JPH10232302A - 極薄有機質ブラックマトリックス - Google Patents
極薄有機質ブラックマトリックスInfo
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Abstract
クマトリックスコーティング材の提供 【解決手段】(a)ポリイミド前駆体ビヒクル及びそれ
を溶かす溶媒又は溶媒混合物の組合せ;(b)上記
(a)の組合せに溶解し、そして紫外から赤外までの全
ての光の吸収能を有する光吸収染料又はその染料の混合
物、及び(c)実質的に黒色である非カーボンブラック
系の金属酸化物顔料又はその顔料の混合物と、ニュート
ン分散体とするための分散剤;から成り、最終焼成後の
塗布膜厚が1.0μmの時、その塗布膜が105Ω/□
より大きい表面抵抗と2.0以上の光学濃度を兼備する
フォトリソグラフィー法により画像形成可能なブラック
マトリックスコーティング材。
Description
ー製造用の有機質ブラックマトリックスとその製造方法
に関する。特に、極薄膜厚で高い電気絶縁性と高い光学
濃度を有する絶縁性ブラックマトリックスに関する。
カラーフィルターを製造する際に着色画素の配列にブラ
ックマトリックスと呼ばれる薄膜光吸収フィルムを設け
て通常作成されている。その様なカラーフィルターの製
造プロセスは、スパッタリング法によるクロムを用いた
ブラックマトリックスを使用していた為に、LCDの量
産化の中で最も困難な工程の一つを有している。
したブラックマトリックスは、クロムを用いるよりも環
境上好ましく、製造が容易であり、そして有用なリソグ
ラフ法の製造利点を提供する。しかし、LCD用カラー
フィルター基板には少なくとも2種があるが、これに使
用される従来の有機ポリマーブラックマトリックス材料
は非常に高価か所望の性能に欠けるかである。即ち、極
薄膜厚に於いて十分な光学濃度と高い抵抗を兼備する有
機質ブラックマトリックスフォトレジストが実現されな
いことが、1)TFT(薄膜トランジスター型)−LC
Dと、2)STN(超ねじれ複屈折型ネマチック)−L
CDの進歩を阻害してきた。大面積LCD用のTFT又
はSTNカラー画素上に有機質ブラックマトリックスフ
ォトレジストを被覆し像形成する過程を簡略化した図
1、図1(a)、図1(b)、及び図1(c)で示した
(参照:Proceedings of the SI
D,Vol.32/3,201−206,1991)。
RGB(赤、緑、青)カラー画素11,12,13は、
TFT用にもSTN用にも使用することが出来る。その
様なカラーフィルターは、ITO(インジウムとスズの
酸化物)電極層2と信号線3を有している。通常はガラ
ス基板4に全て貼り付けられる。図1(b)は有機質ブ
ラックマトリックス5をリソグラフィー的に像形成する
ためのガラス基板4を通過するUV(紫外線)での露光
を示す。
抗(導通しない)は、ITO電極層2と信号線3の間の
電気的連結を避ける事が必須である。そうしないと、信
号線3(データ線と呼ぶことがある)との連結は、垂直
的なクロストークの原因になる。ブラックマトリックス
6の光学濃度(O.D.)はTFT式やSTN式ディス
プレイの光透過を阻止する為に2.0より高くなければ
ならない。そのようでなければ、表示しない部分からの
光の漏れは、コントラストを低下させ、反対側への光の
漏れを生じさせる。言い換えれば、カラーフィルターの
画素赤11、画素緑12、及び画素青13の(RGB)
画素間に形成された隔壁を通過する光の漏れを取り除き
LCDのコントラストを増大することが出来る。技術的
な目標は、極薄膜ブラックマトリックスとした時に紫外
から赤外のスペクトル全体に渡り、1%或いはそれ以下
の光透過に保つ事である。極薄膜ブラックマトリックス
とした時に2.0より高いO.D.を有する非導電性・
有機質ブラックマトリックスを製造する事は、不可能で
ないにせよ、かなり難しい事であった。2.0に等しい
か、それ以上のO.D.値は、例えば2μmの膜厚のブ
ラックマトリックスにする事で達成できるが、その膜厚
は多くの欠陥の発端となる。例えば、表示域の各画素内
のいわゆる逆チルトは2μmの段差で生ずる。逆チルト
は表示不良とコントラストの低下の原因になる。以上の
種々の欠点を克服することは、まさに1.0μm以下の
膜厚時に2.0より高いO.D.値を有する非導電性の
有機質ブラックマトリックスを供することである。
工程による複雑な製造と、潜在的な環境問題があり、そ
して所望としない高い反射率にも係わらず、たいていの
ブラックマトリックス材は、スピンコートの有機質ポリ
マーよりむしろスパッタリング法のクロムで成されてい
る。真空蒸発法や、ニッケル、アルミニウム、そしてク
ロムでさえ、それら金属の被覆法が発明されているが、
他の技術と材料はSTNやTFT用に商業上有用である
十分に薄い膜厚(1μm以下)と、十分に高い抵抗(少
なくとも105 Ω/□)の下で、高いコストと解像度を
与えるのに必要な十分に高いO.D.値(2.0より高
い)を満足させていないので、スパッタリング法による
クロムは依然として最も通常の技術と材料として残る。
4,822,718号明細書(1989年発行)に、ポ
リアミック酸と染料の組合せからなる可能性を持った有
機質ブラックマトリックス(顔料の分散に特徴づけられ
る)を開示した。それらの光吸収層の抵抗は3.0×1
015Ω/□位に高いものであった。
スト(SID Digest)26:446(1995
年)の「顔料分散有機質ブラックマトリックス」の章
で、他で開示されている顔料分散有機質ブラックマトリ
ックス材中の赤と青の顔料混合物と同様にポリイミド組
成物中に保持された赤と青の染料のラザムの混合物は、
3μmより大きい膜厚で被覆しても所望とするO.D.
