的轴(14),其中此设备具有许多位置固定的、由环形或框架真空室(2)侧壁(3)夹持在且装有处理工具(41,42…)的处理室(8—11),所述处理室配备有在周围向内地对准真空室(2)中心的、在相互平行的平面内延伸的且用于输入和输出基片(36—38)的处理室开口(4—7),此轴使板(23—26)运动以便封闭处理室开口(4—7)且配备有操作机构(19—22)以使封闭板(23—26)从径向靠内的开口位置移向径向靠外的封闭位置,其中和轴(14)配合工作的操作机构被设计成杠杆式传动结构(19—22)。

Description

用于涂覆薄层的真空处理设备
本发明涉及一种用于在基片上涂覆薄层的真空处理设备，此设备带有多个由一个位置固定的环形或框形真空室侧壁夹持的且装有处理工具的处理室，此处理室具有对准真空室中心的且在相互平行的平面内延伸的开口。
已知有这样一种带有一个主室或分配室的真空处理设备(EP0555764)，待涂覆基片或工件在此设备中借助传送机构而在至少两个处理室之间或阀腔和至少一个处理室之间传送，其中所有处理室或部分处理室借助液压或气压启动式密封机构与主室或分配室密封地隔开。此设备设计成圆筒形且沿着圆形或圆筒形分配室的外表面设置了至少一个收料室或接收待处理基片的接收槽。收料室(接收槽)在各处理位置上对准设置在圆筒外表面上的相应处理站。为了构成工作室或处理室，可绕圆筒中轴转动地设置收料室或接收槽或圆筒的外表面。
还知道一种在载体上真空涂覆涂层的设备(DE2848480)，此设备特别适用于当生产多层电容器时在载体上交替地涂覆金属层和辉光聚合层。此设备具有至少两个真空室，该真空室通过真空阀彼此隔断开，其中在工作的第一真空室中存在一个低于在第二真空室或其余腔室内的压力的小的残余压压。此设备具有一个传送机构，此传送机构可以通过所选真空阀将待涂覆的载体从第一真空室送入第二真空室中并再送入第一真空室或第三真空室中。此设备在真空室中具有将涂层涂覆到位于传送机构上的载体上的涂覆机构。其中真空阀具有许多夹钳和分别位于两个夹钳之间的吸出残余气体用的吸气管，所述夹钳直接位于传送机构表面的对面且相对所述表面留有一个小间隙。传送机构只能在一个方向上运动。在传送机构运动方向上位于第一真空室前面的真空阀的扩散路径比在传送机构运动方向上位于第一真空室后面的真空阀的扩散路径长。
本发明的任务是提供一种可克服上述类型的问题的设备，其中基片安装在各容器内，还可以如此设计，即可以处理具有不同尺寸的和特别是具有很难处理形状的基片。另外，真空室不通风且不必使基片在基片载体间传递，就可以进行许多不同方式的基片处理。
根据本发明，上述任务是如此解决的，即位置固定的、由环形或框形真空室侧壁夹持的且装有处理工具的多个处理室配备有在周围向内地对准真空室中心的、在相互平行的平面内延伸的且用于输入和输出基片的处理室开口以及一根平行于开口平面地延伸的且支承在真空室的真空室盖板和/或真空室底板中的轴或丝杠，此轴或丝杠配备有由其支承和驱动的封闭处理室开口用的板和用于将封闭板从径向靠内的开口位置引向径向靠外的封闭位置的操作机构，和轴或丝杠配合工作的操作机构被设计成杠杆式传动机构或伸缩悬臂式结构，所述封闭板在其分别靠近处理室的侧面上具有基片支架或基片夹具。
在从属权利要求中进一步描述和指出了其它特征和细节。
本发明可以有不同的实施方式。在附图中只是进一步示意地描述了其中三个实施方式，其中：
图1是横穿具有四块封闭板的设备的剖面图，此设备借助杆式直线导向机构并通过轴的转动移向分别位于其对面的阀口，封闭板为此在转动底板的导向槽中滑动。
图2是横穿另一个设备实施例的剖面图，其中封闭板借助伸缩悬臂来运动，封闭板在其靠近处理室的那一端配备有夹持基片用的臂。
图3是纵穿另一个设备实施例的剖面图，其中封闭板借助杠杆作径向运动，所述封闭板与丝杠螺母铰接。
如图1所示，真空处理设备主要由一个共有四个开口4-7的框架侧壁3、四个盒形处理室、一个从下面封闭侧壁3的真空室底板12、一个未示出的从上面封闭侧壁3的真空室盖板、一根在底板和盖板中可转动的且带有固定其上的且呈星形地水平延伸的臂15-18的竖直支承轴14、配属于各处理室8-11的且与牵引/压动杆19-22末端铰接的且带有固定其上的基片支架的封闭板23-26、一个与轴14抗转动地连接的且带有固定其上的夹持和引导封闭板23-26用的导轨对28-31的并装有在四个处理室8-11内的(未进一步示出)涂覆工具如辉光放电阴极和真空溅射阴极的导向板27。
为了运转图1所示的设备，给固定在封闭板23-26上的基片支架32-35装上基片36-39，这例如是如此实现的，即沿箭头A方向开启处理室8的顶板40且使基片进入处理室8中并悬挂在分别位于开口7前方的基片支架上，导向板27为此与轴14和铰接在轴上的封闭板23-26一起转动(箭头B方向)，封闭板23-26还在导轨对上径向移动(在导向板27静止而轴14可转动时)。
在给基片支架32-35装上了基片36-39并盖上了顶板40后，主室2和与其连通的处理室8-11接受抽真空处理。现在，轴14在导向板27静止的情况下大约转动90度角(逆时针)。随后，这四块封闭板23-26都径向向外移动，从而开口4-7被这些封闭板封住了。现在，通过接通处理工具如阴极41、42而实现了对基片的处理。当现在在处理室内安装不同类型的处理工具时，该组的所有基片接着被送入所有四个处理室8-11内并在处理室内以所希望的顺序进行处理。在完成处理后，基片36-39的取出可以通过与基片装配方式相同的方式进行。
在图2所示的真空处理设备实施例中，一个随轴41转动地支承在底板12上的外罩42在带有与轴14铰接的牵引/压动杆19-22的臂15-18的轴14的位置处，配有在底板中受到支承和导向的悬臂43-46。悬臂43-46可以在外罩42对面沿箭头E或F方向伸缩，从而固定在悬臂43-46自由端上的封闭板23-26移动到开口4前方或移入图所示的输出位置上。
图3所示的真空处理设备实施例在轴14的位置处设有一个丝杠47，此丝杠与螺母48、49配合工作，所述螺母是在丝杠上移动的轭架50、51的一部分。由于丝杠47转动，则与轭架50、51铰接的牵引/压动杆52、53或54、55使封闭板23-26径向向外或径向向内地移动(视转动方向而定)，其中封闭板24、26在导轨对28、28a或30、30a上受到引导。封闭板24、26通过其滑座56、57与所述导轨对卡接。
当导轨对28、28a…31、31a确保了其分别配属的封闭板23-26(相对外罩中轴或轴14、41或丝杠47)只能径向移动时，当轴14、41或丝杠47相对导向板27转动时，所有封闭板只能同时且同向地进行这样的运动，为此要注意牵引/压动杆19-22或悬臂42-45或杠杆驱动机构52-55。
导向板27和轴14、41或丝杠47的协调转动的结果是，所有封闭板23-26与由其支持的基片36-39一起同时沿箭头方向移动，即从其中一个工位移向最近的处理位置，其前提是封闭板23-26首先移入其输出位置。

