JP2003248934A - 光学記録媒体の初期化方法 - Google Patents

光学記録媒体の初期化方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】複数の光学記録層を有する記録媒体について、
記録層の情報記録再生信号特性を劣化することなく、初
期化する際に生ずる光干渉による初期化ムラを低減する
ことができる光学記録媒体の初期化方法を提供する。 【解決手段】基板11上に光照射側から少なくとも第1
光学記録層16および第2光学記録層12が中間層17
を介して積層した光学記録媒体を初期化するときに、中
間層17を構成する材料は、光学記録媒体の記録再生光
LTR の波長に対して充分な透過率を有し、かつ、初期
化光LTI の波長に対しては吸収を有し、第1光学記録
層16に初期化光LTI を照射して初期化する工程にお
いて、当該初期化光として200nmから400nmの
範囲の波長のレーザ光を用いて初期化を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体(以
下光ディスクとも言う)の初期化方法に関し、特に相変
化材料を記録材料とする光学記録層を有する多層光ディ
スクの初期化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、情報記録の分野においては、光学
情報記録方式に関する研究が各所で進められている。こ
の光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、再生専用型、追記型、書換可能型のそれぞれのメモ
リ形態に対応できるなどの数々の利点を有し、安価な大
容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から
民生用まで幅広い用途が考えられている。
【0003】上記の各種光学情報記録方式用の光学記録
媒体(以下、光ディスクともいう)の大容量化は、主
に、光学情報記録方式に用いる光源となるレーザ光の短
波長化と、高開口のレンズを採用することにより、焦点
面でのスポットサイズを小さくすることで達成してき
た。
【0004】例えば、CD(コンパクトディスク)で
は、レーザ光波長が780nm、レンズの開口率(N
A)が0.45であり、650MBの容量であったが、
DVD−ROM(デジタル多用途ディスク−再生専用メ
モリ)では、レーザ光波長が650nm、NAが0.6
であり、4.7GBの容量となっている。さらに、次世
代の光ディスクシステムにおいては、光学記録層上に例
えば100μm程度の薄い光透過性の保護膜(カバー
層)が形成された光ディスクを用いて、レーザ光波長を
450nm以下、NAを0.78以上とすることで大容
量化が検討されている。
【0005】ところで、近年、相変化型記録材料を用
い、かつ、2層の光学記録層を有する書換型の多層光デ
ィスクの開発が進められている。以降は、このように複
数の光学記録層を有する光ディスクを多層光ディスク
と、1層の光学記録層を有する光ディスクを単層光ディ
スクと、それぞれ呼ぶことがある。本発明者らは、相変
化型多層光ディスクの開発を進めてきており、1999
年のOptical Data Strage(OD
S)学会や、2001年のODS学会で発表を行ってい
る。
【0006】相変化型光ディスクは、単層光ディスクと
多層光ディスクとに関わらず、市場に出荷する前に初期
化と呼ばれる工程を必要とする。相変化型光ディスクの
製造工程においては、一般にスパッタリング装置によっ
て相変化型記録材料をポリカーボネート等の基板上に成
膜するが、成膜を終えた段階では相変化型記録材料の相
状態はas−depositedと呼ばれる非晶質に近
い状態になっている。相変化型光ディスクでは情報記録
を行うときには、相変化記録相の状態が結晶状態である
ことが要求され、この成膜直後の非晶質状態を結晶状態
に変化させる工程のことを初期化工程と呼ぶ。
【0007】現在広く用いられている初期化装置は、初
期化を行う光学記録層上にレーザ光を集光して、相変化
記録材料を加熱しながら光学記録層全面を走査すること
