JPH10187247A - 制御弁システム - Google Patents
制御弁システムInfo
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- JPH10187247A JPH10187247A JP36400097A JP36400097A JPH10187247A JP H10187247 A JPH10187247 A JP H10187247A JP 36400097 A JP36400097 A JP 36400097A JP 36400097 A JP36400097 A JP 36400097A JP H10187247 A JPH10187247 A JP H10187247A
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- JP
- Japan
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- valve
- inlet
- passage
- outlet
- control valve
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16P—SAFETY DEVICES IN GENERAL; SAFETY DEVICES FOR PRESSES
- F16P3/00—Safety devices acting in conjunction with the control or operation of a machine; Control arrangements requiring the simultaneous use of two or more parts of the body
- F16P3/18—Control arrangements requiring the use of both hands
- F16P3/22—Control arrangements requiring the use of both hands for hydraulic or pneumatic control systems
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
- F15B—SYSTEMS ACTING BY MEANS OF FLUIDS IN GENERAL; FLUID-PRESSURE ACTUATORS, e.g. SERVOMOTORS; DETAILS OF FLUID-PRESSURE SYSTEMS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F15B20/00—Safety arrangements for fluid actuator systems; Applications of safety devices in fluid actuator systems; Emergency measures for fluid actuator systems
- F15B20/001—Double valve requiring the use of both hands simultaneously
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87169—Supply and exhaust
- Y10T137/87193—Pilot-actuated
- Y10T137/87209—Electric
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
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- Valve Device For Special Equipments (AREA)
- Output Control And Ontrol Of Special Type Engine (AREA)
- Control Of Throttle Valves Provided In The Intake System Or In The Exhaust System (AREA)
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】完全に空気圧で作動され、従って関連制御装置
を電気的にモニタリングする必要がない制御弁システム
をを提供することにある。 【解決手段】２つの弁列を有し、各弁列が、除勢位置と
付勢位置との間で動的に移動する一連の弁を備えている
制御弁システム。各弁列の種々の弁は、全ての弁を実質
的に同時に付勢すると、弁システムの入口が弁システム
の出口に連結され、かつ全ての弁を実質的に同時に除勢
すると、弁システムの出口が抜き口に連結されるよう
に、他の弁列の弁に相互連結されている。本発明の弁シ
ステムは、いずれかの弁が除勢位置にあるときおよび他
の弁が付勢位置にあるときに、作動中の弁部材の動的移
動によってロックアウト状態に移動することをモニタリ
ングする。
を電気的にモニタリングする必要がない制御弁システム
をを提供することにある。 【解決手段】２つの弁列を有し、各弁列が、除勢位置と
付勢位置との間で動的に移動する一連の弁を備えている
制御弁システム。各弁列の種々の弁は、全ての弁を実質
的に同時に付勢すると、弁システムの入口が弁システム
の出口に連結され、かつ全ての弁を実質的に同時に除勢
すると、弁システムの出口が抜き口に連結されるよう
に、他の弁列の弁に相互連結されている。本発明の弁シ
ステムは、いずれかの弁が除勢位置にあるときおよび他
の弁が付勢位置にあるときに、作動中の弁部材の動的移
動によってロックアウト状態に移動することをモニタリ
ングする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は制御弁に関し、より
詳しくは、異常事態に遭遇したときに制御弁がロックア
ウト位置に移動する二重ポペット流体制御弁（一実施形
態では、制御弁が再び機能する前にリセット操作を必要
とし、他の実施形態では自動的にリセットする制御弁）
に関する。
詳しくは、異常事態に遭遇したときに制御弁がロックア
ウト位置に移動する二重ポペット流体制御弁（一実施形
態では、制御弁が再び機能する前にリセット操作を必要
とし、他の実施形態では自動的にリセットする制御弁）
に関する。
【０００２】
【従来の技術】種々の形式の工作機械は、空気圧制御ク
ラッチおよび／またはブレーキ組立体と相互作用する弁
システムを介して作動する。安全上の理由から、これら
の工作機械の操作に使用される制御弁は、作業者が、２
つの別々の制御信号供給接点を本質的に同時に作動する
ことを必要とする。この同時作動という条件は、作動サ
イクルが開始されるときに、作業者が、その手を工作機
械の移動部品の近くに置かないことを確保する。この場
合、２つの制御信号供給接点は、圧縮空気を工作機械に
供給して工作機械がその作動サイクルを遂行できるよう
にする弁システムに連結されている。
ラッチおよび／またはブレーキ組立体と相互作用する弁
システムを介して作動する。安全上の理由から、これら
の工作機械の操作に使用される制御弁は、作業者が、２
つの別々の制御信号供給接点を本質的に同時に作動する
ことを必要とする。この同時作動という条件は、作動サ
イクルが開始されるときに、作業者が、その手を工作機
械の移動部品の近くに置かないことを確保する。この場
合、２つの制御信号供給接点は、圧縮空気を工作機械に
供給して工作機械がその作動サイクルを遂行できるよう
にする弁システムに連結されている。
【０００３】安全規則および基準は、弁システムの部品
が故障したとき、弁システムが工作機械の更なる移動を
許容しないように弁システムを設計すべきことを要求し
ている。また、弁システムは、弁システムの部品が故障
した後は、確実に工作機械の新たな作動サイクルが開始
されないようにしなくてはならない。
が故障したとき、弁システムが工作機械の更なる移動を
許容しないように弁システムを設計すべきことを要求し
ている。また、弁システムは、弁システムの部品が故障
した後は、確実に工作機械の新たな作動サイクルが開始
されないようにしなくてはならない。
【０００４】工作機械の作動に使用されている従来技術
の電磁弁システムは、二重弁組立体を使用してこれらの
安全条件を満たしている。二重弁組立体は、常時閉鎖
（常閉）形の２つの電磁供給弁を有している。各供給弁
は、電気制御信号に応答して開位置に移動される。２つ
の供給弁は圧縮空気源に対して直列に配置されている。
また、二重弁組立体は、常時開放（常開）形の２つの抜
き弁（exhaust valves)を有している。各抜き弁は、そ
れぞれの供給弁が開かれるとき、該供給弁により閉じら
れる。従って、供給弁は同時に開かれる必要があり、さ
もなければ、供給空気は、システムから一方の抜き弁を
通って抜かれるであろう。弁ユニットの開閉はそれぞれ
の弁ユニットの空気圧を検出することによりモニタリン
グされ、次に、これらの２つの圧力が比較される。これ
らの２つの圧力のモニタリングおよび比較は、ピストン
により２つのチャンバに分離された単一の空気シリンダ
により行なわれる。各弁ユニットの圧力は１つのチャン
バに供給される。従って、弁ユニットの圧力が等しくな
いと常時静止ピストンが移動され、これにより、一方の
弁ユニットへの電気信号が遮断される。この電子モニタ
リング構成および他の電子モニタリング構成は高価であ
り、電気信号処理装置を設計しかつ使用する必要があ
る。
の電磁弁システムは、二重弁組立体を使用してこれらの
安全条件を満たしている。二重弁組立体は、常時閉鎖
（常閉）形の２つの電磁供給弁を有している。各供給弁
は、電気制御信号に応答して開位置に移動される。２つ
の供給弁は圧縮空気源に対して直列に配置されている。
また、二重弁組立体は、常時開放（常開）形の２つの抜
き弁（exhaust valves)を有している。各抜き弁は、そ
れぞれの供給弁が開かれるとき、該供給弁により閉じら
れる。従って、供給弁は同時に開かれる必要があり、さ
もなければ、供給空気は、システムから一方の抜き弁を
通って抜かれるであろう。弁ユニットの開閉はそれぞれ
の弁ユニットの空気圧を検出することによりモニタリン
グされ、次に、これらの２つの圧力が比較される。これ
らの２つの圧力のモニタリングおよび比較は、ピストン
により２つのチャンバに分離された単一の空気シリンダ
により行なわれる。各弁ユニットの圧力は１つのチャン
バに供給される。従って、弁ユニットの圧力が等しくな
いと常時静止ピストンが移動され、これにより、一方の
弁ユニットへの電気信号が遮断される。この電子モニタ
リング構成および他の電子モニタリング構成は高価であ
り、電気信号処理装置を設計しかつ使用する必要があ
る。
【０００５】現在施行されている安全性能条件並びに将
来提案される安全性能条件を満たしかつこれらの条件を
超える、信頼性があり、簡単で安価な工作機械用弁シス
テムの開発が引き続き行なわれている。
来提案される安全性能条件を満たしかつこれらの条件を
超える、信頼性があり、簡単で安価な工作機械用弁シス
テムの開発が引き続き行なわれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、完全に空気
圧で作動され、従って関連制御装置を電気的にモニタリ
ングする必要がない制御弁システムを備えた技術を提供
する。
圧で作動され、従って関連制御装置を電気的にモニタリ
ングする必要がない制御弁システムを備えた技術を提供
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の制御弁システム
は複数の弁を有し、各弁は、弁の付勢時または除勢時に
開放または閉鎖する。制御弁システムは、システムの種
々の弁の動力学的移動をモニタリングして、制御弁シス
テムの適正機能を確保する。一実施形態では、制御弁シ
ステムは、故障を検出するとロックアウト位置に移動
し、リセット操作が行なわれるまでこのロックアウト位
置を維持する。他の実施形態では、故障を検出するとロ
ックアウト位置に移動し、一定時間後に自動的にリセッ
トする。かくして制御組立体の作動は全体として動力学
的であり、システムは、その適正機能を確保するのに静
的部材のモニタリングに頼ることはない。
は複数の弁を有し、各弁は、弁の付勢時または除勢時に
開放または閉鎖する。制御弁システムは、システムの種
々の弁の動力学的移動をモニタリングして、制御弁シス
テムの適正機能を確保する。一実施形態では、制御弁シ
ステムは、故障を検出するとロックアウト位置に移動
し、リセット操作が行なわれるまでこのロックアウト位
置を維持する。他の実施形態では、故障を検出するとロ
ックアウト位置に移動し、一定時間後に自動的にリセッ
トする。かくして制御組立体の作動は全体として動力学
的であり、システムは、その適正機能を確保するのに静
的部材のモニタリングに頼ることはない。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の他の長所および目的は、
以下の詳細な説明、特許請求の範囲の記載および図面か
ら、当業者には明らかになるであろう。
