JPH10225995A - マイクロレンズアレイ、その製造方法、及び光導波路型イメージセンサ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、透明基板に複数のマイクロレンズ
が一次元又は二次元に配置されたマイクロレンズアレイ
において、レンズ面を保護し、遮光部の形成が容易なマ
イクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイの製造方
法、さらにはノイズの原因となる迷光を防止できる光導
波路型イメージセンサを提供することを目的としてい
る。 【解決手段】 透明基板２に一次元又は二次元にマイク
ロレンズ１が複数配列されて成るマイクロレンズアレイ
において、マイクロレンズアレイが透明基板２に設けれ
た凹部３の内部に配置され、透明基板２の凹部３周辺の
高さがその内部に配置されたマイクロレンズ１より高く
なるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像入力装置等に
応用されるマイクロレンズアレイ、その製造方法、及び
光導波路型イメージセンサに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の透明基板に一次元にマイクロレン
ズが複数配置されて成るマイクロレンズアレイとして
は、図９に示すようなものがあった。図９に示すよう
に、このマイクロレンズアレイは、透明基板１０２の表
面にマイクロレンズ１０１が一次元アレイ状に形成され
ているものである。このようなマイクロレンズアレイで
は、本来光が入射すべきマイクロレンズ面以外にも光線
が入射される面を備えるため、そこからの入射光がレン
ズ結像状態に悪影響を及ぼす不要な漏れ光として発生し
ていた。

【０００３】ここで、上記の従来のマイクロレンズアレ
イを用いた光導波路型イメージセンサについて説明す
る。その光導波路型イメージセンサの概略構造は、図１
０の斜視図に示すように、マイクロレンズアレイのマイ
クロレンズ１０１により読み取られた像が光導波路基板
１１３の光導波路１１０を通して縮小されＣＣＤ１１４
に導かれる構成となっており、従来のレンズによる縮小
光学系を用いた縮小型イメージセンサよりも装置の小型
化及び薄型化が可能なものである。

【０００４】この光導波路型イメージセンサにおいて、
原稿からの反射光をマイクロレンズアレイを介して光導
波路に入射させたときの要部断面図を図１１（ａ）に、
そのときの光量レベルを図１１（ｂ）に示す。図１１
（ａ）に示すように、原稿の白色部１０５及び黒色部１
０６からの反射光をマイクロレンズ１０１で集光させ、
その光１０８を光導波路１１０に取り込んだとき、光導
波路入射口での光量レベル及びＣＣＤ１１４での光量レ
ベルは図１１（ｂ）に示すようになる。なお、ここで図
１１（ｂ）の横軸は、図１１（ａ）の図面左右方向と対
応させたものであり、即ち光導波路入射口での光量レベ
ルである実線１１１では図１１（ａ）と同寸法である
が、ＣＣＤ１１４での光量レベルである点線１１２は実
際には光導波路１１０により縮小されるのでそれを図１
１（ａ）に対応させるように拡大したものである。

【０００５】図１１（ａ）に示すように、マイクロレン
ズアレイに入射された漏れ光１０９は、光導波路基板の
クラッド部に入り込み、これが迷光となる。このため、
図１１（ｂ）に示すように、光導波路入射口での光量レ
ベルは実線１１１のようになるが、ＣＣＤ１１４での光
量レベルは前述のような迷光により点線１１２のように
なってしまう。すなわち、光導波路入射口での白黒信号
のコントラストは高いが、漏れ光により光導波路基板の
クラッド部の光量レベルが非常に高く、その結果ＣＣＤ
１１４で読み取る範囲が光導波路のコア部よりクラッド
部の方が広いため、クラッド部の漏れ光もＣＣＤ１１４
で読み取ってしまい、実際にＣＣＤ１１４で読み取る白
黒コントラストが大幅に低下してしまう。

