JPH10242362A - リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JPH10242362A
JPH10242362A JP9040402A JP4040297A JPH10242362A JP H10242362 A JPH10242362 A JP H10242362A JP 9040402 A JP9040402 A JP 9040402A JP 4040297 A JP4040297 A JP 4040297A JP H10242362 A JPH10242362 A JP H10242362A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
lead
semiconductor device
support
inner lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9040402A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Tanaka
茂樹 田中
Atsushi Fujisawa
敦 藤沢
Toshiyuki Shintani
俊幸 新谷
Kenichi Takebe
堅一 建部
Takashi Konno
貴史 今野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP9040402A priority Critical patent/JPH10242362A/ja
Priority to KR1019970013268A priority patent/KR19980069737A/ko
Priority to CN97110843A priority patent/CN1192046A/zh
Publication of JPH10242362A publication Critical patent/JPH10242362A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/061Disposition
    • H01L2224/0612Layout
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一の半導体チップによって封止形状の異な
る多品種の半導体装置の製造が可能な技術を提供する。 【解決手段】 封止体の一の辺からアウターリードが突
出する複数のリードのインナーリードの一部の先端を、
前記封止体の一の辺と対応する半導体チップの辺とは半
導体チップのコーナーを挟んで隣接する他の辺に対向さ
せる。この構成によって、同一の半導体チップを用いた
封止体形状の制約が少なくなり、同一の半導体チップ
を、例えば封止形状が正方形のものと長方形のもの等
の、アウターリードの配置が異なる半導体装置に用いる
ことが可能となる

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレーム及
び半導体装置に関し、特に、多リードのリードフレーム
及び半導体装置に適用して有効な技術に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】LSI等の半導体装置は、集積度の向上
に伴って、より複雑な回路が搭載されその機能も高度な
ものとなっている。このような高機能化によって、半導
体装置にはより多くの外部端子が必要となり、このため
に半導体チップに設けられるパッド電極及び半導体装置
の外部端子であるリードの数もそれに対応して増加する
こととなる。例えば、ロジック半導体装置では、外部端
子の数は数百にも及んでいる。このような多リードの半
導体装置としては、QFP(Quad FlatPac
kage)型の半導体装置が知られている。このQFP
型の半導体装置では、半導体チップを封止する封止体の
四側面に夫々複数のリードを設けるために、多リード化
に適しており、半導体装置を実装基板に実装する場合
に、半導体装置周囲のスペースを有効に利用できるとい
う利点がある。
【0003】このようなQFP型の半導体装置の組み立
てに用いられるリードフレームとしては、例えば日経B
P社刊「VLSIパッケージング技術(上)」、199
3年5月31日発行、P155〜P164に示されてお
り、特にP157及びP159には具体的なパターンが
示されている。
【0004】また、前記微細化によって半導体チップに
形成される素子数が増加し、それらの素子がより高速に
動作するために、半導体チップからの発熱も増大するこ
ととなる。この問題に対処するために放熱性を向上させ
た半導体装置として、例えば前記「VLSIパッケージ
ング技術(下)」P200〜P203にヒートスプレッ
ダを設けた半導体装置が記載されている。この半導体装
置では半導体チップにヒートスプレッダを取り付けるこ
とによって、半導体装置の放熱性を向上させている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記多リード化に対応
するために、リードフレームでは、各リード間の間隔で
あるリードピッチ及びリードの幅寸法を小さくすること
が求められている。
【0006】また、同様に半導体チップには前記高機能
化によって多くのパッド電極が設けられており、各パッ
ド電極間の間隔であるパッドピッチも小さくなってい
る。一般に半導体チップのパッド電極のピッチは種々の
ものがあるが、ウエハ当たりのチップ取得数を向上させ
るために、チップサイズは小さいことが望ましく、この
ため各パッド電極間のピッチも一段と小さく設定される
傾向にある。
【0007】このような理由から、多リードと各パッド
電極との間をAu等のワイヤを用いてボンディングする
場合、間隔が小さくなったことにより、隣接するワイヤ
相互が接触するショートが発生しやすくなるという問題
がある。特に半導体チップのコーナー部分では、パッド
電極にボンディングしたワイヤが、半導体チップに対し
て斜め方向にワイヤが伸びるために、パッドピッチが同
一であってもワイヤ相互間の間隔が小さくなるので、そ
の傾向が強くなる。
【0008】また、ワイヤボンディング後の樹脂モール
ドの際に、各リードの機械的強度の低下或はワイヤ間隔
の減少によって、モールド樹脂の流動によりワイヤが変
形するワイヤ流れが生じることがあり、この変形により
ワイヤのショートが発生するという問題がある。
【0009】加えて、QFPでは、中央に搭載された半
導体チップに近づくにつれてリードの配置領域が狭まっ
てくる。このため、リードの加工精度の限界から、リー
ドピッチを半導体チップのパッドピッチに対して充分に
微細化できない場合には、リードの先端を半導体チップ
に近付けることができなくなるので、パッド電極とリー
ドとをボンディングするワイヤを長くせざるを得ない。
このようにワイヤを長くした場合には、前記ショート或
はワイヤ流れの発生の確率が高くなる。
【0010】また、このようなリードの微細化によっ
て、各リードの機械的強度は低下するために、僅かな力
により変形しやすくなり、このような変形によっても前
記ショートが発生する。
【0011】更に、半導体装置の用途が拡大し、種々電
子装置に組み込まれることとなってきたために、同一機