値(2.0より高い)に近づいてないと記載されてい
る。赤対青の顔料比の変更や、赤と青の顔料混合物に
紫、黄又は緑の顔料の少量添加では、その配合物の総合
的なO.D.値を改良しなかった。しかしアクリルポリ
マー中に分散させたカーボンブラックの顔料は、いくつ
かのサンプルで0.01%の光透過を達成した。400
〜700nmの全スペクトルに渡って1.5μmの膜厚
でスピンコートされたフイルムの平均2.8のO.D.
値を得ることは、分散剤の的確な選択で可能になった。
しかし、90kΩ/□の抵抗は満足するものではなかっ
た。
Digest)23:789(1992年)の「TFT
配列上の積層ブラックマトリックス」の章で、カーボン
ブラックは改良されたアクリル系フォトポリマーと共に
用いても、クロストークの発生と抵抗の犠牲なしには2
μmより小さい膜厚で2.0より高いO.D.値を達成
できないと記載されている。山中はまた2μmの段差
(又は膜厚)は不都合であると述べている。それは非常
に大きいので逆チルトの結果になる。
明細書には、顔料分散カラーフィルター用組成物の他の
例が開示されている。アルカリ溶解性ブロックコポリマ
ーは、バインダーとして感光性化合物及び顔料としてピ
グメントブラック1とピグメントブラック7を用いてい
るが、不当に大きい粒子サイズ(10μmで濾過)であ
った。ピグメントブラック1は実用の膜厚で必須条件と
なる2.0より高いO.D.値を与えない事は良く知ら
れた事であるが、ピグメントブラック7(単にカーボン
ブラックとして公知)は、山中らの説明ではヘスラーら
によって示される様に2.0μmより小さい膜厚時でも
2.0より高いO.D.値を与える。クロストークの兆
候は実際のSTNやTFTに応用してブラックマトリッ
クスが導電しすぎる時に起こり、粒径が(直径で)10
μmでは逆チルトを起こさせるフイルムに成る。
of SID)32:201(1991年)の「STN
−LCDへの応用、ブラックマトリックス中の電着3色
フィルター上へのITO電極パターンの自己整合製造」
の章で、カーボンブラックから作成された有機質ブラッ
クマトリックスを有するSTN−LCDの別の欠点を示
した。それによれば、ディスプレイ上の緑のフィルター
は365nm、405nm及び435nmの入射光の1
%より小さい透過となる良好なシャッターであるが、赤
のフィルターはそうではなかった。365nmの入射光
で4%、405nmの入射光で6%の透過率である。青
のフィルターもまた更に悪く、405nmの入射光で3
5%、435nmの入射光で55%の透過率である。そ
れ故、400nmより低い光線に対してより、400n
mを越える光線に対しては別の研究法が必要であった。
この錯綜した研究法を使用する時(参照文の図13)、
ブラックマトリックス平均の透過率は、実質的にそのス
ペクトル全体に渡り1.0%より大きかった。それは1
0%に近かった。
クマトリックスも、従来の顔料に基づく有機質ブラック
マトリックスも、STNとTFTの性能が不足する事な
しに1μmより小さい膜厚で2.0より高いO.D.値
を有効に与えることは出来ない。更に、染料に基づくブ
ラックマトリックスはITO電極と信号線の間の電気的
結合から生ずるクロストークを十分に回避するために必
要な抵抗を有しているけれども、105Ω/□を越える
抵抗に上げるために必要な顔料を分散した材料の一部分
を十分な染料混合物で置換する事は、画素と基材に対し
て2.0μm以上のフイルム厚が適用されなければ、
2.0より小さいO.D.値になると考えられる。90
×102Ω/□の低い抵抗であるカーボンブラック(ピ
グメントブラック7)だけでは、1.5μmの膜厚で
2.0に近いO.D.値となる。
づく有機質ブラックマトリックスの如何なる組み合わせ
も2.0μmを越える膜厚の必要なしには2.0を越え
る改良されたO.D.値を提供することは全く予測する
ことは出来ないし、そしてカーボンブラックは有効なS
TNとTFTへの適用に対して導電しすぎる。種々の有
機染料と対比してカーボンブラック顔料の抵抗の大きな
違いは、2.0を越えるO.D.値に効果的に増大させ
るために染料にいくらかのその様な顔料を添加すること
は、最終製品に成った時に単位体積当たりの抵抗を大き