【０００６】このような問題点を解決するため、マイク
ロレンズアレイのレンズ面以外に遮光部を設ける構成が
提案されている。その遮光部としては、特開平４−５５
８７１号公報に記載されたようなマイクロレンズの周辺
部に粗面加工等により乱反射面を形成するものがある。
また、特開平２−３９１０３号公報に記載されたよう
な、透明基板上に形成するマイクロレンズの位置、大き
さ、数に応じて開口を設けた遮光膜を、蒸着、リフトオ
フ法により予め透明基板に形成しておき、適当な型を用
いてこの透明基板上に射出成型法等により遮光マスクの
開口部分にマイクロレンズを形成するものがある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平４−５５８７１号公報や特開平２−３９１０３号公
報に記載された従来のマイクロレンズアレイでは、それ
を用いた光導波路型イメージせにおいて、ノイズの原因
となる迷光を十分に防止できなかった。

【０００８】このことについて、遮光部を設けたマイク
ロレンズアレイを用いた光導波路型イメージセンサにお
いて、原稿からの反射光をそのマイクロレンズアレイを
介して光導波路に入射させたときの要部断面図である図
１２を用いて説明する。図１２では、原稿の黒色部１１
５からの反射光をその周囲に遮光部１０７が設けられた
マイクロレンズ１０１により集光し、その光１０８を光
導波路１１０に取り込んだときの様子を示している。と
ころが、このとき、原稿の黒色部１１５に隣接する白色
部１１６，１１６’から反射光も光１１７，１１７’の
ようにマイクロレンズ１０１に入射されてしまう。すな
わち、このような光導波路型イメージセンサでは、原稿
の読む取るべき黒色部１１５以外の情報も拾ってしま
い、その像が光導波路基板のクラッド部に入り迷光が発
生し、ノイズの原因となっていた。

【０００９】さらに、特開平４−５５８７１号公報に記
載されたマイクロレンズアレイでは、乱反射面により漏
れ光は低減させるが、それでも２０％以上の光が透過し
てしまうという問題点があった。

【００１０】また、特開平２−３９１０３号公報に記載
されたマイクロレンズアレイでは、漏れ光は特開平４−
５５８７１号公報に記載されたマイクロレンズアレイよ
りも低減される。しかし、マイクロレンズのレンズ径が
１００μｍ以下となるような非常に微細な構造の場合
（上記光導波路型イメージセンサにおいて２００ｄｐｉ
以上に相当）、マイクロレンズもそれらの間隔（ピッ
チ）も非常に微小であるため、遮光マスクの開口部分と
マイクロレンズの金型の位置合わせが非常に困難なもの
となっていた。

【００１１】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、透明基板に複数のマイクロ
レンズが一次元又は二次元に配置されたマイクロレンズ
アレイにおいて、レンズ面を保護し、遮光部の形成が容
易なマイクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイの
製造方法、さらにはノイズの原因となる迷光を防止でき
る光導波路型イメージセンサを提供することを目的とし
ている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の発明では、透明基板に一次元又は二次元
にマイクロレンズが複数配列されて成るマイクロレンズ
アレイにおいて、マイクロレンズアレイが透明基板に設
けれた凹部の内部に配置され、透明基板の凹部周辺の高
さがその内部に配置されたマイクロレンズより高くなる
ように構成している。

【００１３】請求項１に記載の発明によれば、マイクロ
レンズアレイのレンズ面を保護することが可能となると
共に、不要なノイズ光の入射を防止するための遮光部を
容易に形成することができる。

