JPH10182899A - ポリプロピレン製二軸延伸フィルム - Google Patents
ポリプロピレン製二軸延伸フィルムInfo
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- JPH10182899A JPH10182899A JP8350753A JP35075396A JPH10182899A JP H10182899 A JPH10182899 A JP H10182899A JP 8350753 A JP8350753 A JP 8350753A JP 35075396 A JP35075396 A JP 35075396A JP H10182899 A JPH10182899 A JP H10182899A
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- Japan
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- polypropylene
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- bis
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Abstract
(57)【要約】
【課題】透明性、表面光沢などの光学的特性および引張
強度、耐衝撃性などの機械的特性に優れ、かつ透湿度が
低いポリプロピレン製二軸延伸フィルムを得ること。 【解決手段】ポリプロピレン製二軸延伸フィルムは、２
３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定されるメルトフロー
レートが０．１〜２０ｇ／10分の範囲にあり、示差走査
型熱量計により測定される吸熱曲線の最大ピーク位置の
温度が１３０〜１７０℃の範囲にあり、13Ｃ−ＮＭＲに
より測定されるメソペンタッドアイソタクティシティー
が８０〜１００％の範囲にあり、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーにより測定される分子量分布（Ｍｗ
／Ｍｎ）が１．５〜３．５の範囲にあり、室温デカン可
溶成分が２．０重量％以下であるポリプロピレンを熱成
形してなる。
強度、耐衝撃性などの機械的特性に優れ、かつ透湿度が
低いポリプロピレン製二軸延伸フィルムを得ること。 【解決手段】ポリプロピレン製二軸延伸フィルムは、２
３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定されるメルトフロー
レートが０．１〜２０ｇ／10分の範囲にあり、示差走査
型熱量計により測定される吸熱曲線の最大ピーク位置の
温度が１３０〜１７０℃の範囲にあり、13Ｃ−ＮＭＲに
より測定されるメソペンタッドアイソタクティシティー
が８０〜１００％の範囲にあり、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーにより測定される分子量分布（Ｍｗ
／Ｍｎ）が１．５〜３．５の範囲にあり、室温デカン可
溶成分が２．０重量％以下であるポリプロピレンを熱成
形してなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリプロピレン製
二軸延伸フィルムに関するものである。
二軸延伸フィルムに関するものである。
【０００２】
【発明の技術的背景】結晶性ポリプロピレンなどのポリ
オレフィンは、周期律表第IV〜VI族の遷移金属の化合物
と、周期律表第Ｉ〜III族の金属の有機金属化合物とか
らなる、いわゆるチーグラー・ナッタ触媒を用いオレフ
ィンを重合することによって得られることはよく知られ
ている。そしてこのような触媒を用いて、高立体規則性
の結晶性ポリオレフィンを高重合活性で得る方法が、た
とえば、特開昭61-209207号公報、特開昭62-104810号公
報、特開昭62-104811号公報、特開昭62-104812号公報、
特開昭62-104813号公報、特開平1-311106号公報、特開
平1-318011号公報、特開平2-166104号公報などに開示さ
れている。
オレフィンは、周期律表第IV〜VI族の遷移金属の化合物
と、周期律表第Ｉ〜III族の金属の有機金属化合物とか
らなる、いわゆるチーグラー・ナッタ触媒を用いオレフ
ィンを重合することによって得られることはよく知られ
ている。そしてこのような触媒を用いて、高立体規則性
の結晶性ポリオレフィンを高重合活性で得る方法が、た
とえば、特開昭61-209207号公報、特開昭62-104810号公
報、特開昭62-104811号公報、特開昭62-104812号公報、
特開昭62-104813号公報、特開平1-311106号公報、特開
平1-318011号公報、特開平2-166104号公報などに開示さ
れている。
【０００３】このような高立体規則性の結晶性ポリプロ
ピレンは、剛性が高く、一般に高い熱変形温度、融点、
結晶化温度を有するため、優れた耐熱性を示し、結晶化
速度が速く、透明性が高いなどの優れた性質を示す。そ