く損う事と確信できる。その他の顔料はO.D.値が低
すぎて極薄ブラックマトリックス用には全く考えられな
い。
終焼成後の塗布膜厚が1μmの時、105Ω/□より大
きい表面抵抗を持ち、2.0より高いO.D.値を有す
る安定な有機質ブラックマトリックスを供給することに
ある。
成物の相乗的組成によって上記目的及び他の目的を達成
することである。
(a)、(b)及び(c): (a)ポリイミド前駆体ビヒクル及びそれを溶かす溶媒
又は溶媒混合物の組合せ、(b)上記(a)の組合せに
実質的に溶解し、そして紫外から赤外までの広いスペク
トルに渡って実質的に全ての光の吸収能を有する溶解性
の光吸収染料又はその染料の混合物、及び(c)実質的
に黒色である非カーボンブラック系の金属酸化物顔料又
はその顔料の混合物と、ニュートン分散体とするための
分散剤、から本質的に成り、最終焼成後の塗布膜厚が
1.0μmの時、その塗布膜が、105Ω/□より大き
い表面抵抗と2.0以上の光学濃度を兼備するフォトリ
ソグラフィー法により画像形成可能なブラックマトリッ
クスコーティング材である。
ストが安価であり、貯蔵寿命が長く使用に便利である。
そして、本発明のブラックマトリクス材を基板(及び/
又は)に塗布して、常法による最終硬化の後、得られる
極薄膜ブラックマトリクスは、高い光学濃度を有するば
かりでなく、優れた表面平滑性、高い強度と高解像度を
有すると共に耐久性に優れている。又、その極薄膜ブラ
ックマトリクスを製造する際、スパッタリング法による
クロムを使用しないので優れた環境安全性を有する。
成物は好ましくは、バインダーとして4〜8重量%のポ
リイミド、9〜13重量%の着色剤(染料+顔料)、8
0〜85重量%の溶媒、及び0.3〜0.8重量%の分
散剤を含む。染料:顔料の重量比は、約1:15から約
3:15、好ましくは1:15から2:15の範囲であ
る。驚くべき事に、非カーボンブラック顔料を加えた有
機染料の組合せによるO.D.値は、1.0μmより小
さい(これより極薄という)のフイルム厚(例えば、
0.5〜1.0μmの範囲内)の時、その成分のO.
D.値の合計値より大きい。
クマトリックス組成物用のポリマービヒクルは、使用時
にポリイミド樹脂を形成する様に反応するポリイミド前
駆体を特徴的に含む。好ましくは、その前駆体は4,
4’−オキシジアニリン(ODA)とピロメリト酸二無
水物(PMDA)との反応、ODAとPMDA及び/又
は3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物(BTDA)との反応によって調製されたポ
リアミック酸からなる。それらの成分はジアミンと酸二
無水物が等モルに近い量比、好ましくは等モルの量比で
用いられることが特徴である。本願発明のポリイミドビ
ヒクルに特徴的に用いられるその他の適するポリアミッ
ク酸は、通常に用いられる成分であり、例えば下記の第
1表に記載されたものが挙げられる。本願のポリイミド
前駆体の意図するところから外れない限り、それらの前
駆体成分との混合物の中で、ポリビニルピロリドンの様
な水溶性ポリマーとノボラックの様なその他の通常用い
られる樹脂を含有する事が可能である。
ら紫外まで幅広いスペクトルに渡って光線を効果的に吸
収できる溶解性有機質染料の組合せである。ポリイミド
の前駆体ビヒクルが溶解している溶媒に染料が溶解して
いる事が不可欠である。(溶媒については後で示す。)
本願発明の特に好ましい具体例の中で、オラソルブラウ
ン6RL(ソルベントブラウン44)〔Orasol brown 6
RL(Solvent brown 44)〕:オラソルブルーGN(ソルベ
ントブルー67)〔Orasol blue GN(Solvent blue 67)
〕が約1:3から1:5の重量比で本願発明の最も実
用的な構成成分になる。その様な混合物は、ブリューワ
ーサイエンス社(Brewer Science,Inc.)より商品名DA
RC−100で販売され入手することが出来る。
第4,822,718号明細書に記載の高い抵抗を有す
る黒色コーティング材を製造できる染料も使用すること
が出来る。
ミド成分の実質上の量(少なくとも50%)と共に全て
の染料成分は、本願に引例として記載されている米国特