【００１４】さらに、請求項２の発明では、上記のマイ
クロレンズアレイにおいて、凹部内部に複数のマイクロ
レンズを配置して構成している。

【００１５】請求項２に記載の発明によれば、微細な構
造のマイクロレンズアレイでも、容易に製造することが
可能となる。

【００１６】さらに、請求項３に記載の発明では、上記
のマイクロレンズアレイにおいて、透明基板の凹部周辺
に遮光部を設けて構成している。

【００１７】請求項３に記載の発明によれば、マイクロ
レンズアレへの不要なノイズ光の入射を防止することが
できる。

【００１８】さらに、請求項４に記載の発明では、上記
のマイクロレンズアレイにおいて、遮光部として遮光膜
を設けて構成している。

【００１９】請求項４に記載の発明によれば、マイクロ
レンズアレへの不要なノイズ光の入射をより効率的に防
止することができる。

【００２０】さらに、請求項５に記載の発明では、上記
のマイクロレンズアレイにおいて、凹部内部の側壁にも
遮光膜を設けて構成している。

【００２１】請求項５に記載の発明によれば、マイクロ
レンズアレへの不要なノイズ光の入射を更に効率的に防
止することができる。

【００２２】また、請求項６に記載の発明では、上記の
マイクロレンズアレイにおいて、遮光部として透明基板
の凹部周辺を粗面加工による乱反射面としている。

【００２３】請求項６に記載の発明によれば、不要なノ
イズ光の入射が防止可能なマイクロレンズアレイを容易
に製造できる。

【００２４】また、請求項７に記載の発明では、請求項
４に記載のマイクロレンズアレイの製造方法であって、
透明基板の凹部が設けられた面に硬化性充填物を塗布し
て凹部をその硬化性充填物により充填し、スキージ法に
より余分な硬化性充填物を除去し、凹部内の硬化性充填
物を硬化させた後、透明基板の凹部が設けられた面に遮
光膜を形成し、その後に凹部内の硬化性充填物を除去す
ることとしている。

【００２５】請求項７に記載の発明によれば、不要なノ
イズ光の入射が防止可能なマイクロレンズアレイを容易
に製造できる。

【００２６】また、請求項８に記載の発明によれば、請
求項４に記載のマイクロレンズアレイの製造方法であっ
て、透明基板の凹部が設けられた面から斜め蒸着法によ
り遮光膜を形成することとしている。

【００２７】請求項８に記載の発明によれば、不要なノ
イズ光の入射が更に効率的に防止可能なマイクロレンズ
アレイを容易に製造できる。

【００２８】また、請求項９に記載の発明によれば、請
求項１から５のいずれか１項に記載のマイクロレンズア
レイと、そのマイクロレンズアレイにより集光された光
を導波する複数の光導波路が配置された光導波路基板
と、その光導波路により導波された光が入射されるＣＣ
Ｄとから光導波路型イメージセンサを構成している。

【００２９】請求項９に記載の発明によれば、マイクロ
レンズアレイのレンズ面が保護されているマイクロレン
ズアレイを採用しているので、製造及び取り扱いが容易
な光導波路型イメージセンサを構成できる。また、請求
項３から５のいずれか１項に記載のマイクロレンズアレ
イを用いたものでは、原稿読み取り時のノイズの原因と
なる迷光を大幅に低減することが可能となるので、高性
能な光導波路型イメージセンサを実現できる。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。

【００３１】〔第１の実施形態〕第１の実施形態のマイ
クロレンズアレイの概略構造について、その斜視図を示
す図１を用いて説明する。図１に示すように、このマイ
クロレンズアレイは、透明基板２に凹部３が設けられ、
その凹部３内部にマイクロレンズ１が配置され、透明基
板２の凹部３周辺の高さがその内部に配置されたマイク
ロレンズ１より高くなるように構成されている。本実施
形態では、材質としてポリメチルアクリレート（ＰＭＭ
Ａ）を用い、射出成型法により、長さ１１０ｍｍ、幅３
ｍｍの透明基板２の片面に口径１２０μｍ深さ３０μｍ
の凹部３が設けれ、その内部にレンズ径１２０μｍのマ
イクロレンズ１が形成され、マイクロレンズ１及び凹部
３が８６５個一次元に配列された形状のものを作製し
た。これは、後述の光導波路型イメージセンサに用いた
場合、２００ｄｐｉ仕様に相当するものである。

【００３２】このマイクロレンズアレイは、図１に示す
ように、マイクロレンズ１が凹部３の内部に収納された
ような構成となっているので、マイクロレンズ１のレン
ズ面が保護され、非常に取り扱いが容易となる。