で、光学記録層全面の結晶化を行っている。このとき光
学記録層上に集光されるレーザ光のビーム形状は、例え
ばディスク回転方向には1μm程度、半径方向には10
0μm程度のビーム幅を有する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このような初期化装置
を用いて、光入射側から第1層目に設けられた相変化型
の光学記録層を有する多層光ディスクの上記光学記録層
を初期化する場合には、特開2001−250265号
公報に記載されているように、第1光学記録層と第2光
学記録層の間の中間層の厚みムラによって発生する光干
渉により、初期化光の光強度変調が第1記録層上で発生
し、初期化ムラを引き起こすことが知られている。
【0009】特開2001−250265号公報では、
波長810nm付近のレーザと、この波長に吸収を有
し、波長400nm付近では吸収を持たない中間層材料
を用いることが提案されており、一例として透明中間層
材料に波長810付近で吸収を有する色素材料を混合す
ることが記載されている。しかし、実際に中間層を構成
する材料に上記色素を混合すると、中間層材料と色素材
料の相互作用が発生し、波長400nm付近で吸収が発
生することがある。上記色素材料単体の光吸収スペクト
ルと、透明中間層材料に上記色素を混合した場合の光吸
収スペクトルを図14(a)および図14(b)に示
す。中間層材料には、図14(a)のような光吸収特性
以外にも機械特性、熱特性など光ディスクに適した特性
を求めなければならない。光吸収特性まで満たす材料を
開発することは、開発を進めれば解決可能であるとは思
われるが、容易ではない。
【0010】本発明は上記の状況に鑑みてなされたもの
であり、従って本発明の目的は、各記録層の情報記録再
生信号特性を劣化することなく、初期化する際に生じる
光干渉による初期化ムラを低減することができる光学記
録媒体の初期化方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の光学記録媒体の初期化方法は、基板上に、
光照射側から少なくとも第1光学記録層および第2光学
記録層が中間層を介して積層され、少なくとも上記第1
光学記録層が相変化記録材料を有する光学記録媒体の初
期化方法であって、上記中間層を構成する材料は、上記
光学記録媒体の記録再生光の波長に対して充分な透過率
を有し、かつ、初期化光の波長に対しては吸収を有し、
上記第1光学記録層に初期化光を照射して初期化する工
程において、当該初期化光として200nmから400
nmの範囲の波長のレーザ光を用いる。
【0012】上記の本発明の光学記録媒体の初期化方法
は、好適には、上記中間層を構成する材料はポリカーボ
ネートなどの有機系材料である。
【0013】上記の本発明の光学記録媒体の初期化方法
は、好適には、上記初期化光は200nmから400n
mの範囲の波長のワットクラスのArガスレーザであ
る。
【0014】上記の本発明の光学記録媒体の初期化方法
においては、基板上に、光照射側から少なくとも第1光
学記録層および第2光学記録層が中間層を介して積層さ
れ、少なくとも第1光学記録層が相変化記録材料を有す
る光学記録媒体に対して初期化を行う。第1光学記録層
を初期化する際には、初期化を行う第1光学記録層上に
初期化光であるレーザを集光する。このとき、初期化を
行う光学記録層上に照射された初期化光の一部は第1光
学記録層を透過し、第2光学記録層に到達し、さらに第
2光学記録層において反射して、第1光学記録層に戻
り、初期化を行う第1光学記録層を照射する。初期化時
の層間干渉による初期化ムラを低減するためには、上記
の第2光学記録層において反射して第1光学記録層に戻
る戻り光の光強度を低減できれば良い。
【0015】ここで初期化光の波長に対して第1光学記
録層の透過率および第2光学記録層の反射率が充分小さ
ければ、初期化時の第1および第2光学記録層の間の光
干渉による初期化ムラの低減が可能である。しかし、第
1、第2光学記録層の光学的特性は当該多層光ディスク
の記録再生波長に対して設計するため、第1、第2光学
記録層の光学特性が初期化光の波長に対して上述した特