能の半導体装置であって封止形状の異なるものが製造さ
れている。これらの半導体装置の各々に専用の半導体チ
ップを用いていたのでは、半導体チップの種類が増加し
生産効率が低下することとなる。
【0012】本発明の課題は、多リードの半導体装置の
ショート或はワイヤ流れの発生を防止し、ボンディング
を安定させることが可能な技術を提供することにある。
【0013】本発明の他の課題は、同一の半導体チップ
によって封止形状の異なる多品種の半導体装置の製造が
可能な技術を提供することにある。
【0014】本発明の他の課題は、多リードの半導体装
置の放熱特性を向上させることが可能な技術を提供する
ことにある。
【0015】本発明の前記ならびにその他の課題と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【0016】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば下
記の通りである。
【0017】封止体の一の辺からアウターリードが突出
する複数のリードのインナーリードの一部の先端を、前
記封止体の一の辺と対応する半導体チップの辺とは半導
体チップのコーナーを挟んで隣接する他の辺に対向させ
る。
【0018】更に、封止体のコーナー部に対応するイン
ナーリード間にダミーリードを設け、このダミーリード
の一端を隣接する前記インナーリードの先端まで延ば
し、その他端を封止体外に導出させない。
【0019】更に、支持体に半導体チップを搭載し、こ
の支持体に絶縁体を介してインナーリードを固定した半
導体装置について、前記支持体の全面に設けた接着剤層
によってインナーリード先端を前記半導体チップ搭載領
域の全周囲に固定する。
【0020】更に、各インナーリード先端のリードピッ
チについて最大のリードピッチが最小のリードピッチの
2倍未満とする。
【0021】更に、半導体チップのコーナー部に対応す
るインナーリード先端のリードピッチを他のリード先端
のリードピッチよりも広くする。
【0022】或は、半導体チップのコーナー部に対応す
るインナーリード間に封止体外に導出しないダミーリー
ドを設ける。
【0023】更に、半導体チップのコーナー部に位置す
るパッド電極のパッドピッチを、他のパッド電極のパッ
ドピッチよりも広くする。
【0024】上述した手段によれば、封止体の一の辺か
らアウターリードが突出する複数のリードのインナーリ
ードの一部の先端を、前記封止体の一の辺と対応する半
導体チップの辺とは半導体チップのコーナーを挟んで隣
接する他の辺に対向させたことによって、同一の半導体
チップを用いた封止体形状の制約が少なくなる。
【0025】更に、封止体のコーナー部に対応するイン
ナーリード間にダミーリードを設けることにより、樹脂
の流れに乱れが生じにくくなるので、ボイドによる樹脂
注入不良が減少する。
【0026】更に、インナーリード先端を前記半導体チ
ップ搭載領域の全周囲に固定することによって、前記イ
ンナーリードの先端をより半導体チップ搭載領域に接近
させることが可能となるので、隣接するワイヤ相互が接
触するショート、或はモールド樹脂の流動によりワイヤ
が変形するワイヤ流れが減少する。
【0027】また、コーナー部に対応するインナーリー
ド先端のリードピッチを他のインナーリード先端のリー
ドピッチよりも広くすることが可能となるので、隣接す
るワイヤ相互が接触するショート、或はモールド樹脂の
流動によりワイヤが変形するワイヤ流れが減少する。
【0028】更に、タブ吊りリードがないためにクロス
ボンディングを容易に行なうことが可能となる。
【0029】更に、予め支持体の全面に接着剤層を形成
し、これによってインナーリードを固定することによ
り、支持体付リードフレームの製造工程を容易にし、製
造コストを低減することができる。
【0030】更に、半導体チップを支持体に搭載するこ
とにより、半導体チップで発生した熱は支持体を通じて
外部に放熱可能となっており、半導体チップの放熱特性
を向上させることが可能となる。
【0031】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
【0032】なお、実施の形態を説明するための全図に
おいて、同一機能を有するものは同一符号を付け、その
繰り返しの説明は省略する。
【0033】(実施形態1)図1は本発明の一実施の形
態であるQFP型半導体装置のリードフレーム切断前の
状態を示す平面図であり、図2は図1に示す状態の縦断
面図である。リードフレーム1は、例えばFe‐Ni系
合金からなり、中央搭載された半導体チップ10の全周
囲にわたって複数のリード3のインナーリード4の先端
が配置されている。また、前記リードフレーム1は、C
u系合金でもよい。
【0034】各リード3は、ダムバー6により、或はリ
ードフレームの枠体となるタイバー19により一体とな
っており、各リード3のダムバー6内側部分及び外側部
分が夫々インナーリード4及びアウターリード5とな
る。
【0035】従来は、インナーリード4を一体化する一
のダムバー6に形成された複数のインナーリード4の先
端は、そのダムバー6と対応する半導体チップの一の辺
と対向させてあるが、本実施の形態では、インナーリー
ド4を一体化する一のダムバー6に形成された複数のイ
ンナーリード4の一部の先端を、ダムバー6と対応する
半導体チップ10の一の辺とは半導体チップ10のコー
ナーを挟んで隣接する他の辺に対向させてある。
【0036】このように前記他の辺と対向させたインナ
ーリード4は、半導体チップ10の対向する辺に形成さ
れたパッド電極とボンディングワイヤによって接続され
る。従って、同一の半導体チップ10を、例えば封止形
状が正方形のものと長方形のもの等の、アウターリード
5の配置が異なる半導体装置に用いることが可能とな
る。
【0037】このようなリードパターンは、周知のエッ
チング技術、あるいはプレス技術などによって形成さ
れ、通常のQFP型半導体装置では、リード3は数十本
から数百本が配置され、本実施の形態では104本のリ
ード3が配置されている。各リード3のインナーリード
4の先端は、支持体の全面に形成された絶縁性の接着剤
7によって支持体8の表面に固定されている。
【0038】本発明のリードフレーム1では、インナー
リード4に固定された支持体8の半導体チップ搭載領域
2に半導体チップを固定する。このため、半導体チップ
を搭載するタブ(ダイパッド)を支持するタブ吊りリー
ドは設けられておらず、タブ吊りリードの設けられてい
た領域をインナーリード4の配置に利用している。
【0039】このために、従来タブ吊りリードの設けら
れていたコーナー部にもインナーリード4が配置されて
おり、該部を含む全周囲にて、各インナーリード先端の
間隔であるリードピッチについては、最大のリードピッ
チが最小のリードピッチの2倍未満となっており、各イ
ンナーリード4間には他のリードを配置する余地はなく
なっている。つまり、隣接するインナーリードの先端に
おける許容すべき最大のリード間隔(L)と、リードフ
レームの加工精度、或は設計値により予め決定される最
小のインナーリード間隔(W1)及び最小のインナーリ
ード幅(W2)の関係が次の(式1)を満たすように、
本形態のリードフレームは作成されている。
