JPH10215066A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents
プリント配線板の製造方法Info
- Publication number
- JPH10215066A JPH10215066A JP9029787A JP2978797A JPH10215066A JP H10215066 A JPH10215066 A JP H10215066A JP 9029787 A JP9029787 A JP 9029787A JP 2978797 A JP2978797 A JP 2978797A JP H10215066 A JPH10215066 A JP H10215066A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- outer layer
- layer pattern
- insulating substrate
- hole
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/49105—Connecting at different heights
- H01L2224/49109—Connecting at different heights outside the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
させることなく高密度に実装することができる,プリン
ト配線板の製造方法を提供する。 【解決手段】 絶縁基板6の最外層の全表面に導電層2
1を形成する。絶縁基板にスルーホール602を穿設
し,絶縁基板の全表面に化学めっき膜22を形成する。
レジスト膜を用いてスルーホールの内壁に電気めっき膜
23を形成する。スルーホールの内部に印刷法により樹
脂5を充填する。スルーホールから突出した樹脂を研磨
除去する。外層パターン形成部分を露出させた状態で外
層パターン非形成部分をドライフィルムにより被覆す
る。ドライフィルムより露出した外層パターン形成部分
に,半田めっき膜24を形成する。ドライフィルムを取
り去り,外層パターン非形成部分の導電層をエッチング
して,外層パターン2を形成する。
Description
する。
図16に示すごとく,絶縁基板96の内部に内層パター
ン93を設け,その最外層には外層パターン92を設け
て,両者間をスルーホール902の内壁を被覆する導電
被膜903により導通させるものがある。プリント配線
板97の下面側に設けた外層パターン92は,図16,
図18に示すごとく,スルーホール902の開口部付近
にスルーホール902と電気的に接続するランド部92
6,及び半田ボール4と接合するパッド924を有して
いる。図16に示すごとく,スルーホール902の内部
には,樹脂95が充填されている。
に接合した半田ボール4を介して,マザーボード81の
表面に設けたパッド82と電気的に接続している。プリ
ント配線板97の略中央には,電子部品911を搭載す
るための凹状の搭載部901が設けられている。搭載部
901の内部には,内層パターン3の一部であるボンデ
ィングパッド部931が露出している。ボンディングパ
ッド部931は,ボンディングワイヤー912により電
子部品911と電気的に接続している。
について説明する。まず,図19に示すごとく,樹脂基
板961〜964に内層パターン93及び外層パターン
92を形成するとともに搭載部形成用の開口部905〜
908を穿設する。次いで,これらの樹脂基板961〜
964を積層,圧着して,階段状に開口した搭載部90
1を有する絶縁基板96を得る。
6にスルーホール902をドリル等を用いて穴明けす
る。次いで,図21に示すごとく,絶縁基板96の表面
全体に薄い化学めっき膜922を形成する。次いで,絶
縁基板96の最外層に,スルーホール902を開口させ
た状態でレジスト膜99を形成する。
ル902の内部に,電気めっき膜923を形成する。こ
れにより,スルーホール902の内壁に導電被膜903
が形成される。次いで,図23に示すごとく,レジスト
膜99を剥離する。次いで,絶縁基板96の表面に形成
された化学めっき膜922をマイクロエッチングして除
去する。このとき,スルーホール902の内部に形成し
た導電被膜903はそのまま残す。
95を印刷法により充填する。このとき,図23,図2
5に示すごとく,樹脂95はスルーホールから突出して
樹脂凸部951が形成されてしまう。そのため,次い
で,図24に示すごとく,スルーホール902から突出
した樹脂凸部951を研磨除去することにより,樹脂9
5を平坦にする。以上により,上記プリント配線板97
を得る。
リント配線板の製造方法においては,以下の問題があ