性を得るとは限らない。よって、中間層を構成する材料
が、記録再生光の波長に対して充分な透過率を有し、第
1および第2光学記録層の間の光干渉が許容範囲に収ま
る程度となるように、初期化光の波長に対して吸収率を
有していれば、初期化時の第1および第2光学記録層の
間の光干渉の問題を解決できる。
【0016】現在までのところ報告されている光ディス
クに用いられている記録再生光は、最短でも400nm
より長波長である。ここで、中間層を構成する材料に用
いることが可能であり、記録再生光として用いられてい
る可視光領域において充分な透過率を有する有機系材料
の光学特性を調べると、波長200〜400nmの範囲
で光吸収を有するものが多く存在する。この特性を利用
し、初期化光として波長が200〜400nmの範囲の
ものを用いて、中間層としてこの初期化光領域に吸収を
有し、400nmより長波長である記録再生光に対して
は充分な透過率を有する材料を用いることにより、初期
化時の第1および第2光学記録層の間の光干渉による初
期化ムラの問題を解決することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて詳しく説明する。本実施の形態は、光学
記録媒体(光ディスク)の初期化方法に関する。
【0018】図1(a)は、本実施形態に係る2層の光
学記録層を設けた光ディスクの光の照射の様子を示す模
式斜視図である。光ディスクDCは、中心部にセンタホ
ールCHが開口された略円盤形状をしており、内周部が
クランプ領域CAとされ、その外側に情報記録再生領域
RAが設けられて、ドライブ方向DRに回転駆動され
る。情報を記録または再生するときには、光ディスクD
C中の光学記録層に対して、例えば開口数が0.8以上
の対物レンズOLにより、400nmより長波長である
青〜赤外色の領域のレーザ光である記録再生光LTR
照射される。
【0019】図1(b)は図1(a)中のA−A’にお
ける模式断面図である。ディスク基板11上に、光照射
側から第1光学記録層16および第2光学記録層12が
中間層17を介して積層された構成であり、少なくとも
第1光学記録層16は相変化型記録材料を含む構成であ
る。
【0020】例えば、厚さが1.1mm、外周径が12
0mm、センタホールCHの内周径が15mmであるポ
リカーボネートなどからなるディスク基板11の一方の
表面に第2光学記録層12が形成されている。第2光学
記録層12は、上層側から例えば誘電体膜、相変化膜な
どの記録膜、誘電体膜および反射膜などがこの順番で積
層された構成であり、層構成や層数は、記録材料の種類
や設計によって異なる。第2光学記録層12の上層に、
例えば20μm程度の膜厚であり、記録再生光の波長に
対して透明な中間層17が形成されており、その上層に
第1光学記録層16が形成されている。第1光学記録層
16は、上層側から例えば誘電体膜、相変化膜からなる
記録膜、誘電体膜および半透過性の反射膜などがこの順
番で積層された構成である。第1光学記録層16の上層
に、紫外線硬化樹脂からなる転写層14によりシート状
基板13が貼り合わされている。転写層14とシート状
基板13を合わせて例えば90μmの膜厚の光透過性の
保護膜18を構成する。
【0021】ディスク基板11の一方の表面に凹凸形状
11’が設けられており、この凹凸形状に沿って第2光
学記録層12が形成されている。また、転写層14の表
面にも凹凸形状14’が設けられており、この凹凸形状
に沿って第1光学記録層16が形成されている。
【0022】上記の光ディスクを記録あるいは再生する
場合には、図1(b)に示すように、対物レンズOLに
よりレーザ光などの記録再生光LTR を光透過性の保護
膜18側から第1光学記録層16あるいは第2光学記録
層12に合焦するように照射する。対物レンズOLの光
ディスクからの距離を調整して第1光学記録層16と第
2光学記録層12のいずれかに焦点を合わせるかによ
り、第1光学記録層16と第2光学記録層12のいずれ
かを選択的に記録または再生する。上記の構成で、第1
光学記録層16は半透過性であり、記録再生光LTR
第2光学記録層12に照射する場合には第1光学記録層
