JPH10241160A - 相変化記録媒体の初期化方法 - Google Patents

相変化記録媒体の初期化方法

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JPH10241160A
JPH10241160A JP9038239A JP3823997A JPH10241160A JP H10241160 A JPH10241160 A JP H10241160A JP 9038239 A JP9038239 A JP 9038239A JP 3823997 A JP3823997 A JP 3823997A JP H10241160 A JPH10241160 A JP H10241160A
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power
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Masatsugu Ogawa
雅嗣 小川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 相変化記録媒体を高速かつ良好に初期化する
方法を提供する。 【解決手段】 情報記録面に所定パワーのレーザ光を照
射して該情報記録面を初期化する相変化記録媒体の初期
化方法において、レーザ光のパワーを情報記録面に結晶
化が起き始める近傍の第1のパワーに設定し、当該レー
ザ光を初期化対象部分に繰り返し照射すること(S14
〜S16)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、相変化記録媒体の
初期化方法に係り、特に、情報記録面にレーザ光を照射
し結晶化して初期化を行う相変化記録媒体の初期化方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】相変化記録媒体は、記録膜として、結晶
状態とアモルファス(非晶質)状態とが可逆的に存在で
きる材料を使用し、結晶状態とアモルファス状態との反
射率差を信号として検出する光記録媒体である。
【0003】一般的に、相変化記録材料としては、カル
コゲナイド系材料であるGeSbTe系、InSbTe
系、InSe系、InTe系、AsTeGe系、TeO
x−GeSn系、TeSeSn系、SbSeBi系、B
iSeGe系、AgInSbTe系などが使用される
が、これらの材料を基板に成膜した場合、その直後は全
体がアモルファス状態となっている。
【0004】一般的に、成膜直後は不安定なアモルファ
ス状態であり、また、反射率も低くサーボが引き込みに
くいので、初期化というプロセスを施し、記録膜全体を
結晶化させなければならない。この初期化プロセスは、
相変化記録膜の特性を決める上で非常に重要なプロセス
であり、初期化の仕方によって、その後の相変化記録膜
の特性が大きく変わってくる。
【0005】従来行われている初期化は、特開平4−3
66424号公報や特開平4−209317号公報に示
されている溶融初期化という方法である。この初期化方
法は、相変化記録膜が溶け出すまで温度を上昇させ、結
晶化させるものである。この方法の場合、溶融が実際に
起こる記録・消去過程と同様の状態に記録膜が1回なる
ので、初期化後の記録・再生特性が安定している。この
初期化のプロセスは、通常の光ヘッドに近いものを用
い、数μmオーダーのレーザビーム系を持つ光スポット
を用いて行われていた。
【0006】一方、この初期化プロセスの不都合とし
て、時間のかかる点が挙げられる。オーバライト可能な
光磁気ディスクの初期化であれば、全面に強磁場を印可
するだけなので、それにかかる時間はおよそ5秒程度で
あるが、相変化ディスクの初期化には、上記の方法では
数時間かかってしまう。
【0007】そこで、この初期化時間を短縮する試みと
して、特開平8−221814号公報、特開平8−15
3343号公報などが試みられているが、必ずしも良好
な初期化ができていない。
【0008】これに対し最近では、特開平7一1922
66号公報に示されたような半径方向に楕円化したレー
ザビームを用い、高速に初期化するという試みが成され
ている。この高速初期化の場合も溶融初期化を行ってい
る。
【0009】図8に溶融初期化方法の流れ図を示す。
【0010】まず、スピンドルに相変化ディスクをセッ
トし(S81)、スピンドルの回転を開始させる(S8
2)。続いて、フォーカスサーボをオンし(S83)、
ディスクの最内周から初期化をスタートする(S8
4)。初期化中のレーザーパワは、結晶化が始まるレー