許第4,822,718号明細書に記載の黒色コーティ
ング組成物に従って与えられる。
は、ソルベントブラック3からソルベントブラック47
のカラーインデックスで規定される染料であり、例えば
ソルベントブラック35(ザポンブラックX50、BA
SF社製)〔Solvent Black35(Zapon Black X50,BAS
F〕、ソルベントブラック27(ザポンブラックX5
1、BASF社製)〔Solvent Black 27(Zapon Black X
51,BASF〕、ソルベントブラック3(ネプチューンブラ
ックX60、BASF社製)〔Solvent Black 3(Neptun
Black X60,BASF)〕、ソルベントブラック5(フレクソ
ブラックX12、BASF社製)〔Solvent Black 5(Fl
exo Black X12,BASF)〕、ソルベントブラック7(ネプ
チューンブラックNB X14、BASF社製)〔Solve
nt Black 7(Neptun Black NB X14,BASF)〕、ソルベント
ブラック46(ネプチューンAブラックX17、BAS
F社製)〔Solvent Black 46(Neptun A Black X17,BAS
F)〕、ソルベントブラック47(ネオピンブラックX5
8、BASF社製)〔SolventBlack 47(Neopin Black X
58,BASF〕、ソルベントブラック28(オラソルブラッ
クCN、チバガイギー社製)〔Solvent Black 28(Oraso
l Black CN,Ciba-Geigy)〕、ソルベントブラック29
(オラソルブラックRL、チバガイギー社製)〔Solven
t Black 29(Orasol Black RL,Ciba-Geigy)〕、及びソル
ベントブラック45(サビニルブラックRLS、サンド
社製)〔Solvent Black 45(Savinyl Black RLS,Sandoz
Corp)〕も含むものである。
一つの点は、カーボンブラックを使用する事なしに極薄
膜厚時に2.0より高い光学濃度が得られる事である。
本願発明に用いられる顔料は高い表面積を有し、そして
レオロジー上の変化や凝集で曇りと光の散乱を生じ綿状
の固まりにする強い性向を有し実際は肉眼で見える粒子
であるが、この顔料がポリイミド/染料の溶液と混合さ
れ適切に分散されたとき、優れた塗膜表面平滑性が得ら
れる。
ン、クロム、鉄、マグネシウム、アルミニウム、スズ、
亜鉛、チタン、ニッケル、コバルト、及びそれらの混合
物の酸化物から選ばれた無機金属酸化物の混合物又は混
合金属酸化物である。それらの金属酸化物はいわゆるス
ピネル構造を形成する為に好ましい。それらは、本願の
染料と共に極薄膜厚時に2.0より高いO.D.値を達
成する予想外の相乗作用を与え、染料と顔料の組み合わ
せによる表面抵抗が実際のSTNとTFTに適用の為に
必要とする出発点となる105Ω/□を越える大きさに
なる。
p.〕から販売されているファーストブラック100〔Fa
st Black 100〕の様なピグメントブラック22(カラー
インデックス(C.I.)77429)〔Pigment Blac
k 22(color index(C.I.)77429〕;日本の大日精化カラ
ー&ケミカルマニュファクチャー社〔Dainichiseika Co
lor & Chemical Manufacturing Co.,Ltd.of Japan〕か
ら販売されているダイピロキサイドTMブラック355
0と3551〔Daipyroxide TM Black 3550 and3551〕
の様なピグメントブラック26(C.I.77494)
〔Pigment Black26(C.I.77494)〕;ピグメントブラック
27〔Pigment Black 27(C.I.77502)〕;エンゲルハ
ルド社〔Engelhard Corporation〕からハーシャウ98
75Mプラス〔Harshaw 9875 M Plus〕として販売
されているピグメントブラック28(C.I.7742
8)〔Pigment Black 28(C.I.77428)〕;及びピグメン
トグリーン50(C.I.77377)〔Pigment Green 50(C.
