JPH10112076A

JPH10112076A - 情報の記録媒体とその製造方法および記録媒体の前処理方法

Info

Publication number: JPH10112076A
Application number: JP8264061A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Miyauchi; 靖宮内; Motoyasu Terao; 元康寺尾; Jiichi Miyamoto; 治一宮本; Keikichi Ando; 圭吉安藤; Makoto Miyamoto; 真宮本; 朱美 ▲廣▼常; Akemi Hirotsune
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1996-10-04
Filing date: 1996-10-04
Publication date: 1998-04-28

Abstract

(57)【要約】【課題】記録領域でのオーバーライト回数によらず、試
し書き領域での試し書き動作で最適記録パワーを求め
る。【解決手段】試し書き領域を有する記録媒体を用い、試
し書き領域の記録膜を、初めて試し書き動作を行う前
に、少なくとも予め一度はエネルギビームの照射により
融解する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光等の記録用
ビームによって、例えば映像や音声などのアナログ符号
をＦＭ変調したものや、例えば電子計算機のデータや、
ファクシミリ信号やディジタルオーディオ信号などのデ
ィジタル情報を、リアルタイムで記録することが可能な
情報の記録媒体とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、磁気記録媒体では環境温度変
動や記録膜や他の層の膜厚の製造時のばらつき等の記録
感度変動要因があっても最適な記録が行えるようにする
ために、例えば、特開平5−290437 号公報のように、最
適な記録条件（例えば、照射パワーなど）を求める試し
書き動作を行う。このような試し書き動作は、通常、記
録媒体中に設けられた試し書き領域で行う。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の試し書き動作
は、記録媒体を交換した時の交換前後の媒体の感度の違
いや、環境温度変動、および記録を行う装置の特性変化
による記録媒体に対する最適記録パワーの変動などによ
る影響を無くするために、少なくとも装置の立ち上げ時
および記録媒体を交換した時に行う（ただし、長時間使
用時あるいは環境温度が大きく変化した場合には、所定
の時間毎、あるいは再生特性が変化した時に、その都度
試し書き動作を行う）。

【０００４】この時、用いた記録媒体によっては、試し
書き領域の書き換え回数と実際の記録領域の書き換え回
数との差によって、試し書き領域で求めた最適記録波形
がこれから新たに情報を記録しようとする記録領域の最
適記録波形と異なる可能性がある。

【０００５】例えば、相変化記録媒体では、記録膜を融
解せずに結晶化させる初期結晶化処理を行っただけでは
結晶化速度がやや遅くて消え残りがでやすく、約１００
回のオーバーライトによる書き換えで結晶化速度が速く
なり、徐々に定常状態に達する。このため、初回記録で
は消え残りは無いので再生信号波形の時間軸方向のシフ
トやゆらぎ（ジッタ）が小さいが、１回目のオーバーラ
イトでジッタが大きくなり、１００回迄に定常状態に達
する。従って、消え残りが出やすい状態で試し書きをし
て記録波形を決めないと、実際の記録を行う領域が初回
記録でなかった場合、エラーを起こしてしまうことにな
る。このような結晶化速度の変化は、製膜し、結晶化さ
せただけの記録膜には原子間結合の乱れが多く、結晶化
速度が制限され、記録時に膜が融解することにより乱れ
が徐々に少なくなるために起こると考えられる。

【０００６】本発明の目的は、記録領域への情報の記録
が確実に行える情報の記録媒体とその製造方法および記
録媒体の前処理方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に用いる記録媒体
は、少なくとも情報の記録領域以外の場所に試し書き専
用の領域を有し、かつ、初めて試し書き動作を行う前
に、上記試し書き領域の記録膜は予め一度はエネルギビ
ームの照射による融解過程を経ているものを用いる。通
常、記録媒体は予め記録可能な状態にする、いわゆる初
期化を行っている。この初期化の方法として、（１）フ
ラッシュ光照射によりディスク全面を一括して結晶化さ
せる。（２）高パワー半導体レーザなどの楕円ビームレ
ーザ光照射を用いてディスク全面を初期化する。このよ
うな従来の初期化の場合には、記録膜を融解させないの
で最初の記録と多数回オーバーライト後の記録で特性に
差が生じる。この特性差は、本発明のように一度でも記
録膜の融解過程を経れば小さくなり、２回目以上であれ
ば差はさらに小さくなってほぼ一定となる。特に記録膜
の融解を２回以上１０回以内行えば短時間でかつ確実に
できるため好ましい。