る。即ち,図23,図25に示すごとく,スルーホール
902から突出した樹脂95の一部はスルーホール90
2から突出するため,研磨除去している。このとき,図
25に示すごとく,外層パターン92も研磨除去により
損傷部929が形成される場合がある。その理由は,外
層パターン92は,銅箔をエッチングしてパターン形成
したものであり,銅箔の厚み分だけ絶縁基板96の表面
から突出している。そのため,樹脂凸部951の研磨除
去の際に,外層パターン92も研磨を受けるからであ
る。
年,外層パターン92の間隔は狭小化するようになって
きた。具体的には,外層パターン92は,その最小距離
Aが0.1mm以下となるまで接近する場合がある。こ
の場合,隣接する外層パターン92同志が,ショートし
易くなる。
92を狭小の間隔に形成する場合には,スルーホール9
02の穴明けの際に,実際の穴明け位置902bが設計
位置902aからずれることがある。また,絶縁基板9
6の表面にレジスト膜99を被覆する場合に,実際の被
覆位置99bが設計位置99aからずれることがある。
き膜923を形成すると,電気めっき膜923が隣接す
る外層パターン92の表面まで被覆してしまう場合があ
る。この場合,隣接する外層パターン92同志が電気的
に接続して,ショートの原因となる場合がある。
パターンに損傷がなく,ショートを発生させることなく
高密度に実装することができる,プリント配線板の製造
方法を提供しようとするものである。
に設けた外層パターンと,スルーホールとを有するプリ
ント配線板を製造する方法において,まず,絶縁基板の
全表面に外層パターン形成用の導電層を形成し,次い
で,上記絶縁基板にスルーホールを穴明けし,次いで,
少なくとも上記スルーホールの内壁に,化学めっき膜を
形成し,次いで,上記スルーホールの内部に印刷法によ
り樹脂を充填し,次いで,上記スルーホールから突出し
た樹脂を研磨除去し,次いで,絶縁基板の表面に,外層
パターン非形成部分の形状と同一の形状を有するドライ
フィルムを載置することにより,導電層における外層パ
ターン形成部分を露出させた状態で外層パターン非形成
部分を被覆し,次いで,上記ドライフィルムより露出し
ている導電層の上記外層パターン形成部分に,半田めっ
き膜を形成し,次いで,上記ドライフィルムを取り去
り,次いで,上記半田めっき膜より露出している上記導
電層をエッチング除去して,外層パターンを形成し,次
いで,上記半田めっき膜を除去することを特徴とするプ
リント配線板の製造方法である。
縁基板の表面全体に導電層を形成した状態でスルーホー
ルの内部に樹脂を充填し,その後上記導電層の外層パタ
ーン非形成部分をエッチングして外層パターンを形成す
ることである。
する。本発明においては,絶縁基板の表面全体に導電層
を形成した状態でスルーホールの内部に樹脂を充填して
いる(図9参照)。そのため,スルーホールから突出し
た凸状の樹脂を研磨除去するとき,平坦な導電層は,損
傷せず欠陥が生じない。従って,この無傷の導電層にエ
ッチングを行うことによって,外層パターンを損傷なく
形成することができる。
を有するドライフィルムを,絶縁基板表面に被覆して,
外層パターン形成部分に半田めっき膜を形成する(図1
2参照)。次いで,ドライフィルムを取り去ると,外層
パターン非形成部分の導電層が露出する(図13参
照)。その後,ドライフィルムより露出した導電層をエ
ッチングすると,外層パターン非形成部分の導電層がエ
ッチング除去されて,半田めっき膜により被覆された外
層パターン形成部分の導電層が残る(図14参照)。こ
れにより,絶縁基板の表面に外層パターンが形成され
る。
ドライフィルムと同一形状の部分がエッチング除去され
ることによって形成されることとなる。従って,本発明
によれば,隣接する外層パターン同志の間には,ドライ
フィルムの形状分の絶縁間隔が介在することとなり,両
者が接続してショートの原因となることは全くない。
くすることによって,絶縁間隔を確保して,微細な外層
パターンを形成することができる。また,外層パターン
の間隔を従来よりも狭くすることができる。従って,本
発明によれば,ファインで高密度のパターンを形成する
ことができる。
ールの内壁に形成する。このとき,絶縁基板の全表面に
化学めっき膜を形成してもよい。その理由は,化学めっ
き膜は,導体層のエッチングの際に,導体層とともに除
去されるからである。
めっき膜を形成した後には,該化学めっき膜により被覆
されたスルーホールの内壁に電気めっき膜を形成するこ
とが好ましい。これにより,スルーホールの内壁に膜厚
のめっき膜を形成することができ,スルーホールの導通
性を良好にすることができる。
に設けた内層パターンと絶縁基板の最外層に設けた外層
パターンとの間の電気的導通を行うスルーホールを有す