I.77377)〕とピグメントブルー(C.I.77346)〔Pigmen
t Blue (C.I.77346)〕及びピグメントレッド(C.I.774
91)〔Pigment Red(C.I.77491)〕の単独及び混合物を
挙げることができる。77428から77494のカラ
ーインデックスで規定される顔料が好ましい。特に銅、
マンガン及び鉄の混合金属酸化物から成るピグメントブ
ラック26(C.I.77494)を用いる事が好まし
い。
特に50nmより小さい1次粒子径の顔料として用いる
事は、本願発明の顔料分散系を製造する中で好ましい。
それら顔料粒子は分散安定性の向上の為にシリカ、アル
ミナ、又はジルコニアの無機層で被覆する事も出来る。
顔料のニュートン分散系を得る為に有効な分散剤が望ま
れる。カチオン性分散剤が好ましく、特に本願発明に用
いられる顔料に強力な親和力を持った化学基を有する高
分子量ブロックコポリマーの溶液から成るカチオン性分
散剤が好ましい。その様な特に好ましい分散剤の一つは
バイク−へミー社〔Byk-Chemie〕から商標名ディスパー
バイク−163〔Disperbyk-163〕で販売されている。
その他のカチオン性分散剤は、例えば商品名ディスパー
バイク−160、161、162、164及び166
〔Disperbyk-160,161,162,164 and 164〕を含む。アニ
オン性及び非イオン性の分散剤も適切である。その様な
分散剤のリストを下記の第2表に示す。
リメートル(mm)径のイットリウム安定型酸化ジルコ
ニウムビーズを用いてアイガーミニ−100〔Eiger Mi
ni-100〕モーターミル中で行われる。顔料は、好ましく
は顔料に対して5重量%量の分散剤、ポリイミド前駆体
溶液(溶液中の固形分22.7%)、及び十分な量の溶
媒を含有するニュートニアン分散系で分散される。
化合物を溶解するのに有効な溶媒が選択される。ポリイ
ミド前駆体ビヒクル/染料の成分にとって、及び顔料分
散系にとって最も好ましい溶媒は、N−メチル−2−ピ
ロリドン(NMP)とシクロヘキサノンである。その他
の適切な溶媒は、ジメチルアセトアミド(DMAc)、
N,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)、ビス−2
−メチルエチルエーテル(diglyme )、テトラヒドロフ
ルフリルアルコール(THFA)、ジメチルスルフォキ
シド(DMSO)、キシレン、環状ケトン、アルコー
ル、エステル、エーテル及びこれらの混合物を包含する
ことが出来る。その様なポリマー/染料の溶液は、前に
述べたように有効な顔料分散系にとっても適するもので
ある。
ング材は、ポリイミド前駆体ビヒクル溶媒系が、N−メ
チル−2−ピロリドンとシクロヘキサノンの混合物であ
り、染料混合物がオラソルブラウン6RLとオラソルブ
ルーGNの1:3〜1:5の重量比の混合物であり、そ
して混合金属酸化物の顔料が、銅、マンガン、クロム、
鉄、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛、スズ、チタ
ン、ニッケル、コバルト、又はこれらの混合物のスピネ
ル構造を有する酸化物からなる群より選ばれたものであ
る事が好ましい。
ーティング材は、4〜8重量%のポリイミド前駆体ビヒ
クル、80〜85重量%のポリイミド前駆体ビヒクル
(を溶解するため)の溶媒、9〜13重量%の染料と顔
料からなり、染料対顔料の重量比が1:15〜3:15
であり、顔料は銅、マンガン及び鉄の混合金属酸化物か
ら作られ、77494のカラーインデックスを有するピ
グメントブラック26であり、そしてピグメントブラッ
ク26に強い親和性を持った化学基を有する高分子量ブ
ロックコポリマーから成るカチオン性分散剤を0.3〜
0.8重量%含有する組成である。
覆時に2.0より高い光学濃度を有するSTN又はTF
Tの画素作成に用いられる本願発明の有機質ブラックマ
トリックスコーティング材の製造方法は、下記(I)及
び(II): (I)ポリイミド前駆体ビヒクル、光吸収剤として高い
抵抗値を有する黒色被覆が形成可能で広いスペクトルの
光を吸収する有機質染料、及びそれらを溶解するための
溶媒、及び(II)上記染料と顔料が1:15〜3:1
5の重量比にあり、そして当該溶媒中で有効な分散剤と
共に、銅、マンガン及び鉄の混合金属酸化物で構成され
100nmより小さい粒子径で77428〜77494
のカラーインデックスを有するニュートン分散系の黒色
顔料、を混合する事を含むものである。
ング材は、基材に塗布して最終焼成を経た後に1.0μ
m以下、好ましくは0.5〜1.0μmの厚みのコーテ
ィング膜として得られ、これらの塗布膜は1.0μmの
膜厚で特性を測定した時に、105 Ω/□より大きい表
面抵抗と2.0以上の光学濃度を兼備するものである。
する。本発明の範囲は、下記の実施例により限定される
ことを意図していない。実施例1 プラスチック製ビーカーに11.6gのN−メチル−ピ
ロリドン(NMP)、82gのシクロヘキサノン、1.