ザーパワよりもかなり大きなパワ、即ち、記録膜が溶融
するほどのレーザパワに設定される(S85)。初期化
動作は、ディスクの最外周でストップし(S86)、初
期化が終了する(S87)。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半径方
向に楕円化したレーザービームで初期化するというの
は、高速化には向いているが、半径方向のレーザーパワ
の分布が均一にならず、それが初期化むらを起こすとい
う不都合があった。つまり、良好な初期化と高速な初期
化が両立する方法が見いだされていなかった。
【0012】従来の初期化方法で初期化された相変化デ
ィスクの反射光強度信号レベル(RF信号)を図9に示
す。上記方法では、図9に示すようにRF信号のレベル
が一定でなくなる。これは、半径方向に楕円化したレー
ザ光を用いて、高速に初期化した場合の結果であるが、
この変動は初期化のむらに起因している。上述の通り半
径方向に楕円化したレーザ光は半径方向のレーザパワの
分布が均一ではなく、それが初期化むらとなって現れる
のである。
【0013】この図9は、半径方向に楕円化したレーザ
光を用いた高速初期化の場合の例であるが、溶融初期化
の場合、半径数μmの小さな光スポットを用いて初期化
してもサーボが不安定であればこのようになる場合があ
る。
【0014】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、特に、相変化記録媒体を高速かつ良好に初期
化する方法を提供することを、その目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明では、情報記録面に所定パワー
のレーザ光を照射して該情報記録面を初期化する相変化
記録媒体の初期化方法において、レーザ光のパワーを情
報記録面に結晶化が起き始める近傍の第1のパワーに設
定し、当該レーザ光を初期化対象部分に繰り返し照射す
る、という初期化方法を採っている。
【0016】請求項2記載の発明では、情報記録面に所
定パワーのレーザ光を照射して該情報記録面を初期化す
る相変化記録媒体の初期化方法において、レーザ光のパ
ワーを情報記録面に結晶化が起き始める近傍の第1のパ
ワーに設定し当該レーザ光を初期化対象部分に繰り返し
照射する第1の工程と、レーザ光のパワーを第1のパワ
ーよりも強い第2のパワーに設定し当該レーザ光を初期
化対象部分に1回乃至複数回照射する第2の工程とを備
えた、という方法を採っている。
【0017】請求項3記載の発明では、第1のパワー
を、情報記録面に結晶化が起き始めるパワーの1倍乃至
1.3倍に設定する、という方法を採っている。
【0018】請求項4記載の発明では、第2のパワー
を、初期化対象部分が溶融しない範囲に設定する、とい
う方法を採っている。
【0019】請求項5記載の発明では、第2工程で初期
化対象部分にレーザ光を複数回照射する場合は、照射を
行う毎にレーザ光のパワーを徐々に強くする、という方
法を採っている。
【0020】図1は、請求項1記載の初期化方法に対応
する流れ図である。即ち、結晶化(初期化)が起こり始
める極く近傍のレーザパワで数回初期化を行う場合であ
る。この場合、相変化記録膜は溶け始める温度まで上昇
しておらず、固体のまま結晶化が進んでいる。この初期
化方法を実施した場合の反射光強度信号(RF信号)を
図4に示す。従来の初期化に比べてRF信号が均一にな
っている。
【0021】ここで、初期化が起こり始めるごく近傍の
レーザパワとしては、結晶化が起き始めるレーザーパワ
の1.0から1.3倍のレーザパワが適当である。これ
以上のパワを用いて初期化を行うと、相変化記録膜が溶
融しなかったとしても、初期化むらが生じ、従来の初期
化と同様の不均一なRF信号となってしまう。
【0022】この初期化方法で均一なRF信号をひとた
び得てしまえば、その後、初期化が起こり始めるごく近
傍のレーザパワ以上のパワで初期化を行っても、記録膜
が溶融しなければ、初期化むらが起こることはない。
【0023】図5は、請求項1又は3記載の初期化方法
を実施した相変化記録媒体の一部に10回以上オーバー
ライト記録を行ったときのRF信号の変化を示す。何も
記録していない部分の初期化レベル(初期化後のRF信
号レベル)と記録信号の上端部のレベルが異なっている
ことがわかる。これは、実際のオーバーライト記録で形
成される結晶組織と初期化後の結晶組織とが多少違うこ
とに起因する。この差は、信号のレベル変動を意味し、
装置上なくなることが望ましい。
【0024】このような場合には、最初に、初期化が起