【０００８】上記の試し書き領域の記録膜を融解させる
ためには、集光したレーザビームの連続光照射を行えば
記録膜の融解を確実できて好ましいが、パルス変調した
レーザ光を照射しても同様な効果が得られる。ここでの
パルス信号は、単一周波数あるいはランダム信号が好ま
しく、この時の平均デューティ比は５０％程度が好まし
い。

【０００９】また、試し書き領域の記録膜を融解させる
時に、エネルギビームの照射の開始位置を略ランダムに
変化させるか、あるいは記録マーク部と記録マーク間の
スペース部を試し書き毎に逆転させるかの少なくとも一
方を行うことにより確実に行えるため好ましい。

【００１０】さらに、本発明で用いる記録媒体では、最
内周，最外周の少なくとも一方に試し書き領域を有した
り、半径方向に複数のゾーンに分けて各ゾーンに試し書
き領域を有していてもよい。この時、各ゾーン毎への試
し書き領域への記録膜融解のためのレーザパワーを変化
させてもよい。例えば、内周ゾーンから外周ゾーンへい
くほどレーザパワーを大きくした方が好ましい。

【００１１】試し書き領域の記録膜を融解させるレーザ
ビームが、記録領域に情報を記録するレーザビームと実
質的に同じ形状である方が、同じ記録条件を得ることが
出きるため好ましい。

【００１２】記録膜を融解させる動作は、少なくとも保
護コートをした後で行う方が記録膜へのダメージが少な
くて好ましい。特に、２枚のディスクを張り合わせた後
で行う方がさらに確実に行えるため好ましい。

【００１３】また記録膜を融解させる動作は、記録媒体
のサーティファイ（読み出しによる欠陥検査）と同時、
あるいはその前後に行えば良い。

【００１４】更に、試し書き動作を行う毎にその試し書
き回数に関連する情報が試し書き領域の記録膜に記録さ
れ、この情報をもとに記録装置での試し書き領域への融
解動作を行う制御することも可能である。

【００１５】試し書き動作を行う毎にその試し書き回数
に関する情報を試し書き領域に記録することは、試し書
き領域に予め融解過程を経させることをしない場合にも
利点がある。例えば、長期保存による記録感度の変化を
試し書きによって調べ、最適パワーで記録できるように
する場合である。記録媒体への初回記録は消え残りなど
の影響を受けないため、例えば基板の一様な透過率低下
によって感度が変化しても、試し書きの再生信号ジッタ
測定には影響が表われにくい。このため、感度変化を検
出しにくい。しかし、試し書きが既に信号を記録した領
域に行われれば、感度変化を正確に検出し、正しいレー
ザパワーで記録することが出来る。試し書きが初回、あ
るいは少数回目の記録にならないようにして記録感度を
正確に検出するには、全ての試し書き領域に予め信号を
１回以上記録しておく方法も利点がある。しかし、試し
書き回数に関する情報を試し書き領域に記録しておく方
法では、記録回数不足の試し書き領域を使用する時だけ
所定回数以上試し書きするようにすれば、予め試し書き
領域に信号を記録することによる記録媒体製造コスト上
昇を防ぐことが出来る。

【００１６】本発明の記録媒体の記録膜を融解させる上
記の動作は、メーカが記録媒体を製造した段階（製造方
法に関する）、あるいは実際に情報を記録再生する装置
で試し書きを行う前（前処理方法に関する）に行えばよ
い。

【００１７】上記の本発明に用いる記録膜は、高速結晶
化が可能な結晶−非晶質相変化光記録膜や、非晶質−非
晶質間変化を利用する記録膜，結晶系や結晶粒径の変化
などの結晶−結晶間相変化記録膜が好ましいが、他の記
録膜を用いてもよい。特に、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系記録膜
やＡｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系記録膜などの相変化を利用
した記録膜などを用いれば良い。また、記録膜中に主成
分材料よりも高融点であるＣｒ₂Ｔｅ₃やＡｇ₂Ｔｅなど
の高融点材料を添加した記録膜，反射層を２層にした記
録媒体などを用いれば、記録膜の流動による記録膜膜厚
変化を抑制することができ好ましい。