以下の詳細な説明、特許請求の範囲の記載および図面か
ら、当業者には明らかになるであろう。
【０００９】図面には、本発明を実施する上で現在考え
られる最良の形態が示されている。
られる最良の形態が示されている。
【００１０】図面（図面では、同一または類似部品が同
じ参照番号により示されている）を参照すると、図１お
よび図２には、本発明による制御弁システム（その全体
が参照番号１０で示されている）が示されている。制御
弁システム１０は、図１において概略流体回路として示
され、図２において流体制御弁として示されている。
じ参照番号により示されている）を参照すると、図１お
よび図２には、本発明による制御弁システム（その全体
が参照番号１０で示されている）が示されている。制御
弁システム１０は、図１において概略流体回路として示
され、図２において流体制御弁として示されている。
【００１１】ここで図２を参照すると、制御弁システム
１０はハウジング１２を有し、該ハウジング１２は、流
体入口通路１４と、流体出口通路（fluid outlet passa
ge)１４と、流体抜き通路（fluid exhaust passage)１
８と、第１弁ボア２０と、第２弁ボア２２と、第１流体
リザーバ２４と、第２流体リザーバ２６とを備えてい
る。第１弁ボア２０内には第１弁部材２８が配置され、
第２弁ボア２２内には第２弁部材３０が配置されてい
る。入口通路１４内には、第１弁部材２８と同軸関係を
なして第３弁部材３２が配置されている。また、入口通
路１４内には、第２弁部材３０と同軸関係をなして第４
弁部材３４が配置されている。ハウジング１２には１対
のソレノイド弁３６、３８が取り付けられている。
１０はハウジング１２を有し、該ハウジング１２は、流
体入口通路１４と、流体出口通路（fluid outlet passa
ge)１４と、流体抜き通路（fluid exhaust passage)１
８と、第１弁ボア２０と、第２弁ボア２２と、第１流体
リザーバ２４と、第２流体リザーバ２６とを備えてい
る。第１弁ボア２０内には第１弁部材２８が配置され、
第２弁ボア２２内には第２弁部材３０が配置されてい
る。入口通路１４内には、第１弁部材２８と同軸関係を
なして第３弁部材３２が配置されている。また、入口通
路１４内には、第２弁部材３０と同軸関係をなして第４
弁部材３４が配置されている。ハウジング１２には１対
のソレノイド弁３６、３８が取り付けられている。
【００１２】複数の流体通路が、弁ボア２０、２２と、
入口通路１４、出口通路１６、抜き通路１８、リザーバ
２４、２６および弁３６、３８とを相互連結している。
流体通路４０が、入口通路１４と、ボア２０により形成
された中間チャンバ４２との間に延びている。通路４０
内には、該通路４０を通る流体の流量を制限するための
絞り４４が配置されている。流体通路４６が、入口通路
１４と、ボア２２により形成された中間チャンバ４８と
の間に延びている。通路４６内には、該通路４６を通る
流体の流量を制限するための絞り５０が配置されてい
る。
入口通路１４、出口通路１６、抜き通路１８、リザーバ
２４、２６および弁３６、３８とを相互連結している。
流体通路４０が、入口通路１４と、ボア２０により形成
された中間チャンバ４２との間に延びている。通路４０
内には、該通路４０を通る流体の流量を制限するための
絞り４４が配置されている。流体通路４６が、入口通路
１４と、ボア２２により形成された中間チャンバ４８と
の間に延びている。通路４６内には、該通路４６を通る
流体の流量を制限するための絞り５０が配置されてい
る。
【００１３】チャンバ４２と、ボア２０により形成され
た下方のチャンバ５４との間には、流体通路５２が延び
ている。通路５２内には、該通路５２を通る流体の流量
を制限するための絞り５６が配置されている。チャンバ
４８と、ボア２２により形成された下方のチャンバ６０
との間には、流体通路５８が延びている。通路５８内に
は、該通路５８を通る流体の流量を制限するための絞り
６２が配置されている。通路５２とリザーバ２４との間
には流体通路６４が延びており、これにより、絞り５６
がチャンバ４２とリザーバ２４との間に配置される。リ
ザーバ２４とソレノイド弁３８の入口との間には、流体
通路６６が延びている。通路５８とリザーバ２６との間
には流体通路６８が延びており、これにより、絞り６２
がチャンバ４８とリザーバ２４との間に配置される。リ
ザーバ２６とソレノイド弁３６の入口との間には、流体
通路７０が延びている。ソレノイド弁３６の出口と、ボ
ア２０により形成された上方チャンバ７４との間には通
路７２が延びている。ソレノイド弁３８の出口と、ボア
２２により形成された上方チャンバ７８との間には通路
７６が延びている。
た下方のチャンバ５４との間には、流体通路５２が延び
ている。通路５２内には、該通路５２を通る流体の流量
を制限するための絞り５６が配置されている。チャンバ
４８と、ボア２２により形成された下方のチャンバ６０
との間には、流体通路５８が延びている。通路５８内に
は、該通路５８を通る流体の流量を制限するための絞り
６２が配置されている。通路５２とリザーバ２４との間
には流体通路６４が延びており、これにより、絞り５６
がチャンバ４２とリザーバ２４との間に配置される。リ
ザーバ２４とソレノイド弁３８の入口との間には、流体
通路６６が延びている。通路５８とリザーバ２６との間
には流体通路６８が延びており、これにより、絞り６２
がチャンバ４８とリザーバ２４との間に配置される。リ
ザーバ２６とソレノイド弁３６の入口との間には、流体
通路７０が延びている。ソレノイド弁３６の出口と、ボ
ア２０により形成された上方チャンバ７４との間には通
路７２が延びている。ソレノイド弁３８の出口と、ボア
２２により形成された上方チャンバ７８との間には通路
７６が延びている。
【００１４】チャンバ４２の下部とチャンバ４８の上部
との間には交差通路８０が延びている。チャンバ４８の
下部とチャンバ４２の上部との間には交差通路８２が延
びている。通路８０と出口通路１６との間には流体通路
８４が延びている。通路８２と出口通路１６との間には
流体通路８６が延びている。出口通路１６は、２つのポ
ート８８、９０を介して抜き通路１８と連通している。
チャンバ５４、６０の上部は、それぞれ、通路９２、９
４を介して大気圧に連通している。リセット通路９６が
ハウジング１２内に延びており、該リセット通路９６
は、それぞれ通路５２、５８を介してチャンバ５４、６
０の下部と連通している。リセット通路９６と通路５
２、５８との間には、それぞれ、１対の逆止弁９８、１
００が配置されており、通路５２または５８からリセッ
ト通路９６への流体の流れは防止するが、リセット通路
９６から通路５２、５８の一方または両方への流体の流
れは許容する。
との間には交差通路８０が延びている。チャンバ４８の
下部とチャンバ４２の上部との間には交差通路８２が延
びている。通路８０と出口通路１６との間には流体通路
８４が延びている。通路８２と出口通路１６との間には
流体通路８６が延びている。出口通路１６は、２つのポ
ート８８、９０を介して抜き通路１８と連通している。
チャンバ５４、６０の上部は、それぞれ、通路９２、９
４を介して大気圧に連通している。リセット通路９６が
ハウジング１２内に延びており、該リセット通路９６
は、それぞれ通路５２、５８を介してチャンバ５４、６
０の下部と連通している。リセット通路９６と通路５
２、５８との間には、それぞれ、１対の逆止弁９８、１
００が配置されており、通路５２または５８からリセッ
ト通路９６への流体の流れは防止するが、リセット通路
９６から通路５２、５８の一方または両方への流体の流
れは許容する。
【００１５】ボア２０内には弁部材１０２が配置されか
つボア２２内には弁部材１０４が配置されている。弁部
材１０２は、上方ピストン１０６と、中間ピストン１０
８と、下方ピストン１１０とからなり、これらの全ての
ピストンは単一ピストンとして一体に移動する。上方ピ
ストン１０６はチャンバ７４内に配置され、かつ出口通
路１６と抜き通路１８との間に配置されたポート８８を
開閉する弁座１１２を有している。中間ピストン１０８
はチャンバ４２内に配置されかつ環状通路１１４を有
し、該環状通路１１４は、中間ピストン１０８がハウジ
ング１２に座合すると、通路４０を通路５２に流体的に
連結する。下方ピストン１１０はチャンバ５４内に配置
されておりかつ１対のシール１１６を有している。該シ
ール１１６は、通路９２から入口通路１４をシールしか
つ通路９２からチャンバ５４をシールする。弁部材１０
４は、上方ピストン１１８と、中間ピストン１２０と、
下方ピストン１２２とからなり、これらの全てのピスト
ンは単一ピストンとして一体に移動する。上方ピストン
１１８はチャンバ７８内に配置され、かつ出口通路１６
と抜き通路１８との間に配置されたポート９０を開閉す
る弁座１２４を有している。中間ピストン１２０はチャ
ンバ４８内に配置されかつ環状通路１２６を有し、該環
状通路１２６は、中間ピストン１２０がハウジング１２
に座合すると、通路４６を通路５８に流体的に連結す
る。下方ピストン１２２はチャンバ６０内に配置されて
おりかつ１対のシール１２８を有している。該シール１
２８は、通路９４から入口通路１４をシールしかつ通路
９４からチャンバ６０をシールする。
つボア２２内には弁部材１０４が配置されている。弁部
材１０２は、上方ピストン１０６と、中間ピストン１０
８と、下方ピストン１１０とからなり、これらの全ての
ピストンは単一ピストンとして一体に移動する。上方ピ
ストン１０６はチャンバ７４内に配置され、かつ出口通
路１６と抜き通路１８との間に配置されたポート８８を
開閉する弁座１１２を有している。中間ピストン１０８
はチャンバ４２内に配置されかつ環状通路１１４を有
し、該環状通路１１４は、中間ピストン１０８がハウジ
ング１２に座合すると、通路４０を通路５２に流体的に
連結する。下方ピストン１１０はチャンバ５４内に配置
されておりかつ１対のシール１１６を有している。該シ
ール１１６は、通路９２から入口通路１４をシールしか
つ通路９２からチャンバ５４をシールする。弁部材１０
４は、上方ピストン１１８と、中間ピストン１２０と、
下方ピストン１２２とからなり、これらの全てのピスト
ンは単一ピストンとして一体に移動する。上方ピストン
１１８はチャンバ７８内に配置され、かつ出口通路１６
と抜き通路１８との間に配置されたポート９０を開閉す
る弁座１２４を有している。中間ピストン１２０はチャ
ンバ４８内に配置されかつ環状通路１２６を有し、該環
状通路１２６は、中間ピストン１２０がハウジング１２
に座合すると、通路４６を通路５８に流体的に連結す
る。下方ピストン１２２はチャンバ６０内に配置されて
おりかつ１対のシール１２８を有している。該シール１
２８は、通路９４から入口通路１４をシールしかつ通路
９４からチャンバ６０をシールする。
【００１６】弁部材３２は下方ピストン１１０の回りに
配置されかつ弁座１３０および弁ばね１３２からなる。
弁ばね１３２は弁座１３０をハウジング１２に対して押
圧し、入口通路１４とチャンバ４２との間の流体の流れ
を防止する。弁部材３４は下方ピストン１２２の回りに
配置されかつ弁座１３４および弁ばね１３６からなる。
弁ばね１３６は弁座１３４をハウジング１２に対して押
圧し、入口通路１４とチャンバ４８との間の流体の流れ
を防止する。
配置されかつ弁座１３０および弁ばね１３２からなる。
弁ばね１３２は弁座１３０をハウジング１２に対して押
圧し、入口通路１４とチャンバ４２との間の流体の流れ
を防止する。弁部材３４は下方ピストン１２２の回りに
配置されかつ弁座１３４および弁ばね１３６からなる。
弁ばね１３６は弁座１３４をハウジング１２に対して押
圧し、入口通路１４とチャンバ４８との間の流体の流れ
を防止する。
【００１７】図１および図２は、制御弁システム１０が
除勢位置にあるところを示す。入口通路１４からの加圧
流体は、弁座１３０、１３４をハウジング１２に押圧
し、入口通路１４と両チャンバ４２、４８との間の連通
を遮断する。加圧流体は、絞り４４を通って通路４０
に、更に環状通路１１４および絞り５６を通って通路５
２およびチャンバ５４内に流入し、図２に示すように弁
部材１０２を上方に押圧して、ピストン１０８をハウジ
ング１２に座合させる。また、加圧流体は、通路５２お
よび通路６４を通ってリザーバ２４へと流れ、更に該リ
ザーバ２４から、通路６６を通ってソレノイド弁３８の
入口へと流れる。同様に、入口通路１４からの加圧流体
は、絞り５０を通って通路４６に、更に環状通路１２６
および絞り６２を通って通路５８およびチャンバ６０内
に流入し、図２に示すように弁部材１０４を上方に押圧
して、ピストン１２０をハウジング１２に座合させる。
また、加圧流体は、通路５８および通路６８を通ってリ
ザーバ２６へと流れ、更に該リザーバ２６から、通路７
０を通ってソレノイド弁３６の入口へと流れる。出口通
路１６は、弁座１１２、１２４が上方に押圧されて、ポ
ート８８、９０が開かれているため、抜き通路１８と連
通している。中間チャンバ４２、４８も、それぞれ、交
差通路８０、８２および通路８４、８６を介して抜き通
路１８に連通している。弁部材１０２、１０４のピスト
ン１１０、１２２の下の流体圧力は、それぞれ、弁部材
１０２、１０４を上方に押圧して、制御弁システム１０
