JP3867589B2 - 光学記録媒体の初期化方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学記録媒体(以下光ディスクとも言う)の初期化方法に関し、特に相変化材料を記録材料とする光学記録層を有する多層光ディスクの初期化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、情報記録の分野においては、光学情報記録方式に関する研究が各所で進められている。この光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えること、再生専用型、追記型、書換可能型のそれぞれのメモリ形態に対応できるなどの数々の利点を有し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から民生用まで幅広い用途が考えられている。
【0003】
上記の各種光学情報記録方式用の光学記録媒体(以下、光ディスクともいう)の大容量化は、主に、光学情報記録方式に用いる光源となるレーザ光の短波長化と、高開口のレンズを採用することにより、焦点面でのスポットサイズを小さくすることで達成してきた。
【0004】
例えば、CD(コンパクトディスク)では、レーザ光波長が780nm、レンズの開口率(NA)が0.45であり、650MBの容量であったが、DVD−ROM(デジタル多用途ディスク−再生専用メモリ)では、レーザ光波長が650nm、NAが0.6であり、4.7GBの容量となっている。
さらに、次世代の光ディスクシステムにおいては、光学記録層上に例えば100μm程度の薄い光透過性の保護膜(カバー層)が形成された光ディスクを用いて、レーザ光波長を450nm以下、NAを0.78以上とすることで大容量化が検討されている。
【0005】
ところで、近年、相変化型記録材料を用い、かつ、2層の光学記録層を有する書換型の多層光ディスクの開発が進められている。以降は、このように複数の光学記録層を有する光ディスクを多層光ディスクと、1層の光学記録層を有する光ディスクを単層光ディスクと、それぞれ呼ぶことがある。
本発明者らは、相変化型多層光ディスクの開発を進めてきており、1999年のOptical Data Strage(ODS)学会や、2001年のODS学会で発表を行っている。
【0006】
相変化型光ディスクは、単層光ディスクと多層光ディスクとに関わらず、市場に出荷する前に初期化と呼ばれる工程を必要とする。
相変化型光ディスクの製造工程においては、一般にスパッタリング装置によって相変化型記録材料をポリカーボネート等の基板上に成膜するが、成膜を終えた段階では相変化型記録材料の相状態はas−depositedと呼ばれる非晶質に近い状態になっている。
相変化型光ディスクでは情報記録を行うときには、相変化記録相の状態が結晶状態であることが要求され、この成膜直後の非晶質状態を結晶状態に変化させる工程のことを初期化工程と呼ぶ。
【0007】
現在広く用いられている初期化装置は、初期化を行う光学記録層上にレーザ光を集光して、相変化記録材料を加熱しながら光学記録層全面を走査することで、光学記録層全面の結晶化を行っている。
このとき光学記録層上に集光されるレーザ光のビーム形状は、例えばディスク回転方向には1μm程度、半径方向には100μm程度のビーム幅を有する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
このような初期化装置を用いて、光入射側から第1層目に設けられた相変化型の光学記録層を有する多層光ディスクの上記光学記録層を初期化する場合には、特開2001−250265号公報に記載されているように、第1光学記録層と第2光学記録層の間の中間層の厚みムラによって発生する光干渉により、初期化光の光強度変調が第1記録層上で発生し、初期化ムラを引き起こすことが知られている。
【0009】
特開2001−250265号公報では、波長810nm付近のレーザと、この波長に吸収を有し、波長400nm付近では吸収を持たない中間層材料を用いることが提案されており、一例として透明中間層材料に波長810付近で吸収を有する色素材料を混合することが記載されている。
しかし、実際に中間層を構成する材料に上記色素を混合すると、中間層材料と色素材料の相互作用が発生し、波長400nm付近で吸収が発生することがある。
上記色素材料単体の光吸収スペクトルと、透明中間層材料に上記色素を混合した場合の光吸収スペクトルを図14(a)および図14(b)に示す。中間層材料には、図14(a)のような光吸収特性以外にも機械特性、熱特性など光ディスクに適した特性を求めなければならない。