【００１８】また、本発明は、ディスク状のみならず、
カード状などの他の形態の記録媒体にも適用可能であ
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】

（実施例１）図１は本実施例に用いる案内溝を有する書
き換え型光ディスクの断面図を示したものである。まず
直径５インチ，厚さ０.６mm の案内溝（Ｕ字型溝）を有
するポリカーボネート基板１上に、マグネトロンスパッ
タリング法によって厚さ約１１０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ
₂ 保護層２を形成した。次に、Ｇｅ₂₂Ｓｂ₂₂Ｔｅ₅₆の組
成の記録膜３を約２５ｎｍの膜厚に形成した。次にＺｎ
Ｓ−ＳｉＯ₂ 中間層４を約２０ｎｍの膜厚に形成した。
そして、更にＳｉ層(第１反射層)５を１００ｎｍ、Ａｌ
−Ｔｉ層（第２反射層）６を約１００ｎｍ形成した。こ
れらの膜形成は同一スパッタリング装置内で順次行っ
た。その後、この上に紫外線硬化樹脂層７を塗布した
後、ホットメルト接着剤８で、同じ構造のもう一枚のデ
ィスクとの密着貼り合わせを行った。

【００２０】本発明は、試し書き領域を有する記録媒体
を用い、かつ初めて試し書き動作を行う前に、試し書き
領域の記録膜は予め一度はエネルギビームの照射による
融解過程を得ていることが特徴である。これは、試し書
き領域の書き換え回数と実際の記録領域の書き換え回数
との差によって、試し書き領域で求めた最適記録波形が
これから新たに情報を記録しようとする記録領域の最適
記録波形と異なる可能性があるためである。

【００２１】図２は、図１のディスクを高パワー半導体
レーザ照射により全面を初期結晶化した後、線速度６ｍ
／ｓでディスクを回転させながら、ランダム信号をオー
バーライトした場合の、記録マークにおけるエッジシフ
トやジッタ（σ／Ｔｗ）のオーバーライト回数依存性を
示したものである。ここで、σは前エッジのトータルジ
ッタのσ値、Ｔｗはウィンドウ幅に対応している。

【００２２】この図からも分かるように、初回記録（オ
ーバーライト０回）の場合が一番ジッタが小さく、約１
００回程度のオーバーライトで、ある一定値に落ち着
く。これは、記録膜を融解せずに結晶化させる初期結晶
化処理を行っただけでは結晶化速度がやや遅くて消え残
りがでやすく、オーバーライトを繰り返すことにより徐
々に結晶化速度が速くなり、約１００回程度で定常状態
に達するためと考えられる。従って、消え残りが出やす
い状態で試し書きをして記録波形を決めないと、実際の
記録を行う領域が初回記録でなかった場合、エラーを起
こしてしまうことになる。

【００２３】そこで、本実施例では、予め試し書き領域
の記録膜を融解させて初回の試し書き動作でもエラーが
でないように、ディスク（図１の状態）を作製した段階
で集光したレーザビームの連続光照射を行った。ここで
は、実際に情報の記録を行うレーザビームを用いて記録
膜の融解を行った。

【００２４】図３は、初回記録時の前エッジのジッタ
（σ／Ｔｗ）のＤＣ光照射回数依存性を示したものであ
る。この結果より、一度でも記録膜の融解過程を経れば
初回記録時のジッタは大きくなり、２回目以上であれば
ほぼ一定となる。すなわち、試し書き領域における記録
膜の融解を２回以上予め行っていれば、記録領域でのオ
ーバーライト回数によらず試し書き動作で最適記録記録
パワーを求めることができる。また、この試し書き領域
の記録膜を融解するためのＤＣ光照射は、１０回以内で
あれば短時間でかつ確実にできるため好ましい。

【００２５】このように記録膜を一度でも融解すること
により、非晶質領域の周りに結晶粒形の大きい粗大結晶
領域（再結晶化によるもので、融点以下の温度での結晶
化により形成させる結晶粒形よりも大きい）が形成され
る。更にＤＣ光照射ではなく、パルス変調したレーザ光
を照射しても同様な効果が得られた。この場合には、Ｄ
Ｃ光照射に比べて必要照射回数は少しだけ多く必要とな
る。ここで、パルス変調した信号は、デューティー比が
５０％の単一周波数の場合に効果が大きいが、ランダム
信号でも平均デューティー比５０％程度であれば効果は
大きい。また、ここでは、試し書き領域の記録膜を融解
させる時に、レーザ光照射の開始位置をランダムに変化
させたが、記録マーク部と記録マーク間のスペース部を
レーザ光照射毎あるいはランダムに逆転さても同様な効
果が得られた。