のため、容器やフィルムなどの種々の用途に好適に用い
られている。
ピレンは、剛性が高く、一般に高い熱変形温度、融点、
結晶化温度を有するため、優れた耐熱性を示し、結晶化
速度が速く、透明性が高いなどの優れた性質を示す。そ
のため、容器やフィルムなどの種々の用途に好適に用い
られている。
【０００４】近年、ポリプロピレンに対する物性の要求
は益々厳しくなってきており、さらに優れた特性を有す
るポリプロピレン樹脂製成形体の出現が望まれている。
は益々厳しくなってきており、さらに優れた特性を有す
るポリプロピレン樹脂製成形体の出現が望まれている。
【０００５】
【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に鑑み
てなされたものであって、透明性、表面光沢などの光学
的特性および引張強度、耐衝撃性などの機械的特性に優
れ、かつ透湿度が低いポリプロピレン製二軸延伸フィル
ムを提供することを目的としている。
てなされたものであって、透明性、表面光沢などの光学
的特性および引張強度、耐衝撃性などの機械的特性に優
れ、かつ透湿度が低いポリプロピレン製二軸延伸フィル
ムを提供することを目的としている。
【０００６】
【発明の概要】本発明に係るポリプロピレン製二軸延伸
フィルムは、(1) ２３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定
されるメルトフローレートが０．１〜２０ｇ／10分の範
囲にあり、(2) 示差走査型熱量計により測定される吸熱
曲線の最大ピーク位置の温度が１３０〜１７０℃の範囲
にあり、(3) 13Ｃ−ＮＭＲにより測定されるペンタッド
アイソタクティシティーが８０〜１００％の範囲にあ
り、(4) ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
り測定される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜３．
５の範囲にあり、(5) 室温デカン可溶成分が２．０重量
％以下であるポリプロピレンを熱成形して得られること
を特徴としている。
フィルムは、(1) ２３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定
されるメルトフローレートが０．１〜２０ｇ／10分の範
囲にあり、(2) 示差走査型熱量計により測定される吸熱
曲線の最大ピーク位置の温度が１３０〜１７０℃の範囲
にあり、(3) 13Ｃ−ＮＭＲにより測定されるペンタッド
アイソタクティシティーが８０〜１００％の範囲にあ
り、(4) ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
り測定される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜３．
５の範囲にあり、(5) 室温デカン可溶成分が２．０重量
％以下であるポリプロピレンを熱成形して得られること
を特徴としている。
【０００７】本発明では、前記ポリプロピレンは、メタ
ロセン触媒を用いて製造されたものであることが好まし
い。
ロセン触媒を用いて製造されたものであることが好まし
い。
【０００８】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係るポリプロピレ
ン製二軸延伸フィルムについて具体的に説明する。
ン製二軸延伸フィルムについて具体的に説明する。
【０００９】本発明に係るフィルムの材料となるポリプ
ロピレンは、プロピレン単独重合体またはプロピレンと
炭素原子数が４〜２０のα−オレフィンとの共重合体で
ある。ここで、炭素原子数が４〜２０のα−オレフィン
としては、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチ
ル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1
-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-
エイコセンなどが挙げられ、炭素原子数が４〜１０のα
−オレフィンが好ましい。これらのα−オレフィンは、
プロピレンとランダム共重合体を形成してもよく、ま
た、ブロック共重合体を形成してもよい。これらのα−
オレフィンから導かれる構成単位は、ポリプロピレン中
に５％以下、好ましくは２％以下の割合で含んでいても
よい。
ロピレンは、プロピレン単独重合体またはプロピレンと
炭素原子数が４〜２０のα−オレフィンとの共重合体で
ある。ここで、炭素原子数が４〜２０のα−オレフィン
としては、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチ
ル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1
-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-
エイコセンなどが挙げられ、炭素原子数が４〜１０のα