【0040】
【数1】 (L)<2×(W1)+(W2)……(式1) そこで本実施の形態では、前記インナーリード4を、こ
のタブ吊りリードの設けられていた位置を含めた前記半
導体チップ搭載領域の全周囲にわたって等間隔に配置す
ることによって、同一のリードピッチであっても、イン
ナーリード4の先端をより半導体チップ10に接近させ
ることが可能となる。このため、半導体チップ10の搭
載後にワイヤボンディングを行う際に、ワイヤ長さを短
縮することが可能となり、樹脂封止時のワイヤ流れを低
減しワイヤ間のショートが低減する。
【0041】ここで、支持体8には、熱伝導性の良好な
材料例えばCu系材料、Al系材料等を用いることによ
って、半導体装置の放熱性を向上させることができる。
【0042】また、複数のリード3のインナーリード4
を支持体8に固定することにより、各リード3の機械的
強度が改善されるので、インナーリード4のリードピッ
チを小さくしても、外部からの力によるインナーリード
4の変形が生じにくくなる。このため、ボンディングワ
イヤ間のショートを防止することが可能となる。
【0043】次に、図1に示すリードフレーム及びそれ
を用いた半導体装置の製造方法について図2、図3及び
図4を用いて説明する。
【0044】先ず、図3中(a)に示すように、予め支
持体8のインナーリード4と接着される面の全面に接着
剤7を塗布形成する。接着剤としては、例えばエポキシ
樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、或はポリエチ
レン、塩化ビニール樹脂等の熱可塑性樹脂等が用いられ
る。支持体8は、金属の薄板を打ち抜き等によって加工
したものであるが、接着剤7の塗布はこの加工前でも加
工後であってもよい。
【0045】全面に接着剤7を塗布することで、接着剤
塗布時のマスキング等を不要にし、支持体8を有するリ
ードフレームの製造コストを低減できる。
【0046】次に、図3中(b)に示すように、パター
ニングされたリードフレーム1の各インナーリード4
を、接着剤7によって支持体8に接着する。この状態が
図2となる。本形態の場合は、300℃程度の熱処理に
よって、接着剤7をキュアし接着した。
【0047】次に、図3中(c)に示すように、半導体
チップ10をAgペースト12によって支持体8の半導
体チップ搭載領域2に接着する。従来は、インナーリー
ド4に接着剤7を塗布し支持体8に接着する方法が採ら
れていたが、この方法では接着剤の塗布時にインナーリ
ードを変形させてしまうために不良品となる等の問題が
あったが、本発明では予め支持体8に塗布した接着剤7
によって、インナーリード4の接着を行なうことによ
り、前述した問題を解決することが可能となる。
【0048】この後、図4に示すように、半導体チップ
10のパッド電極11とインナーリード4とをAu等の
ボンディングワイヤ13によって接続するが、このワイ
ヤボンディングの際に、本実施の形態では、インナーリ
ード4が支持体8に固定されているので、この支持体8
の裏面を真空吸引することによって、インナーリード4
を固定してワイヤボンディングを行うことができるの
で、従来のリードフレームのごとくインナーリードを押
圧固定するウインドクランパを用いる必要がない。
【0049】ワイヤボンディング終了後に、半導体チッ
プ10、支持体8、ボンディングワイヤ13及びインナ
ーリード4が例えばエポキシ樹脂からなる封止体14に
よって封止され、前述したダムバー6及びタイバー19
が切断されて各リード3は電気的に分離される。この
後、封止体14から延在するアウターリード5は、一例
として図4ではガルウイング状に成形されて半導体装置
9が完成する。
【0050】(実施形態2)次に、本発明の他の実施の
形態である半導体装置を図5及び図6を用いて説明す
る。図5は半導体チップ10のパッド電極11の配置を
説明する平面図であり、図6は半導体チップ10のコー
ナー部分のボンディング状態を説明する部分拡大平面図
である。
【0051】本実施の形態の半導体装置では、インナー
リード4に固定された支持体8の半導体チップ搭載領域
に半導体チップ10を固定する。このため、半導体チッ
プ10を搭載するタブ(ダイパッド)を支持するタブ吊
りリードは設けられておらず、タブ吊りリードの設けら
れていた領域をインナーリード4の配置に利用してい
る。
【0052】このために、従来タブ吊りリードの設けら
れていたコーナー部にもインナーリード4が配置されて
おり、該部を含む全周囲にて各インナーリード先端の間
隔であるリードピッチについては、全周囲にわたって略
等間隔に配置されており、同一のリードピッチであって
も、インナーリード4の先端をより半導体チップ10に
接近させることが可能となる。なお、各インナーリード
4の先端のリードピッチPは、180μ〜220μm程
度に設定される。
【0053】半導体チップ10の外部端子となるパッド
電極11は、半導体チップ10の周縁部に複数設けられ
ているが、本実施の形態では、半導体チップのコーナー
に近づくにつれてパッドピッチを広く設けてある。
【0054】図6に示す例では、半導体チップ10のパ
ッド電極11の内周縁部中央よりのパッドピッチをP1
とした場合に、以降のパッドピッチをコーナーに近づく
につれて、P2=1.1P1,P3=1.2P1,P4
=1.3P1と0.1P1ずつ広くする構成となってい
る。なお、高集積度の半導体装置に用いられる半導体チ
ップ10では、パッド電極11のピッチは80μ〜10
0μm程度に設定される。
【0055】パッド電極11とインナーリード4の先端
とは、ワイヤ13によって接続するボンディングが行な
われているが、パッド電極11はコーナーに近づくにつ
れて、パッドピッチが広く配置されているので、コーナ
ー部分のワイヤ13がワイヤ流れなどによって変形した
場合でも隣接するワイヤ13と接触しショートするのを
防止することができる。なお、ボンディングワイヤ13
としては、直径が25μ〜35μ程度のAu細線等が用
いられている。
【0056】また、半導体チップ10は、ワイヤ13の
取り回し等の点から、周縁部外端のパッド電極11と半
導体チップ10のコーナーを挟んで隣接する他の周縁部
外端のパッド電極11とのパッドピッチP5は、他のパ
ッドピッチより広くなっており、この部分ではリードピ
ッチP6よりも広くなっている。
【0057】また、ワイヤボンディングの際に、本実施
の形態では、インナーリード4が支持体8に固定されて
いるので、この支持体8の裏面を真空吸引することによ
って、インナーリード4を固定してワイヤボンディング
を行うことができるので、従来のリードフレームのごと
くインナーリードを押圧固定するウインドクランパを用
いる必要がない。
【0058】ワイヤボンディング終了後に、半導体チッ
プ10、支持体8、ボンディングワイヤ13及びインナ
ーリード4が例えばエポキシ樹脂からなる封止体14に
よって封止され、ダムバー6及び前記タイバー19が切
断されて各リード3は電気的に分離され、封止体14か
ら延在するアウターリード5は、一例として図4ではガ
ルウイング状に成形されて半導体装置9が完成する。
【0059】このような本実施の形態の半導体装置で
は、ワイヤ流れによる不良品の発生を従来に比較して略
半分に低減することができる。