光吸収特性まで満たす材料を開発することは、開発を進めれば解決可能であるとは思われるが、容易ではない。
【0010】
本発明は上記の状況に鑑みてなされたものであり、従って本発明の目的は、各記録層の情報記録再生信号特性を劣化することなく、初期化する際に生じる光干渉による初期化ムラを低減することができる光学記録媒体の初期化方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の光学記録媒体の初期化方法は、基板上に、光照射側から少なくとも第1光学記録層および第2光学記録層が中間層を介して積層され、少なくとも上記第1光学記録層が相変化記録材料を有する光学記録媒体の初期化方法であって、上記中間層を構成する材料は、上記光学記録媒体の記録再生光の波長に対して充分な透過率を有し、かつ、初期化光の波長に対しては吸収を有し、上記第1光学記録層に初期化光を照射して初期化する工程において、当該初期化光として200nmから400nmの範囲の波長のレーザ光を用いる。
【0012】
上記の本発明の光学記録媒体の初期化方法は、好適には、上記中間層を構成する材料はポリカーボネートなどの有機系材料である。
【0013】
上記の本発明の光学記録媒体の初期化方法は、好適には、上記初期化光は200nmから400nmの範囲の波長のワットクラスのArガスレーザである。
【0014】
上記の本発明の光学記録媒体の初期化方法においては、基板上に、光照射側から少なくとも第1光学記録層および第2光学記録層が中間層を介して積層され、少なくとも第1光学記録層が相変化記録材料を有する光学記録媒体に対して初期化を行う。
第1光学記録層を初期化する際には、初期化を行う第1光学記録層上に初期化光であるレーザを集光する。
このとき、初期化を行う光学記録層上に照射された初期化光の一部は第1光学記録層を透過し、第2光学記録層に到達し、さらに第2光学記録層において反射して、第1光学記録層に戻り、初期化を行う第1光学記録層を照射する。
初期化時の層間干渉による初期化ムラを低減するためには、上記の第2光学記録層において反射して第1光学記録層に戻る戻り光の光強度を低減できれば良い。
【0015】
ここで初期化光の波長に対して第1光学記録層の透過率および第2光学記録層の反射率が充分小さければ、初期化時の第1および第2光学記録層の間の光干渉による初期化ムラの低減が可能である。
しかし、第1、第2光学記録層の光学的特性は当該多層光ディスクの記録再生波長に対して設計するため、第1、第2光学記録層の光学特性が初期化光の波長に対して上述した特性を得るとは限らない。
よって、中間層を構成する材料が、記録再生光の波長に対して充分な透過率を有し、第1および第2光学記録層の間の光干渉が許容範囲に収まる程度となるように、初期化光の波長に対して吸収率を有していれば、初期化時の第1および第2光学記録層の間の光干渉の問題を解決できる。
【0016】
現在までのところ報告されている光ディスクに用いられている記録再生光は、最短でも400nmより長波長である。
ここで、中間層を構成する材料に用いることが可能であり、記録再生光として用いられている可視光領域において充分な透過率を有する有機系材料の光学特性を調べると、波長200〜400nmの範囲で光吸収を有するものが多く存在する。
この特性を利用し、初期化光として波長が200〜400nmの範囲のものを用いて、中間層としてこの初期化光領域に吸収を有し、400nmより長波長である記録再生光に対しては充分な透過率を有する材料を用いることにより、初期化時の第1および第2光学記録層の間の光干渉による初期化ムラの問題を解決することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて詳しく説明する。
本実施の形態は、光学記録媒体(光ディスク)の初期化方法に関する。
【0018】
図1(a)は、本実施形態に係る2層の光学記録層を設けた光ディスクの光の照射の様子を示す模式斜視図である。
光ディスクDCは、中心部にセンタホールCHが開口された略円盤形状をしており、内周部がクランプ領域CAとされ、その外側に情報記録再生領域RAが設けられて、ドライブ方向DRに回転駆動される。
情報を記録または再生するときには、光ディスクDC中の光学記録層に対して、例えば開口数が0.8以上の対物レンズOLにより、400nmより長波長である青〜赤外色の領域のレーザ光である記録再生光LTR が照射される。
【0019】