16を透過させて行う。光ディスクの再生時において
は、第1および第2光学記録層(16、12)のいずれ
かで反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理
回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り出さ
れる。
【0023】上記のような光ディスクにおいて、第1光
学記録層16および第2光学記録層12は、転写層14
の表面に形成された凹凸形状14’あるいはディスク基
板11の表面に形成された凹凸形状11’に起因した凹
凸形状を有している。例えば、この凹凸形状によりトラ
ック領域が区分されている。上記の凹凸形状により区分
されたトラック領域はランドおよびグルーブと呼ばれ、
ランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グル
ーブ記録方式を適用することで大容量化が可能である。
また、ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域
とすることも可能である。
【0024】また、第2光学記録層12については、例
えばディスク基板11の凹凸形状11’に起因する凹凸
形状を記録データに対応する長さを有するピットとし、
光学記録層をアルミニウム膜などの反射膜で構成するこ
とにより、再生専用の記録層とすることもできる。
【0025】次に、上記の2層の光学記録層を有する光
ディスクの製造方法の一例について説明する。ここで
は、第1光学記録層16だけでなく第2光学記録層12
も相変化型の記録膜を含む構成として説明する。
【0026】まず、従来より知られている所定の方法に
よって、第2光学記録層用のパターンである凹凸形状1
0’を表面に有する第2光学記録層用スタンパ10を作
成する。次に、上記の第2光学記録層用スタンパ10を
金型のキャビティ内側を臨むように設置し、例えば溶融
状態のポリカーボネートを射出する射出成形により、図
2(a)に示すように、ポリカーボネートからなるディ
スク基板11を作成する。このとき、金型の形状を設定
することで、ディスク基板11にセンタホールCHの形
状を形成する。ここで、ディスク基板11の表面には、
第2光学記録層用スタンパ10の凹凸形状10’に対応
して、凹凸形状11’が形成される。
【0027】上記の第2光学記録層用スタンパ10から
離型することで、図2(b)に示すような表面に凹凸形
状11’が形成されたディスク基板11が得られる。
【0028】次に、図3(a)に示すように、ディスク
基板11の表面に空気や窒素ガスなどのガスを吹き付け
てダストを除去した後、例えばスパッタリング法あるい
はCVD(Chemical Vapor Depos
ition)法などにより、アルミニウム膜からなる全
反射性の反射膜、誘電体膜、相変化型の記録膜、誘電体
膜を順次積層させ、第2光学記録層12を形成する。
【0029】次に、成膜を終えた段階ではas−dep
ositedと呼ばれる非晶質に近い状態になっている
第2光学記録層12の相変化型記録材料を結晶化するた
め、図3(b)に示すように、初期化光LTI を対物レ
ンズOLで集光して第2光学記録層12に照射しながら
第2光学記録層12の全面に掃引し、第2光学記録層1
2を初期化する。初期化光LTI としては、例えば赤外
レーザや200〜400nmの波長のレーザなどを用い
ることができる。
【0030】一方、図4(a)に示すように、例えば8
0μmの厚みの中心にセンタホールCHを有する略円形
のシート状基板13上に、転写層となる適量の紫外線硬
化樹脂14aを供給して、スピン塗布する。次に、予め
第1光学記録層用のパターンである凹凸形状15’を表
面に有する第1光学記録層用スタンパ15を形成してお
き、図4(b)に示すように、紫外線硬化樹脂14aに
第1光学記録層用スタンパ15を貼り合わせ、充分な量
の紫外線を照射して紫外線硬化樹脂14aを固化させ、
転写層14とする。ここで、転写層14の表面には、第
1光学記録層用スタンパ15の凹凸形状15’に対応し
て、凹凸形状14’が形成される。
【0031】次に、図5(a)に示すように、第1光学