【００２６】本実施例における自動で試し書き動作を実
行する手順を説明する。まず装置の立ち上げ時には、電
源投入後自動的に試し書き命令信号が発生し、初期動作
が実行される。本実施例での初期動作とは以下の動作を
指す。まずディスクが装置にセットされているかどうか
を判断し、ディスクがなければそのまま待機状態とす
る。ディスクが予めセットされている場合には、その時
点でディスクは回転を始める。このような初期動作が終
了し、目的の線速度（本実施例では６ｍ／ｓ）になると
同時に、ディスク内周部にあるコントロールトラック上
の情報を再生して装置内のメモリに記憶した後、試し書
き動作を開始する。

【００２７】本実施例のディスクのコントロールトラッ
クには、各種フォーマットに関する内容、最適記録パワ
ーに関する内容などが予めピット（凹部）として記録さ
れている。またディスクを交換したときも装置の立ち上
げ時と同じようなフローで自動的に試し書き動作を開始
する。ただし、長時間使用時あるいは再生特性が大きく
変化した場合には、規定時間毎あるいは再生信号が変化
した時点で試し書き命令信号を発生させ試し書き動作を
実行する。

【００２８】以上の試し書き動作は、確実な値を得るた
めに第１から第４までの試し書き領域をそれぞれ３個所
設け、それぞれの条件につき同じ試し書きパターンを５
回繰り返して記録し、その形成した記録マークを再生し
て得られた値を平均した。

【００２９】本実施例に用いたディスク基板は、半径方
向に予め複数のゾーンに分かれており、それぞれのゾー
ンに試し書き領域を設けている。すなわち、各ゾーンで
の最適記録パワーを各試し書き領域で求めている。この
場合には、試し書き領域の記録膜を融解させるためにレ
ーザビームのパワーをディスクの内周ゾーンから外周ゾ
ーンに向かって高くしている。これにより、確実な記録
膜の融解が行える。また、複数のゾーンに分かれていな
い基板の場合には、最内周，最外周の少なくとも一方に
試し書き領域を設ければよい。

【００３０】試し書き動作を行う毎にその試し書き回数
に関する情報を試し書き領域に記録することは、試し書
き領域に予め融解過程を経させることをしない場合にも
利点がある。例えば、長期保存による記録感度の変化を
試し書きによって調べ、最適パワーで記録できるように
する場合である。記録媒体への初回記録は消え残りなど
の影響を受けないため、例えば基板の一様な透過率低下
によって感度が変化しても、試し書きの再生信号ジッタ
測定には影響が表われにくい。このため、感度変化を検
出しにくい。しかし、試し書きが既に信号を記録した領
域に行われれば、感度変化を正確に検出し、正しいレー
ザパワーで記録することが出来る。

【００３１】試し書きが初回、あるいは少数回目の記録
にならないようにして記録感度を正確に検出するには、
全ての試し書き領域に予め信号を１回以上記録しておく
方法も利点がある。しかし、試し書き回数に関する情報
を試し書き領域に記録しておく方法では、記録回数不足
の試し書き領域を使用する時だけ所定回数以上試し書き
するようにすれば、予め試し書き領域に信号を記録する
ことによる記録媒体製造コスト上昇を防ぐことが出来
る。

【００３２】本実施例では、試し書き領域の記録膜の融
解は、ディスクのサーティファイ（読み出しによる欠陥
検査）の後に行ったが、ディスクのサーティファイと同
時あるいはサーティファイの前に行っても同様な効果が
得られた。

【００３３】本実施例では、記録領域に情報を記録する
レーザビームで試し書き領域の記録膜を融解させたが、
全く同じビームでなくても実質的に同じ形状のビームを
用いれば本発明の目的は達成される。

【００３４】さらに、試し書き領域の記録膜を融解させ
る動作は、本実施例のように２枚のディスクを張り合わ
せた後で行う方が確実に行えるため好ましいが、少なく
とも保護コートをした後で行えば記録膜へのダメージが
少ない。