−オレフィンが好ましい。これらのα−オレフィンは、
プロピレンとランダム共重合体を形成してもよく、ま
た、ブロック共重合体を形成してもよい。これらのα−
オレフィンから導かれる構成単位は、ポリプロピレン中
に５％以下、好ましくは２％以下の割合で含んでいても
よい。
【００１０】本発明で用いられるポリプロピレンは、下
記(1) 〜(5) の要件を満たしている。 (1) ２３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定されるメルト
フローレート（ＭＦＲ）は、通常０．１〜２０ｇ／10
分、好ましくは１〜１０ｇ／10分の範囲にある。ＭＦＲ
は、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠して２３０℃、荷重
２．１６ｋｇの条件で測定される。 (2) 示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定される吸熱
曲線の最大ピーク位置の温度（Ｔｍ）は、通常１３０〜
１７０℃、好ましくは１３５〜１６５℃、より好ましく
は１３８〜１６０℃の範囲にある。 (3) ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰ
Ｃ）を用いて測定した分子量分布の指標（Ｍｗ／Ｍｎ；
ただしＭｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）が
１．５〜３．５、好ましくは２〜３の範囲にあることが
望ましい。
記(1) 〜(5) の要件を満たしている。 (1) ２３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定されるメルト
フローレート（ＭＦＲ）は、通常０．１〜２０ｇ／10
分、好ましくは１〜１０ｇ／10分の範囲にある。ＭＦＲ
は、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠して２３０℃、荷重
２．１６ｋｇの条件で測定される。 (2) 示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定される吸熱
曲線の最大ピーク位置の温度（Ｔｍ）は、通常１３０〜
１７０℃、好ましくは１３５〜１６５℃、より好ましく
は１３８〜１６０℃の範囲にある。 (3) ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰ
Ｃ）を用いて測定した分子量分布の指標（Ｍｗ／Ｍｎ；
ただしＭｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）が
１．５〜３．５、好ましくは２〜３の範囲にあることが
望ましい。
【００１１】なお、エチレン系共重合体の分子量分布
（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ミリポア社製ＧＰＣ−１５０Ｃを用
い、以下のように測定した。分離カラムは、ＴＳＫ Ｇ
ＮＨ ＨＴであり、カラムサイズは直径７２ｍｍ、長さ
６００ｍｍであり、カラム温度は１４０℃とし、移動相
にはo-ジクロロベンゼン（和光純薬工業）および酸化防
止剤としてＢＨＴ（武田薬品）０．０２５重量％を用
い、１．０ｍｌ／分で移動させ、試料濃度は０．１重量
％とし、試料注入量は５００マイクロリットルとし、検
出器として示差屈折計を用いた。標準ポリスチレンは、
分子量がＭｗ＜１０００およびＭｗ＞４×１０6 につい
ては東ソー社製を用い、１０００＜Ｍｗ＜４×１０6 に
ついてはプレッシャーケミカル社製を用いた。 (4) 13Ｃ−ＮＭＲにより測定されるペンタッドアイソタ
クティシティー（ｍｍｍｍ分率）は、通常８０〜１０
０、好ましくは８５〜９９．５の範囲にある。
（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ミリポア社製ＧＰＣ−１５０Ｃを用
い、以下のように測定した。分離カラムは、ＴＳＫ Ｇ
ＮＨ ＨＴであり、カラムサイズは直径７２ｍｍ、長さ
６００ｍｍであり、カラム温度は１４０℃とし、移動相
にはo-ジクロロベンゼン（和光純薬工業）および酸化防
止剤としてＢＨＴ（武田薬品）０．０２５重量％を用
い、１．０ｍｌ／分で移動させ、試料濃度は０．１重量
％とし、試料注入量は５００マイクロリットルとし、検
出器として示差屈折計を用いた。標準ポリスチレンは、
分子量がＭｗ＜１０００およびＭｗ＞４×１０6 につい
ては東ソー社製を用い、１０００＜Ｍｗ＜４×１０6 に
ついてはプレッシャーケミカル社製を用いた。 (4) 13Ｃ−ＮＭＲにより測定されるペンタッドアイソタ
クティシティー（ｍｍｍｍ分率）は、通常８０〜１０
０、好ましくは８５〜９９．５の範囲にある。
【００１２】ｍｍｍｍ分率は、13Ｃ−ＮＭＲスペクトル
におけるＰmmmm（プロピレン単位が５単位連続してイソ
タクチック結合した部位における第３単位目のメチル基
に由来する吸収強度）およびＰW （プロピレン単位の全
メチル基に由来する吸収強度）の吸収強度から下記式に