記録層用スタンパ15と転写層14の界面で剥離するこ
とで、転写層14の表面に凹凸形状14’を転写する。
【0032】次に、図5(b)に示すように、転写層1
4の表面に空気や窒素ガスなどのガスを吹き付けてダス
トを除去した後、例えばスパッタリング法あるいはCV
D法などにより、アルミニウム膜からなる半透過性の反
射膜、誘電体膜、相変化型の記録膜、誘電体膜を順次積
層させ、第1光学記録層16を形成する。
【0033】次に、図6(a)に示すように、ディスク
基板11に形成された第2光学記録層12上に、感圧性
粘着シート17aを配置し、図6(b)に示すように、
感圧性粘着シート17aを貼り合わせ用の中間層17と
して、第2光学記録層12と第1光学記録層16とを向
かい合わせ、芯合わせをして貼り合わせる。
【0034】ここで、上記で形成する中間層17を構成
する材料としては、光ディスクの記録再生光の波長に対
して充分な透過率を有し、かつ、後述の200〜400
nmの範囲の初期化光の波長に対しては吸収を有する材
料を用いるものとする。
【0035】次に、第2光学記録層12と同様に、成膜
を終えた段階ではas−depositedと呼ばれる
非晶質に近い状態になっている第1光学記録層16の相
変化型記録材料を結晶化するため、図7に示すように、
初期化光LTI を対物レンズOLで集光して第1光学記
録層16に照射しながら第1光学記録層16の全面に掃
引し、第1光学記録層16を初期化する。ここで、上記
の初期化光LTI としては波長が200〜400nmの
範囲のレーザ光を用いる。以上で、図1に示す構成の光
ディスクを製造することができる。
【0036】尚、上記の製造方法は1実施形態であり、
例えば、第2光学記録層12の上層に、表面に第1光学
記録層用の凹凸パターンを有する中間層17を形成し、
その上層に第1光学記録層16を形成し、その上層に光
透過性の保護膜18を形成する方法など、他の方法によ
り製造することも可能である。但し、いずれの場合も、
第1光学記録層16の初期化は上述のように中間層17
を介して第2光学記録層12と積層した後に行うものと
する。
【0037】図8は、上記の第1光学記録層16の初期
化に用いる光ディスクプレーヤタイプの初期化装置の模
式図である。第1光学記録層16に限らず、図3(b)
に示す第2光学記録層12の初期化工程にも用いること
ができる。
【0038】第1光学記録層16および第2光学記録層
12の多層の光学記録層を有する光ディスクDCは、ス
ピンドルモータSMにより回転駆動され、この回転する
光ディスクDCに対して光ディスクの半径方向DRrad
に可動である光学ヘッドHDにより初期化光LTI を照
射するようになっている。
【0039】光学ヘッドHDは、初期化光光源であるレ
ーザダイオードLD、ビームスプリッタBS、反射ミラ
ーMR、対物レンズOLを備えており、光ディスクDC
からの戻り光をビームスプリッタBSおよび集光レンズ
LSを介してフォトディテクタPDに導き、これをモニ
タするような構成とされている。レーザダイオードLD
の発光波長は200〜400nmの範囲内であり、例え
ば300nmである。また対物レンズOLの開口数は
0.35である。
【0040】この初期化装置によって光ディスクDCの
第1光学記録層16上に集光される初期化光LTI のス
ポット形状および光強度(LI)プロファイルを図9に
示す。初期化光LTI は長円系のスポット形状であり、
ディスクの半径方向xに幅x 1 のプロファイルPx 、ト
ラック方向yに幅y1 のプロファイルPy を有する。幅
1 は、例えば半値幅として50μm程度、幅y1 は、
例えば半値幅として0.7μm程度である。
【0041】次に、上述の初期化装置による多層の光学
記録層を有する光ディスクの初期化方法について説明す
る。スピンドルモータにより駆動される回転テーブルな
どにより、光ディスクを適切な回転数で回転させ、初期
化光であるレーザ収束光をその焦点位置が初期化したい
記録層面位置にくるようにフォーカスサーボと呼ばれる
技術を用いて焦点を結ばせる。レーザ収束光は光ディス
ク1回転あたり半径方向に一定の距離、例えば5μm移