【００３３】次に、上記のマイクロレンズアレイへの遮
光膜の形成について、図２を用いて説明する。

【００３４】まず、図２（ａ）に示すようなマイクロレ
ンズ１が内部に配置された凹部３を充填するように、硬
化性充填物であるロウ（パラフィン）１８を塗布する
（図２（ｂ））。そして、図２（ｃ）に示すように、図
中の矢印方向にスキージ材１９で掃くことにより、凹部
３以外の部分の余分なロウ１８を除去する。それから、
ロウ１８を硬化させた後、マイクロレンズアレイのマイ
クロレンズ配置面の全面に、真空蒸着法によりＡｌ薄膜
２０を１０００Å〜２０００Å堆積させる（図２
（ｄ））。その後、熱湯中で超音波洗浄を行うことによ
り、凹部３内にロウ１８を取り除くと、図２（ｅ）に示
すように、マイクロレンズアレイのマイクロレンズ配置
面の凹部３以外の部分、即ち凹部３周辺に遮光膜７が形
成されたものとなる。なお、熱湯による超音波洗浄でも
ロウが完全に除去できないことがあり、このような場合
には、テンペルを多く含んだ洗剤を用いれば、ロウを完
全に除去できることを確認している。

【００３５】この方法によれば、マイクロレンズアレイ
が図１に示したような凹部３の底面にマイクロレンズ１
が配置された構造なので、容易に遮光膜を形成すること
ができる。

【００３６】この遮光膜７が形成されたマイクロレンズ
アレイを用いた光導波路型イメージセンサの概略構造
を、その斜視図である図３に示す。この光導波路型イメ
ージセンサは、マイクロレンズアレイのマイクロレンズ
１により読み取られた像が光導波路基板１３の光導波路
１０を通して縮小されＣＣＤ１４に導かれる構成となっ
ており、従来のレンズによる縮小光学系を用いた縮小型
イメージセンサよりも装置の小型化及び薄型化が可能な
ものである。

【００３７】この光導波路型イメージセンサにおいて、
原稿からの反射光をマイクロレンズアレイを介して光導
波路に入射させたときの要部断面図を図４（ａ）に、そ
のときの光量レベルを図４（ｂ）に示す。図４（ａ）に
示すように、原稿の白色部５及び黒色部６からの反射光
をマイクロレンズ１で集光させ、その光８を光導波路１
０に取り込んだとき、光導波路入射口での光量レベル及
びＣＣＤ１４での光量レベルは図４（ｂ）に示すように
なる。なお、ここで図４（ｂ）の横軸は、図４（ａ）の
図面左右方向と対応させたものであり、即ち光導波路入
射口での光量レベルである実線１１では図４（ａ）と同
寸法であるが、ＣＣＤ１４での光量レベルである点線１
２は実際には光導波路１０により縮小されるのでそれを
図４（ａ）に対応させるように拡大したものである。

【００３８】図４（ａ）に示すように、本実施形態のマ
イクロレンズアレイには遮光膜７が設けられているの
で、漏れ光９はほとんど発生しない。したがって、従来
の光導波路型イメージセンサの光導波路基板のクラッド
部で発生していた迷光を大幅に低減できる。これによ
り、図４（ｂ）に示すように、光導波路入射口での光量
レベルが実線１１のようになるのに対して、ＣＣＤ１４
での光量レベルは迷光がほとんど発生しないので点線１
２のようになる。すなわち、前述の図１１（ｂ）の従来
のものと比較して、光導波路基板のクラッド部の通る光
がほぼ遮断されているので、光導波路基板のコア／クラ
ッドのコントラストが大きく向上し、その結果ＣＣＤ１
４で読み取る際の白黒コントラストも非常に高いものと
なった。

【００３９】〔第２の実施形態〕第２の実施形態とし
て、上記第１の実施形態の図１に示したようなマイクロ
レンズアレイに、透明基板２の凹部３周辺部及び凹部３
内部の側壁に遮光膜を設けた構成のものについて説明す
る。