より求められる。
におけるＰmmmm（プロピレン単位が５単位連続してイソ
タクチック結合した部位における第３単位目のメチル基
に由来する吸収強度）およびＰW （プロピレン単位の全
メチル基に由来する吸収強度）の吸収強度から下記式に
より求められる。
【００１３】 ｍｍｍｍ分率（％）＝（Ｐmmmm／ＰW ）×１００ ＮＭＲ測定は、たとえば次のようにして行われる。すな
わち、試料０．３５ｇをヘキサクロロブタジエン２．０
ｍｌに加熱溶解させる。この溶液をグラスフィルター
（Ｇ２）で濾過した後、重水素化ベンゼン０．５ｍｌを
加え、内径１０ｍｍのＮＭＲチューブに装入する。そし
て日本電子（株）製ＧＸ−５００型ＮＭＲ測定装置を用
い、１２０℃で13Ｃ−ＮＭＲ測定を行う。積算回数は、
１０，０００回以上とする。 (5) 室温デカン可溶成分の含有割合は、２．０重量％以
下、好ましくは１．５重量％以下である。
わち、試料０．３５ｇをヘキサクロロブタジエン２．０
ｍｌに加熱溶解させる。この溶液をグラスフィルター
（Ｇ２）で濾過した後、重水素化ベンゼン０．５ｍｌを
加え、内径１０ｍｍのＮＭＲチューブに装入する。そし
て日本電子（株）製ＧＸ−５００型ＮＭＲ測定装置を用
い、１２０℃で13Ｃ−ＮＭＲ測定を行う。積算回数は、
１０，０００回以上とする。 (5) 室温デカン可溶成分の含有割合は、２．０重量％以
下、好ましくは１．５重量％以下である。
【００１４】室温n-デカン不溶部および室温n-デカン可
溶部は以下のようにして求められる。すなわち、ガラス
製二重管式恒温槽中のn-デカン約５００ｍｌ中に、試料
約２ｇを精秤して入れ１４０℃で約１時間攪拌すること
により完全に溶解させる。その後、溶液の温度を攪拌下
で緩やかに室温まで降温する。溶液の温度が一定になっ
た後、一昼夜攪拌を続け、パウダー状のn-デカン不溶部
をグラスフィルタで濾別する。一方濾液を過剰のアセト
ン中に入れ、沈澱してきたn-デカン可溶部をグラスフィ
ルタで濾別する。パウダ状のn-デカン不溶部は約５００
ｍｌのn-デカンに約１４０℃で完全に溶解した後、過剰
のアセトン中で再沈澱させて濾別する。このようにして
分別されたn-デカン不溶部とn-デカン可溶部とを、それ
ぞれ約８０℃の真空乾燥機において減圧下一昼夜乾燥
後、精秤する。
溶部は以下のようにして求められる。すなわち、ガラス
製二重管式恒温槽中のn-デカン約５００ｍｌ中に、試料
約２ｇを精秤して入れ１４０℃で約１時間攪拌すること
により完全に溶解させる。その後、溶液の温度を攪拌下
で緩やかに室温まで降温する。溶液の温度が一定になっ
た後、一昼夜攪拌を続け、パウダー状のn-デカン不溶部
をグラスフィルタで濾別する。一方濾液を過剰のアセト
ン中に入れ、沈澱してきたn-デカン可溶部をグラスフィ
ルタで濾別する。パウダ状のn-デカン不溶部は約５００
ｍｌのn-デカンに約１４０℃で完全に溶解した後、過剰
のアセトン中で再沈澱させて濾別する。このようにして
分別されたn-デカン不溶部とn-デカン可溶部とを、それ
ぞれ約８０℃の真空乾燥機において減圧下一昼夜乾燥
後、精秤する。
【００１５】このような特性を有するポリプロピレン
は、種々の方法により製造することができるが、たとえ
ば、固体状チタン触媒成分と有機金属化合物触媒成分と
から形成される触媒、もしくはこれら両成分および電子
供与体から形成される高活性チタン触媒、またはメタロ
セン化合物とアルミノキサンなどとから形成される触媒
を用いて製造することができる。本発明では、ポリプロ
ピレンは、メタロセン触媒を用いて製造されたものであ
ることが好ましく、特に下記のようなメタロセン触媒を
用いて製造されたものであることが好ましい。
は、種々の方法により製造することができるが、たとえ
ば、固体状チタン触媒成分と有機金属化合物触媒成分と
から形成される触媒、もしくはこれら両成分および電子
供与体から形成される高活性チタン触媒、またはメタロ
セン化合物とアルミノキサンなどとから形成される触媒
を用いて製造することができる。本発明では、ポリプロ
ピレンは、メタロセン触媒を用いて製造されたものであ
ることが好ましく、特に下記のようなメタロセン触媒を
用いて製造されたものであることが好ましい。
【００１６】本発明で用いられるポリプロピレンを製造
する際に好適に用いられるメタロセン触媒は、周期律表
第４族から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物と、有
機アルミニウムオキシ化合物および／またはイオン化イ
オン性化合物とからなる。
する際に好適に用いられるメタロセン触媒は、周期律表
第４族から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物と、有
機アルミニウムオキシ化合物および／またはイオン化イ
オン性化合物とからなる。
【００１７】メタロセン触媒を形成する周期律表第４族
から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物は、具体的に
は、次式（Ｉ）で表される。 Ｍ1 Ｌ1 x … （Ｉ） 式中、Ｍは周期律表第４族から選ばれる遷移金属であ