【００３５】本発明に用いる記録膜は、高速結晶化が可
能な結晶−非晶質相変化光記録膜（Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系
記録膜やＡｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系記録膜などの相変化
を利用した記録膜など）を用いれば良い。また、記録膜
中に主成分材料よりも高融点であるＣｒ₂Ｔｅ₃やＡｇ₂
Ｔｅなどの高融点材料を添加した記録膜，反射層を２
層にした記録媒体などを用いれば、記録膜の流動による
記録膜膜厚変化を抑制することができ好ましい。

【００３６】以上の説明は、エネルギビームの照射によ
って情報の書き換えが可能な情報の記録媒体の製造方法
（メーカが記録媒体を製造した段階）に関しての説明で
あるが、実際に本発明の記録媒体に情報を記録再生する
装置で試し書きを行う前（前処理方法に関する）に行う
場合でも上記の効果が得られた。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、初めて試し書き動作を
行う前に、予め試し書き領域の記録膜を少なくとも一度
はエネルギビームの照射により融解することにより、試
し書き領域の書き換え回数と実際の記録領域の書き換え
回数との差によって、試し書き領域で求めた最適記録波
形がこれから新たに情報を記録しようとする記録領域の
最適記録波形とが異なることもなくなり、確実に試し書
きができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のディスク構造の断面図。