【0060】なお、前記パッドピッチの拡げ方として
は、前述した周縁部中央から一律に拡げる方法の他に、
コーナー部を部分的に拡げる方法等によっても本発明は
実施が可能である。
【0061】(実施形態3)次に、本発明の他の実施の
形態である半導体装置を図7及び図16を用いて説明す
る。
【0062】図7は本発明の他の実施の形態であるQF
P型半導体装置に用いられるリードフレームを部分的に
示す平面図であり、図16は半導体装置を部分的に示す
平面図である。
【0063】リードフレーム1は、例えばFe‐Ni系
合金又は、Cu系合金からなり、中央の半導体チップ
(破線にて示す)搭載領域2の全周囲にわたって複数の
リード3のインナーリード4の先端が配置されている。
【0064】各リード3のインナーリード4及び半導体
チップ10は、絶縁性の接着剤によって支持体8の表面
に固定されている。接着剤としては、例えばエポキシ樹
脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、或はポリエチレ
ン、塩化ビニール樹脂等の熱可塑性樹脂等が用いられ
る。
【0065】本実施の形態の半導体装置では、インナー
リード4に固定された支持体8の半導体チップ搭載領域
に半導体チップ10を固定する。このため、半導体チッ
プ10を搭載するタブ(ダイパッド)を支持するタブ吊
りリードは設けられておらず、タブ吊りリードの設けら
れていた領域をインナーリード4の配置に利用すること
ができる。
【0066】そこで本実施の形態では、インナーリード
4の先端を、半導体チップ搭載領域2の全周囲に配置
し、半導体チップ搭載領域2のコーナー部に対応するイ
ンナーリード4先端のリードピッチを他のインナーリー
ド4先端のリードピッチよりも広くすることが可能とな
る。このため、半導体チップの搭載後にワイヤボンディ
ングを行う際に、ワイヤ13相互の間隔が広くなり、ワ
イヤ13間のショートが低減する。
【0067】ここで、支持体8には、熱伝導性の良好な
材料例えばCu系材料、Al系材料等を用いることによ
って、半導体装置の放熱性を向上させることができる。
【0068】また、複数のリード3のインナーリード4
を支持体8に固定することにより、各リード3の機械的
強度が改善されるので、インナーリード4のリードピッ
チを小さくしても、外部からの力による変形が生じにく
くなる。このため、ボンディングワイヤ13間のショー
トを防止することが可能となる。
【0069】また、パッド電極11は、半導体チップ1
0の周縁部に複数設けられているが、本実施の形態で
は、半導体チップのコーナーに近づくにつれてパッドピ
ッチを広く設けてある。なお、高集積度の半導体装置に
用いられる半導体チップ10では、パッド電極11のピ
ッチは80μ〜100μm程度に設定される。
【0070】パッド電極11とインナーリード4の先端
とは、ワイヤ13によって接続するボンディングが行な
われているが、パッド電極11はコーナーに近づくにつ
れて、パッドピッチが広く配置されているので、コーナ
ー部分のワイヤ13がワイヤ流れなどによって変形した
場合でも隣接するワイヤ13と接触しショートするのを
防止することができる。なお、ボンディングワイヤ13
としては、直径が25μ〜35μ程度のAu細線等が用
いられている。
【0071】また、半導体チップ10は、ある程度の汎
用性をもたせるために、周縁部外端のパッド電極11と
隣接する他の周縁部外端のパッド電極11とのパッドピ
ッチは、他のパッドピッチより広くなっており、リード
ピッチよりも広くなることもある。このような場合に前
記外端のパッド電極11をよりコーナーに近付けてパッ
ドピッチの拡大を図ることも可能である。
【0072】また、ワイヤボンディングの際に、本実施
の形態では、インナーリード4が支持体8に固定されて
いるので、この支持体8の裏面を真空吸引することによ
って、インナーリード4を固定してワイヤボンディング
を行うことができるので、従来のリードフレームのごと
くインナーリードを押圧固定するウインドクランパを用
いる必要がない。
【0073】ワイヤボンディング終了後に、半導体チッ
プ10、支持体8、ボンディングワイヤ13及びインナ
ーリード4が例えばエポキシ樹脂からなる封止体14に
よって封止され、ダムバー6及び前記タイバー19が切
断されて各リード3は電気的に分離され、封止体14か
ら延在するアウターリード5は成形されて半導体装置9
が完成する。
【0074】このような本実施の形態の半導体装置で
は、ワイヤ流れによる不良品の発生を従来に比較して略
半分に低減することができる。
【0075】なお、前記パッドピッチの拡げ方として
は、前述した周縁部中央から一律に拡げる方法の他に、
コーナー部を部分的に拡げる方法等によっても本発明は
実施が可能である。
【0076】(実施形態4)次に、本発明の他の実施の
形態であるリードフレームを図17を用いて説明する。
図17はリードフレームを説明する平面図である。
【0077】本実施の形態のリードフレーム1では、イ
ンナーリード4に固定された支持体8の半導体チップ搭
載領域2に半導体チップ(破線にて示す)を固定する。
このため、半導体チップ10を搭載するタブ(ダイパッ
ド)を支持するタブ吊りリードは設けられていない。
【0078】このようなインナーリード4の配置を行な
った場合には、コーナー部におけるアウターリード5の
配置については、アウターリード5の保護或は樹脂注入
流路の確保等のために、封止体14のコーナーから若干
離してアウターリード5が配置されることとなる。この
ため、封止体14のコーナー部ではインナーリード4が
配置されない空間が生じてしまうことがある。
【0079】このような空間が生じた場合には、樹脂注
入時にこの部分にて注入された樹脂の流れに乱れが生じ
るためにボイドが発生し樹脂注入不良の原因となること
がある。
【0080】このような問題を解決するために本実施の
形態では、従来タブ吊りリードの設けられていたコーナ
ー部にて、封止体14のコーナー部に対応するインナー
リード4間にダミーのインナーリードであるダミーリー
ド20を設け、このダミーリード20の一端が隣接する
インナーリード4の先端まで延び、その他端が切除後は
封止体14外に導出しない構成とする。
【0081】本実施の形態ではこのダミーリード20に
よって樹脂の流れに乱れが生じるのを防止する。従っ
て、このような本実施の形態の半導体装置では、ボイド
による樹脂注入不良品の発生を低減することができる。
【0082】また、支持板8の四隅をダミーリード20
で固定することによって、支持板8を強固に支持するこ
とが可能となる。なお、ダミーリード20は他のインナ
ーリード4よりも幅広とすることによって、支持板8を
より強固に支持することが可能となる。
【0083】更に、リードフレームの状態で工程間を搬
送するリードフレーム搬送では、リードフレーム切断前
のこのダミーリード20の封止体導出部を保持すること
によって搬送を行なうことが可能であり、アウターリー
ド5を保持して搬送することにより生じるアウターリー
ド5の変形を防止することができる。
【0084】(実施形態5)次に、本発明の他の実施の
形態である半導体装置を図18及び図19を用いて説明
する。図18は本発明者が本発明に至る段階で検討した