こり始めるごく近傍のレーザパワて初期化を行い、図4
に示されたような均一なRF信号が得られた後、記録膜
が溶融しない範囲でレーザパワを大きくし、更に初期化
を行い、RF信号のレベルを徐々に上げ、記録信号の上
端部のレベルと同じにすればよい。これにより、装置上
問題のない記録・再生特性を有する相変化記録媒体が得
られる(請求項2,4,5)。この場合の初期化方法の
流れ図は図3のようになる。
【0025】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に用いた相変
化記録媒体の基本的な構成を図6に示す。基板4上に、
干渉膜2、記録膜1及び保護膜3がこの順に積層されて
いる。干渉膜2及び保護膜3は誘電体膜であって、それ
らの間に記録膜1が挟み込まれている。ここで、図6で
は、基板4の上に二つの誘電体膜2,3と記録膜1しか
示されていないが、記録膜1の上の誘電体膜3(保護
膜)の上に反射膜等が形成されていても良い。
【0026】記録膜1には、カルコゲナイド系材料であ
るGeSbTe系、InSbTe系、InSe系、In
Te系、AsTeGe系、TeOx−GeSn系、Te
SeSn系、SbSeBi系、BiSeGe系、AgI
nSbTe系の相変化材料が採用される。また、反射膜
としてはAl、AlTi等が望ましい。一方、基板4の
材質としては、ポリカーボネイト、アクリル等の合成樹
脂、ガラス等を用いることができ、これらには樹脂等が
被覆されていても良い。なお、基板の形状としてはディ
スク状のものの他、カード状のものも用いられる。
【0027】次に、今回使用した初期化装置の概略構成
図を図7に示す。
【0028】相変化ディスク11は、スピンドル12に
固定され、スピンドル12の回転に伴って回転する。光
ヘッド13は、光ヘッド移動機構14の動作に伴ってデ
ィスク半径方向に移動する。光ヘッド13には、レーザ
光のパワーを調整可能なレーザダイオード13aを備
え、このレーザダイオード13aからの照射光が対物レ
ンズ13bを介して相変化ディスク13bの記録膜に収
光されるようになっている。対物レンズ13bには、図
示しないフォーカスサーボが併設されている。これら各
要素は、図示しない制御部によって動作制御される。
【0029】
【実施例】次に、詳細な実施例を挙げて本発明の内容を
説明する。
【0030】今回の実施例では、基板4として、直径1
20mm、トラックピッチ0.56μm、基板厚0.6
mmのポリカーボネイト基板を用い、その基板4に、干
渉膜2としてZnS−SiO2 膜を160nm、記録膜
1としてGe2 Sb2 Te5膜を10nm、保護膜3と
してZnS−SiO2 膜を32nm、順次成膜した。こ
れに加え、今回は保護膜3の上にAiTi膜を80nm
さらに成膜している。
【0031】一方、初期化装置の光スポット径は、ディ
スクの接線方向(タンジェンシャル方向)が2μm程
度、半径方向(ラジアル方向)が100μm程度のもの
を用いた。この場合、相変化記録媒体の初期化(結晶
化)が始まるレーザーパワは350mWであった。ま
た、ディスクの回転数は各半径で線速7.5m/sにな
るように設定した。更に、ディスクが1周するたびに光
ヘッドは5μm移動するようにした。これらの条件の下
で、相変化記録媒体に本発明の初期化方法を実施した。
【0032】〔実施例1〕図1に基づいて説明する。ま
ず、レーザーパワ370mWで初期化を10回行った
(S14〜S16)。この場合の10回とは、ディスク
上のある箇所を光スポットが10回通り過ぎたという意
味である。これによると、図4に示すような良好なRF
信号が得られた。
【0033】〔実施例2〕図2に基づいて説明する。レ
ーザパワ370mWで初期化を3回行い(S24〜S2
6)、その後に500mWで初期化を1回行った(S2
7〜S29)。この場合も、図4に示すような良好なR
F信号が得られた。ただし、上記のレーザーパワ370
mWで初期化を10回行った場合よりも、多少RF信号
レベルが大きくなった。
【0034】〔実施例3〕図3に基づいて説明する。レ
ーザパワ370mWで初期化を3回行い(S34〜S3
6)、その後、400mW、450mW、500mW、
550mWと段階的にレーザーパワを上げて初期化を行
った(S37〜S40)。この場合も、図4に示すよう
な良好なRF信号が得られた。
【0035】そして、この初期化によって得られた部分
に記録を行った。10回以上オーバライトした部分の上
端部のレベルと初期化レベルがほぼ等しくなっていた。
これは装置上非常に使用しやすい相変化記録媒体が得ら