5gのディスパーバイク−163〔disper-byk-163〕、
20gのDARCポリマー(NMP単独の溶媒中に2
2.9%の固形分のポリイミド前駆体)、及び30gの
ピグメントブラック26〔Pigment Black26〕を添加し
た。その混合物は均一になるまで約5分間、スパチラー
で撹拌した。その次にこの顔料スラリーは0.65mm
径のイットリウム安定化酸化ジルコニウムビーズを用い
て15分間、1000rpmで分散する為にアイガーM
−100ミル〔Eiger M-100 mill〕に添加した。
ノンで洗浄し、洗液はミルへ加えた。粉砕スピードはゆ
っくりと3000rpmまで増加した。顔料はこのスピ
ードで2時間粉砕した。機械的撹拌装置を備えた別のプ
ラスチック製ビーカーに、32.4gのDARCポリマ
ー(NMP単独の溶媒中に22.9%の固形分)と60
gのDARC100を添加した。その混合物を10分間
撹拌した。2時間後、DARCポリマーとDARC10
0の混合物は1000rpmのミルに入れた。DARC
ポリマーはNMP中に48.1gのオキシジアニリンを
溶解し、そして51.8gのピロメリット酸二無水物を
添加し、40℃で5時間反応させる事によって合成し
た。ビーカーは50gのN−メチル−ピロリドンで洗浄
し、洗液は1000rpmで粉砕する為に添加した。そ
してミルは3000rpmで90分間運転した。その配
合物は次に0.2μmの目のフィルターを通して濾過し
た。得られた配合物を第3表ににまとめた。
方法を参照)の塗膜は、1μmの膜厚で5.6×1011
Ω/□の抵抗と、2.4のO.D.値が観測された。図
3は、最終焼成後(実施例2の使用方法を参照)の1μ
m厚の塗膜のの透過スペクトルを示す図である。
を参照)に1μmの膜厚で2.4のO.D.値(この
O.D.値は成分のO.D.値の和から計算されるO.
D.値より予測以上に高い。)と1011Ω/□の表面抵
抗とする為に重量%で記載されている好ましい組成を示
した。
gのシクロヘキサノン、及び薄いシリカ層で被覆された
表面と10〜20nmの1次粒子径を有する250gの
ピグメントブラック26(ダイピロキサイドTMブラッ
ク3551)〔Pigment Black 26(Daipyroxide TM Bla
ck 3551)〕を添加した。その混合物は、均一になるま
で5分間、スパチラーで撹拌した。その次にこの顔料ス
ラリーは5mm径の石英ビーズと共にボールミルへ添加
し、100〜200rpmのスピードで2週間の粉砕を
行った。この混合物は、その中に47.8gのNMPと
21.0gのシクロヘキサノンを添加しホモジナイザー
(日本精機(株)製)で5分間、7000rpmのスピ
ードで分散した。機械的撹拌装置を備えた別のガラス製
ビーカーに、67.4gのDARCポリマー(NMP単
独溶媒中に20重量%含有する)、54.8gのDAR
C100、69.8gのNMP、及び33.5gのシク
ロヘキサノンを添加した。その混合物は、ホモジナイザ
ーで7000rpmのスピードで5分間、分散した。ホ
モジナイザーに225.3gのポリマー/染料の混合物
と、175.7gの黒色顔料スラリーを添加した。その
次にホモジナイザーは、10000rpmで10分間の
運転を行った。その次に0.2μmの目のフィルターを
通じて濾過した。
℃の冷蔵庫内で3ヶ月の良好な保存安定性を有し、非常
に高い貯蔵安定性を示した。また、クロムを使用するブ
ラックマトリックス材に比べて安価である。
の使用方法を参照)の塗膜は、1μmの膜厚時に、2.