り、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニウム
である。ｘは遷移金属Ｍの原子価を示し、遷移金属に配
位する配位子Ｌの個数を示す。
から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物は、具体的に
は、次式（Ｉ）で表される。 Ｍ1 Ｌ1 x … （Ｉ） 式中、Ｍは周期律表第４族から選ばれる遷移金属であ
り、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニウム
である。ｘは遷移金属Ｍの原子価を示し、遷移金属に配
位する配位子Ｌの個数を示す。
【００１８】Ｌは遷移金属に配位する配位子であり、こ
れらのうち少なくとも１個の配位子Ｌは、シクロペンタ
ジエニル基、インデニル基、4,5,6,7-テトラヒドロイン
デニル基、フルオレニル基などのシクロペンタジエニル
骨格を有する配位子であり、このシクロペンタジエニル
骨格を有する配位子は、アルキル基、シクロアルキル
基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子などの置換基
を有していてもよい。
れらのうち少なくとも１個の配位子Ｌは、シクロペンタ
ジエニル基、インデニル基、4,5,6,7-テトラヒドロイン
デニル基、フルオレニル基などのシクロペンタジエニル
骨格を有する配位子であり、このシクロペンタジエニル
骨格を有する配位子は、アルキル基、シクロアルキル
基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子などの置換基
を有していてもよい。
【００１９】該メタロセン化合物が配位子Ｌとしてシク
ロペンタジエニル骨格を有する基を２個以上有する場合
には、そのうち２個のシクロペンタジエニル骨格を有す
る基同士は、アルキレン基、置換アルキレン基、シリレ
ン基、置換シリレン基などの結合基を介して結合されて
いてもよい。
ロペンタジエニル骨格を有する基を２個以上有する場合
には、そのうち２個のシクロペンタジエニル骨格を有す
る基同士は、アルキレン基、置換アルキレン基、シリレ
ン基、置換シリレン基などの結合基を介して結合されて
いてもよい。
【００２０】シクロペンタジエニル骨格を有する配位子
以外のＬとしては、炭素原子数が１〜１２の炭化水素
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、スルホン酸含有基
（−ＳＯ3Ｒa 、但し、Ｒa はアルキル基、ハロゲン原
子で置換されたアルキル基、アリール基、ハロゲン原子
で置換されたアリール基またはアルキル基で置換された
アリール基である。）、ハロゲン原子、水素原子などが
挙げられる。
以外のＬとしては、炭素原子数が１〜１２の炭化水素
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、スルホン酸含有基
（−ＳＯ3Ｒa 、但し、Ｒa はアルキル基、ハロゲン原
子で置換されたアルキル基、アリール基、ハロゲン原子
で置換されたアリール基またはアルキル基で置換された
アリール基である。）、ハロゲン原子、水素原子などが
挙げられる。
【００２１】以下に、Ｍがジルコニウムであり、かつシ
クロペンタジエニル骨格を有する配位子を２個含むメタ
ロセン化合物を例示する。ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、ビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビ
ス（1-メチル-3-ブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス
（1,3-ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド、エチレン-ビス（インデニル）ジメチルジル
コニウム、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル
-フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェニル
シリレン-ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、メチルフェニルシリレン-ビス（インデニル）ジル
コニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス（2-メチル-1-
インデニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス（2-メチル-1-インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス(4,7-ジメチル-1
-インデニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス(2,4,7-トリメチル-1-インデニル）ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス(2,4,