を除勢位置に維持している。環状通路１１４を介しての
通路４０と通路５２との連通および環状通路１２６を介
しての通路４６と通路５８との連通により、チャンバ５
４、５６およびリザーバ２４、２６内に流体圧力が維持
される。
除勢位置にあるところを示す。入口通路１４からの加圧
流体は、弁座１３０、１３４をハウジング１２に押圧
し、入口通路１４と両チャンバ４２、４８との間の連通
を遮断する。加圧流体は、絞り４４を通って通路４０
に、更に環状通路１１４および絞り５６を通って通路５
２およびチャンバ５４内に流入し、図２に示すように弁
部材１０２を上方に押圧して、ピストン１０８をハウジ
ング１２に座合させる。また、加圧流体は、通路５２お
よび通路６４を通ってリザーバ２４へと流れ、更に該リ
ザーバ２４から、通路６６を通ってソレノイド弁３８の
入口へと流れる。同様に、入口通路１４からの加圧流体
は、絞り５０を通って通路４６に、更に環状通路１２６
および絞り６２を通って通路５８およびチャンバ６０内
に流入し、図２に示すように弁部材１０４を上方に押圧
して、ピストン１２０をハウジング１２に座合させる。
また、加圧流体は、通路５８および通路６８を通ってリ
ザーバ２６へと流れ、更に該リザーバ２６から、通路７
０を通ってソレノイド弁３６の入口へと流れる。出口通
路１６は、弁座１１２、１２４が上方に押圧されて、ポ
ート８８、９０が開かれているため、抜き通路１８と連
通している。中間チャンバ４２、４８も、それぞれ、交
差通路８０、８２および通路８４、８６を介して抜き通
路１８に連通している。弁部材１０２、１０４のピスト
ン１１０、１２２の下の流体圧力は、それぞれ、弁部材
１０２、１０４を上方に押圧して、制御弁システム１０
を除勢位置に維持している。環状通路１１４を介しての
通路４０と通路５２との連通および環状通路１２６を介
しての通路４６と通路５８との連通により、チャンバ５
４、５６およびリザーバ２４、２６内に流体圧力が維持
される。
【００１８】図３および図４は、付勢位置にある制御弁
システム１０を示す。両ソレノイド弁３６、３８は実質
的に同時に付勢され、ソレノイド弁３６の付勢により、
通路７０従ってリザーバ２６が通路７２に連結される。
かくして、加圧流体がチャンバ７４内に流入して、弁部
材１０２を図４に示すように下方に移動させる。ピスト
ン１０６の直径の方がピストン１１０の直径より大きい
ため、弁部材１０２を下方に移動させる荷重が生じる。
同様に、ソレノイド弁３８の付勢により、通路６６従っ
てリザーバ２４が通路７６に連結される。かくして、加
圧流体がチャンバ７８内に流入して、弁部材１０４を図
４に示すように下方に移動させる。ピストン１１８の直
径の方がピストン１２２の直径より大きいため、弁部材
１０４を下方に移動させる荷重が生じる。弁部材１０
２、１０４が下方に移動すると、ピストン１１０の環状
フランジ１４０が、弁座１３０をハウジングから離脱さ
せ、かつピストン１２２の環状フランジ１４２が弁座１
３４をハウジングから離脱させる。加圧流体は、入口通
路１４からチャンバ４２の下部に流入し、更に通路８０
を通ってチャンバ４８の上部に流入し、ここから、弁部
材１０４とハウジング１２との間のギャップ１４４を通
って、出口通路１６に加圧流体を供給する。また、加圧
流体は、通路８４を通っても出口通路１６に流入する。
同様に、加圧流体は、入口通路１４からチャンバ４８の
下部に流入し、更に通路８２を通ってチャンバ４２の上
部に流入し、ここから、弁部材１０２とハウジング１２
との間のギャップ１４６を通って、出口通路１６に加圧
流体を供給する。また、加圧流体は、通路８６を通って
も出口通路１６に流入する。弁部材１０２、１０４の下
方への移動により、弁座１１２、１２４がハウジング１
２と座合し、これによりポート８８、９０が閉鎖され
て、出口通路１６が抜き通路１８から遮断される。ソレ
ノイド弁３６、３８が付勢されるとリザーバ２４、２６
内の流体圧力が最初に低下するが、リザーバ２４、２６
が依然として入口通路１４に連通しておりかつ出口通路
１６が抜き通路１８から遮断されているため、流体圧力
は、入口通路１４での圧力を供給するまで回復する。
システム１０を示す。両ソレノイド弁３６、３８は実質
的に同時に付勢され、ソレノイド弁３６の付勢により、
通路７０従ってリザーバ２６が通路７２に連結される。
かくして、加圧流体がチャンバ７４内に流入して、弁部
材１０２を図４に示すように下方に移動させる。ピスト
ン１０６の直径の方がピストン１１０の直径より大きい
ため、弁部材１０２を下方に移動させる荷重が生じる。
同様に、ソレノイド弁３８の付勢により、通路６６従っ
てリザーバ２４が通路７６に連結される。かくして、加
圧流体がチャンバ７８内に流入して、弁部材１０４を図
４に示すように下方に移動させる。ピストン１１８の直
径の方がピストン１２２の直径より大きいため、弁部材
１０４を下方に移動させる荷重が生じる。弁部材１０
２、１０４が下方に移動すると、ピストン１１０の環状
フランジ１４０が、弁座１３０をハウジングから離脱さ
せ、かつピストン１２２の環状フランジ１４２が弁座１
３４をハウジングから離脱させる。加圧流体は、入口通
路１４からチャンバ４２の下部に流入し、更に通路８０
を通ってチャンバ４８の上部に流入し、ここから、弁部
材１０４とハウジング１２との間のギャップ１４４を通
って、出口通路１６に加圧流体を供給する。また、加圧
流体は、通路８４を通っても出口通路１６に流入する。
同様に、加圧流体は、入口通路１４からチャンバ４８の
下部に流入し、更に通路８２を通ってチャンバ４２の上
部に流入し、ここから、弁部材１０２とハウジング１２
との間のギャップ１４６を通って、出口通路１６に加圧
流体を供給する。また、加圧流体は、通路８６を通って
も出口通路１６に流入する。弁部材１０２、１０４の下
方への移動により、弁座１１２、１２４がハウジング１
２と座合し、これによりポート８８、９０が閉鎖され
て、出口通路１６が抜き通路１８から遮断される。ソレ
ノイド弁３６、３８が付勢されるとリザーバ２４、２６
内の流体圧力が最初に低下するが、リザーバ２４、２６
が依然として入口通路１４に連通しておりかつ出口通路
１６が抜き通路１８から遮断されているため、流体圧力
は、入口通路１４での圧力を供給するまで回復する。
【００１９】図５および図６は、異常位置にある制御弁
システム１０を示す。図５および図６において、弁部材
１０４はその上方位置に配置され、一方、弁部材１０２
はその下方位置に配置されている。両ソレノイド弁３
６、３８はこれらの除勢位置にある。弁部材１０４は、
図１と同様にその上方位置にあり、入口通路１４からの
加圧流体は、絞り５０を通って通路４６に流入し、更に
環状通路１２６および絞り６２を通って通路５８および
チャンバ６０内に流入して、弁部材１０４を図６に示す
ように上方に押圧し、これによりピストン１２０をハウ
ジング１２に座合させる。また、加圧流体は、通路６８
を通ってリザーバ２６に流入し、更に、該リザーバ２６
から通路７０を通ってソレノイド弁３６の入口に流入す
る。弁座１２４が上方に押圧されてポート９０が開放し
ているため、出口通路１６は抜き通路１８に連通してい
る。弁部材１０２はその下方位置にあり、出口通路１６
（該出口通路１６は、弁部材１０４の位置により、抜き
通路１８に連通している）への種々の通路を開放してい
る。チャンバ４２の上部は、ギャップ１４６を通って抜
き通路１８に連通している。入口通路１４からの加圧流
体は、通路４０、チャンバ４２の上部、ギャップ１４
６、出口通路１６およびポート９０を通って抜き通路１
８に流入する。また、入口通路１４からの加圧流体は、
チャンバ４２の下部、通路８０、通路８４、出口通路１
６、ポート９０を通って抜き通路１８内に流入する。通
路５２従ってチャンバ５４内の加圧流体も、絞り５６を
通って抜き通路１８に流入し、これにより弁部材１０２
に作用している押圧力が除去される。また、リザーバ２
４内の流体圧力は、絞り５６を通って抜き通路１８に流
入し、このため、通路６６を通ってソレノイド弁３８に
供給されている流体圧力が除去される。チャンバ５４お
よびリザーバ２４内の加圧流体が抜き通路１８に流入す
るのに要する時間は、チャンバ５４、リザーバ２４およ
び絞り５６のサイズによって定まる。ピストン１０６の
上方のチャンバ７４からの加圧空気の解放および弁座１
３０の底部に作用する入口通路１４内の加圧空気の存在
により、弁ばね１３２が弁部材１０２を中間位置（この
中間位置では、弁座１３０がハウジング１２に座合する
が、ピストン１０８はハウジング１２に座合しない）に
移動させる。この状態が図７および図８に示されてい
る。
システム１０を示す。図５および図６において、弁部材
１０４はその上方位置に配置され、一方、弁部材１０２
はその下方位置に配置されている。両ソレノイド弁３
６、３８はこれらの除勢位置にある。弁部材１０４は、
図１と同様にその上方位置にあり、入口通路１４からの
加圧流体は、絞り５０を通って通路４６に流入し、更に
環状通路１２６および絞り６２を通って通路５８および
チャンバ６０内に流入して、弁部材１０４を図６に示す
ように上方に押圧し、これによりピストン１２０をハウ
ジング１２に座合させる。また、加圧流体は、通路６８
を通ってリザーバ２６に流入し、更に、該リザーバ２６
から通路７０を通ってソレノイド弁３６の入口に流入す
る。弁座１２４が上方に押圧されてポート９０が開放し
ているため、出口通路１６は抜き通路１８に連通してい
る。弁部材１０２はその下方位置にあり、出口通路１６
（該出口通路１６は、弁部材１０４の位置により、抜き
通路１８に連通している）への種々の通路を開放してい
る。チャンバ４２の上部は、ギャップ１４６を通って抜
き通路１８に連通している。入口通路１４からの加圧流
体は、通路４０、チャンバ４２の上部、ギャップ１４
６、出口通路１６およびポート９０を通って抜き通路１
８に流入する。また、入口通路１４からの加圧流体は、
チャンバ４２の下部、通路８０、通路８４、出口通路１
６、ポート９０を通って抜き通路１８内に流入する。通
路５２従ってチャンバ５４内の加圧流体も、絞り５６を
通って抜き通路１８に流入し、これにより弁部材１０２
に作用している押圧力が除去される。また、リザーバ２
４内の流体圧力は、絞り５６を通って抜き通路１８に流
入し、このため、通路６６を通ってソレノイド弁３８に
供給されている流体圧力が除去される。チャンバ５４お
よびリザーバ２４内の加圧流体が抜き通路１８に流入す
るのに要する時間は、チャンバ５４、リザーバ２４およ
び絞り５６のサイズによって定まる。ピストン１０６の
上方のチャンバ７４からの加圧空気の解放および弁座１
３０の底部に作用する入口通路１４内の加圧空気の存在
により、弁ばね１３２が弁部材１０２を中間位置（この
中間位置では、弁座１３０がハウジング１２に座合する
が、ピストン１０８はハウジング１２に座合しない）に
移動させる。この状態が図７および図８に示されてい
る。
【００２０】図７および図８は、ロックアウト位置にあ
る制御弁システム１０を示す。弁ばね１３２の押圧力に
より弁座１３０が弁部材１０２を上方に押圧するとき、
弁座１３０が環状フランジ１４０を押して、弁部材１０
２を移動させる。弁座１３２とピストン１１０との間の
空動のため、弁座１３２がハウジング１２と係合すると
き、ピストン１０８は未だハウジング１２と係合しな
い。ピストン１０８とハウジング１２とを座合させて、
通路４０と通路５２とを連結し、チャンバ５４およびリ
ザーバ２４に加圧流体を供給するには、弁部材１０２を
更に移動させることが必要である。ピストン１０８がハ
ウジング１２に座合しないと、チャンバ４２の上部、従
って通路４０および通路５２は、ギャップ１４６、出口
通路１６およびポート８８、９０を介して抜き通路１８
に連通した状態にある。かくして、リザーバ２４は、通
路６６およびソレノイド弁３８への入口に沿って抜き通
路１８に連通している。チャンバ５４も抜き通路１８に
連通しており、このため、弁部材１０２を上方に押圧し
てピストン１０３をハウジング１２に座合させようとす
るいかなる押圧荷重も除去される。ピストン１１０に設
けられかつ入口通路１４に開口している環状肩部１５０
は、弁部材１０２を下方に押圧し、これにより、環状フ
ランジ１４０が弁座１３０を押圧して、弁部材１０２を
その中間位置に維持しかつ制御弁システム１０をそのロ
ックアウト位置に維持する。同様な肩部１５２がピスト
ン１２２にも設けられている。
る制御弁システム１０を示す。弁ばね１３２の押圧力に
より弁座１３０が弁部材１０２を上方に押圧するとき、
弁座１３０が環状フランジ１４０を押して、弁部材１０
２を移動させる。弁座１３２とピストン１１０との間の
空動のため、弁座１３２がハウジング１２と係合すると
き、ピストン１０８は未だハウジング１２と係合しな
い。ピストン１０８とハウジング１２とを座合させて、
通路４０と通路５２とを連結し、チャンバ５４およびリ
ザーバ２４に加圧流体を供給するには、弁部材１０２を
更に移動させることが必要である。ピストン１０８がハ
ウジング１２に座合しないと、チャンバ４２の上部、従
って通路４０および通路５２は、ギャップ１４６、出口
通路１６およびポート８８、９０を介して抜き通路１８
に連通した状態にある。かくして、リザーバ２４は、通
路６６およびソレノイド弁３８への入口に沿って抜き通