0のO.D.値(このO.D.値は成分のO.D.値の
和から計算されるO.D.値より予測以上に高い。)と
3.3×1011Ω/□の表面抵抗を示した。第5表に1
μmの膜厚で2.0より高いO.D.値と1011Ω/□
の表面抵抗とする為に重量%で記載されている好ましい
組成を示した。
学量論的に等量のジアミンと酸二無水物との混合により
取得)、 溶媒:ポリアミック酸と染料を溶解するための溶媒
セスは、微細な解像度と広いβ−焼成域を得るために用
いられる。一次基板を洗浄した。シップレー(Shiple
y)の接着促進剤、APX−K1を3000rpmで3
0秒間かけて基材上にコートし、175℃で30秒間、
ホットプレート上で焼成した。ブラックマトリックス配
合物としたものを、APX−K1をコートした基材上に
750rpmで90秒間かけてコートを行い、100℃
で60秒間かけてホットプレート上でα−焼成して溶媒
を蒸発させた。その被覆物は、その次に通常用いられる
オーブンで120〜180℃で30分間かけてβ−焼成
した。ポリアミック酸はこのプロセスで30%〜50%
がイミド化した。ポジ型フォトレジストは5000rp
mで30秒間かけてコートし、100℃で30秒間かけ
てホットプレート上で温和な焼成を行い、露光と現像
(例えば、所定のパターンを有するマスクにより露光し
た後、アクカリ現像液によりポジ型ホトレジストの現像
及びブラックマトリックス膜のエッチング)を行った。
フォトレジストは、レジスト溶剤にて剥離した。ブラッ
クマトリックスは、その次に250℃で30分間かけて
オーブンで焼成して最終硬化させて、イミド化のプロセ
スを完結させた。複数色のカラーフィルターを必要とす
る場合、この工程を繰り返す事により処理することがで
きる。
ックスの製造プロセスのフロー図である。図3は実施例
1で得られた1μm厚のフイルムの透過スペクトルを示
す図である。その材料は、目標に合致する高い抵抗と光
学濃度を有するものである。図4は、解像度テスト用マ
スクを用いた場合のオーブンとホットプレートの両者を
比較するβ焼成プロセスによるリソグラフのデータを示
す。リソグラフからの結果は、広範な工程の自由度を持
っている事を示している。広範なβ焼成温度域によって
1μmの膜厚で3μmの鮮明な高解像度パターン形成が
可能である。
用いて形成したブラックマトリックスパターン。数値は
解像度を示す。)解像度ダガー示す。図6は、マスクを
使用し、パターンを形成後、レジスト材を除去して最終
硬化を行った後のブラックマトリックス材のSEM(走
査型電子顕微鏡)写真を示した。良好な切り立った側面
が画素パターン中に見られる。
図示したものである。表面粗さ測定は、リソグラフの試
験サンプル中で解像度ダガーと近接した部分で行った。
その表面は均一で微小な凹凸を有していて、ブラックマ
トリックス材に使用するために十分に適するものであっ
た。1μm厚のフイルムの抵抗は、1011Ω/□のオー
ダーであり、このように光学濃度と電気的特性の両方の
バランスを持ち合わせている。
間、−20℃の冷蔵庫内で3ヶ月の良好な保存安定性を
有し、非常に高い貯蔵安定性を示した。また、クロムを
使用するブラックマトリックス材に比べて安価である。
実施例1及び2の組成物はRGB画素に使用するのと同
じプロセスを使用して、スピンコート、像形成、現像を
行う事ができる。1μmの膜厚時に400〜700nm
の波長範囲で平均光学濃度が各々、2.0と2.4であ
る。
ントブラック26と375gのNMP、375gのシク
ロヘキサノン、4.2gのディスパーバイク−163を
実施例2と同様に粉砕、混合し、ホモジナイザーで分散
した。別のガラス製ビーカーにDARC100(染料分
を9重量%含有)は添加せずに、溶媒、ポリアミック酸
が実施例2と同じになる様に、90gのDARCポリマ
ー(NMPを溶媒とし、20重量%のポリアミック酸を
含有)、74.3gのNMP、56gのシクロヘキサノ
ンをガラス製ビーカーに取り、ホモジナイザーで7000rp
m の回転スピードで5分間分散した。これに上記17
5.7gの黒色顔料スラリーを添加し、ホモジナイザー
で10000 rpm で10分間撹拌、分散し、次いで0.2μ
mの目のフィルターを通じて濾過した。
い実施例2と同様の手順で塗膜を形成した。1μmの膜
厚のO.D.値は1.6と実施例2より低い値を示し、
顔料の分散は不均一で、塗膜の肌荒れや曇りが著しく、
表面の凹凸も大きくブラックマトリックス材として不十
分なものであった。また、この材料は室温で保存した
際、1週間でゲル化を生じ、保存安定性も劣るものであ
った。
は、極めて高い貯蔵安定性を有する。例えば、室温で3
週間又は−20℃の冷蔵庫で3ヶ月の優れた貯蔵寿命を
有する。又、(1)スピンコートによって基材に塗布す
ることが可能、(2)RGB画素を描き出すために用い
るのと同様の方法を用いる事により画像形成する事が可
能、(3)画素の場合と同様の現像方法を使って現像が
可能、(4)最終焼成した後の塗膜は、400〜700
nmの波長域で1μmの膜厚で少なくとも2.0のO.