動する。この動作により光ディスクの情報記録再生領域
RA全面を初期化する。
【0042】(実施例)以下に、本実施形態および従来
例に係る光ディスクの初期化方法による初期化光の強度
変調度を見積もった結果について説明する。まず、多層
の光学記録層を有する光ディスクにおける第1光学記録
層16の初期化において、中間層17が初期化光の波長
および記録再生光の波長に対して共に殆ど光吸収を有さ
ない場合について述べる。
【0043】図10に、多層(二層)の光学記録層を有
する光ディスクの第1光学記録層16を初期化する場合
の初期化光の配置を示す。尚、図10では各記録層上に
本来存在する案内溝の表示を省略する。対物レンズOL
により第1光学記録層16上に焦点FCを結んだ初期化
光の入射光LTI の一部は、第1光学記録層16および
中間層17を透過し、第2光学記録層12で反射し、再
び中間層17を透過して、戻り光LTI ’として第1光
学記録層16に照射される。図10中に第2光学記録層
における反射光の第1光学記録層照射領域ARを示す。
この場合、第1光学記録層16へ収束する初期化光の入
射光LTI と第2光学記録層3からの戻り光LTI
は、第1光学記録層16上で光干渉を起こす。光干渉が
起こると、第1光学記録層16におけるレーザ光強度
が、第2光学記録層12からの反射光が無い場合に対し
て変動し、その変動量は中間層17の厚さDに対して変
化する。
【0044】光干渉による第1光学記録層16上のレー
ザ光強度の変化は中間層17の厚さDの変化に対し周期
的であり、中間層17の初期化光の波長λI に対する屈
折率をnI とした場合、中間層17の厚さDの増加量に
応じてλI /(2nI )の周期で第1光学記録層16上
のレーザ光の強度変動が発生する。現実の系では、初期
化光の波長λI =350nm、中間層17の屈折率nI
=1.5を用いると、第1光学記録層16上の光強度
は、中間層17の厚さDが0.12μm変動する毎に強
弱を繰り返す。
【0045】例えば、中間層17の厚さDを20μmと
する場合、中間層17の厚み誤差を0.01μm以下で
制御することが必要となるが、現実には不可能であり、
実際には1μm以上の膜厚誤差をディスク面内で有す
る。このためディスク面内で干渉の度合いを一定に保つ
ことはできない。
【0046】初期化用レーザ光の波長が300nm、対
物レンズの開口数が0.35、焦点位置における初期化
用レーザ光のスポット形状が半径方向の半値幅が50μ
m、トラック方向の半値幅0.7μmという具体的な構
成の初期化装置により、中間層17の厚みおよび屈折率
がそれぞれ20μm、1.5である多層の光学記録層を
有する光ディスクを初期化する場合の光干渉によって発
生する第1光学記録層16上での初期化光の強度変調度
を見積もった結果について、図11を参照して説明す
る。図11において、横軸Xは、第1光学記録層16の
透過率をT16、中間層17の透過率をT17(=1−中間
層の吸収率A17)、第2光学記録層12の反射率をR12
としたときに、次式(1)で表される値をとる。
【0047】
【数1】 X=T16 2 ×T17 2 ×R12 …(1)
【0048】縦軸は、第1光学記録層16上での初期化
光の強度変調度を示しており、干渉の結果強め合う場合
の強度をImax 、弱め合うときの強度をImin として、
ma x /Imin で表される値をとる。
【0049】初期化光LTI の波長に対して第1光学記
録層16の透過率が50%であり、第2光学記録層12
の反射率が50%であり、中間層17の透過率が100
%、屈折率が1.5、厚みが20μmである光学記録層
を有する光ディスクに対して、初期化用レーザ光の波長
が300nm、対物レンズの開口数が0.35、焦点位
置における初期化用レーザ光のスポット形状が半径方向
の半値幅が50μm、トラック方向の半値幅0.7μm
という構成の初期化装置を用いて、第1光学記録層16
を初期化する場合、第1光学記録層16上での初期化光
LTI の強度変調度は、T16=0.5(50%)、T17
=1(100%)、R12=0.5(50%)より、X=
0.125であるので、おおよそImax /Imin =1.