半導体装置を説明する部分拡大平面図であり、図19は
本実施の形態の半導体装置を説明する部分拡大平面図で
ある。
【0085】図18に示す半導体装置では、インナーリ
ードと半導体チップのパッド電極との接続は、インナー
リードと、このインナーリードに対向する半導体チップ
の辺に設けられたパッド電極とが接続されている。
【0086】しかしながら、同一の半導体チップを異種
の封止体に封止する必要がある場合等に、前記半導体チ
ップのコーナー部に対応するインナーリード先端が、こ
のインナーリードと対向する半導体チップの辺とコーナ
ーを挟んで隣接する他の辺に設けられた半導体チップの
パッド電極と接続されるクロスボンディングが要求され
ることがある。
【0087】このような場合に、図18に示す如く半導
体チップ10をタブ21に固定し、このタブ21をタブ
吊りリード22によつて支持する従来の半導体装置で
は、ボンディングワイヤ13がタブ吊りリード22上を
横切ることとなる。このため、ボンディングワイヤ13
とタブ吊りリード22との接触による不良の発生を防止
するために、このようなボンディングには種々の制限が
設けられており、ボンディングが困難であった。
【0088】本実施の形態の半導体装置では、インナー
リード4に固定された支持体8に半導体チップ10を固
定する。このため、半導体チップ10を搭載するタブ2
1(ダイパッド)及びこのタブを支持するタブ吊りリー
ド22は設けられておらず、ダミーリード20を設けた
ものであっても、その先端が他のインナーリード4より
も突出することがない。
【0089】このようなインナーリード4の配置を行な
うことによつて、前述したクロスボンディングを行なっ
ても、ボンディングワイヤ13とタブ吊りリード22と
の接触による不良の発生がなくなり、製品の信頼性が向
上することとなる。
【0090】また、前記クロスボンディングを容易に行
なうことが可能となり、ボンディングの自由度が向上す
ることとなる。
【0091】(実施形態6)図8は本発明の他の実施の
形態であるリードフレームを示す断面図であり、図9は
このリードフレームを用いて製造した半導体装置を示す
縦断面図である。
【0092】本実施の形態によるリードフレーム1は、
既述した実施の形態によるリードフレームの構成に加え
て、支持体8の半導体チップ搭載領域2とインナーリー
ド4先端との間に、ワイヤ支持部15を設けたことを特
徴としている。
【0093】このワイヤ支持部15は、支持体8の搭載
領域2の周囲に配置され、半導体装置を組み立てると
き、半導体チップのパッド電極と各リードとの間にボン
ディングされるワイヤのループを一定の高さに支持する
ことができる。ワイヤ支持部15は、例えばポリイミド
樹脂、エポキシ樹脂などの絶縁材料を接着剤等によって
支持体8に固定する、或は、支持体8を部分的に加工し
て、少なくともワイヤが接する部分を絶縁処理すること
によって形成する。
【0094】このような、実施の形態によるリードフレ
ーム1によれば、ボンディングワイヤを支持するワイヤ
支持部15を有しているので、ワイヤのループ高さを一
定に確保することができるため、ワイヤ相互のショート
を低減することができるという効果が得られる。
【0095】(実施形態7)図10は本発明の他の実施
の形態であるリードフレームを示す断面図であり、図1
1はこのリードフレームを用いて製造した半導体装置を
示す縦断面図である。
【0096】本実施の形態によるリードフレーム1は、
既述した実施の形態によるリードフレームの構成に加え
て、支持体8の半導体チップ搭載領域2とインナーリー
ド4先端との間に、支持体8を保持する治具16に設け
たワイヤ支持部15を突出させるスリット17を設けた
ことを特徴としている。
【0097】リードフレーム1を治具16保持した際
に、治具16に設けられたワイヤ支持部15が、このス
リット17から突出することとなる。ワイヤ支持部15
は、ワイヤボンディング終了後にスリット17から退避
することとなるので、絶縁性の有無を問われない。
【0098】本実施の形態では、治具16に設けたワイ
ヤ支持部15をリードフレーム1のスリット17に挿入
することにより、ボンディングが安定するという効果が
得られる。
【0099】(実施形態8)図12は本発明の他の実施
の形態であるリードフレームを示す断面図であり、図1
3はこのリードフレームを用いて製造した半導体装置を
示す縦断面図である。
【0100】本実施の形態によるリードフレーム1は、
既述した実施の形態によるリードフレームの構成に加え
て、支持体8の半導体チップ搭載領域2が、搭載する半
導体チップ10のパッド電極11とインナーリード4表
面とが略同じ高さとなるべくオフセットされていること
を特徴としている。このようなオフセット形状は、周知
のプレス技術などを利用することにより容易に加工する
ことができる。
【0101】このような加工を行なうことによって、イ
ンナーリード4表面の高さ位置H1と搭載される半導体
チップ10の表面の高さ位置H2とを略等しくすること
により、半導体チップ10のパッド電極11と各インナ
ーリード4とのワイヤボンディングの際に、ボンディン
グされるワイヤ13のループの安定性を高めることがで
きる。ワイヤ13のループの安定性を高めることによっ
て、ループ形状が一定となるので樹脂モールド時におけ
るワイヤ流れを減少することが可能となる。
【0102】(実施形態9)図14は本発明の他の実施
の形態であるリードフレームに用いられる支持体8を示
す平面図であり、図15はこの支持体8に半導体チップ
10を搭載した状態を示す平面図である。
【0103】本実施の形態によるリードフレーム1は、
既述した実施の形態によるリードフレーム1の構成に加
えて、支持体8の表面に、搭載される半導体チップ10
の各種寸法に対応した複数のマーカ18を設けたことを
特徴としている。このようなマーカ18は、印刷、プレ
スなどの技術によって、容易に設けることができる。
【0104】このように、搭載される半導体チップのサ
イズに対応したマーカ18を設けることにより、半導体
チップを搭載する際に、半導体チップを搭載する正確な
位置の確認が容易になるので、半導体チップのチップボ
ンディング作業の効率が向上する。
【0105】更に、半導体チップの位置決め精度が向上
するので、ワイヤの長さを一定に保つことが可能とな
り、ボンディングワイヤのループを安定に保つことがで
きる。ワイヤのループの安定性を高めることによって、
ループ形状が一定となるので樹脂モールド時におけるワ
イヤ流れを減少することが可能となる。
【0106】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明
は、前記実施の形態に限定されるものではなく、その要
旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは
勿論である。
【0107】例えば、前記実施の形態では各リードが固
定される支持体として方形状のものを例示したが、支持
体として円形状のものを用いることも可能である。この
ような円形状の支持体を用いた場合には、樹脂モールド
時に樹脂の流れがスムーズになるので、ボイドの発生を
減少できるという効果が得られる。
【0108】また、前記実施の形態で用いた支持体にア