路１８に連通している。チャンバ５４も抜き通路１８に
連通しており、このため、弁部材１０２を上方に押圧し
てピストン１０３をハウジング１２に座合させようとす
るいかなる押圧荷重も除去される。ピストン１１０に設
けられかつ入口通路１４に開口している環状肩部１５０
は、弁部材１０２を下方に押圧し、これにより、環状フ
ランジ１４０が弁座１３０を押圧して、弁部材１０２を
その中間位置に維持しかつ制御弁システム１０をそのロ
ックアウト位置に維持する。同様な肩部１５２がピスト
ン１２２にも設けられている。
【００２１】制御弁システム１０を、そのロックアウト
位置から図１に示す除勢位置に移動させたい場合には、
加圧流体をリセット通路９６に供給する。リセット通路
９６に供給された加圧流体は、逆止弁９８を開いて、リ
ザーバ２４およびチャンバ５４を充満する。絞り５６
は、リセット操作時に、流体が抜き通路１８に流入する
量を制限する。リザーバ２４およびチャンバ５４がひと
たび加圧流体で充満されると、チャンバ５４内の流体
は、ピストン１１０に作用して弁部材１０２を上方に移
動させ、ピストン１０８をハウジング１２に座合させ
る。これにより、流体通路４０が再び通路５２と連通
し、制御弁システム１０が、再び図１および図２に示す
除勢位置に配置される。
位置から図１に示す除勢位置に移動させたい場合には、
加圧流体をリセット通路９６に供給する。リセット通路
９６に供給された加圧流体は、逆止弁９８を開いて、リ
ザーバ２４およびチャンバ５４を充満する。絞り５６
は、リセット操作時に、流体が抜き通路１８に流入する
量を制限する。リザーバ２４およびチャンバ５４がひと
たび加圧流体で充満されると、チャンバ５４内の流体
は、ピストン１１０に作用して弁部材１０２を上方に移
動させ、ピストン１０８をハウジング１２に座合させ
る。これにより、流体通路４０が再び通路５２と連通
し、制御弁システム１０が、再び図１および図２に示す
除勢位置に配置される。
【００２２】図５〜図８に関する上記説明は、弁部材１
０２がその中間・ロックアウト位置にあり、かつ弁部材
１０４がその除勢位置にあるところの説明であるが、弁
部材１０２がその除勢位置にあり、かつ弁部材１０４が
その中間・ロックアウト状態にある場合にも、制御弁シ
ステム１０の同様なロックアウト位置が生じることを理
解すべきである。リセット通路９６に加圧流体を供給す
るリセット操作により、加圧流体が逆止弁１００を開い
てリザーバ２６およびチャンバ６０を充満する。チャン
バ６０内の加圧流体が弁部材１０４を持ち上げ、ピスト
ン１２０をハウジング１２に座合させ、通路４６と通路
５８とを再連結する。
０２がその中間・ロックアウト位置にあり、かつ弁部材
１０４がその除勢位置にあるところの説明であるが、弁
部材１０２がその除勢位置にあり、かつ弁部材１０４が
その中間・ロックアウト状態にある場合にも、制御弁シ
ステム１０の同様なロックアウト位置が生じることを理
解すべきである。リセット通路９６に加圧流体を供給す
るリセット操作により、加圧流体が逆止弁１００を開い
てリザーバ２６およびチャンバ６０を充満する。チャン
バ６０内の加圧流体が弁部材１０４を持ち上げ、ピスト
ン１２０をハウジング１２に座合させ、通路４６と通路
５８とを再連結する。
【００２３】かくして、制御弁システム１０は、ロック
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する、完全な流
体作動形弁システムであり、この場合、オペレータは、
制御弁システム１０が再び機能する前にリセット操作を
する必要がある。
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する、完全な流
体作動形弁システムであり、この場合、オペレータは、
制御弁システム１０が再び機能する前にリセット操作を
する必要がある。
【００２４】図９は、本発明の他の実施形態を示す。図
１〜図８に示す実施形態のピストン１０８では、通路４
０と通路５２とを流体的に連結するための環状通路１１
４がピストン１０８の上面に配置されている。これに対
し図９は、ピストン１０８′の外面に設けられた通路１
１４′を介して通路４０と通路５２′とを流体的に連結
するピストン１０８′を示す。同様に、弁部材１０４の
ピストン１２０もピストン１０８′に置換することがで
きる。流体通路４０′および通路５２′は、通路４０お
よび通路５２が水平壁を介してチャンバ４２に入るのに
対し、通路４０′および通路５２′は垂直壁を介してチ
ャンバ４２に入る点を除き、流体通路４０および流体通
路５２と同じである。図９に示す実施形態の作動は、図
１〜図８に関連して説明した実施形態の作動と同じであ
る。
１〜図８に示す実施形態のピストン１０８では、通路４
０と通路５２とを流体的に連結するための環状通路１１
４がピストン１０８の上面に配置されている。これに対
し図９は、ピストン１０８′の外面に設けられた通路１
１４′を介して通路４０と通路５２′とを流体的に連結
するピストン１０８′を示す。同様に、弁部材１０４の
ピストン１２０もピストン１０８′に置換することがで
きる。流体通路４０′および通路５２′は、通路４０お
よび通路５２が水平壁を介してチャンバ４２に入るのに
対し、通路４０′および通路５２′は垂直壁を介してチ
ャンバ４２に入る点を除き、流体通路４０および流体通
路５２と同じである。図９に示す実施形態の作動は、図
１〜図８に関連して説明した実施形態の作動と同じであ
る。
【００２５】図１０〜図１２は、本発明の他の実施形態
による制御弁組立体２１０を示す。図１から図９に示し
た実施形態は、図１〜図９に示した実施形態は、ロック
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する制御弁シス
テム１０であり、この場合、オペレータは、制御弁シス
テム１０が再び機能する前にリセット操作をする必要が
ある。これに対し、図１０〜図１２に示す実施形態は、
ロックアウト状態に切り換えることにより、異常状態を
検出しかつこの異常状態に応答できる能力を有する制御
弁システム２１０を示す。ロックアウト状態は、異常状
態が消滅するまで維持され、この後制御弁組立体２１０
は自動的にリセットされる。
による制御弁組立体２１０を示す。図１から図９に示し
た実施形態は、図１〜図９に示した実施形態は、ロック
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する制御弁シス
テム１０であり、この場合、オペレータは、制御弁シス
テム１０が再び機能する前にリセット操作をする必要が
ある。これに対し、図１０〜図１２に示す実施形態は、
ロックアウト状態に切り換えることにより、異常状態を
検出しかつこの異常状態に応答できる能力を有する制御
弁システム２１０を示す。ロックアウト状態は、異常状
態が消滅するまで維持され、この後制御弁組立体２１０
は自動的にリセットされる。
【００２６】ここで図１０を参照すると、制御弁組立体
２１０はハウジング２１２を有し、該ハウジング２１２
は、流体入口通路２１４と、流体出口通路２１６と、流
体抜き通路２１８と、第１弁ボア２２０と、第２弁ボア
２２２と、第１流体リザーバ２２４と、第２流体リザー
バ２２６とを備えている。入口通路２１４内には、第１
弁部材２２８と同軸関係をなして第３弁部材２３２が配
置されている。また、入口通路２１４内には、第２弁部
材２３０と同軸関係をなして第４弁部材２３４が配置さ
れている。ハウジング２１２には１対のソレノイド弁２
３６、２３８が取り付けられている。
２１０はハウジング２１２を有し、該ハウジング２１２
は、流体入口通路２１４と、流体出口通路２１６と、流
体抜き通路２１８と、第１弁ボア２２０と、第２弁ボア
２２２と、第１流体リザーバ２２４と、第２流体リザー
バ２２６とを備えている。入口通路２１４内には、第１
弁部材２２８と同軸関係をなして第３弁部材２３２が配
置されている。また、入口通路２１４内には、第２弁部
材２３０と同軸関係をなして第４弁部材２３４が配置さ
れている。ハウジング２１２には１対のソレノイド弁２
３６、２３８が取り付けられている。
【００２７】複数の流体通路が、弁ボア２２０、２２２
と、入口通路２１４、出口通路２１６、抜き通路２１
８、リザーバ２２４、２２６、および弁２３６、２３８
とを相互連結している。流体通路２４０が、入口通路２
１４と、ボア２２０により形成された中間チャンバ２４
２との間に延びている。通路２４０内には、該通路２４
０を通る流体の流量を制限するための絞り２４４が配置
されている。流体通路２４６が、入口通路２１４と、ボ
ア２２２により形成された中間チャンバ２４８との間に
延びている。通路２４６内には、該通路２４６を通る流
体の流量を制限するための絞り２５０が配置されてい
る。
と、入口通路２１４、出口通路２１６、抜き通路２１
８、リザーバ２２４、２２６、および弁２３６、２３８
とを相互連結している。流体通路２４０が、入口通路２
１４と、ボア２２０により形成された中間チャンバ２４
２との間に延びている。通路２４０内には、該通路２４
０を通る流体の流量を制限するための絞り２４４が配置
されている。流体通路２４６が、入口通路２１４と、ボ
ア２２２により形成された中間チャンバ２４８との間に
延びている。通路２４６内には、該通路２４６を通る流
体の流量を制限するための絞り２５０が配置されてい
る。
【００２８】チャンバ２４２とリザーバ２２４との間に
は、流体通路２５２が延びている。通路２５２内には、
該通路２５２を通る流体の流量を制限するための絞り２
５６が配置されている。チャンバ２４８とリザーバ２２
６との間には、流体通路２５８が延びている。通路２５
８内には、該通路２５８を通る流体の流量を制限するた
めの絞り２６２が配置されている。リザーバ２２４とソ
レノイド弁２３８への入口との間には流体通路２６６が
延びている。リザーバ２２６とソレノイド弁２３６への
入口との間には、流体通路２７０が延びている。ソレノ
イド弁２３６の出口と、ボア２２０により形成された上
方チャンバ２７４との間には通路２７２が延びている。
ソレノイド弁２３８の出口と、ボア２２２により形成さ
れた上方チャンバ２７８との間には通路２７６が延びて
いる。
は、流体通路２５２が延びている。通路２５２内には、
該通路２５２を通る流体の流量を制限するための絞り２
５６が配置されている。チャンバ２４８とリザーバ２２
６との間には、流体通路２５８が延びている。通路２５
８内には、該通路２５８を通る流体の流量を制限するた
めの絞り２６２が配置されている。リザーバ２２４とソ
レノイド弁２３８への入口との間には流体通路２６６が
延びている。リザーバ２２６とソレノイド弁２３６への
入口との間には、流体通路２７０が延びている。ソレノ
イド弁２３６の出口と、ボア２２０により形成された上
方チャンバ２７４との間には通路２７２が延びている。
ソレノイド弁２３８の出口と、ボア２２２により形成さ
れた上方チャンバ２７８との間には通路２７６が延びて
いる。
【００２９】チャンバ２４２の下部とチャンバ２４８の
上部との間には交差通路２８０が延びている。チャンバ
２４８の下部とチャンバ２４２の上部との間には交差通
路２８２が延びている。通路２８０と出口通路２１６と
の間には流体通路２８４が延びている。通路２８２と出
口通路２１６との間には流体通路２８６が延びている。
出口通路２１６は、２つのポート２８８、２９０を介し
て抜き通路２１８と連通している。
上部との間には交差通路２８０が延びている。チャンバ
２４８の下部とチャンバ２４２の上部との間には交差通
路２８２が延びている。通路２８０と出口通路２１６と
の間には流体通路２８４が延びている。通路２８２と出
口通路２１６との間には流体通路２８６が延びている。
出口通路２１６は、２つのポート２８８、２９０を介し
て抜き通路２１８と連通している。
【００３０】ボア２２０内には弁部材２２８が配置され
かつボア２２２内には弁部材２３０が配置されている。
弁部材２２８は、上方ピストン３０６と、中間ピストン
３０８とからなり、これらの両ピストンは単一ピストン
として一体に移動する。上方ピストン３０６はチャンバ
２７４内に配置され、かつ出口通路２１６と抜き通路２
１８との間に配置されたポート２８８を開閉する弁座３
１２を有している。中間ピストン３０８はチャンバ２４
２内に配置されかつ環状通路３１４を有し、該環状通路
３１４は、中間ピストン３０８が図１０に示すように配
置されると、通路２４０を通路２５２に流体的に連結す
る。弁部材２３０は、上方ピストン３１８と、中間ピス
トン３２０とからなり、これらの両ピストンは単一ピス
トンとして一体に移動する。上方ピストン３１８はチャ
ンバ２７８内に配置され、かつ出口通路２１６と抜き通
路２１８との間に配置されたポート２９０を開閉する弁
座３２４を有している。中間ピストン３２０はチャンバ
２４８内に配置されかつ環状通路３２６を有し、該環状
通路３２６は、中間ピストン３２０が図１０に示すよう
に配置されると、通路２４６を通路２５８に流体的に連
結する。
かつボア２２２内には弁部材２３０が配置されている。
弁部材２２８は、上方ピストン３０６と、中間ピストン
３０８とからなり、これらの両ピストンは単一ピストン
として一体に移動する。上方ピストン３０６はチャンバ