るとともに,電子部品を搭載するための凹状の搭載部を
設けてなる多層のプリント配線板を製造する方法におい
て,まず,内層パターン及び搭載部を有する絶縁基板を
形成するとともに該絶縁基板の最外層の全表面に外層パ
ターン形成用の導電層を形成し,次いで,上記絶縁基板
にスルーホールを穴明けし,次いで,上記スルーホール
の内壁及び上記搭載部を含めて上記絶縁基板の全表面
に,化学めっき膜を形成し,次いで,少なくとも上記ス
ルーホールを開口させる開口孔を有するレジスト膜によ
り上記絶縁基板の表面を被覆し,次いで,上記レジスト
膜より露出している上記スルーホールの内壁に,電気め
っき膜を形成し,次いで,上記レジスト膜を取り去り,
次いで,上記スルーホールの内部に印刷法により樹脂を
充填し,次いで,上記スルーホールから突出した樹脂を
研磨除去し,次いで,上記導体層は残したまま,上記絶
縁基板の表面に露出している化学めっき膜をマイクロエ
ッチングし,次いで,絶縁基板の表面に,外層パターン
非形成部分の形状と同一の形状を有するドライフィルム
を載置することにより,導電層における外層パターン形
成部分を露出させた状態で外層パターン非形成部分を被
覆し,次いで,上記ドライフィルムより露出している導
電層の上記外層パターン形成部分に,半田めっき膜を形
成し,次いで,上記ドライフィルムを取り去り,次い
で,上記半田めっき膜より露出している上記導電層をエ
ッチング除去して,外層パターンを形成し,次いで,上
記半田めっき膜を除去することを特徴とするプリント配
線板の製造方法である。
電子部品搭載用の搭載部を有する多層構造のプリント配
線板を製造する方法である。
に,絶縁基板の表面全体に導電層を形成した状態で,ス
ルーホールより突出した樹脂を研磨除去しているため,
導電層に損傷を与えることなく,樹脂を研磨除去でき,
無償の外層パターンを形成できる。また,外層パターン
は,導電層におけるドライフィルムと同一形状の部分が
エッチング除去されることによって形成されるため,隣
接する外層パターンの間には必ずドライフィルムの形状
分の絶縁間隔を確保することができる。
ント配線板の製造方法について,図1〜図15を用いて
説明する。本例により製造されるプリント配線板7は,
図1に示すごとく,絶縁基板6の内部に設けた内層パタ
ーン3と絶縁基板6の最外層に設けた外層パターン2と
の電気的導通を行うスルーホール602と,電子部品を
搭載するための凹状の搭載部601とを有している。搭
載部601の内部には,内層パターン3の一部が露出し
ている。
ーン2は,スルーホール602の周囲に設けたランド部
26と,半田ボール68を接合するためのパッド部27
とを有している。また,内層パターン3は,凹状の搭載
部601の壁面から露出する部分にボンディングパッド
部31を有している。
説明すると,絶縁基板6の表面全体に導電層21を形成
した状態でスルーホール602の内部に樹脂5を充填し
(図10),その後導電層21をエッチングして外層パ
ターン2を形成する(図14)。
細について説明する。まず,図3に示す積層状態よりも
前の工程においては,ガラスエポキシ基板等の樹脂基板
61〜64を準備する。樹脂基板61〜64の表面全体
に,銅箔からなる導電層21を貼着する。
〜63の表面に,内層パターン形成用のレジスト膜を形
成し,導電層21をエッチングして内層パターン3を形
成する。内層パターン3には,搭載部601の内部に露
出する部分にボンディングパッド部31を形成してお
く。一方,絶縁基板の最外層となる導電層21は,その
まま残しておく。次に,樹脂基板61〜64に搭載部形
成用の開口部605〜608を穿設する。
板61〜64を積層,圧着して絶縁基板6を得るととも
に,階段状に開口した搭載部601を形成する。搭載部
601の内部には,内層パターン3の一部であるボンデ
ィングパッド部31を露出させておく。
ドリル等を用いてスルーホール602を穴明けする。次
いで,図5に示すごとく,スルーホール602の内壁及
び搭載部601の内部を含めて絶縁基板6の表面全体
に,パラジウムめっき核を形成し,次いで,これらの表
面に化学めっき膜22を形成する。化学めっき膜22
は,銅化学めっき液に絶縁基板6を浸漬して銅被膜を析
出させたものである。
602及びその周囲を開口させる開口孔110を有する
レジスト膜11により絶縁基板6の表面を被覆する。上
記スルーホール602の周囲は,外層パターン2の一部
であるランド部26及びパッド部27を形成すべき部分
である(図2)。
電気銅めっき液に浸漬するとともに,絶縁基板6の表面
を被覆している化学めっき膜22に通電させて,スルー
ホール602の内壁及びその周囲に電気めっき膜23を
形成させる。次いで,図7に示すごとく,レジスト膜1
1を取り去る。