【００４０】本実施形態で用いたマイクロレンズアレイ
は、凹部３の深さを６０μｍとしただけで、その他は上
記第１の実施形態のものと同様のものである。

【００４１】まず、本実施形態での遮光膜の斜め蒸着法
を用いた形成について、図５を用いて説明する。図５
（ａ）に示すように、凹部３の深さが６０μｍのマイク
ロレンズアレイを、蒸着物２２の蒸着方向に対して４５
度傾けて、斜め蒸着法により、Ａｌ薄膜２３を１０００
〜２０００Å堆積する。そして、図５（ｂ）に示すよう
に、凹部３内部の側壁全面にＡｌ薄膜が形成されるよう
に、マイクロレンズアレイの方向を変化させて、同様に
斜め蒸着法によりＡｌ薄膜を形成する。本実施形態で
は、凹部３内部の側壁全面にＡｌ薄膜が形成されるよう
に、マイクロレンズアレイを４方向からＡｌ薄膜の蒸着
を行い、図５（ｃ）に示すような凹部３の内壁２１にも
遮光膜７が形成されたマイクロレンズアレイを作製し
た。

【００４２】次に、上記第１の実施形態と同様に本実施
形態のマイクロレンズアレイを用いた光導波路型イメー
ジセンサについて、原稿からの反射光をそのマイクロレ
ンズアレイを介して光導波路に入射させたときの要部断
面図である図６を用いて説明する。図６は、原稿の黒色
部１５からの反射光を凹部の周囲面及び凹部内部の側壁
２１に遮光膜７が設けられたマイクロレンズアレイのマ
イクロレンズ１により集光し、その光８を光導波路１０
に取り込んだときの様子を示している。本実施形態のマ
イクロレンズアレイでは、凹部内部の側壁２１にも遮光
膜７が形成されているので、前述の図１２の従来のもの
と比較して、原稿の黒色部１５に隣接する白色部１６，
１６’から反射光による光１７，１７’を大幅に低減で
きる。これにより、本実施形態のものでは、上記第１の
実施形態のものよりも、更に遮光性が向上し、マイクロ
レンズアレイでの漏れ光による迷光の発生を抑制でき、
ノイズが少ない高性能の光導波路型イメージセンサを構
成することができる。

【００４３】〔第３の実施形態〕第３の実施形態は、上
記第１の実施形態の図１に示したようなマイクロレンズ
アレイにおいて、凹部３が形成された面の凹部３周辺の
凸部の面に粗面加工を施され、遮光部としての乱反射部
が形成されたものである。

【００４４】本実施形態のマイクロレンズアレイは、射
出成型の金型作製時に、マスタの凹部周辺の凸部の面に
容易に粗面加工を施すことができ、このマスタを用いて
金型を作製すれば、容易に射出成型による形成の段階
で、凹部３の周囲の面に乱反射部を形成することができ
る。

【００４５】本実施形態の遮光部である乱反射部は、上
記第１及び第２の実施形態の遮光部である遮光膜と比較
して、遮光性に関しては劣るものの、射出成型の１工程
で遮光部を備えたマイクロレンズアレイを作製すること
ができるので、量産性に優れている。

【００４６】なお、遮光部である乱反射部の形成は、射
出成型のよるマイクロレンズアレイの成型後、乱反射部
となるように、粗面加工を施しても良い。

【００４７】〔第４の実施形態〕第４の実施形態とし
て、マイクロレンズアレイの単一の凹部内部に、複数の
マイクロレンズを配置したものについて説明する。本実
施形態の概略構造は、その斜視図を示す図７のように、
透明基板２’に凹部４が設けられ、その凹部４内部に複
数のマイクロレンズ１が配置され、透明基板２’の凹部
４周辺の高さがその内部に配置されたマイクロレンズ１
より高くなるように構成されている。本実施形態では、
材質としてポリメチルアクリレート（ＰＭＭＡ）を用
い、射出成型法により、長さ１１０ｍｍ、幅３ｍｍの透
明基板２’の片面に、縦４０μ、横１０３．８ｍｍ（４
０μｍ×２５９５）、深さ４０μｍの凹部４が設けれ、
その内部にレンズ径４０μｍのマイクロレンズ１が２５
９５個一次元に配列された形状のものを作製した。これ
は、後述の光導波路型イメージセンサに用いた場合、６
００ｄｐｉ仕様に相当するものである。