D.値が得られる。その厚みの塗膜は表面抵抗が、10
5 Ω/□以上例えば1011Ω/□のオーダーにあり大変
に高い。そしてスパッタリング法によるクロムのブラッ
クマトリックスに比べて製造コストが低い。
い抵抗(1011Ω/□以上)と、高い光学濃度(2.0
以上)を有する有機質ブラックマトリックス材は、(ポ
リイミド)/(染料)溶液と混合金属酸化物顔料分散体
を、染料:顔料の比で1:15〜3:15の重量比で組
み合わせて得られる。
大面積LCD用の一般的STN又はTFT着色画素上へ
の有機質ブラックマトリックスフォトレジストの被覆と
像形成を示す。
を示すフローである。
ムの透過スペクトルを示す図である。
焼成工程を行ったリソグラフのデータを示すものであ
る。
ラックマトリックス材のSEM(走査型電子顕微鏡)写
真を示したものである。
ある。
─カラー画素青、2──ITO電極層、3──信号線、
4──ガラス基板、5──ブラックマトリックスフォト
レジスト、6──ブラックマトリックス。
Claims (10)
- 【請求項1】 下記(a)、(b)及び(c): (a)ポリイミド前駆体ビヒクル及びそれを溶かす溶媒
又は溶媒混合物の組合せ; (b)上記(a)の組合せに実質的に溶解し、〔削除:
実質的に完全にビヒクル及び溶媒に溶解し、〕そして紫
外から赤外までの広いスペクトルに渡って実質的に全て
の光の吸収能を有する溶解性の光吸収染料又はその染料
の混合物;及び (c)実質的に黒色である非カーボンブラック系の金属
酸化物顔料又はその顔料の混合物と、ニュートン分散体
とするための分散剤;から本質的に成り、最終焼成後の
塗布膜厚が1.0μmの時、その塗布膜が105Ω/□
より大きい表面抵抗と2.0以上の光学濃度を兼備する
フォトリソグラフィー法により画像形成可能なブラック
マトリックスコーティング材。 - 【請求項2】 ポリイミド前駆体ビヒクルを溶かす溶媒
混合物が、N−メチル−2−ピロリドンとシクロヘキサ
ノンの混合物であり;染料の混合物がオラソルブラウン
6RLとオラソルブルーGNの1:3〜1:5の重量比
の混合物であり;そして金属酸化物顔料が、銅、マンガ
ン、クロム、鉄、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛、
スズ、チタン、ニッケル、コバルト、又はこれらの混合
物のスピネル構造を有する酸化物からなる群より選ばれ
たものである請求項1に記載のブラックマトリックスコ
ーティング材。 - 【請求項3】 光吸収染料が、ソルベントブラック3か
らソルベントブラック47のカラーインデックスで規定
される染料である請求項1に記載のブラックマトリック
スコーティング材。 - 【請求項4】 金属酸化物顔料が77428から774
94のカラーインデックスで規定される顔料である請求
項1に記載のブラックマトリックスコーティング材。 - 【請求項5】 ポリイミドビヒクルが、下記(i)及び
(ii): (i)4,4’−オキシジアニリンとピロメリト酸二無
水物、及び(ii)4,4’−オキシジアニリンと3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、の反応生成物からなる群より選ばれたものである
請求項1に記載のブラックマトリックスコーティング
材。 - 【請求項6】 4〜8重量%のポリイミド前駆体ビヒク
ル、80〜85重量%のポリイミド前駆体ビヒクルのた
めの溶媒、9〜13重量%の染料と顔料からなり、染料
対顔料の重量比が1:15〜3:15であり、顔料は
銅、マンガン及び鉄の混合金属酸化物から作られ、77
494のカラーインデックスを有するピグメントブラッ
ク26であり、そしてピグメントブラック26に強い親
和性を持った化学基を有する高分子量ブロックコポリマ
ーから成るカチオン性分散剤を0.3〜0.8重量%含
有する組成である請求項2に記載のブラックマトリック
スコーティング材。 - 【請求項7】 最終焼成後の塗布膜厚が1.0μmの
時、その塗布膜が少なくとも1011Ω/□の表面抵抗を
有する請求項6に記載のブラックマトリックスコーティ
ング材。 - 【請求項8】 金属酸化物顔料の粒子径が100nmよ
り小さい請求項1に記載のブラックマトリックスコーテ
ィング材。 - 【請求項9】 金属酸化物顔料の表面がシリカ、アルミ
ナ及びジルコニアから成る群より選ばれた物質で被覆さ
れた請求項1に記載のブラックマトリックスコーティン
グ材。 - 【請求項10】 下記(I)及び(II): (I)ポリイミド前駆体ビヒクル、光吸収剤として高い
抵抗値を有する黒色被覆が形成可能で広いスペクトルの
光を吸収する有機質染料、及びこれらを溶解する溶媒、
及び(II)上記染料と顔料が1:15〜3:15の重
量比にあり、そして当該溶媒中で有効な分散剤と共に、
銅、マンガン及び鉄の混合金属酸化物で構成され100
nmより小さい粒子径で77428〜77494のカラ
ーインデックスを有するニュートン分散系の黒色顔料を
混合する事を含む、非カーボンブラック系であって最終
焼成後の塗布膜厚が1.0μmの時、その塗布膜が2.
0より高い光学濃度を有するSTN又はTFTの画素作
成に用いられる有機質ブラックマトリックスコーティン
グ材の製造方法。
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