6である。即ち、第1光学記録層16上での初期化光の
光強度は、Imax とImin の中間点を基準として、±約
30%の変動幅を持つことになる。
【0050】次に、多層の光学記録層を有する光ディス
クにおける第1光学記録層16の初期化において、中間
層17が初期化光の波長に対して吸収を持ち、記録再生
光の波長に対して共に殆ど光吸収を有さない場合につい
て述べる。有機系の可視では透明な材料としては、20
0〜400nmの波長領域では吸収を有する材料が多
い。図12は、中間層として用いることができる可視光
領域では透明である有機系の材料Zの膜厚20μmにお
ける透過スペクトルである。ここで用いる透過率の定義
として、光が材料Z中を20μm進む間に材料Zに吸収
される光エネルギーの割合をAI とした時に、透過率T
I =1−AI とする。いうまでもなく、上記の材料A以
外でも200〜400nmの波長領域で吸収を有する材
料は存在する。
【0051】上記の材料Zは、波長300nmにおいて
膜厚20μmあたり10%程度の光透過率を有する。初
期化光LTI の波長に対して第1光学記録層16の透過
率が50%であり、第2光学記録層12の反射率が50
%であり、材料に上記の材料Zを用いた中間層17の透
過率が10%、屈折率が1.5、厚みが20μmである
光ディスクに対して、初期化用レーザ光の波長が300
nm、対物レンズの開口数が0.35、焦点位置におけ
る初期化用レーザ光のスポット形状が半径方向の半値幅
が50μm、トラック方向の半値幅0.7μmという構
成の初期化装置を用いて、第1光学記録層16を初期化
する場合、第1光学記録層16上での初期化光LTI
強度変調度は、T16=0.5(50%)、T17=0.1
(10%)、R12=0.5(50%)より、X=0.0
0125であるので、おおよそImax /Imin =1.2
である。即ち、第1光学記録層16上での初期化光の光
強度は、Imax とImin の中間点を基準として、±約1
0%の変動幅を持つことになり、中間層17が初期化光
の波長および記録再生光の波長に対して共に殆ど光吸収
を有さない場合に比べて、初期化時の第1および第2光
学記録層の間の光干渉の問題を大幅に低減することが可
能である。
【0052】図13は、中間層として用いることができ
る可視光領域では透明である有機系の材料として用いる
ことが可能なポリカーボネートの膜厚20μmにおける
透過スペクトルである。ポリカーボネートは波長275
nmにおいて膜厚20μmあたりの光透過率が4%程度
である。よって、初期化光LTI の波長に対して第1光
学記録層16の透過率が50%であり、第2光学記録層
12の反射率が50%であり、材料にポリカーホネート
を用いた中間層17の透過率が4%、屈折率が1.5、
厚みが20μmである光ディスクを用いた場合、Xの値
はX=0.0002となり、図11からImax /Imin
=1.1程度となり、初期化時の第1および第2光学記
録層の間の光干渉の度合いを大幅に低減できる。
【0053】初期化に用いるレーザ光源には、ワットク
ラスの大パワーレーザを用いることが好ましい。ワット
クラスの大パワーレーザを組み合わせることで、効率的
に初期化を行うことが可能となる。本実施形態において
初期化光として用いることが可能な200〜400nm
の波長のワットクラスのレーザの例を表1に示す。表1
は、全てArレーザ(Coherent社Innova
sabre)のデータである。
【0054】
【表1】
【0055】表1に示すように、200〜400nmの
波長領域のワットクラスレーザの選択肢は広い。よっ
て、レーザ光源とそれに見合った中間層17用の材料と
の組合わせを最適化することが可能である。このよう
に、多層の光学記録層を有する光ディスクの第1光学記
録層を初期化する場合に、情報記録再生信号特性を劣化
することなく、初期化する際に生じる光干渉による初期
化ムラを低減することができる。
【0056】本実施形態によれば、相変化型光ディスク
のうち、2層以上の書き換え型若しくは一度のみ記録を
行える光学記録層を有する多層の光学記録層を有する光
ディスクの初期化を行うにあたり、初期化に用いるレー
ザに200〜400nmの間の波長を有するレーザを用
い、かつ、中間層の材料に上記レーザ波長に対して充分
光透過率が低く、さらに光ディスクの記録再生に用いる
レーザ波長に対しては充分透過率が高い材料を用いるこ
とにより、各光学記録層の間の光干渉が原因で発生する
初期化面での光強度変調の度合いが低減し、良好な初期
化を行うことが可能となる。
【0057】本発明は上記の実施形態に限定されない。
例えば、初期化対象とするディスク構造は、図1に示す
構造に限られるものではなく、例えば図1の構造におい
て第1光学記録層16上に形成された光透過性の保護膜