２７４内に配置され、かつ出口通路２１６と抜き通路２
１８との間に配置されたポート２８８を開閉する弁座３
１２を有している。中間ピストン３０８はチャンバ２４
２内に配置されかつ環状通路３１４を有し、該環状通路
３１４は、中間ピストン３０８が図１０に示すように配
置されると、通路２４０を通路２５２に流体的に連結す
る。弁部材２３０は、上方ピストン３１８と、中間ピス
トン３２０とからなり、これらの両ピストンは単一ピス
トンとして一体に移動する。上方ピストン３１８はチャ
ンバ２７８内に配置され、かつ出口通路２１６と抜き通
路２１８との間に配置されたポート２９０を開閉する弁
座３２４を有している。中間ピストン３２０はチャンバ
２４８内に配置されかつ環状通路３２６を有し、該環状
通路３２６は、中間ピストン３２０が図１０に示すよう
に配置されると、通路２４６を通路２５８に流体的に連
結する。
【００３１】弁部材２２８の下部は、ブシュ２９２内に
延びておりかつ該ブシュ２９２により案内される。ブシ
ュ２９２はハウジング２９４内に取り付けられ、該ハウ
ジング２９４はボア２２０内に延びておりかつハウジン
グ２１２に固定されている。ブシュ２９２は弁部材２２
８の長手方向移動を案内する。弁部材２３０の下部は、
ブシュ２９６内に延びておりかつ該ブシュ２９６により
案内される。ブシュ２９６はハウジング２９８内に取り
付けられ、該ハウジング２９８はボア２２２内に延びて
おりかつハウジング２１２に固定されている。ブシュ２
９６は弁部材２３０の長手方向移動を案内する。
延びておりかつ該ブシュ２９２により案内される。ブシ
ュ２９２はハウジング２９４内に取り付けられ、該ハウ
ジング２９４はボア２２０内に延びておりかつハウジン
グ２１２に固定されている。ブシュ２９２は弁部材２２
８の長手方向移動を案内する。弁部材２３０の下部は、
ブシュ２９６内に延びておりかつ該ブシュ２９６により
案内される。ブシュ２９６はハウジング２９８内に取り
付けられ、該ハウジング２９８はボア２２２内に延びて
おりかつハウジング２１２に固定されている。ブシュ２
９６は弁部材２３０の長手方向移動を案内する。
【００３２】弁部材２３２は弁部材２２８の回りに配置
されかつ弁座３３０および弁ばね３３２からなる。弁ば
ね３３２は弁座３３０をハウジング２１２に対して押圧
し、入口通路２１４とチャンバ２４２との間の流体の流
れを防止する。弁部材２３４は弁部材２３０の回りに配
置されかつ弁座３３４および弁ばね３３６からなる。弁
ばね３３６は弁座３３４をハウジング２１２に対して押
圧し、入口通路２１４とチャンバ２４８との間の流体の
流れを防止する。
されかつ弁座３３０および弁ばね３３２からなる。弁ば
ね３３２は弁座３３０をハウジング２１２に対して押圧
し、入口通路２１４とチャンバ２４２との間の流体の流
れを防止する。弁部材２３４は弁部材２３０の回りに配
置されかつ弁座３３４および弁ばね３３６からなる。弁
ばね３３６は弁座３３４をハウジング２１２に対して押
圧し、入口通路２１４とチャンバ２４８との間の流体の
流れを防止する。
【００３３】図１０は、制御弁組立体２１０が除勢位置
にあるところを示す。入口通路２１４からの加圧流体
は、弁座３３０、３３４をハウジング２１２に押圧し、
入口通路２１４と両チャンバ２４２、２４８との間の連
通を遮断する。加圧流体は、絞り２４４を通って通路２
４０に、更に環状通路３１４、通路２５２および絞り２
５６を通ってリザーバ２２４内に流入し、該リザーバ２
２４から通路２６６を通ってソレノイド弁２３８の入口
に供給される。同様に、入口通路２１４からの加圧流体
は、絞り２５０を通って通路２４６に、更に環状通路３
２６、通路２５８および絞り２６２を通ってリザーバ２
２６内に流入し、該リザーバ２２６から通路２７０を通
ってソレノイド弁２３６の入口に供給される。出口通路
２１６は、弁座３１２、３２４が上方に押圧されて、ポ
ート２８８、２９０が開かれているため、抜き通路２１
８と連通している。中間チャンバ２４２、２４８も、そ
れぞれ、交差通路２８０、２８２および通路２８４、２
８６を介して抜き通路２１８に連通している。弁ばね３
３２、３３６が、弁部材２２８に取り付けられたスリー
ブ２５４および弁部材２３０に取り付けられたスリーブ
２６０に作用する押圧力によって、それぞれ弁部材２２
８、２３０が上方に押圧され、制御弁組立体２１０が除
勢位置に維持される。環状通路３１４を介しての通路２
４０と通路２５２との連通および環状通路３２６を介し
ての通路２４６と通路２５８との連通により、リザーバ
２２４、２２６内に流体圧力が維持される。
にあるところを示す。入口通路２１４からの加圧流体
は、弁座３３０、３３４をハウジング２１２に押圧し、
入口通路２１４と両チャンバ２４２、２４８との間の連
通を遮断する。加圧流体は、絞り２４４を通って通路２
４０に、更に環状通路３１４、通路２５２および絞り２
５６を通ってリザーバ２２４内に流入し、該リザーバ２
２４から通路２６６を通ってソレノイド弁２３８の入口
に供給される。同様に、入口通路２１４からの加圧流体
は、絞り２５０を通って通路２４６に、更に環状通路３
２６、通路２５８および絞り２６２を通ってリザーバ２
２６内に流入し、該リザーバ２２６から通路２７０を通
ってソレノイド弁２３６の入口に供給される。出口通路
２１６は、弁座３１２、３２４が上方に押圧されて、ポ
ート２８８、２９０が開かれているため、抜き通路２１
８と連通している。中間チャンバ２４２、２４８も、そ
れぞれ、交差通路２８０、２８２および通路２８４、２
８６を介して抜き通路２１８に連通している。弁ばね３
３２、３３６が、弁部材２２８に取り付けられたスリー
ブ２５４および弁部材２３０に取り付けられたスリーブ
２６０に作用する押圧力によって、それぞれ弁部材２２
８、２３０が上方に押圧され、制御弁組立体２１０が除
勢位置に維持される。環状通路３１４を介しての通路２
４０と通路２５２との連通および環状通路３２６を介し
ての通路２４６と通路２５８との連通により、リザーバ
２２４、２２６内に流体圧力が維持される。
【００３４】図１１は、付勢位置にある制御弁システム
２１０を示す。両ソレノイド弁２３６、２３８は実質的
に同時に付勢され、ソレノイド弁２３６の付勢により、
通路２７０従ってリザーバ２２６が通路２７２に連結さ
れる。かくして、加圧流体がチャンバ２７４内に流入し
て、弁部材２２８を図１１に示すように下方に移動させ
る。ピストン３０６の直径は、チャンバ２７４内の流体
圧力がピストン３０６に作用して弁部材２２８を下方に
移動させるのに充分な大きさを有する。同様に、ソレノ
イド弁２３８の付勢により、通路２６６従ってリザーバ
２２４が通路２７６に連結される。かくして、加圧流体
がチャンバ２７８内に流入して、弁部材２３０を図１１
に示すように下方に移動させる。ピストン３１８の直径
は、チャンバ２７８内の流体圧力がピストン３１８に作
用して弁部材２３０を下方に移動させるのに充分な大き
さを有する。弁部材２２８、２３０が下方に移動する
と、スリーブ２５４が弁座３３０をハウジングから離脱
させ、かつスリーブ２６０が弁座３３４をハウジングか
ら離脱させる。加圧流体は、入口通路２１４からチャン
バ２４２の下部に流入し、更に通路２８０を通ってチャ
ンバ２４８の上部に流入し、ここから、ピストン３２０
を通って延びる複数の孔３４４を通って流れ、出口通路
２１６に加圧流体を供給する。また、加圧流体は、通路
２８４を通っても出口通路２１６に流入する。同様に、
加圧流体は、入口通路２１４からチャンバ２４８の下部
に流入し、更に通路２８２を通ってチャンバ２４２の上
部に流入し、ここから、ピストン３０８を通って延びる
複数の孔３４６を通って流れ、出口通路２１６に加圧流
体を供給する。また、加圧流体は、通路２８６を通って
も出口通路２１６に流入する。弁部材２２８、２３０の
下方への移動により、弁座３１２、３２４がハウジング
１２と座合し、これによりポート２８８、２９０が閉鎖
されて、出口通路２１６が抜き通路２１８から遮断され
る。ソレノイド弁２３６、２３８が付勢されるとリザー
バ２２４、２２６内の流体圧力が最初に低下するが、リ
ザーバ２２４、２２６が依然として入口通路２１４に連
通しておりかつ出口通路２１６が抜き通路２１８から遮
断されているため、流体圧力は、圧力を供給するまで回
復する。
２１０を示す。両ソレノイド弁２３６、２３８は実質的
に同時に付勢され、ソレノイド弁２３６の付勢により、
通路２７０従ってリザーバ２２６が通路２７２に連結さ
れる。かくして、加圧流体がチャンバ２７４内に流入し
て、弁部材２２８を図１１に示すように下方に移動させ
る。ピストン３０６の直径は、チャンバ２７４内の流体
圧力がピストン３０６に作用して弁部材２２８を下方に
移動させるのに充分な大きさを有する。同様に、ソレノ
イド弁２３８の付勢により、通路２６６従ってリザーバ
２２４が通路２７６に連結される。かくして、加圧流体
がチャンバ２７８内に流入して、弁部材２３０を図１１
に示すように下方に移動させる。ピストン３１８の直径
は、チャンバ２７８内の流体圧力がピストン３１８に作
用して弁部材２３０を下方に移動させるのに充分な大き
さを有する。弁部材２２８、２３０が下方に移動する
と、スリーブ２５４が弁座３３０をハウジングから離脱
させ、かつスリーブ２６０が弁座３３４をハウジングか
ら離脱させる。加圧流体は、入口通路２１４からチャン
バ２４２の下部に流入し、更に通路２８０を通ってチャ
ンバ２４８の上部に流入し、ここから、ピストン３２０
を通って延びる複数の孔３４４を通って流れ、出口通路
２１６に加圧流体を供給する。また、加圧流体は、通路
２８４を通っても出口通路２１６に流入する。同様に、
加圧流体は、入口通路２１４からチャンバ２４８の下部
に流入し、更に通路２８２を通ってチャンバ２４２の上
部に流入し、ここから、ピストン３０８を通って延びる
複数の孔３４６を通って流れ、出口通路２１６に加圧流
体を供給する。また、加圧流体は、通路２８６を通って
も出口通路２１６に流入する。弁部材２２８、２３０の
下方への移動により、弁座３１２、３２４がハウジング
１２と座合し、これによりポート２８８、２９０が閉鎖
されて、出口通路２１６が抜き通路２１８から遮断され
る。ソレノイド弁２３６、２３８が付勢されるとリザー
バ２２４、２２６内の流体圧力が最初に低下するが、リ
ザーバ２２４、２２６が依然として入口通路２１４に連
通しておりかつ出口通路２１６が抜き通路２１８から遮
断されているため、流体圧力は、圧力を供給するまで回
復する。
【００３５】図１２は、異常位置にある制御弁システム
２１０を示す。図１２において、弁部材２３０はその上
方位置に配置され、一方、弁部材２２８はその下方位置
に配置されている。弁部材２３０は、図１０と同様にそ
の上方位置にある。入口通路２１４からの加圧流体は、
絞り２５０を通って通路２４６に流入し、更に環状通路
３２６および絞り２６２を通ってリザーバ２２６に入
り、ここから通路２７０を通ってソレノイド弁２３６の
入口に流入する。弁座３２４が上方に押圧されてポート
２９０が開放しているため、出口通路２１６は抜き通路
２１８に連通している。弁部材２２８はその下方位置に
あり、出口通路２１６（該出口通路２１６は、弁部材２
３０の位置により、抜き通路２１８に連通している）へ
の種々の通路を開放している。チャンバ２４２の上部
は、孔３４６を通って抜き通路２１８に連通している。
入口通路２１４からの加圧流体は、通路２４０、チャン
バ２４２、孔３４６、出口通路２１６およびポート２９
０を通って抜き通路２１８に流入する。また、入口通路
２１４からの加圧流体は、チャンバ２４２の下部、通路
２８０、複数の孔３４４および通路２８４、出口通路２
１６、ポート２９０を通って抜き通路２１８内に流入す
る。リザーバ２２４内の流体圧力は、絞り２５６を通っ
て抜き通路２１８に流入し、このため、通路２６６を通
ってソレノイド弁２３８に供給されている加圧流体が除
去される。リザーバ２２４の加圧流体が抜き通路２１８
に流入するのに要する時間は、リザーバ２２４および絞
り２５６のサイズによって定まる。
２１０を示す。図１２において、弁部材２３０はその上
方位置に配置され、一方、弁部材２２８はその下方位置
に配置されている。弁部材２３０は、図１０と同様にそ
の上方位置にある。入口通路２１４からの加圧流体は、
絞り２５０を通って通路２４６に流入し、更に環状通路
３２６および絞り２６２を通ってリザーバ２２６に入
り、ここから通路２７０を通ってソレノイド弁２３６の
入口に流入する。弁座３２４が上方に押圧されてポート
２９０が開放しているため、出口通路２１６は抜き通路
２１８に連通している。弁部材２２８はその下方位置に
あり、出口通路２１６（該出口通路２１６は、弁部材２
３０の位置により、抜き通路２１８に連通している）へ
の種々の通路を開放している。チャンバ２４２の上部
は、孔３４６を通って抜き通路２１８に連通している。
入口通路２１４からの加圧流体は、通路２４０、チャン
バ２４２、孔３４６、出口通路２１６およびポート２９
０を通って抜き通路２１８に流入する。また、入口通路
２１４からの加圧流体は、チャンバ２４２の下部、通路
２８０、複数の孔３４４および通路２８４、出口通路２
１６、ポート２９０を通って抜き通路２１８内に流入す
る。リザーバ２２４内の流体圧力は、絞り２５６を通っ