【図２】ジッタのオーバーライト回数依存性の特性図。

【図３】本発明の実施例による初回記録時ジッタのＤＣ
光照射回数依存性の特性図。

【符号の説明】

１…ポリカーボネート基板、２…ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ 誘電
体層、３…記録膜（Ｃｒ₅Ｇｅ₂₀Ｓｂ₂₀Ｔｅ₅₅）、４…
ＺｎＳ−ＳｉＯ₂誘電体層、５…Ｓｉ反射層、６…Ａｌ
Ｔｉ合金反射層、７…紫外線硬化樹脂保護層、８…ホッ
トメルト接着層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者安藤圭吉東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者宮本真神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所映像情報メディア事業部内 (72)発明者 ▲廣▼常朱美東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エネルギビームの照射によって情報の記録
が可能な情報の記録媒体において、試し書き領域を有
し、上記試し書き領域の記録膜は、予め一度はエネルギ
ビームの照射による融解過程を経ていることを特徴とす
る情報の記録媒体。
【請求項２】請求項１において、上記試し書き領域の上
記記録膜を融解させるために、連続光、あるいはパルス
変調された光の照射を少なくとも１回行っている情報の
記録媒体。
【請求項３】請求項２において、上記エネルギビームの
照射開始位置が略ランダムに変化しているか、あるいは
記録マーク部と記録マーク間のスペース部がビーム照射
毎に逆転しているかの少なくとも一方を行っている情報
の記録媒体。
【請求項４】請求項２において、平均デューティ比が５
０％であるパルス変調された光の照射を少なくとも１回
行っている情報の記録媒体。
【請求項５】請求項４において、パルス変調された単一
周波数信号の光の照射を少なくとも１回行っている情報
の記録媒体。
【請求項６】請求項４において、パルス変調されたラン
ダム信号の光の照射を少なくとも１回行っている情報の
記録媒体。
【請求項７】請求項１において、最内周，最外周の少な
くとも一方に試し書き領域を有する情報の記録媒体。
【請求項８】請求項１において、上記記録媒体が半径方
向に複数のゾーンに分かれており、各ゾーンに試し書き
領域を有する情報の記録媒体。
【請求項９】エネルギビームの照射によって情報の記録
が可能な情報の記録媒体において、試し書き領域を有
し、上記試し書き領域の記録膜は、試し書き動作を行う
毎にその試し書き回数に関連する情報が記録されている
情報の記録媒体。
【請求項１０】エネルギビームの照射によって情報の記
録が可能な情報の記録媒体の製造方法において、試し書
き領域を有する記録媒体とし、上記試し書き領域の記録
膜を、少なくとも予め一度は上記エネルギビームの照射
により融解させる情報の記録媒体の製造方法。
【請求項１１】請求項１０において、上記試し書き領域
の上記記録膜を融解させるために、連続光、あるいはパ
ルス変調された光の照射を少なくとも１回行う情報の記
録媒体の製造方法。
【請求項１２】請求項１１において、上記試し書き領域
の上記記録膜を融解させる時に、エネルギビームの照射
開始位置を略ランダムに変化させるか、あるいは記録マ
ーク部と記録マーク間のスペース部をビーム照射毎に逆
転させるかの少なくとも一方を行う情報の記録媒体の製
造方法。
【請求項１３】請求項１１において、平均デューティ比
が５０％であるパルス変調された光の照射を少なくとも
１回行う情報の記録媒体の製造方法。
【請求項１４】請求項１３において、パルス変調された
単一周波数信号の光の照射を少なくとも１回行う情報の
記録媒体の製造方法。
【請求項１５】請求項１３において、パルス変調された
ランダム信号の光の照射を少なくとも１回行う情報の記
録媒体の製造方法。
【請求項１６】請求項１０において、最内周，最外周の
少なくとも一方に試し書き領域を設ける情報の記録媒体
の製造方法。
【請求項１７】請求項１０において、記録媒体が円板状
であり、半径方向に複数のゾーンに分かれ、かつ各ゾー
ンに試し書き領域を有する記録媒体を用い、記録膜を融
解させるためのエネルギビームのパワーを、各ゾーン毎
の試し書き領域で変化させる情報の記録媒体の製造方
法。
【請求項１８】請求項１７において、記録膜を融解させ
るためのエネルギビームのパワーを、記録媒体の内周ゾ
ーンから外周ゾーンにむかって高くする情報の記録媒体
の製造方法。
【請求項１９】請求項１０において、記録媒体のサーテ
ィファイと同時、あるいはその前後に記録膜を融解させ
る情報の記録媒体の製造方法。
【請求項２０】請求項１０において、試し書き領域の記
録膜を融解させるレーザビームが、記録領域に情報を記
録するレーザビームと実質的に同じ形状である情報の記
録媒体の製造方法。
【請求項２１】請求項１０において、記録膜を融解させ
る動作は、少なくとも記録媒体上に保護コートをした後
で行う情報の記録媒体の製造方法。
【請求項２２】請求項１０において、記録膜を融解させ
る動作は、２枚のディスクを張り合わせた後で行う情報
の記録媒体の製造方法。
【請求項２３】エネルギビームの照射によって情報の記
録が可能な情報の記録媒体の前処理方法において、試し
書き領域を有する記録媒体を用い、上記試し書き領域の
記録膜を、試し書き動作を行う前に、少なくとも予め一
度はエネルギビームの照射により融解させる情報の記録
媒体の前処理方法。
【請求項２４】請求項２３において、試し書き領域の記
録膜を融解させるために、連続光、あるいはパルス変調
された光の照射を少なくとも１回行う情報の記録媒体の
前処理方法。
【請求項２５】請求項２４において、試し書き領域の記
録膜を融解させる時に、エネルギビームの照射開始位置
を略ランダムに変化させるか、あるいは記録マーク部と
記録マーク間のスペース部をビーム照射毎に逆転させる
かの少なくとも一方を行う情報の記録媒体の前処理方
法。
【請求項２６】請求項２４において、平均デューティ比
が５０％であるパルス変調された光の照射を少なくとも
１回行う情報の記録媒体の前処理方法。
【請求項２７】請求項２６において、パルス変調された
単一周波数信号の光の照射を少なくとも１回行う情報の
記録媒体の前処理方法。
【請求項２８】請求項２６において、パルス変調された
ランダム信号の光の照射を少なくとも１回行う情報の記
録媒体の前処理方法。
【請求項２９】請求項２３において、記録媒体が円板状
であり、半径方向に複数のゾーンに分かれ、かつ各ゾー
ンに試し書き領域を有する記録媒体を用い、記録膜を融
解させるためのエネルギビームのパワーを、各ゾーン毎
の試し書き領域で変化させる情報の記録媒体の前処理方
法。
【請求項３０】請求項２９において、記録膜を融解させ
るためのエネルギビームのパワーを、記録媒体の内周ゾ
ーンから外周ゾーンにむかって高くする情報の記録媒体
の前処理方法。
【請求項３１】請求項２３において、記録媒体のサーテ
ィファイと同時、あるいはその前後に記録膜を融解させ
る情報の記録媒体の前処理方法。
【請求項３２】請求項２３において、試し書き領域の記
録膜を融解させるレーザビームが、記録領域に情報を記
録するレーザビームと実質的に同じ形状である情報の記
録媒体の前処理方法。