ースボンドを目的としたボンディングエリアを設けるこ
とによって、アースボンド対応可能なリードフレームと
して更に広い用途への適用が可能となる。
【0109】さらに、支持体に対して搭載する半導体チ
ップは1個に限定されず、複数個の半導体チップを搭載
することも可能であり、これによりマルチチップの半導
体装置に本発明を適用することも可能である。
【0110】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野である半導
体装置に適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、本発明は、リードフレームを用い
て電子部品を実装するものには広く適用が可能である。
【0111】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
【0112】(1)本発明によれば、複数のリードのイ
ンナーリードの一部の先端を、封止体の一の辺と対応す
る半導体チップの辺とは半導体チップのコーナーを挟ん
で隣接する他の辺に対向させたことによって、同一の半
導体チップを用いた封止体形状の制約が少なくなるとい
う効果がある。
【0113】(2)本発明によれば、インナーリードの
先端を前記半導体チップ搭載領域の全周囲にわたって等
間隔に配置することにより、前記インナーリードの先端
をより半導体チップ搭載領域に接近させることができる
という効果がある。
【0114】(3)本発明によれば、上記効果(2)に
より、ボンディングワイヤの長さを短縮することができ
るという効果がある。
【0115】(4)本発明によれば、インナーリードの
先端を、前記半導体チップ搭載領域の全周囲に配置し、
半導体チップ搭載領域のコーナー部に対応するインナー
リード先端のリードピッチを他のインナーリード先端の
リードピッチよりも広くすることができるという効果が
ある。
【0116】(5)本発明によれば、上記効果(4)に
より、コーナー部にてボンディングワイヤ相互の間隔が
広くなるという効果がある。
【0117】(6)本発明によれば、上記効果(3),
(5)により、隣接するワイヤ相互が接触するショー
ト、或はモールド樹脂の流動によりワイヤが変形するワ
イヤ流れが減少するという効果がある。
【0118】(7)本発明によれば、半導体チップを支
持体に搭載することにより、半導体チップで発生した熱
は支持体を通じて外部に放熱可能となっており、半導体
チップの放熱特性を向上させることが可能となるという
効果がある。
【0119】(8)本発明によれば、ダミーリードを設
けることにより、注入する樹脂の流れの乱れによるボイ
ドの発生を防止することが可能となるという効果があ
る。
【0120】(9)本発明によれば、タブ吊りリードを
なくすことにより、クロスボンディングを容易に行なう
ことが可能となるという効果がある。
【0121】(10)本発明によれば、支持体に予め接
着剤を形成することにより、支持体付リードフレームの
製造工程を容易にし、製造コストを低減することが可能
となるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態である半導体装置のリー
ドフレーム切断前の状態を示す平面図である。
【図2】図1に示す状態の縦断面図である。
【図3】本発明の一実施の形態に用いるリードフレーム
の製造方法を示す縦断面図である。
【図4】本発明の一実施の形態である半導体装置を示す
縦断面図である。
【図5】本発明の他の実施の形態である半導体装置に用
いられる半導体チップを示す平面図である。
【図6】図5の部分的に拡大して示す平面図である。
【図7】図7は本発明の他の実施の形態であるQFP型
半導体装置に用いられるリードフレームを部分的に示す
平面図である。
【図8】本発明の他の実施の形態であるリードフレーム
を示す断面図である。
【図9】図8に示すリードフレームを用いて製造した半
導体装置を示す縦断面図である。
【図10】本発明の他の実施の形態であるリードフレー
ムを示す断面図である。
【図11】図10に示すリードフレームを用いて製造し
た半導体装置を示す縦断面図である。
【図12】本発明の他の実施の形態であるリードフレー
ムを示す断面図である。
【図13】図12に示すリードフレームを用いて製造し
た半導体装置を示す縦断面図である。
【図14】本発明の他の実施の形態であるリードフレー
ムに用いられる支持体8を示す平面図である。
【図15】図14に示す支持体8に半導体チップ10を
搭載した状態を示す平面図である。
【図16】図16は本発明の他の実施の形態である半導
体装置を部分的に示す平面図である。
【図17】図17は本発明の他の実施の形態であるリー
ドフレームを示す平面図である。
【図18】図18は本発明者が本発明に至る段階で検討
した半導体装置を部分的に示す平面図である。
【図19】図19は本発明の他の実施の形態である半導
体装置を部分的に示す平面図である。
【符号の説明】
1…リードフレーム、2…半導体チップ搭載領域、3…
リード、4…インナーリード、5…アウターリード、6
…ダムバー、7…接着剤、8…支持体、9…半導体装
置、10…半導体チップ、11…パッド電極、12…接
着剤、13…ボンディングワイヤ、14…封止体、15
…ワイヤ支持部、16…治具、17…スリット、18…
マーカ、19…タイバー、20…ダミーリード、21…
タブ、22…タブ吊りリード、P1,P2,P3,P
4,P5…パッド電極のピッチ、P6…コーナー部のリ
ードピッチ、H1…支持体の表面の高さ位置、H2…支
持体の中央位置(半導体チップの搭載位置)の高さ位
置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新谷 俊幸 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 建部 堅一 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 今野 貴史 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体に半導体チップを搭載し、この支
    持体に絶縁体を介してインナーリードを固定し、前記半
    導体チップ及びインナーリードを封止体内に封止した半
    導体装置であって、 前記封止体の一の辺からアウターリードが突出する複数
    のリードのインナーリードの一部の先端を、前記封止体
    の一の辺と対応する半導体チップの辺とは半導体チップ
    のコーナーを挟んで隣接する他の辺に対向させたことを
    特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 支持体に半導体チップを搭載し、この支
    持体に絶縁体を介してインナーリードを固定し、前記半
    導体チップ及びインナーリードを封止体内に封止した半
    導体装置であって、 前記封止体のコーナー部に対応するインナーリード間に
    ダミーリードを設け、このダミーリードの一端が隣接す
    る前記インナーリードの先端まで延び、その他端が封止
    体外に導出しないことを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記インナーリード先端が、前記支持体