【００４８】このマイクロレンズアレイは、図１に示す
ように、複数のマイクロレンズ１が凹部４の内部に収納
されたような構成となっているので、マイクロレンズ１
のレンズ面が保護され、非常に取り扱いが容易となる。

【００４９】次に、上記のマイクロレンズアレイへの遮
光膜の形成は、透明基板２’のマイクロレンズが形成さ
れた側の凹部４周辺の凸部分面に、スクリーン印刷法に
よりカーボンブラックを混入した紫外線硬化樹脂を塗布
した後、紫外線照射により硬化させた。紫外線硬化樹脂
の塗布の際、紫外線硬化樹脂が凹部４に入り込まないよ
うにするため、多少遮光膜が形成されない部分も残る
が、スケールが十分小さいので、実際には、十分に高い
遮光性を得ることができる。

【００５０】この遮光膜が形成されたマイクロレンズア
レイを用いた光導波路型イメージセンサの概略構造を、
その斜視図である図８に示す。この光導波路型イメージ
センサは、マイクロレンズアレイのマイクロレンズ１に
より読み取られた像が光導波路基板１３の光導波路１０
を通して縮小されＣＣＤ１４に導かれる構成となってお
り、従来のレンズによる縮小光学系を用いた縮小型イメ
ージセンサよりも装置の小型化及び薄型化が可能なもの
である。

【００５１】この光導波路型イメージセンサにおいて、
前述のように、遮光膜７’が形成されない部分も残る
が、スケールが十分小さいので、十分に遮光性は高く、
解像度の高い画像を得ることができた。本実施形態のマ
イクロレンズは、上記第１〜第３の実施形態のものよ
り、凹部の構造が単純であるので、レンズ径が非常に小
さいマイクロレンズアレイでも容易に作製可能なもので
ある。

【００５２】なお、図１〜図８は概念的に図示したもの
であり、凹部やマイクロレンズの数については実際には
多数アレイ化されるものである。

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
透明基板に一次元又は二次元にマイクロレンズが複数配
列されて成るマイクロレンズアレイにおいて、マイクロ
レンズアレイが透明基板に設けれた凹部の内部に配置さ
れ、透明基板の凹部周辺の高さがその内部に配置された
マイクロレンズより高くなるように構成しているので、
マイクロレンズ以外の部分への遮光膜等の遮光部形成が
容易に可能となる。さらに、レンズ部が直接他のものと
接触し難くなり、レンズ面に傷が付くことを防止でき、
取り扱いが容易になる。

【００５４】また、本発明のマイクロレンズアレイは、
射出成型等により、非常に低コストでの作製が可能なも
のであり、光導波路型イメージセンサを構成する高分子
光導波路基板との一体射出形成が可能である。

【００５５】また、本発明の遮光膜を設けたマイクロレ
ンズアレイによれば、マイクロレンズアレイのレンズ側
に入射される余分な光を遮光できるので、ノイズの原因
となる漏れ光や迷光等のノイズ光の発生を防止すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレ
イの概略構造を示す斜視図である。

【図２】第１の実施形態のマイクロレンズアレイへの遮
光膜の形成工程を説明するための概略断面図である。

【図３】第１の実施形態のマイクロレンズアレイを用い
た光導波路型イメージセンサの概略構造を示す斜視図で
ある。

【図４】（ａ）は第１の実施形態のマイクロレンズアレ
イを用いた光導波路型イメージセンサにおいて原稿から
の反射光をマイクロレンズアレイを介して光導波路に入
射させたときの要部断面図であり、（ｂ）はそのときの
光量レベルを示す図である。

【図５】第２の実施形態のマイクロレンズアレイへの遮
光膜の形成工程を説明するための概略断面図である。

【図６】第２の実施形態のマイクロレンズアレイを用い
た光導波路型イメージセンサにおいて原稿からの反射光
をマイクロレンズアレイを介して光導波路に入射させた
ときの要部断面図である。