図1(b)は図1(a)中のA−A’における模式断面図である。
ディスク基板11上に、光照射側から第1光学記録層16および第2光学記録層12が中間層17を介して積層された構成であり、少なくとも第1光学記録層16は相変化型記録材料を含む構成である。
【0020】
例えば、厚さが1.1mm、外周径が120mm、センタホールCHの内周径が15mmであるポリカーボネートなどからなるディスク基板11の一方の表面に第2光学記録層12が形成されている。
第2光学記録層12は、上層側から例えば誘電体膜、相変化膜などの記録膜、誘電体膜および反射膜などがこの順番で積層された構成であり、層構成や層数は、記録材料の種類や設計によって異なる。
第2光学記録層12の上層に、例えば20μm程度の膜厚であり、記録再生光の波長に対して透明な中間層17が形成されており、その上層に第1光学記録層16が形成されている。
第1光学記録層16は、上層側から例えば誘電体膜、相変化膜からなる記録膜、誘電体膜および半透過性の反射膜などがこの順番で積層された構成である。
第1光学記録層16の上層に、紫外線硬化樹脂からなる転写層14によりシート状基板13が貼り合わされている。転写層14とシート状基板13を合わせて例えば90μmの膜厚の光透過性の保護膜18を構成する。
【0021】
ディスク基板11の一方の表面に凹凸形状11’が設けられており、この凹凸形状に沿って第2光学記録層12が形成されている。
また、転写層14の表面にも凹凸形状14’が設けられており、この凹凸形状に沿って第1光学記録層16が形成されている。
【0022】
上記の光ディスクを記録あるいは再生する場合には、図1(b)に示すように、対物レンズOLによりレーザ光などの記録再生光LTR を光透過性の保護膜18側から第1光学記録層16あるいは第2光学記録層12に合焦するように照射する。対物レンズOLの光ディスクからの距離を調整して第1光学記録層16と第2光学記録層12のいずれかに焦点を合わせるかにより、第1光学記録層16と第2光学記録層12のいずれかを選択的に記録または再生する。
上記の構成で、第1光学記録層16は半透過性であり、記録再生光LTR を第2光学記録層12に照射する場合には第1光学記録層16を透過させて行う。
光ディスクの再生時においては、第1および第2光学記録層(16、12)のいずれかで反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り出される。
【0023】
上記のような光ディスクにおいて、第1光学記録層16および第2光学記録層12は、転写層14の表面に形成された凹凸形状14’あるいはディスク基板11の表面に形成された凹凸形状11’に起因した凹凸形状を有している。例えば、この凹凸形状によりトラック領域が区分されている。
上記の凹凸形状により区分されたトラック領域はランドおよびグルーブと呼ばれ、ランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を適用することで大容量化が可能である。また、ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とすることも可能である。
【0024】
また、第2光学記録層12については、例えばディスク基板11の凹凸形状11’に起因する凹凸形状を記録データに対応する長さを有するピットとし、光学記録層をアルミニウム膜などの反射膜で構成することにより、再生専用の記録層とすることもできる。
【0025】
次に、上記の2層の光学記録層を有する光ディスクの製造方法の一例について説明する。
ここでは、第1光学記録層16だけでなく第2光学記録層12も相変化型の記録膜を含む構成として説明する。
【0026】
まず、従来より知られている所定の方法によって、第2光学記録層用のパターンである凹凸形状10’を表面に有する第2光学記録層用スタンパ10を作成する。
次に、上記の第2光学記録層用スタンパ10を金型のキャビティ内側を臨むように設置し、例えば溶融状態のポリカーボネートを射出する射出成形により、図2(a)に示すように、ポリカーボネートからなるディスク基板11を作成する。このとき、金型の形状を設定することで、ディスク基板11にセンタホールCHの形状を形成する。
ここで、ディスク基板11の表面には、第2光学記録層用スタンパ10の凹凸形状10’に対応して、凹凸形状11’が形成される。
【0027】
上記の第2光学記録層用スタンパ10から離型することで、図2(b)に示すような表面に凹凸形状11’が形成されたディスク基板11が得られる。
【0028】