6-トリメチル-1-インデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス（4-フェニル-1-インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス（2-メチル-4-フェニル-1-インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチ
ル-4-（α-ナフチル）-1-インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-
（β-ナフチル）-1-インデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-（1-アン
トリル）-1-インデニル）ジルコニウムジクロリドな
ど。
クロペンタジエニル骨格を有する配位子を２個含むメタ
ロセン化合物を例示する。ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、ビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビ
ス（1-メチル-3-ブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス
（1,3-ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド、エチレン-ビス（インデニル）ジメチルジル
コニウム、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル
-フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェニル
シリレン-ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、メチルフェニルシリレン-ビス（インデニル）ジル
コニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス（2-メチル-1-
インデニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス（2-メチル-1-インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス(4,7-ジメチル-1
-インデニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス(2,4,7-トリメチル-1-インデニル）ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス(2,4,
6-トリメチル-1-インデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス（4-フェニル-1-インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス（2-メチル-4-フェニル-1-インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチ
ル-4-（α-ナフチル）-1-インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-
（β-ナフチル）-1-インデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-（1-アン
トリル）-1-インデニル）ジルコニウムジクロリドな
ど。
【００２２】また、上記のような化合物においてジルコ
ニウム金属を、チタニウム金属、ハフニウム金属に置き
換えたメタロセン化合物を例示することもできる。また
本発明では、メタロセン化合物として下記一般式（II）
で示される遷移金属化合物を用いることもできる。
ニウム金属を、チタニウム金属、ハフニウム金属に置き
換えたメタロセン化合物を例示することもできる。また
本発明では、メタロセン化合物として下記一般式（II）
で示される遷移金属化合物を用いることもできる。
【００２３】Ｌ2 Ｍ2 Ｘ2 … （II） Ｍ2 は、周期率表第４族またはランタニド系列の金属で
あり、Ｌ2 は、非局在化π結合基の誘導体であり、金属
Ｍ2 活性サイトに拘束幾何形状を付与しており、Ｘは、
互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子もしくは
ハロゲン原子であるか、または２０個以下の炭素原子、
ケイ素原子もしくはゲルマニウム原子を含有する炭化水
素基、シリル基もしくはゲルミル基である。
あり、Ｌ2 は、非局在化π結合基の誘導体であり、金属
Ｍ2 活性サイトに拘束幾何形状を付与しており、Ｘは、
互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子もしくは
ハロゲン原子であるか、または２０個以下の炭素原子、
ケイ素原子もしくはゲルマニウム原子を含有する炭化水