Claims (4)

1.一种在基片(36-38)上涂覆薄层的真空处理设备，它具有许多位置固定的、由环形或框架真空室(2)侧壁(3)夹持的且装有处理工具(41，42…)的处理室(8-11)，所述处理室配备有在周围向内地对准真空室(2)中心的、在相互平行的平面内延伸的且用于输入和输出基片(36-38)的处理室开口(4-7)以及一根平行于开口平面地延伸的且支承在真空室(2)的真空室盖板(58)和/或真空室底板(12)中的轴(14，41)或丝杠(47)，此轴或丝杠配备有由其支承和驱动的封闭处理室开口(4-7)用的板(23-26)和用于将封闭板从径向靠内的开口位置引向径向靠外的封闭位置上的操作机构(19-22；43-46；53-55)，其中和轴(14，41)或丝杠(47)配合工作的操作机构被设计成杠杆式传动机构(19-22；53-55)或伸缩悬臂(43-46)式结构，封闭板(23-26)在其分别靠近处理室(8-11)的侧面上具有基片支架或基片夹具(32-35)。
2.如权利要求1所述的真空处理设备，其特征在于，支承在真空室盖板(58)和/或真空室底板(12)中的轴(14)具有与处理室(8-11)数目同样多的、由轴(14)径向延伸的且与轴抗转动连接的臂(15-18)，其径向靠外的端部分别通过铰接点与第二杠杆连接或与牵引/压动杆(19-22)连接而其自由端分别与封闭板(23-26)铰接，所述封闭板在直线导向机构如在槽或导轨对(28，28a；31，31a)中滑动，所述直线导向机构总是只允许封闭板垂直于相应开口平面地运动且在底板(12)和/或真空室顶板(58)上看得见所述直线导向机构。
3.如权利要求1所述的真空处理设备，其特征在于，支承在真空室顶板(58)和/或真空室底板(12)中的电机驱动轴被设计成丝杠(47)结构，一个或多个螺母(48，49)与丝杠(47)配合工作，杠杆或牵引/压动杆(52-55)分别铰接在所述螺母上，其自由端分别与封闭板(23-26)铰接，在槽或导轨对(28，28a；31，31a)中支承和引导封闭板(23-26)，它在平行于底板(12)的导向板(27)上径向延伸且总是只允许封闭板(23-26)垂直于各开口平面地运动。
4.如权利要求1所述的真空处理设备，其特征在于，支承在真空室顶板(58)和/或真空室底板(12)中的电机驱动轴(41)和与处理室(8-11)数目同样多的悬臂(43-46)相连，所述悬臂可以分别在指向处理室开口(4-7)的径向上伸缩，所述悬臂(43-46)的自由端分别与封闭板(23-26)紧固连接，封闭板(23-26)在其转向处理室开口(4-7)的侧面上分别配有操作机构，所述操作机构分别由固定安装在封闭板(23-26)上的、可大致水平地伸向各处理室开口(4-7)的、且在其自由端铰接有第二臂的第一臂(32-35)构成，其自由端配有基片支架或基片夹具(32-35)。
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