ホール602の内部に印刷法によりエポキシ系樹脂5を
充填する。上記印刷法は,具体的には,絶縁基板6の表
面に,スルーホール602を除く部分を被覆するマスク
を形成し,マスクの上から適度な粘度に調整された樹脂
を充填していく。
ル602の上に,樹脂5が突出して,凸部51を形成す
る。このため,スルーホール602から突出した樹脂5
の凸部51をバフ研摩などの手段により研磨除去するこ
とにより,図10に示すごとく,スルーホール602に
充填した樹脂5の上下端を平坦面50とする。次いで,
絶縁基板6にマイクロエッチングを施して,絶縁基板6
の最外層に形成した導体層21は残したまま,絶縁基板
6の表面に露出している化学めっき膜22及びパラジウ
ムめっき核を除去する。
の表面に,外層パターン非形成部分の形状と同一の形状
を有するドライフィルム12を載置することにより,導
電層21における外層パターン形成部分を露出させた状
態で外層パターン非形成部分を被覆する。
ルム12より露出している外層パターン形成部分,及び
搭載部601に露出した内層パターン3に,半田めっき
膜24を形成する。次いで,図13に示すごとく,ドラ
イフィルム12を取り去り,外層パターン非形成部分の
導電層21を半田めっき膜24より露出させる。次い
で,上記外層パターン非形成部分の導電層21をエッチ
ング除去して,絶縁基板6の最外層に外層パターン2を
形成する。このとき,搭載部601内の内層パターン3
は半田めっき膜24により保護されている。次いで,図
15に示すごとく,半田めっき膜24を除去する。
表面に,外層パターン3におけるランド部26及びパッ
ド部27を露出させた状態で永久レジスト膜66を形成
し,次いで,永久レジスト膜66より露出した外層パタ
ーン2の表面にニッケル・金めっき25を施す。次い
で,外層パターン2のパッド部27に半田ボール68を
接合する。次いで,絶縁基板6の外形加工を行う。以上
により,本例のプリント配線板7(図1)が得られる。
電子部品60を実装し,電子部品60とボンディングパ
ッド部31との間をボンディングワイヤー310により
電気的に接続し,これらを封止用樹脂600により封止
する。次いで,プリント配線板7の半田ボール68をマ
ザーボード8のパッド81に載置し,半田ボール68を
溶融する。これにより,プリント配線板7がマザーボー
ド8に接合される。
る。本例においては,図8,図9に示すごとく,絶縁基
板6の表面全体に導電層21を形成した状態でスルーホ
ール602の内部に樹脂5を充填している。そのため,
スルーホール602の上方及び下方に突出した樹脂5の
凸部51を研磨除去するとき,平坦な導電層21は殆ど
研磨除去されず,損傷及び欠陥は生じない。従って,図
12〜図14に示すごとく,無傷の導電層21にエッチ
ングを行うことにより外層パターン2を損傷なく形成す
ることができる。
パターン2は,導電層21におけるドライフィルム12
と同一形状の部分がエッチング除去することにより,形
成している。従って,隣接する外層パターン同志の間に
は,ドライフィルム12の形状分の絶縁間隔が介在する
こととなり,両者が接続してショートの原因となること
は全くない。
を狭くすることによって,絶縁間隔を確保して,微細な
外層パターン2を形成でき,外層パターン間の距離を最
小0.1mm以下にまで狭くすることができる。従っ
て,本例の製造方法によれば,ファインで高密度の外層
パターン2を形成することができる。
なく,ショートを発生させることなく高密度に実装する
ことができる,プリント配線板の製造方法を提供するこ
とができる。
図。
図。
するための,絶縁基板の断面図。
の断面図。
基板の断面図。
の断面図。
断面図。
絶縁基板の断面図。
絶縁基板の斜視図。
の凸部を平坦化した絶縁基板の断面図。
た絶縁基板の断面図。
基板の断面図。
縁基板の断面図。
基板の断面図。
基板の断面図。
係を示す説明図。
を説明するための,絶縁基板の断面図。
基板の断面図。
絶縁基板の断面図。
基板の断面図。
した絶縁基板の断面図。
脂の凸部を平坦化した絶縁基板の断面図。
樹脂の凸部を研磨除去するときの問題点を示すための,
絶縁基板の部分斜視図。
っき膜の形成位置を示す,絶縁基板の平面図(A),及
び断面図(B)。
Claims (3)
- 【請求項1】 絶縁基板の表面に設けた外層パターン
と,スルーホールとを有するプリント配線板を製造する
方法において,まず,絶縁基板の全表面に外層パターン
形成用の導電層を形成し,次いで,上記絶縁基板にスル
ーホールを穴明けし,次いで,少なくとも上記スルーホ
ールの内壁に,化学めっき膜を形成し,次いで,上記ス
ルーホールの内部に印刷法により樹脂を充填し,次い
で,上記スルーホールから突出した樹脂を研磨除去し,
次いで,絶縁基板の表面に,外層パターン非形成部分の