て抜き通路２１８に流入し、このため、通路２６６を通
ってソレノイド弁２３８に供給されている加圧流体が除
去される。リザーバ２２４の加圧流体が抜き通路２１８
に流入するのに要する時間は、リザーバ２２４および絞
り２５６のサイズによって定まる。
【００３６】制御弁組立体２１０は、弁ばね３３２が弁
部材２２８を図１０に示すその上方位置に戻すことがで
きない限り、この除勢位置すなわちロック位置に維持さ
れる。弁ばね３３２が弁部材２２８をその上方位置に押
圧できないときは、入口通路２１４からの加圧流体が絞
り２５６を通って再びリザーバ２２４を加圧し、これに
より制御弁組立体２１０がリセットされる。制御弁組立
体２１０のリセットに要する時間は、リザーバ２２４お
よび絞り２５６のサイズにより定まる。
部材２２８を図１０に示すその上方位置に戻すことがで
きない限り、この除勢位置すなわちロック位置に維持さ
れる。弁ばね３３２が弁部材２２８をその上方位置に押
圧できないときは、入口通路２１４からの加圧流体が絞
り２５６を通って再びリザーバ２２４を加圧し、これに
より制御弁組立体２１０がリセットされる。制御弁組立
体２１０のリセットに要する時間は、リザーバ２２４お
よび絞り２５６のサイズにより定まる。
【００３７】図１２に関する上記説明は、弁部材２２８
がその付勢位置にありかつ弁部材２３０が除勢位置にあ
る場合の説明であるが、弁部材２２８がその除勢状態に
配置されかつ弁部材２３０がその付勢位置に配置される
場合にも、制御弁組立体２１０の同様なロックアウト位
置が生じることを理解すべきである。
がその付勢位置にありかつ弁部材２３０が除勢位置にあ
る場合の説明であるが、弁部材２２８がその除勢状態に
配置されかつ弁部材２３０がその付勢位置に配置される
場合にも、制御弁組立体２１０の同様なロックアウト位
置が生じることを理解すべきである。
【００３８】かくして、制御弁組立体２１０は、ロック
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する、完全な流
体作動形弁システムである。制御弁組立体２１０は、ひ
とたび異常状態が矯正されると自動的にリセットし、制
御弁組立体２１０の全作動を行なうことが可能になる。
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する、完全な流
体作動形弁システムである。制御弁組立体２１０は、ひ
とたび異常状態が矯正されると自動的にリセットし、制
御弁組立体２１０の全作動を行なうことが可能になる。
【００３９】図１３〜図１５は、本発明の他の実施形態
による制御弁組立体４１０を示す。図１３〜図１５は、
図１０〜図１２に示した制御弁組立体２１０と同様の制
御弁組立体４１０を示す。また、制御弁組立体４１０
は、ロックアウト状態に切り換えることにより、異常状
態を検出しかつこの異常状態に応答できる能力を有す
る。ロックアウト状態は異常状態が解消するまで維持さ
れ、その後は、制御弁組立体４１０が自動的にリセット
する。
による制御弁組立体４１０を示す。図１３〜図１５は、
図１０〜図１２に示した制御弁組立体２１０と同様の制
御弁組立体４１０を示す。また、制御弁組立体４１０
は、ロックアウト状態に切り換えることにより、異常状
態を検出しかつこの異常状態に応答できる能力を有す
る。ロックアウト状態は異常状態が解消するまで維持さ
れ、その後は、制御弁組立体４１０が自動的にリセット
する。
【００４０】ここで、図１３を参照すると、制御弁組立
体４１０はハウジング４１２を有し、該ハウジング４１
２は、流体入口通路４１４と、流体出口通路４１６と、
流体抜き通路４１８と、第１弁ボア４２０と、第２弁ボ
ア４２２と、第１流体リザーバ４２４と、第２流体リザ
ーバ４２６とを備えている。第１弁ボア４２０内には第
１弁部材４２８が配置され、第２弁ボア４２２内には第
２弁部材４３０が配置されている。入口通路４１４内に
は、第１弁部材４２８と同軸関係をなして第３弁部材４
３２が配置され、また、入口通路４１４内には、第２弁
部材４３０と同軸関係をなして第４弁部材４３４が配置
されている。ハウジング４１２には１対のソレノイド弁
４３６、４３８が取り付けられている。
体４１０はハウジング４１２を有し、該ハウジング４１
２は、流体入口通路４１４と、流体出口通路４１６と、
流体抜き通路４１８と、第１弁ボア４２０と、第２弁ボ
ア４２２と、第１流体リザーバ４２４と、第２流体リザ
ーバ４２６とを備えている。第１弁ボア４２０内には第
１弁部材４２８が配置され、第２弁ボア４２２内には第
２弁部材４３０が配置されている。入口通路４１４内に
は、第１弁部材４２８と同軸関係をなして第３弁部材４
３２が配置され、また、入口通路４１４内には、第２弁
部材４３０と同軸関係をなして第４弁部材４３４が配置
されている。ハウジング４１２には１対のソレノイド弁
４３６、４３８が取り付けられている。
【００４１】複数の流体通路が、弁ボア４２０、４２２
と、入口通路４１４、出口通路４１６、抜き通路４１
８、リザーバ４２４、４２６、および弁４３６、４３８
とを相互連結している。流体通路４４０が、入口通路４
１４と、ボア４２０により形成された中間チャンバ４４
２との間に延びている。通路４４０内には、該通路４４
０を通る流体の流量を制限するための絞り４４４が配置
されている。流体通路４４６が、入口通路４１４と、ボ
ア４２２により形成された中間チャンバ４４８との間に
延びている。通路４４６内には、該通路４４６を通る流
体の流量を制限するための絞り４５０が配置されてい
る。
と、入口通路４１４、出口通路４１６、抜き通路４１
８、リザーバ４２４、４２６、および弁４３６、４３８
とを相互連結している。流体通路４４０が、入口通路４
１４と、ボア４２０により形成された中間チャンバ４４
２との間に延びている。通路４４０内には、該通路４４
０を通る流体の流量を制限するための絞り４４４が配置
されている。流体通路４４６が、入口通路４１４と、ボ
ア４２２により形成された中間チャンバ４４８との間に
延びている。通路４４６内には、該通路４４６を通る流
体の流量を制限するための絞り４５０が配置されてい
る。
【００４２】通路４４０とリザーバ４２４との間には、
流体通路４５２が延びている。通路４５２内には、該通
路４５２を通る流体の流量を制限するための絞り４５６
が配置されている。チャンバ４４８とリザーバ４２６と
の間には、流体通路４５８が延びている。通路４５８内
には、該通路４５８を通る流体の流量を制限するための
絞り４６２が配置されている。リザーバ４２４とソレノ
イド弁４３８への入口との間には流体通路４６６が延び
ている。リザーバ４２６とソレノイド弁４３６への入口
との間には、流体通路４７０が延びている。ソレノイド
弁４３６の出口と、ボア４２０により形成された上方チ
ャンバ４７４との間には通路４７２が延びている。ソレ
ノイド弁４３８の出口と、ボア４２２により形成された
上方チャンバ４７８との間には通路４７６が延びてい
る。
流体通路４５２が延びている。通路４５２内には、該通
路４５２を通る流体の流量を制限するための絞り４５６
が配置されている。チャンバ４４８とリザーバ４２６と
の間には、流体通路４５８が延びている。通路４５８内
には、該通路４５８を通る流体の流量を制限するための
絞り４６２が配置されている。リザーバ４２４とソレノ
イド弁４３８への入口との間には流体通路４６６が延び
ている。リザーバ４２６とソレノイド弁４３６への入口
との間には、流体通路４７０が延びている。ソレノイド
弁４３６の出口と、ボア４２０により形成された上方チ
ャンバ４７４との間には通路４７２が延びている。ソレ
ノイド弁４３８の出口と、ボア４２２により形成された
上方チャンバ４７８との間には通路４７６が延びてい
る。
【００４３】チャンバ４４２の下部とチャンバ４４８の
上部との間には交差通路４８０が延びている。チャンバ
４４８の下部とチャンバ４４２の上部との間には交差通
路４８２が延びている。通路４８０と出口通路４１６と
の間には流体通路４８４が延びている。通路４８２と出
口通路４１６との間には流体通路４８６が延びている。
出口通路４１６は、２つのポート４８８、４９０を介し
て抜き通路４１８と連通している。
上部との間には交差通路４８０が延びている。チャンバ
４４８の下部とチャンバ４４２の上部との間には交差通
路４８２が延びている。通路４８０と出口通路４１６と
の間には流体通路４８４が延びている。通路４８２と出
口通路４１６との間には流体通路４８６が延びている。
出口通路４１６は、２つのポート４８８、４９０を介し
て抜き通路４１８と連通している。
【００４４】ボア４２０内には弁部材４２８が配置され
かつボア４２２内には弁部材４３０が配置されている。
弁部材４２８は、上方ピストン５０６および中間ピスト
ン５０８からなり、これらの両ピストンは単一ピストン
として一体に移動する。上方ピストン５０６はチャンバ
４７４内に配置され、かつ出口通路４１６と抜き通路４
１８との間に配置されたポート４８８を開閉する弁座５
１２を有している。中間ピストン５０８はチャンバ４４
２内に配置されかつハウジング４１２に固定されたイン
サート４５４に形成された環状通路５１４を開閉するよ
うに作動する。環状通路５１４は、中間ピストン５０８
がインサート４５４から離脱すると、通路４４０、４５
２をチャンバ４４２に流体的に連結する。ピストン５０
８は、該ピストン５０８が図１３に示すようにインサー
ト４５４に座合すると、チャンバ４４２から通路４４
０、４５２をシールする。弁部材４３０は、上方ピスト
ン５１８および中間ピストン３２０からなり、これらの
両ピストンは単一ピストンとして一体に移動する。上方
ピストン５１８はチャンバ４７８内に配置され、かつ出
口通路４１６と抜き通路４１８との間に配置されたポー
ト４９０を開閉する弁座５２４を有している。中間ピス
トン５２０はチャンバ４４８内に配置されかつハウジン
グ４１２に固定されたインサート４６０に形成された環
状通路５２６を開閉すべく作動する。環状通路５２６
は、ピストン５２０がインサート４６０から離脱する
と、通路４４６、４５８をチャンバ４４８に流体的に連
結する。ピストン５２０は、該ピストン５２０が図１３
に示すようにインサート４６０に座合すると、通路４４
６、４５８をチャンバ４４８からシールする。
かつボア４２２内には弁部材４３０が配置されている。
弁部材４２８は、上方ピストン５０６および中間ピスト
ン５０８からなり、これらの両ピストンは単一ピストン
として一体に移動する。上方ピストン５０６はチャンバ
４７４内に配置され、かつ出口通路４１６と抜き通路４
１８との間に配置されたポート４８８を開閉する弁座５
１２を有している。中間ピストン５０８はチャンバ４４
２内に配置されかつハウジング４１２に固定されたイン
サート４５４に形成された環状通路５１４を開閉するよ
うに作動する。環状通路５１４は、中間ピストン５０８
がインサート４５４から離脱すると、通路４４０、４５
２をチャンバ４４２に流体的に連結する。ピストン５０
８は、該ピストン５０８が図１３に示すようにインサー
ト４５４に座合すると、チャンバ４４２から通路４４
０、４５２をシールする。弁部材４３０は、上方ピスト
ン５１８および中間ピストン３２０からなり、これらの
両ピストンは単一ピストンとして一体に移動する。上方
ピストン５１８はチャンバ４７８内に配置され、かつ出
口通路４１６と抜き通路４１８との間に配置されたポー
ト４９０を開閉する弁座５２４を有している。中間ピス
トン５２０はチャンバ４４８内に配置されかつハウジン
グ４１２に固定されたインサート４６０に形成された環
状通路５２６を開閉すべく作動する。環状通路５２６
は、ピストン５２０がインサート４６０から離脱する
と、通路４４６、４５８をチャンバ４４８に流体的に連
結する。ピストン５２０は、該ピストン５２０が図１３
に示すようにインサート４６０に座合すると、通路４４
６、４５８をチャンバ４４８からシールする。
【００４５】弁部材４２８の下部は、ブシュ４９２内に
延びておりかつ該ブシュ４９２により案内される。ブシ
ュ４９２はハウジング４９４内に取り付けられ、該ハウ
ジング４９４はボア４２０内に延びておりかつハウジン
グ４１２に固定されている。ブシュ４９２は弁部材４２
８の長手方向移動を案内する。弁部材４３０の下部は、
ブシュ４９６内に延びておりかつ該ブシュ４９６により
案内される。ブシュ４９６はハウジング４９８内に取り
付けられ、該ハウジング４９８はボア４２２内に延びて
おりかつハウジング４１２に固定されている。ブシュ４
９６は弁部材４３０の長手方向移動を案内する。
延びておりかつ該ブシュ４９２により案内される。ブシ
ュ４９２はハウジング４９４内に取り付けられ、該ハウ
ジング４９４はボア４２０内に延びておりかつハウジン
グ４１２に固定されている。ブシュ４９２は弁部材４２
８の長手方向移動を案内する。弁部材４３０の下部は、
ブシュ４９６内に延びておりかつ該ブシュ４９６により
案内される。ブシュ４９６はハウジング４９８内に取り
付けられ、該ハウジング４９８はボア４２２内に延びて
おりかつハウジング４１２に固定されている。ブシュ４
９６は弁部材４３０の長手方向移動を案内する。
【００４６】弁部材４３２は弁部材４２８の回りに配置
されかつ弁座５３０および弁ばね５３２からなる。弁ば