次に、図3(a)に示すように、ディスク基板11の表面に空気や窒素ガスなどのガスを吹き付けてダストを除去した後、例えばスパッタリング法あるいはCVD(Chemical Vapor Deposition)法などにより、アルミニウム膜からなる全反射性の反射膜、誘電体膜、相変化型の記録膜、誘電体膜を順次積層させ、第2光学記録層12を形成する。
【0029】
次に、成膜を終えた段階ではas−depositedと呼ばれる非晶質に近い状態になっている第2光学記録層12の相変化型記録材料を結晶化するため、図3(b)に示すように、初期化光LTI を対物レンズOLで集光して第2光学記録層12に照射しながら第2光学記録層12の全面に掃引し、第2光学記録層12を初期化する。
初期化光LTI としては、例えば赤外レーザや200〜400nmの波長のレーザなどを用いることができる。
【0030】
一方、図4(a)に示すように、例えば80μmの厚みの中心にセンタホールCHを有する略円形のシート状基板13上に、転写層となる適量の紫外線硬化樹脂14aを供給して、スピン塗布する。
次に、予め第1光学記録層用のパターンである凹凸形状15’を表面に有する第1光学記録層用スタンパ15を形成しておき、図4(b)に示すように、紫外線硬化樹脂14aに第1光学記録層用スタンパ15を貼り合わせ、充分な量の紫外線を照射して紫外線硬化樹脂14aを固化させ、転写層14とする。
ここで、転写層14の表面には、第1光学記録層用スタンパ15の凹凸形状15’に対応して、凹凸形状14’が形成される。
【0031】
次に、図5(a)に示すように、第1光学記録層用スタンパ15と転写層14の界面で剥離することで、転写層14の表面に凹凸形状14’を転写する。
【0032】
次に、図5(b)に示すように、転写層14の表面に空気や窒素ガスなどのガスを吹き付けてダストを除去した後、例えばスパッタリング法あるいはCVD法などにより、アルミニウム膜からなる半透過性の反射膜、誘電体膜、相変化型の記録膜、誘電体膜を順次積層させ、第1光学記録層16を形成する。
【0033】
次に、図6(a)に示すように、ディスク基板11に形成された第2光学記録層12上に、感圧性粘着シート17aを配置し、図6(b)に示すように、感圧性粘着シート17aを貼り合わせ用の中間層17として、第2光学記録層12と第1光学記録層16とを向かい合わせ、芯合わせをして貼り合わせる。
【0034】
ここで、上記で形成する中間層17を構成する材料としては、光ディスクの記録再生光の波長に対して充分な透過率を有し、かつ、後述の200〜400nmの範囲の初期化光の波長に対しては吸収を有する材料を用いるものとする。
【0035】
次に、第2光学記録層12と同様に、成膜を終えた段階ではas−depositedと呼ばれる非晶質に近い状態になっている第1光学記録層16の相変化型記録材料を結晶化するため、図7に示すように、初期化光LTI を対物レンズOLで集光して第1光学記録層16に照射しながら第1光学記録層16の全面に掃引し、第1光学記録層16を初期化する。
ここで、上記の初期化光LTI としては波長が200〜400nmの範囲のレーザ光を用いる。
以上で、図1に示す構成の光ディスクを製造することができる。
【0036】
尚、上記の製造方法は1実施形態であり、例えば、第2光学記録層12の上層に、表面に第1光学記録層用の凹凸パターンを有する中間層17を形成し、その上層に第1光学記録層16を形成し、その上層に光透過性の保護膜18を形成する方法など、他の方法により製造することも可能である。但し、いずれの場合も、第1光学記録層16の初期化は上述のように中間層17を介して第2光学記録層12と積層した後に行うものとする。
【0037】
図8は、上記の第1光学記録層16の初期化に用いる光ディスクプレーヤタイプの初期化装置の模式図である。
第1光学記録層16に限らず、図3(b)に示す第2光学記録層12の初期化工程にも用いることができる。
【0038】
第1光学記録層16および第2光学記録層12の多層の光学記録層を有する光ディスクDCは、スピンドルモータSMにより回転駆動され、この回転する光ディスクDCに対して光ディスクの半径方向DRrad に可動である光学ヘッドHDにより初期化光LTI を照射するようになっている。
【0039】
光学ヘッドHDは、初期化光光源であるレーザダイオードLD、ビームスプリッタBS、反射ミラーMR、対物レンズOLを備えており、光ディスクDCからの戻り光をビームスプリッタBSおよび集光レンズLSを介してフォトディテクタPDに導き、これをモニタするような構成とされている。