    の全面に設けた接着剤層によって、前記半導体チップの
    全周囲に固定されていることを特徴とする請求項1又は
    請求項2に記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記各インナーリード先端のリードピッ
    チについて最大のリードピッチが最小のリードピッチの
    2倍未満となっていることを特徴とする請求項1乃至請
    求項3の何れか一項に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記半導体チップのコーナー部に対応す
    るインナーリード先端のリードピッチを他のリード先端
    のリードピッチよりも広くしたことを特徴とする請求項
    1乃至請求項4の何れか一項に記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記半導体チップコーナー部に対応する
    インナーリード先端のリードピッチを、半導体チップの
    コーナーに近づくにつれて広くしたことを特徴とする請
    求項5に記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記半導体チップのコーナー部に位置す
    るパッド電極のパッドピッチを、他のパッド電極のパッ
    ドピッチよりも広くしたことを特徴とする請求項1乃至
    請求項6の何れか一項に記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記半導体チップの複数のパッド電極の
    パッドピッチを、半導体チップのコーナーに近づくにつ
    れて広くしたことを特徴とする請求項7に記載の半導体
    装置。
  9. 【請求項9】 前記半導体チップのコーナー部に対応す
    るインナーリード先端が、このインナーリードと対向す
    る半導体チップの辺とコーナーを挟んで隣接する他の辺
    に設けられた半導体チップのパッド電極にクロスボンデ
    ィングされていることを特徴とする請求項2乃至請求項
    8の何れか一項に記載の半導体装置。
  10. 【請求項10】 前記インナーリードは、絶縁性の接着
    剤を介して支持体に固定されたことを特徴とする請求項
    1乃至請求項9の何れか一項に記載の半導体装置。
  11. 【請求項11】 前記支持体は、熱伝導性の良好な材料
    からなることを特徴とする請求項1乃至請求項10の何
    れか一項に記載の半導体装置。
  12. 【請求項12】 前記支持体の半導体チップとインナー
    リード先端との間に、ワイヤ支持部を設けたことを特徴
    とする請求項1乃至請求項11の何れか一項に記載の半
    導体装置。
  13. 【請求項13】 前記支持体の半導体チップとインナー
    リード先端との間に、ワイヤ支持部を突出させるスリッ
    トを設けたことを特徴とする請求項1乃至請求項12の
    何れか一項に記載の半導体装置。
  14. 【請求項14】 前記支持体の半導体チップ搭載領域
    が、搭載する半導体チップのパッド電極とインナーリー
    ド表面とが略同じ高さとなるべくオフセットされている
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項13の何れか一項
    に記載の半導体装置。
  15. 【請求項15】 支持体に半導体チップを搭載し、この
    支持体に絶縁体を介してインナーリードを固定し、前記
    半導体チップ及びインナーリードを封止体内に封止した
    半導体装置の製造方法であって、 前記インナーリードを一体化する一のダムバーに形成さ
    れた複数のインナーリードの一部の先端を、前記ダムバ
    ーと対応する半導体チップ搭載領域の一の辺とは半導体
    チップ搭載領域のコーナーを挟んで隣接する他の辺に対
    向させたリードフレームを用い、 前記半導体チップを前記支持体の半導体チップ搭載領域
    に固定する工程と、 前記半導体チップの他の辺と先端を対向させた前記イン
    ナーリードと、前記半導体チップの他の辺に設けられた
    パッド電極とをボンディングする工程とを有することを
    特徴とする半導体装置の製造方法。
  16. 【請求項16】 支持体に半導体チップを搭載し、この
    支持体に絶縁体を介してインナーリードを固定し、前記
    半導体チップ及びインナーリードを封止体内に封止した
    半導体装置の製造方法であって、 前記インナーリードを一体化するダムバーのコーナー部
    に対応するインナーリード間にダミーリードを設け、こ
    のダミーリードの一端が隣接する前記インナーリードの
    先端まで延び、その他端が前記ダムバーにて終端してい
    るリードフレームを用い、 前記半導体チップを前記支持体の半導体チップ搭載領域
    に固定する工程と、 前記インナーリードと前記半導体チップとをボンディン
    グする工程と、 前記半導体チップ、インナーリード及びダミーリードを
    樹脂封止する工程とを有することを特徴とする半導体装
    置の製造方法。
  17. 【請求項17】 前記インナーリード先端が、前記支持
    体の全面に設けた接着剤層によって、前記半導体チップ
    搭載領域の全周囲に固定されていることを特徴とする請
    求項15又は請求項16に記載の半導体装置の製造方
    法。
  18. 【請求項18】 半導体チップを搭載する半導体チップ
    搭載領域を支持体に設け、この半導体チップ搭載領域の
    周囲に絶縁体を介してインナーリードを固定したリード
    フレームであって、 前記インナーリードを一体化する一のダムバーに形成さ
    れた複数のインナーリードの一部の先端を、前記ダムバ
    ーと対応する半導体チップ搭載領域の一の辺とは半導体
    チップ搭載領域のコーナーを挟んで隣接する他の辺に対
    向させたことを特徴とするリードフレーム。
  19. 【請求項19】 半導体チップを搭載する半導体チップ
    搭載領域を支持体に設け、この半導体チップ搭載領域の
    周囲に絶縁体を介してインナーリードを固定したリード
    フレームであって、 前記インナーリードを一体化するダムバーのコーナー部
    に対応するインナーリード間にダミーリードを設け、こ
    のダミーリードの一端が隣接する前記インナーリードの
    先端まで延び、その他端が前記ダムバーにて終端してい
    ることを特徴とするリードフレーム。
  20. 【請求項20】 前記インナーリード先端が、前記支持
    体の全面に設けた接着剤層によって、前記半導体チップ
    搭載領域の全周囲に固定されていることを特徴とする請
    求項15又は請求項16に記載のリードフレーム。
JP9040402A 1997-02-25 1997-02-25 リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法 Pending JPH10242362A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9040402A JPH10242362A (ja) 1997-02-25 1997-02-25 リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法