18が無い状態で初期化を行ってもよい。その他、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことがで
きる。
【0058】
【発明の効果】本発明により、相変化型の光学記録層を
有する光学記録媒体を初期化するときに、各記録層の情
報記録再生信号特性を劣化することなく、初期化する際
に生ずる光干渉による初期化ムラを低減することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)は本発明の実施形態に係る光ディス
クの光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図1
(b)は模式断面図である。
【図2】図2(a)および(b)は実施形態に係る光デ
ィスクの製造方法の製造工程を示す断面図である。
【図3】図3(a)および(b)は図2の続きの工程を
示す断面図である。
【図4】図4(a)および(b)は図3の続きの工程を
示す断面図である。
【図5】図5(a)および(b)は図4の続きの工程を
示す断面図である。
【図6】図6(a)および(b)は図5の続きの工程を
示す断面図である。
【図7】図7は図6の続きの工程を示す断面図である。
【図8】図8は実施形態において用いる初期化装置の模
式構成図である。
【図9】図9は実施形態において用いる初期化光のスポ
ット形状および光強度プロファイルを示す模式図であ
る。
【図10】図10は実施形態に係る光ディスクの第1光
学記録層を初期化する場合の初期化光の配置を示す模式
図である。
【図11】図11は実施例で初期化光の強度変調度につ
いて見積もった結果を示す図である。
【図12】図12は実施例における中間層材料の透過ス
ペクトルである。
【図13】図13は実施例における中間層材料の透過ス
ペクトルである。
【図14】図14(a)および(b)は従来例における
色素材料単体の光吸収スペクトルと、透明中間層材料に
上記色素を混合した場合の光吸収スペクトルである。
【符号の説明】
10…第2光学記録層用スタンパ、11…ディスク基
板、12…第2光学記録層、13…シート状基板、14
…転写層、14a…紫外線硬化樹脂、15…第1光学記
録層用スタンパ、16…第1光学記録層、17…中間
層、17a…感圧性粘着シート、18…保護膜、1
0’,11’,14’,15’…凹凸形状、AR…第2
光学記録層における反射光の第1光学記録層照射領域、
BS…ビームスプリッタ、CA…クランプ領域、CH…
センタホール、DC…光ディスク、DR…ドライブ方
向、DRrad …半径方向、FC…焦点、HD…光学ヘッ
ド、LD…レーザダイオード、LS…集光レンズ、LT
I …初期化光(入射光)、LTI ’…戻り光、LTR
記録再生光、MR…ミラー、OL…対物レンズ、PD…
フォトディテクタ、RA…情報記録再生領域、SM…ス
ピンドルモータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 行本 智美 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 山本 眞伸 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 上田 大輔 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D029 JB06 JB13 LA03 LC03 5D090 AA01 BB05 BB12 BB16 CC11 DD01 5D121 AA01 AA04 GG26

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板上に、光照射側から少なくとも第1光
    学記録層および第2光学記録層が中間層を介して積層さ
    れ、少なくとも上記第1光学記録層が相変化記録材料を
    有する光学記録媒体の初期化方法であって、 上記中間層を構成する材料は、上記光学記録媒体の記録
    再生光の波長に対して充分な透過率を有し、かつ、初期
    化光の波長に対しては吸収を有し、 上記第1光学記録層に初期化光を照射して初期化する工
    程において、当該初期化光として200nmから400
    nmの範囲の波長のレーザ光を用いる光学記録媒体の初
    期化方法。
  2. 【請求項2】上記中間層を構成する材料は有機系材料で
    ある請求項1に記載の光学記録媒体の初期化方法。
  3. 【請求項3】上記中間層を構成する材料はポリカーボネ
    ートである請求項1に記載の光学記録媒体の初期化方
    法。
  4. 【請求項4】上記初期化光は200nmから400nm
    の範囲の波長のワットクラスのArガスレーザである請
    求項1に記載の光学記録媒体の初期化方法。
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