レーザダイオードLDの発光波長は200〜400nmの範囲内であり、例えば300nmである。また対物レンズOLの開口数は0.35である。
【0040】
この初期化装置によって光ディスクDCの第1光学記録層16上に集光される初期化光LTI のスポット形状および光強度(LI)プロファイルを図9に示す。
初期化光LTI は長円系のスポット形状であり、ディスクの半径方向xに幅x1 のプロファイルPx 、トラック方向yに幅y1 のプロファイルPy を有する。幅x1 は、例えば半値幅として50μm程度、幅y1 は、例えば半値幅として0.7μm程度である。
【0041】
次に、上述の初期化装置による多層の光学記録層を有する光ディスクの初期化方法について説明する。
スピンドルモータにより駆動される回転テーブルなどにより、光ディスクを適切な回転数で回転させ、初期化光であるレーザ収束光をその焦点位置が初期化したい記録層面位置にくるようにフォーカスサーボと呼ばれる技術を用いて焦点を結ばせる。
レーザ収束光は光ディスク1回転あたり半径方向に一定の距離、例えば5μm移動する。
この動作により光ディスクの情報記録再生領域RA全面を初期化する。
【0042】
(実施例)
以下に、本実施形態および従来例に係る光ディスクの初期化方法による初期化光の強度変調度を見積もった結果について説明する。
まず、多層の光学記録層を有する光ディスクにおける第1光学記録層16の初期化において、中間層17が初期化光の波長および記録再生光の波長に対して共に殆ど光吸収を有さない場合について述べる。
【0043】
図10に、多層(二層)の光学記録層を有する光ディスクの第1光学記録層16を初期化する場合の初期化光の配置を示す。尚、図10では各記録層上に本来存在する案内溝の表示を省略する。
対物レンズOLにより第1光学記録層16上に焦点FCを結んだ初期化光の入射光LTI の一部は、第1光学記録層16および中間層17を透過し、第2光学記録層12で反射し、再び中間層17を透過して、戻り光LTI ’として第1光学記録層16に照射される。図10中に第2光学記録層における反射光の第1光学記録層照射領域ARを示す。
この場合、第1光学記録層16へ収束する初期化光の入射光LTI と第2光学記録層3からの戻り光LTI ’は、第1光学記録層16上で光干渉を起こす。光干渉が起こると、第1光学記録層16におけるレーザ光強度が、第2光学記録層12からの反射光が無い場合に対して変動し、その変動量は中間層17の厚さDに対して変化する。
【0044】
光干渉による第1光学記録層16上のレーザ光強度の変化は中間層17の厚さDの変化に対し周期的であり、中間層17の初期化光の波長λI に対する屈折率をnI とした場合、中間層17の厚さDの増加量に応じてλI /(2nI )の周期で第1光学記録層16上のレーザ光の強度変動が発生する。
現実の系では、初期化光の波長λI =350nm、中間層17の屈折率nI =1.5を用いると、第1光学記録層16上の光強度は、中間層17の厚さDが0.12μm変動する毎に強弱を繰り返す。
【0045】
例えば、中間層17の厚さDを20μmとする場合、中間層17の厚み誤差を0.01μm以下で制御することが必要となるが、現実には不可能であり、実際には1μm以上の膜厚誤差をディスク面内で有する。このためディスク面内で干渉の度合いを一定に保つことはできない。
【0046】
初期化用レーザ光の波長が300nm、対物レンズの開口数が0.35、焦点位置における初期化用レーザ光のスポット形状が半径方向の半値幅が50μm、トラック方向の半値幅0.7μmという具体的な構成の初期化装置により、中間層17の厚みおよび屈折率がそれぞれ20μm、1.5である多層の光学記録層を有する光ディスクを初期化する場合の光干渉によって発生する第1光学記録層16上での初期化光の強度変調度を見積もった結果について、図11を参照して説明する。
図11において、横軸Xは、第1光学記録層16の透過率をT16、中間層17の透過率をT17(=1−中間層の吸収率A17)、第2光学記録層12の反射率をR12としたときに、次式(1)で表される値をとる。
【0047】
【数1】
X=T16 2 ×T17 2 ×R12 …(1)
【0048】
縦軸は、第1光学記録層16上での初期化光の強度変調度を示しており、干渉の結果強め合う場合の強度をImax 、弱め合うときの強度をImin として、Imax /Imin で表される値をとる。
【0049】