ね５３２は弁座５３０をハウジング４１２に対して押圧
し、入口通路４１４とチャンバ４４２との間の流体の流
れを防止する。弁部材４３４は弁部材４３０の回りに配
置されかつ弁座５３４および弁ばね５３６からなる。弁
ばね５３６は弁座５３４をハウジング４１２に対して押
圧し、入口通路４１４とチャンバ４４８との間の流体の
流れを防止する。
されかつ弁座５３０および弁ばね５３２からなる。弁ば
ね５３２は弁座５３０をハウジング４１２に対して押圧
し、入口通路４１４とチャンバ４４２との間の流体の流
れを防止する。弁部材４３４は弁部材４３０の回りに配
置されかつ弁座５３４および弁ばね５３６からなる。弁
ばね５３６は弁座５３４をハウジング４１２に対して押
圧し、入口通路４１４とチャンバ４４８との間の流体の
流れを防止する。
【００４７】図１３は、制御弁組立体４１０が除勢位置
にあるところを示す。入口通路４１４からの加圧流体
は、弁座５３０、５３４をハウジング４１２に押圧し、
入口通路４１４と両チャンバ４４２、４４８との間の連
通を遮断する。加圧流体は、絞り４４４を通って通路４
４０、４５２に、更に絞り４５６を通ってリザーバ４２
４内に流入し、該リザーバ４２４から通路４６６を通っ
てソレノイド弁４３８の入口に供給される。同様に、入
口通路４１４からの加圧流体は、絞り４５０を通って通
路４４６に、更に通路４５８および絞り４６２を通って
リザーバ４２６内に流入し、該リザーバ４２６から通路
４７０を通ってソレノイド弁４３６の入口に供給され
る。出口通路４１６は、弁座５１２、５２４が上方に押
圧されて、ポート４８８、４９０が開かれているため、
抜き通路４１８と連通している。中間チャンバ４４２、
４４８も、それぞれ、交差通路４８０、４８２および通
路４８４、４８６を介して抜き通路４１８に連通してい
る。弁座５３０、５３４に作用する弁ばね５３２、５３
６の押圧力（該押圧力は、それぞれ弁ばね４６４、４６
８に作用する）が、ピストン５０８、５２０従って弁部
材４２８、４３０を上方に押圧し、制御弁組立体４１０
を除勢位置に維持する。通路４４０と通路４５２との連
通、および通路４４６と通路４５８との連通により、リ
ザーバ４２４、４２６内に流体圧力が維持される。
にあるところを示す。入口通路４１４からの加圧流体
は、弁座５３０、５３４をハウジング４１２に押圧し、
入口通路４１４と両チャンバ４４２、４４８との間の連
通を遮断する。加圧流体は、絞り４４４を通って通路４
４０、４５２に、更に絞り４５６を通ってリザーバ４２
４内に流入し、該リザーバ４２４から通路４６６を通っ
てソレノイド弁４３８の入口に供給される。同様に、入
口通路４１４からの加圧流体は、絞り４５０を通って通
路４４６に、更に通路４５８および絞り４６２を通って
リザーバ４２６内に流入し、該リザーバ４２６から通路
４７０を通ってソレノイド弁４３６の入口に供給され
る。出口通路４１６は、弁座５１２、５２４が上方に押
圧されて、ポート４８８、４９０が開かれているため、
抜き通路４１８と連通している。中間チャンバ４４２、
４４８も、それぞれ、交差通路４８０、４８２および通
路４８４、４８６を介して抜き通路４１８に連通してい
る。弁座５３０、５３４に作用する弁ばね５３２、５３
６の押圧力（該押圧力は、それぞれ弁ばね４６４、４６
８に作用する）が、ピストン５０８、５２０従って弁部
材４２８、４３０を上方に押圧し、制御弁組立体４１０
を除勢位置に維持する。通路４４０と通路４５２との連
通、および通路４４６と通路４５８との連通により、リ
ザーバ４２４、４２６内に流体圧力が維持される。
【００４８】図１４は、付勢位置にある制御弁システム
４１０を示す。両ソレノイド弁４３６、４３８は実質的
に同時に付勢され、ソレノイド弁４３６の付勢により、
通路４７０従ってリザーバ４２６が通路４７２に連結さ
れる。かくして、加圧流体がチャンバ４７４内に流入し
て、弁部材４２８を図１４に示すように下方に移動させ
る。ピストン５０６の直径は、チャンバ４７４内の流体
圧力がピストン５０６に作用して弁部材２２８を下方に
移動させるのに充分な大きさを有する。同様に、ソレノ
イド弁４３８の付勢により、通路４６６従ってリザーバ
４２４が通路４７６に連結される。かくして、加圧流体
がチャンバ４７８内に流入して、弁部材４３０を図１４
に示すように下方に移動させる。ピストン５１８の直径
は、チャンバ４７８内の流体圧力がピストン５１８に作
用して弁部材４３０を下方に移動させるのに充分な大き
さを有する。弁部材４２８、５３０が下方に移動する
と、ピストン５０８および弁ばね４６４が弁座５３０を
ハウジングから離脱させ、かつピストン５２０および弁
ばね４６８が弁座５３４をハウジングから離脱させる。
加圧流体は、入口通路４１４からチャンバ４４２の下部
に流入し、更に通路４８０を通ってチャンバ４４８の上
部に流入し、ここから、弁部材４３０とハウジング４１
２との間のギャップ５４４を通って流れ、出口通路４１
６に加圧流体を供給する。また、加圧流体は、通路４８
４を通っても出口通路４１６に流入する。同様に、加圧
流体は、入口通路４１４からチャンバ４４８の下部に流
入し、更に通路４８２を通ってチャンバ４４２の上部に
流入し、ここから、弁部材４２８とハウジング４１２と
の間のギャップ５４６を通って流れ、出口通路４１６に
加圧流体を供給する。また、加圧流体は、通路４８６を
通っても出口通路４１６に流入する。弁部材４２８、４
３０の下方への移動により、弁座５１２、５２４がハウ
ジング４１２と座合し、これによりポート４８８、４９
０が閉鎖されて、出口通路４１６が抜き通路４１８から
遮断される。ソレノイド弁４３６、４３８が付勢される
とリザーバ４２４、４２６内の流体圧力が最初に低下す
るが、リザーバ４２４、４２６が依然として入口通路４
１４に連通しておりかつ出口通路４１６が抜き通路４１
８から遮断されているため、流体圧力は、圧力を供給す
るまで回復する。
４１０を示す。両ソレノイド弁４３６、４３８は実質的
に同時に付勢され、ソレノイド弁４３６の付勢により、
通路４７０従ってリザーバ４２６が通路４７２に連結さ
れる。かくして、加圧流体がチャンバ４７４内に流入し
て、弁部材４２８を図１４に示すように下方に移動させ
る。ピストン５０６の直径は、チャンバ４７４内の流体
圧力がピストン５０６に作用して弁部材２２８を下方に
移動させるのに充分な大きさを有する。同様に、ソレノ
イド弁４３８の付勢により、通路４６６従ってリザーバ
４２４が通路４７６に連結される。かくして、加圧流体
がチャンバ４７８内に流入して、弁部材４３０を図１４
に示すように下方に移動させる。ピストン５１８の直径
は、チャンバ４７８内の流体圧力がピストン５１８に作
用して弁部材４３０を下方に移動させるのに充分な大き
さを有する。弁部材４２８、５３０が下方に移動する
と、ピストン５０８および弁ばね４６４が弁座５３０を
ハウジングから離脱させ、かつピストン５２０および弁
ばね４６８が弁座５３４をハウジングから離脱させる。
加圧流体は、入口通路４１４からチャンバ４４２の下部
に流入し、更に通路４８０を通ってチャンバ４４８の上
部に流入し、ここから、弁部材４３０とハウジング４１
２との間のギャップ５４４を通って流れ、出口通路４１
６に加圧流体を供給する。また、加圧流体は、通路４８
４を通っても出口通路４１６に流入する。同様に、加圧
流体は、入口通路４１４からチャンバ４４８の下部に流
入し、更に通路４８２を通ってチャンバ４４２の上部に
流入し、ここから、弁部材４２８とハウジング４１２と
の間のギャップ５４６を通って流れ、出口通路４１６に
加圧流体を供給する。また、加圧流体は、通路４８６を
通っても出口通路４１６に流入する。弁部材４２８、４
３０の下方への移動により、弁座５１２、５２４がハウ
ジング４１２と座合し、これによりポート４８８、４９
０が閉鎖されて、出口通路４１６が抜き通路４１８から
遮断される。ソレノイド弁４３６、４３８が付勢される
とリザーバ４２４、４２６内の流体圧力が最初に低下す
るが、リザーバ４２４、４２６が依然として入口通路４
１４に連通しておりかつ出口通路４１６が抜き通路４１
８から遮断されているため、流体圧力は、圧力を供給す
るまで回復する。
【００４９】図１５は、異常位置にある制御弁システム
４１０を示す。図１５において、弁部材４３０はその上
方位置に配置され、一方、弁部材４２８はその下方位置
に配置されている。弁部材４３０は、図１３と同様にそ
の上方位置にある。入口通路４１４からの加圧流体は、
絞り４５０を通って通路４４６、４５８に供給され、更
に絞り４６２を通ってリザーバ４２６に入り、ここから
通路４７０を通ってソレノイド弁４３６の入口に流入す
る。弁座５２４が上方に押圧されてポート４９０が開放
しているため、出口通路４１６は抜き通路４１８に連通
している。弁部材４２８はその下方位置にあり、出口通
路４１６（該出口通路４１６は、弁部材４３０の位置に
より、抜き通路４１８に連通している）への種々の通路
を開放している。チャンバ４４２の上部は、ギャップ５
４６を通って抜き通路４１８に連通している。入口通路
４１４からの加圧流体は、絞り４４４、通路４４０、環
状通路５１４、ギャップ５４６、出口通路４１６、ポー
ト４９０を通って抜き通路４１８に流入する。また、入
口通路４１４からの加圧流体は、チャンバ４４２の下
部、通路４８０、通路４８４、出口通路４１６、ポート
４９０を通って抜き通路４１８内に流入する。リザーバ
４２４内の流体圧力は、絞り４５６および通路４５２を
通って抜き通路４１８に流入し、このため、通路４６６
を通ってソレノイド弁４３８に供給されている加圧流体
が除去される。リザーバ４２４の加圧流体を抜き通路４
１８に導くのに要する時間は、絞り４４４、リザーバ４
２４および絞り４５６のサイズによって定まる。
４１０を示す。図１５において、弁部材４３０はその上
方位置に配置され、一方、弁部材４２８はその下方位置
に配置されている。弁部材４３０は、図１３と同様にそ
の上方位置にある。入口通路４１４からの加圧流体は、
絞り４５０を通って通路４４６、４５８に供給され、更
に絞り４６２を通ってリザーバ４２６に入り、ここから
通路４７０を通ってソレノイド弁４３６の入口に流入す
る。弁座５２４が上方に押圧されてポート４９０が開放
しているため、出口通路４１６は抜き通路４１８に連通
している。弁部材４２８はその下方位置にあり、出口通
路４１６（該出口通路４１６は、弁部材４３０の位置に
より、抜き通路４１８に連通している）への種々の通路
を開放している。チャンバ４４２の上部は、ギャップ５
４６を通って抜き通路４１８に連通している。入口通路
４１４からの加圧流体は、絞り４４４、通路４４０、環
状通路５１４、ギャップ５４６、出口通路４１６、ポー
ト４９０を通って抜き通路４１８に流入する。また、入
口通路４１４からの加圧流体は、チャンバ４４２の下
部、通路４８０、通路４８４、出口通路４１６、ポート
４９０を通って抜き通路４１８内に流入する。リザーバ
４２４内の流体圧力は、絞り４５６および通路４５２を
通って抜き通路４１８に流入し、このため、通路４６６
を通ってソレノイド弁４３８に供給されている加圧流体
が除去される。リザーバ４２４の加圧流体を抜き通路４
１８に導くのに要する時間は、絞り４４４、リザーバ４
２４および絞り４５６のサイズによって定まる。
【００５０】制御弁組立体４１０は、弁ばね５３２が弁
部材４２８を図１３に示すその上方位置に戻すことがで
きない限り、この除勢位置すなわちロック位置に維持さ
れる。弁ばね５３２が弁部材４２８をその上方位置に押
圧できないときは、入口通路４１４からの加圧流体が絞
り４４４、４５６を通って再びリザーバ４２４を加圧
し、これにより制御弁組立体４１０がリセットされる。
制御弁組立体４１０のリセットに要する時間は、リザー
バ４２４および絞り４４４、４５６のサイズにより定ま
る。
部材４２８を図１３に示すその上方位置に戻すことがで
きない限り、この除勢位置すなわちロック位置に維持さ
れる。弁ばね５３２が弁部材４２８をその上方位置に押
圧できないときは、入口通路４１４からの加圧流体が絞
り４４４、４５６を通って再びリザーバ４２４を加圧
し、これにより制御弁組立体４１０がリセットされる。
制御弁組立体４１０のリセットに要する時間は、リザー
バ４２４および絞り４４４、４５６のサイズにより定ま
る。
【００５１】図１５に関する上記説明は、弁部材４２８
がその付勢位置にありかつ弁部材４３０が除勢位置にあ
る場合の説明であるが、弁部材４２８がその除勢状態に
配置されかつ弁部材４３０がその付勢位置に配置される
場合にも、制御弁組立体４１０の同様なロックアウト位
置が生じることを理解すべきである。
がその付勢位置にありかつ弁部材４３０が除勢位置にあ
る場合の説明であるが、弁部材４２８がその除勢状態に
配置されかつ弁部材４３０がその付勢位置に配置される
場合にも、制御弁組立体４１０の同様なロックアウト位
置が生じることを理解すべきである。
【００５２】かくして、制御弁組立体４１０は、ロック
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する、完全な流
体作動形弁システムである。制御弁組立体４１０は、ひ
とたび異常状態が矯正されると自動的にリセットし、制
御弁組立体４１０の全作動を行なうことが可能になる。
アウト状態に切り換えることにより、異常状態を検出し