KR1019970013268A KR19980069737A (ko) 1997-02-25 1997-04-10 리이드프레임, 반도체장치 및 그 제조방법
CN97110843A CN1192046A (zh) 1997-02-25 1997-04-30 引线框、半导体器件及该半导体器件的制造工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9040402A JPH10242362A (ja) 1997-02-25 1997-02-25 リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10242362A true JPH10242362A (ja) 1998-09-11

Family

ID=12579680

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9040402A Pending JPH10242362A (ja) 1997-02-25 1997-02-25 リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPH10242362A (ja)
KR (1) KR19980069737A (ja)
CN (1) CN1192046A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006073670A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Denso Corp 集積回路装置
WO2011148540A1 (ja) * 2010-05-28 2011-12-01 株式会社アドバンテスト プローブ構造体、プローブ装置、プローブ構造体の製造方法、および試験装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100377346C (zh) * 2004-12-23 2008-03-26 旺宏电子股份有限公司 封装件

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006073670A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Denso Corp 集積回路装置
JP4534675B2 (ja) * 2004-08-31 2010-09-01 株式会社デンソー 集積回路装置
WO2011148540A1 (ja) * 2010-05-28 2011-12-01 株式会社アドバンテスト プローブ構造体、プローブ装置、プローブ構造体の製造方法、および試験装置
JP2011247792A (ja) * 2010-05-28 2011-12-08 Advantest Corp プローブ構造体、プローブ装置、プローブ構造体の製造方法、および試験装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR19980069737A (ko) 1998-10-26
CN1192046A (zh) 1998-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3526788B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3062192B1 (ja) リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
US4989068A (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JPH09312375A (ja) リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP3436159B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2012104790A (ja) 半導体装置
JPH11297889A (ja) 半導体パッケージおよび実装基板、ならびにこれらを用いた実装方法
JP3046024B1 (ja) リ―ドフレ―ムおよびそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2000058735A (ja) リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP3072291B1 (ja) リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3478139B2 (ja) リードフレームの製造方法
US20080073763A1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
KR100274854B1 (ko) 반도체장치 및 반도체장치용 리이드프레임
JP3430976B2 (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP2000299423A (ja) リードフレームおよびそれを用いた半導体装置ならびにその製造方法
JPH09307051A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JPH1197570A (ja) 半導体装置およびその製造方法ならびに半導体装置の実装方法
JPH10242362A (ja) リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法
US6909179B2 (en) Lead frame and semiconductor device using the lead frame and method of manufacturing the same
JPH11297917A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP4015118B2 (ja) 半導体装置
JP3454192B2 (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JPH10154768A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3271500B2 (ja) 半導体装置
JPH05211274A (ja) リードフレーム及び半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040727

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040810

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050315