【図７】第４の実施形態のマイクロレンズアレイの概略
構造を示す斜視図である。

【図８】第４の実施形態のマイクロレンズアレイを用い
た光導波路型イメージセンサの概略構造を示す斜視図で
ある。

【図９】従来のマイクロレンズアレイの概略構造を示す
斜視図である。

【図１０】第１の実施形態のマイクロレンズアレイを用
いた光導波路型イメージセンサの概略構造を示す斜視図
である。

【図１１】（ａ）は従来のマイクロレンズアレイを用い
た光導波路型イメージセンサにおいて原稿からの反射光
をマイクロレンズアレイを介して光導波路に入射させた
ときの要部断面図であり、（ｂ）はそのときの光量レベ
ルを示す図である。

【図１２】従来の遮光膜を備えたマイクロレンズアレイ
を用いた光導波路型イメージセンサにおいて原稿からの
反射光をマイクロレンズアレイを介して光導波路に入射
させたときの要部断面図である。

【符号の説明】

１ マイクロレンズ ２ 透明基板 ３，４ 凹部 ７，７’ 遮光膜 １０ 光導波路（コア部） １３ 光導波路基板 １４ ＣＣＤ １８ 硬化性充填物（ロウ） １９ スキージ材 ２０，２３ Ａｌ薄膜 ２１ 凹部内部側壁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 6/42 Ｈ０４Ｎ 5/335 Ｖ Ｈ０１Ｌ 27/14 Ｇ０２Ｂ 6/12 Ｚ Ｈ０４Ｎ 5/335 Ｈ０１Ｌ 27/14 Ｄ // Ｂ２９Ｋ 105:32 (72)発明者 片岡 照幸 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板に一次元又は二次元にマイクロ
   レンズが複数配列されて成るマイクロレンズアレイにお
   いて、 前記マイクロレンズアレイが前記透明基板に設けれた凹
   部の内部に配置され、前記透明基板の凹部周辺の高さが
   その内部に配置されたマイクロレンズより高くなるよう
   に構成されたことを特徴とするマイクロレンズアレイ。
2. 【請求項２】 前記凹部内部に複数のマイクロレンズが
   配置されたことを特徴とする請求項１に記載のマイクロ
   レンズアレイ。
3. 【請求項３】 前記透明基板の凹部周辺に遮光部が設け
   られたことを特徴とする請求項１又は２に記載のマイク
   ロレンズアレイ。
4. 【請求項４】 前記遮光部として遮光膜が設けられたこ
   とを特徴とする請求項３に記載のマイクロレンズアレ
   イ。
5. 【請求項５】 前記凹部内部の側壁にも遮光膜が設けら
   れたことを特徴とする請求項４に記載のマイクロレンズ
   アレイ。
6. 【請求項６】 前記遮光部として前記透明基板の凹部周
   辺が粗面加工による乱反射面となっていることを特徴と
   する請求項３に記載のマイクロレンズアレイ。
7. 【請求項７】 請求項４に記載のマイクロレンズアレイ
   の製造方法であって、 透明基板の凹部が設けられた面に硬化性充填物を塗布し
   て凹部を該硬化性充填物により充填し、スキージ法によ
   り余分な硬化性充填物を除去し、前記凹部内の硬化性充
   填物を硬化させた後、前記透明基板の凹部が設けられた
   面に遮光膜を形成し、その後に前記凹部内の硬化性充填
   物を除去することを特徴とするマイクロレンズアレイの
   製造方法。
8. 【請求項８】 請求項４に記載のマイクロレンズアレイ
   の製造方法であって、 透明基板の凹部が設けられた面から斜め蒸着法により遮
   光膜を形成することを特徴とするマイクロレンズアレイ
   の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項１から５のいずれか１項に記載の
   マイクロレンズアレイと、該マイクロレンズアレイによ
   り集光された光を導波する複数の光導波路が配置された
   光導波路基板と、該光導波路により導波された光が入射
   されるＣＣＤとから構成される光導波路型イメージセン
   サ。