かつこの異常状態に応答できる能力を有する、完全な流
体作動形弁システムである。制御弁組立体４１０は、ひ
とたび異常状態が矯正されると自動的にリセットし、制
御弁組立体４１０の全作動を行なうことが可能になる。
【００５３】以上、本発明の好ましい実施形態について
詳細に説明したが、本発明は、特許請求の範囲に記載の
精神および範囲から逸脱することなく種々の変更を考え
得る１とを理解すべきである。
詳細に説明したが、本発明は、特許請求の範囲に記載の
精神および範囲から逸脱することなく種々の変更を考え
得る１とを理解すべきである。
【図１】本発明の制御弁システムが除勢位置にあるとこ
ろを示す概略回路図である。
ろを示す概略回路図である。
【図２】制御弁が除勢位置にあるところを示す概略回路
図である。
図である。
【図３】本発明の制御弁システムが付勢位置にあるとこ
ろを示す概略回路図である。
ろを示す概略回路図である。
【図４】図１の制御弁が付勢位置にあるところを示す概
略回路図である。
略回路図である。
【図５】本発明の制御弁システムが異常位置にあるとこ
ろを示す概略回路図である。
ろを示す概略回路図である。
【図６】図１の制御弁が異常位置にあるところを示す概
略回路図である。
略回路図である。
【図７】本発明の制御弁システムがロックアウト位置に
あるところを示す概略回路図である。
あるところを示す概略回路図である。
【図８】図１の制御弁がロックアウト位置にあるところ
を示す概略回路図である。
を示す概略回路図である。
【図９】本発明の他の実施形態による図１〜図８の制御
弁システムを示す概略回路図である。
弁システムを示す概略回路図である。
【図１０】本発明の他の実施形態による制御弁が除勢位
置にあるところを示す概略回路図である。
置にあるところを示す概略回路図である。
【図１１】図１０の制御弁が付勢位置にあるところを示
す概略回路図である。
す概略回路図である。
【図１２】図１０の制御弁が異常位置にあるところを示
す概略回路図である。
す概略回路図である。
【図１３】本発明の更に別の実施形態による制御弁が除
勢位置にあるところを示す概略回路図である。
勢位置にあるところを示す概略回路図である。
【図１４】図１３の制御弁が付勢位置にあるところを示
す概略回路図である。
す概略回路図である。
【図１５】図１３の制御弁が異常位置にあるところを示
す概略回路図である。
す概略回路図である。
１０ 制御弁システム １２、２１２ ハウジング １４、２１４ 流体入口通路 １６、２１６ 流体出口通路 １８、２１８ 流体抜き通路 ２０、２２０ 第１弁ボア ２２、２２２ 第２弁ボア ２４、２２４ 第１流体リザーバ ２６、２２６ 第２流体リザーバ ２８、２２８ 第１弁部材 ３２、２３２ 第３弁部材 ３４、２３４ 第４弁部材 ３６、３８ ソレノイド弁 ２１０、４１０ 制御弁組立体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウォルフ シー ブリアン アメリカ合衆国ジョージア州，30553，ラ ボニア，レイクビュードライブ 380
Claims (30)
- 【請求項１】 入口と、出口と、抜き口との間の流体の
流れを制御する制御弁システムであって、前記出口が抜
き口と連通する除勢位置と、前記入口が出口と連通する
付勢位置と、ロック位置との間で移動できる制御弁シス
テムにおいて、 前記入口と、出口と、抜き口との間に配置された複数の
第１弁と、 前記入口と、出口と、抜き口との間に配置された複数の
第２弁とを有し、複数の第１弁および第２弁の各々が除
勢位置と付勢位置との間で移動でき、前記制御弁システ
ムは、複数の第１弁および第２弁の各々が除勢位置にあ
るときに除勢位置にあり、複数の第１弁および第２弁の
各々が付勢位置にあるときに付勢位置にあり、複数の第
１弁および第２弁のうちの１つが除勢位置にありかつ他
の１つが付勢位置にあるときにロック位置に移動し、複
数の第１弁および第２弁のうちの前記１つがその付勢位
置から除勢位置に移動すると、前記ロック位置から除勢
位置に移動することを特徴とする制御弁システム。 - 【請求項２】 前記複数の第１弁は、前記入口と出口と
の間および前記出口と抜き口との間に配置された第１弁
組立体を有することを特徴とする請求の範囲第１項に記
載の制御弁システム。 - 【請求項３】 前記複数の第１弁は、前記入口と前記第
１弁組立体との間に配置された第２弁組立体を有するこ
とを特徴とする請求の範囲第２項に記載の制御弁システ
ム。 - 【請求項４】 前記複数の第１弁は、前記入口と前記第
１弁組立体との間に配置された第３弁組立体を有するこ
とを特徴とする請求の範囲第３項に記載の制御弁システ
ム。 - 【請求項５】 前記複数の第１弁は、前記入口と出口と
の間および前記出口と抜き口との間に配置された第１弁
組立体を有し、前記複数の第２弁は、前記入口と出口と
の間および前記出口と抜き口との間に配置された第２弁
組立体を有することを特徴とする請求の範囲第１項に記
載の制御弁システム。 - 【請求項６】 前記複数の第１弁は、前記入口と第１弁
組立体との間に配置された第３弁組立体を有し、前記複
数の第２弁は、前記入口と第２弁組立体との間に配置さ
れた第４弁組立体を有することを特徴とする請求の範囲
第５項に記載の制御弁システム。 - 【請求項７】 前記複数の第１弁は、前記入口と第１弁
組立体との間に配置された第５弁組立体を有し、前記複
数の第２弁は、前記入口と第２弁組立体との間に配置さ
れた第６弁組立体を有することを特徴とする請求の範囲
第６項に記載の制御弁システム。 - 【請求項８】 前記制御弁システムは、複数の第１弁お
よび第２弁のうちの前記他の１つがその付勢位置から除
勢位置に自動的に移動すると、ロック位置から除勢位置
に移動することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の
制御弁システム。 - 【請求項９】 入口と、出口と、抜き口との間の流体の
流れを制御する制御弁システムにおいて、 前記入口と出口との間および前記出口と抜き口との間に
配置された第１弁を有し、該第１弁は、前記出口と抜き
口とが連通する除勢位置と、前記入口と出口とが連通す
る付勢位置との間で移動でき、第１弁は除勢位置に押圧
されており、 前記入口と出口との間および前記出口と抜き口との間に
配置された第２弁を有し、該第２弁は、前記出口と抜き
口とが連通する除勢位置と、前記入口と出口とが連通す
る付勢位置との間で移動でき、第２弁は除勢位置に押圧
されており、 前記入口と第２弁との間に配置された第３弁を有し、該
第３弁は、前記入口が第３弁を介して第２弁に連通しな
い除勢位置と、前記入口が第３弁を介して第２弁に連通
する付勢位置との間で移動でき、第３弁は除勢位置に押
圧されており、 前記入口と第１弁との間に配置された第４弁を有し、該
第４弁は、前記入口が第４弁を介して第１弁に連通しな
い除勢位置と、前記入口が第４弁を介して第１弁に連通
する付勢位置との間で移動でき、第４弁は除勢位置に押
圧されており、 前記入口と第１弁との間に配置された第５弁を有し、該
第５弁は、前記入口が第５弁を介して第１弁に連通しな
い除勢位置と、前記入口が第５弁を介して第１弁に連通
する付勢位置との間で移動でき、 前記入口と第２弁との間に配置された第６弁を有し、該
第６弁は、前記入口が第６弁を介して第２弁に連通しな
い除勢位置と、前記入口が第６弁を介して第２弁に連通
する付勢位置との間で移動でき、 前記出口は、前記全ての弁が除勢位置にあるときに前記
抜き口に連通し、かつ前記全ての弁が付勢位置にあると
きに前記入口に連通し、前記制御弁システムは、前記弁
のうちの１つが付勢位置にありかつ前記弁のうちの他の
１つが除勢位置にあるときにロックアウト位置に移動
し、付勢位置にある前記弁のうちの前記１つが、その除
勢位置に自動的に戻ることができることを特徴とする制
御弁システム。 - 【請求項１０】 前記付勢位置にある前記弁のうちの前
記１つが、その除勢位置に自動的に戻ることができるこ
とを特徴とする請求の範囲第９項に記載の制御弁システ
ム。 - 【請求項１１】 前記第１弁は、第１流体通路を形成す
る第１弁部材を備え、前記第６弁は、第１弁が除勢位置
にあるときに第１流体通路を介して前記入口に連通する
ことを特徴とする請求の範囲第１０項に記載の制御弁シ
ステム。 - 【請求項１２】 前記第１弁は、ばねにより前記除勢位
置に押圧されていることを特徴とする請求の範囲第１１
項に記載の制御弁システム。 - 【請求項１３】 前記第２弁は、第２流体通路を形成す
る第２弁部材を備え、前記第５弁は、第２弁が除勢位置
にあるときに第２流体通路を介して前記入口に連通する
ことを特徴とする請求の範囲第１１項に記載の制御弁シ
ステム。 - 【請求項１４】 前記第２弁は、ばねにより前記除勢位
置に押圧されていることを特徴とする請求の範囲第１３
項に記載の制御弁システム。 - 【請求項１５】 前記入口、出口および抜き口を形成す
るハウジングを更に有し、前記第１弁は、前記ハウジン
グにより形成された第１ボア内に摺動可能に配置された
第１弁部材を備え、前記第３弁部材は、前記第１弁部材
上に摺動可能に配置された第１弁座を備え、前記第５弁
部材は、前記ハウジングに固定された第１ソレノイド弁
を備えていることを特徴とする請求の範囲第１０項に記
載の制御弁システム。 - 【請求項１６】 前記第１弁部材は流体通路を形成し、
前記第６弁は、第１弁が除勢位置にあるときに前記流体
通路を介して前記入口と連通することを特徴とする請求
の範囲第１５項に記載の制御弁システム。 - 【請求項１７】 前記第１弁は、ばねにより前記除勢位
置に押圧されていることを特徴とする請求の範囲第１６
項に記載の制御弁システム。 - 【請求項１８】 前記第２弁は、前記ハウジングにより
形成された第２ボア内に摺動可能に配置された第２弁部
材を備え、前記第４弁部材は、前記第２弁部材上に摺動
可能に配置された第２弁座を備え、前記第６弁部材は、
前記ハウジングに固定された第２ソレノイド弁を備えて
いることを特徴とする請求の範囲第１５項に記載の制御
弁システム。 - 【請求項１９】 前記第２弁部材は流体通路を形成し、
前記第５弁は、第２弁が除勢位置にあるときに前記流体
通路を介して前記入口に連通することを特徴とする請求
の範囲第１８項に記載の制御弁システム。 - 【請求項２０】 前記第２弁は、ばねにより前記除勢位
置に押圧されていることを特徴とする請求の範囲第１９
項に記載の制御弁システム。 - 【請求項２１】 前記第１弁は第１流体通路を形成する
第１弁部材を有し、前記第６弁は、第１弁が除勢位置に
あるときに前記第１流体通路を介して前記入口に連通す
ることを特徴とする請求の範囲第９項に記載の制御弁シ
ステム。 - 【請求項２２】 前記第１弁は、前記入口から第１弁に
供給される加圧流体により除勢位置に押圧され、前記加
圧流体は前記第１流体通路を通って流れることを特徴と
する請求の範囲第２１項に記載の制御弁システム。 - 【請求項２３】 前記第２弁は第２流体通路を形成する
第２弁部材を有し、前記第５弁は、第２弁が除勢位置に
あるときに前記第２流体通路を介して前記入口に連通す
ることを特徴とする請求の範囲第２１項に記載の制御弁
システム。 - 【請求項２４】 前記第２弁は、前記入口から第２弁に
供給される加圧流体により除勢位置に押圧され、前記加
圧流体は前記第２流体通路を通って流れることを特徴と
する請求の範囲第２３項に記載の制御弁システム。 - 【請求項２５】 前記入口、出口および抜き口を形成す
るハウジングを更に有し、前記第１弁は、前記ハウジン
グにより形成された第１ボア内に摺動可能に配置された
第１弁部材を備え、前記第３弁部材は、前記第１弁部材
上に摺動可能に配置された第１弁座を備え、前記第５弁
部材は、前記ハウジングに固定された第１ソレノイド弁
を備えていることを特徴とする請求の範囲第９項に記載
の制御弁システム。 - 【請求項２６】 前記第１弁部材は流体通路を形成し、
前記第６弁は、第１弁が除勢位置にあるときに前記流体
通路を介して前記入口に連通することを特徴とする請求
の範囲第２５項に記載の制御弁システム。 - 【請求項２７】 前記第１弁は、前記入口から第１弁に
供給される加圧流体により除勢位置に押圧され、前記加
圧流体は前記流体通路を通って流れることを特徴とする
請求の範囲第２６項に記載の制御弁システム。 - 【請求項２８】 前記第２弁は、前記ハウジングにより
形成された第２ボア内に摺動可能に配置された第２弁部
材を備え、前記第４弁部材は、前記第２弁部材上に摺動
可能に配置された第２弁座を備え、前記第６弁部材は、
前記ハウジングに固定された第２ソレノイド弁を備えて
いることを特徴とする請求の範囲第２５項に記載の制御
弁システム。 - 【請求項２９】 前記第２弁部材は流体通路を形成し、
前記第５弁は、第２弁が除勢位置にあるときに前記流体
通路を介して前記入口に連通することを特徴とする請求
の範囲第２８項に記載の制御弁システム。 - 【請求項３０】 前記第２弁は、前記入口から第２弁に
供給される加圧流体により除勢位置に押圧され、前記加
圧流体は前記流体通路を通って流れることを特徴とする
請求の範囲第２９項に記載の制御弁システム。
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