初期化光LTI の波長に対して第1光学記録層16の透過率が50%であり、第2光学記録層12の反射率が50%であり、中間層17の透過率が100%、屈折率が1.5、厚みが20μmである光学記録層を有する光ディスクに対して、初期化用レーザ光の波長が300nm、対物レンズの開口数が0.35、焦点位置における初期化用レーザ光のスポット形状が半径方向の半値幅が50μm、トラック方向の半値幅0.7μmという構成の初期化装置を用いて、第1光学記録層16を初期化する場合、第1光学記録層16上での初期化光LTI の強度変調度は、T16=0.5(50%)、T17=1(100%)、R12=0.5(50%)より、X=0.125であるので、おおよそImax /Imin =1.6である。
即ち、第1光学記録層16上での初期化光の光強度は、Imax とImin の中間点を基準として、±約30%の変動幅を持つことになる。
【0050】
次に、多層の光学記録層を有する光ディスクにおける第1光学記録層16の初期化において、中間層17が初期化光の波長に対して吸収を持ち、記録再生光の波長に対して共に殆ど光吸収を有さない場合について述べる。
有機系の可視では透明な材料としては、200〜400nmの波長領域では吸収を有する材料が多い。
図12は、中間層として用いることができる可視光領域では透明である有機系の材料Zの膜厚20μmにおける透過スペクトルである。ここで用いる透過率の定義として、光が材料Z中を20μm進む間に材料Zに吸収される光エネルギーの割合をAI とした時に、透過率TI =1−AI とする。
いうまでもなく、上記の材料A以外でも200〜400nmの波長領域で吸収を有する材料は存在する。
【0051】
上記の材料Zは、波長300nmにおいて膜厚20μmあたり10%程度の光透過率を有する。
初期化光LTI の波長に対して第1光学記録層16の透過率が50%であり、第2光学記録層12の反射率が50%であり、材料に上記の材料Zを用いた中間層17の透過率が10%、屈折率が1.5、厚みが20μmである光ディスクに対して、初期化用レーザ光の波長が300nm、対物レンズの開口数が0.35、焦点位置における初期化用レーザ光のスポット形状が半径方向の半値幅が50μm、トラック方向の半値幅0.7μmという構成の初期化装置を用いて、第1光学記録層16を初期化する場合、第1光学記録層16上での初期化光LTI の強度変調度は、T16=0.5(50%)、T17=0.1(10%)、R12=0.5(50%)より、X=0.00125であるので、おおよそImax /Imin =1.2である。
即ち、第1光学記録層16上での初期化光の光強度は、Imax とImin の中間点を基準として、±約10%の変動幅を持つことになり、中間層17が初期化光の波長および記録再生光の波長に対して共に殆ど光吸収を有さない場合に比べて、初期化時の第1および第2光学記録層の間の光干渉の問題を大幅に低減することが可能である。
【0052】
図13は、中間層として用いることができる可視光領域では透明である有機系の材料として用いることが可能なポリカーボネートの膜厚20μmにおける透過スペクトルである。
ポリカーボネートは波長275nmにおいて膜厚20μmあたりの光透過率が4%程度である。よって、初期化光LTI の波長に対して第1光学記録層16の透過率が50%であり、第2光学記録層12の反射率が50%であり、材料にポリカーホネートを用いた中間層17の透過率が4%、屈折率が1.5、厚みが20μmである光ディスクを用いた場合、Xの値はX=0.0002となり、図11からImax /Imin =1.1程度となり、初期化時の第1および第2光学記録層の間の光干渉の度合いを大幅に低減できる。
【0053】
初期化に用いるレーザ光源には、ワットクラスの大パワーレーザを用いることが好ましい。ワットクラスの大パワーレーザを組み合わせることで、効率的に初期化を行うことが可能となる。
本実施形態において初期化光として用いることが可能な200〜400nmの波長のワットクラスのレーザの例を表1に示す。表1は、全てArレーザ(Coherent社Innova sabre)のデータである。
【0054】
【表1】
【0055】
表1に示すように、200〜400nmの波長領域のワットクラスレーザの選択肢は広い。
よって、レーザ光源とそれに見合った中間層17用の材料との組合わせを最適化することが可能である。
このように、多層の光学記録層を有する光ディスクの第1光学記録層を初期化する場合に、情報記録再生信号特性を劣化することなく、初期化する際に生じる光干渉による初期化ムラを低減することができる。
【0056】