形状と同一の形状を有するドライフィルムを載置するこ
とにより,導電層における外層パターン形成部分を露出
させた状態で外層パターン非形成部分を被覆し,次い
で,上記ドライフィルムより露出している導電層の上記
外層パターン形成部分に,半田めっき膜を形成し,次い
で,上記ドライフィルムを取り去り,次いで,上記半田
めっき膜より露出している上記導電層をエッチング除去
して,外層パターンを形成し,次いで,上記半田めっき
膜を除去することを特徴とするプリント配線板の製造方
法。 - 【請求項2】 請求項1において,上記化学めっき膜を
形成した後には,該化学めっき膜により被覆されたスル
ーホールの内壁に電気めっき膜を形成することを特徴と
するプリント配線板の製造方法。 - 【請求項3】 絶縁基板の内部に設けた内層パターンと
絶縁基板の最外層に設けた外層パターンとの間の電気的
導通を行うスルーホールを有するとともに,電子部品を
搭載するための凹状の搭載部を設けてなる多層のプリン
ト配線板を製造する方法において,まず,内層パターン
及び搭載部を有する絶縁基板を形成するとともに該絶縁
基板の最外層の全表面に外層パターン形成用の導電層を
形成し,次いで,上記絶縁基板にスルーホールを穴明け
し,次いで,上記スルーホールの内壁及び上記搭載部を
含めて上記絶縁基板の全表面に,化学めっき膜を形成
し,次いで,少なくとも上記スルーホールを開口させる
開口孔を有するレジスト膜により上記絶縁基板の表面を
被覆し,次いで,上記レジスト膜より露出している上記
スルーホールの内壁に,電気めっき膜を形成し,次い
で,上記レジスト膜を取り去り,次いで,上記スルーホ
ールの内部に印刷法により樹脂を充填し,次いで,上記
スルーホールから突出した樹脂を研磨除去し,次いで,
上記導体層は残したまま,上記絶縁基板の表面に露出し
ている化学めっき膜をマイクロエッチングし,次いで,
絶縁基板の表面に,外層パターン非形成部分の形状と同
一の形状を有するドライフィルムを載置することによ
り,導電層における外層パターン形成部分を露出させた
状態で外層パターン非形成部分を被覆し,次いで,上記
ドライフィルムより露出している導電層の上記外層パタ
ーン形成部分に,半田めっき膜を形成し,次いで,上記
ドライフィルムを取り去り,次いで,上記半田めっき膜
より露出している上記導電層をエッチング除去して,外
層パターンを形成し,次いで,上記半田めっき膜を除去
することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9029787A JPH10215066A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | プリント配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9029787A JPH10215066A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | プリント配線板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10215066A true JPH10215066A (ja) | 1998-08-11 |
Family
ID=12285720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9029787A Pending JPH10215066A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | プリント配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10215066A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002134919A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-05-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板 |
US7337535B2 (en) * | 2001-06-07 | 2008-03-04 | Lg Electronics Inc. | Hole plugging method for printed circuit boards, and hole plugging device |
CN102009198A (zh) * | 2010-10-14 | 2011-04-13 | 惠州中京电子科技股份有限公司 | 一种pcb板短槽孔的制作方法 |
-
1997