れたことと等価である。
【0036】ここで、上記各実施例に示した初期化を1
20mmのディスク全面に施すと、それに要した時間は
およそ20分程度であった。半径数μm程度の光スポッ
トで初期化した場合(比較的均一なRF信号が得られる
初期化方法)、数時間かかることを考えると、非常に高
速に初期化が実現されたことがわかる。
【0037】〔比較例〕今回作成した相変化記録媒体に
レーザパワ460mWで初期化を1回行った。この場
合、図9に示すように不均一なRF信号が得られた。こ
のようなRF信号では実際の使用に耐えられない。今回
作成した相変化記録媒体においては、このレーザパワで
も溶融していないことが、計算等からわかっている。つ
まり、溶融しなくても最初から高めのレーザパワを用い
ると良好な初期化ができないことがわかる。
【0038】また、今回作成した相変化記録媒体にレー
ザパワ600mWで初期化を1回行った。この場合も、
図9に示すように不均一なRF信号が得られた。この場
合、相変化記録膜は一度溶融状態になるが(溶融初期
化)、そのような場合でも良好な初期化ができないこと
がわかる。
【0039】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成され機能す
るので、これによると、情報記録面に結晶化が起き始め
る近傍のレーザパワーにより記録面を繰り返し照射する
という方法を採ることにより、高速かつ良好な初期化が
可能となり、相変化記録媒体の高密度化、量産化に大き
な可能性を与えることができる、という従来にない優れ
た相変化記録媒体の初期化方法を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1に対応する流れ図である。
【図2】本発明の実施例2に対応する流れ図である。
【図3】本発明の実施例3に対応する流れ図である。
【図4】各実施例で得られるRF信号を示す説明図であ
る。
【図5】実施例1,2で得られるRF信号と記録信号と
のレベル差を示す説明図である。
【図6】相変化記録媒体の構成を示す一部断面図であ
る。
【図7】初期化装置の概略構成図である。
【図8】従来の初期化方法を示す流れ図である。
【図9】従来及び比較例のRF信号を示す説明図であ
る。
【符号の説明】
1 記録膜 2 干渉膜 3 保護膜 4 基板 11 相変化ディスク(相変化記録媒体) 12 スピンドル 13 光ヘッド 13a レーザダイオード 13b 対物レンズ 14 光ヘッド移動機構

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 情報記録面に所定パワーのレーザ光を照
    射して該情報記録面を初期化する相変化記録媒体の初期
    化方法において、 前記レーザ光のパワーを前記情報記録面に結晶化が起き
    始める近傍の第1のパワーに設定し、当該レーザ光を初
    期化対象部分に繰り返し照射することを特徴とした相変
    化記録媒体の初期化方法。
  2. 【請求項2】 情報記録面に所定パワーのレーザ光を照
    射して該情報記録面を初期化する相変化記録媒体の初期
    化方法において、 前記レーザ光のパワーを前記情報記録面に結晶化が起き
    始める近傍の第1のパワーに設定し当該レーザ光を初期
    化対象部分に繰り返し照射する第1の工程と、前記レー
    ザ光のパワーを前記第1のパワーよりも強い第2のパワ
    ーに設定し当該レーザ光を前記初期化対象部分に1回乃
    至複数回照射する第2の工程とを備えたことを特徴とす
    る相変化記録媒体の初期化方法。
  3. 【請求項3】 前記第1のパワーを、前記情報記録面に
    結晶化が起き始めるパワーの1倍乃至1.3倍に設定す
    ることを特徴とした請求項1又は2記載の相変化記録媒
    体の初期化方法。
  4. 【請求項4】 前記第2のパワーを、前記初期化対象部
    分が溶融しない範囲に設定することを特徴とした請求項
    2記載の相変化記録媒体の初期化方法。
  5. 【請求項5】 前記第2工程で初期化対象部分にレーザ
    光を複数回照射する場合は、照射を行う毎に前記レーザ
    光のパワーを徐々に強くすることを特徴とした請求項2
    記載の相変化記録媒体の初期化方法。
JP9038239A 1997-02-21 1997-02-21 相変化記録媒体の初期化方法 Pending JPH10241160A (ja)

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