本実施形態によれば、相変化型光ディスクのうち、2層以上の書き換え型若しくは一度のみ記録を行える光学記録層を有する多層の光学記録層を有する光ディスクの初期化を行うにあたり、初期化に用いるレーザに200〜400nmの間の波長を有するレーザを用い、かつ、中間層の材料に上記レーザ波長に対して充分光透過率が低く、さらに光ディスクの記録再生に用いるレーザ波長に対しては充分透過率が高い材料を用いることにより、各光学記録層の間の光干渉が原因で発生する初期化面での光強度変調の度合いが低減し、良好な初期化を行うことが可能となる。
【0057】
本発明は上記の実施形態に限定されない。
例えば、初期化対象とするディスク構造は、図1に示す構造に限られるものではなく、例えば図1の構造において第1光学記録層16上に形成された光透過性の保護膜18が無い状態で初期化を行ってもよい。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。
【0058】
【発明の効果】
本発明により、相変化型の光学記録層を有する光学記録媒体を初期化するときに、各記録層の情報記録再生信号特性を劣化することなく、初期化する際に生ずる光干渉による初期化ムラを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)は本発明の実施形態に係る光ディスクの光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図1(b)は模式断面図である。
【図2】図2(a)および(b)は実施形態に係る光ディスクの製造方法の製造工程を示す断面図である。
【図3】図3(a)および(b)は図2の続きの工程を示す断面図である。
【図4】図4(a)および(b)は図3の続きの工程を示す断面図である。
【図5】図5(a)および(b)は図4の続きの工程を示す断面図である。
【図6】図6(a)および(b)は図5の続きの工程を示す断面図である。
【図7】図7は図6の続きの工程を示す断面図である。
【図8】図8は実施形態において用いる初期化装置の模式構成図である。
【図9】図9は実施形態において用いる初期化光のスポット形状および光強度プロファイルを示す模式図である。
【図10】図10は実施形態に係る光ディスクの第1光学記録層を初期化する場合の初期化光の配置を示す模式図である。
【図11】図11は実施例で初期化光の強度変調度について見積もった結果を示す図である。
【図12】図12は実施例における中間層材料の透過スペクトルである。
【図13】図13は実施例における中間層材料の透過スペクトルである。
【図14】図14(a)および(b)は従来例における色素材料単体の光吸収スペクトルと、透明中間層材料に上記色素を混合した場合の光吸収スペクトルである。
【符号の説明】
10…第2光学記録層用スタンパ、11…ディスク基板、12…第2光学記録層、13…シート状基板、14…転写層、14a…紫外線硬化樹脂、15…第1光学記録層用スタンパ、16…第1光学記録層、17…中間層、17a…感圧性粘着シート、18…保護膜、10’,11’,14’,15’…凹凸形状、AR…第2光学記録層における反射光の第1光学記録層照射領域、BS…ビームスプリッタ、CA…クランプ領域、CH…センタホール、DC…光ディスク、DR…ドライブ方向、DRrad …半径方向、FC…焦点、HD…光学ヘッド、LD…レーザダイオード、LS…集光レンズ、LTI …初期化光(入射光)、LTI ’…戻り光、LTR …記録再生光、MR…ミラー、OL…対物レンズ、PD…フォトディテクタ、RA…情報記録再生領域、SM…スピンドルモータ。
Claims (4)
- 基板上に、光照射側から少なくとも第1光学記録層および第2光学記録層が中間層を介して積層され、少なくとも上記第1光学記録層が相変化記録材料を有する光学記録媒体の初期化方法であって、
上記中間層を構成する材料は、上記光学記録媒体の記録再生光の波長に対して充分な透過率を有し、かつ、初期化光の波長に対しては吸収を有し、
上記第1光学記録層に初期化光を照射して初期化する工程において、当該初期化光として200nmから400nmの範囲の波長のレーザ光を用いる
光学記録媒体の初期化方法。 - 上記中間層を構成する材料は有機系材料である
請求項1に記載の光学記録媒体の初期化方法。 - 上記中間層を構成する材料はポリカーボネートである
請求項1に記載の光学記録媒体の初期化方法。 - 上記初期化光は200nmから400nmの範囲の波長のワットクラスのArガスレーザである
請求項1に記載の光学記録媒体の初期化方法。
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