- 1997-01-28 JP JP9029787A patent/JPH10215066A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002134919A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-05-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板 |
US7337535B2 (en) * | 2001-06-07 | 2008-03-04 | Lg Electronics Inc. | Hole plugging method for printed circuit boards, and hole plugging device |
CN102009198A (zh) * | 2010-10-14 | 2011-04-13 | 惠州中京电子科技股份有限公司 | 一种pcb板短槽孔的制作方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4993148A (en) | Method of manufacturing a circuit board | |
US5821762A (en) | Semiconductor device, production method therefor, method for testing semiconductor elements, test substrate for the method and method for producing the test substrate | |
JPH0378795B2 (ja) | ||
JP2002290022A (ja) | 配線基板およびその製造方法ならびに電子装置 | |
KR101068539B1 (ko) | 전해 도금을 이용한 배선 기판의 제조 방법 | |
JP2018113392A (ja) | 配線基板、多層配線基板および配線基板の製造方法 | |
JP3775970B2 (ja) | 電子部品実装用基板の製造方法 | |
US6278185B1 (en) | Semi-additive process (SAP) architecture for organic leadless grid array packages | |
JP5432800B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JPH0614592B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JPH10215066A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JP2000261147A (ja) | 多層配線基板及びその製造方法 | |
KR100762758B1 (ko) | 전자소자 내장형 인쇄회로기판 및 그 제조 방법 | |
JP2001308484A (ja) | 回路基板及びその製造方法 | |
KR100752956B1 (ko) | 비아홀 통전을 위한 인쇄 회로기판 및 그 제조방법 | |
KR100688697B1 (ko) | 패키지 기판의 제조방법 | |
JP3582111B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JP2002198639A (ja) | プリント配線板とその製造方法および電子部品の実装方法 | |
JPH10126026A (ja) | 電子部品搭載用基板及びその製造方法 | |
JPH09281145A (ja) | 異方性導電材を有する検査治具及びその製造方法 | |
JPS6355236B2 (ja) | ||
JPH0582977A (ja) | 多層プリント配線板 | |
JP2020072166A (ja) | 印刷配線板および印刷配線板の製造方法 | |
JPH08186192A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JP3872395B2 (ja) | 半導体素子収納用パッケージの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20031209 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060523 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060719 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060829 |