素基、シリル基もしくはゲルミル基である。
【００２４】このような前記一般式（II）で示される化
合物のうちでは、下記一般式（III)で示される遷移金属
化合物が好ましい。
合物のうちでは、下記一般式（III)で示される遷移金属
化合物が好ましい。
【００２５】
【化１】
【００２６】式中、Ｍ2 はチタン、ジルコニウムまたは
ハフニウムであり、Ｘは、上記と同じである。ＣｐはＭ
2 にπ結合しており、かつ置換基Ｚを有する置換シクロ
ペンタジエニル基である。
ハフニウムであり、Ｘは、上記と同じである。ＣｐはＭ
2 にπ結合しており、かつ置換基Ｚを有する置換シクロ
ペンタジエニル基である。
【００２７】Ｚは酸素、イオウ、ホウ素または周期率表
第１４族の元素（たとえばケイ素、ゲルマニウムまたは
スズ）であり、Ｙは窒素、リン、酸素またはイオウを含
む配位子であり、ＺとＹとで縮合環を形成してもよい。
第１４族の元素（たとえばケイ素、ゲルマニウムまたは
スズ）であり、Ｙは窒素、リン、酸素またはイオウを含
む配位子であり、ＺとＹとで縮合環を形成してもよい。
【００２８】このような前記一般式（III）で示される
化合物としては、具体的に、（ジメチル（t-ブチルアミ
ド）（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シラ
ン）チタンジクロリド、（（t-ブチルアミド）（テトラ
メチル-η5-シクロペンタジエニル）-1,2-エタンジイ
ル）チタンジクロリドなどが挙げられる。
化合物としては、具体的に、（ジメチル（t-ブチルアミ
ド）（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シラ
ン）チタンジクロリド、（（t-ブチルアミド）（テトラ
メチル-η5-シクロペンタジエニル）-1,2-エタンジイ
ル）チタンジクロリドなどが挙げられる。
【００２９】上記のようなメタロセン化合物は、１種単
独でまたは２種以上組合わせて用いることができる。ま
た上記のようなメタロセン化合物は、粒子状担体に担持
させて用いることもできる。
独でまたは２種以上組合わせて用いることができる。ま
た上記のようなメタロセン化合物は、粒子状担体に担持
させて用いることもできる。
【００３０】このような粒子状担体としては、Ｓｉ
Ｏ2 、Ａｌ2Ｏ3 、Ｂ2Ｏ3 、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 、Ｃａ
Ｏ、ＴｉＯ2 、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＢａＯ、ＴｈＯなど
の無機担体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-1-
ブテン、ポリ4-メチル-1-ペンテン、スチレン-ジビニル
ベンゼン共重合体などの有機担体を用いることができ
る。これらの粒子状担体は、１種単独でまたは２種以上
組合わせて用いることができる。
Ｏ2 、Ａｌ2Ｏ3 、Ｂ2Ｏ3 、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 、Ｃａ
Ｏ、ＴｉＯ2 、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＢａＯ、ＴｈＯなど
の無機担体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-1-
ブテン、ポリ4-メチル-1-ペンテン、スチレン-ジビニル
ベンゼン共重合体などの有機担体を用いることができ
る。これらの粒子状担体は、１種単独でまたは２種以上
組合わせて用いることができる。
【００３１】次に、メタロセン触媒を形成する有機アル
ミニウムオキシ化合物およびイオン化イオン性化合物に
ついて説明する。有機アルミニウムオキシ化合物は、従
来公知のアルミノキサンであってもよく、また特開平２
−７８６８７号公報に例示されているようなベンゼン不
溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。
ミニウムオキシ化合物およびイオン化イオン性化合物に
ついて説明する。有機アルミニウムオキシ化合物は、従
来公知のアルミノキサンであってもよく、また特開平２
−７８６８７号公報に例示されているようなベンゼン不
溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。
【００３２】なお有機アルミニウムオキシ化合物は、少
量のアルミニウム以外の金属の有機化合物成分を含有し
ていてもよい。イオン化イオン性化合物としては、ルイ
ス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン
化合物を例示することができる。
量のアルミニウム以外の金属の有機化合物成分を含有し
ていてもよい。イオン化イオン性化合物としては、ルイ
ス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン
化合物を例示することができる。
【００３３】ルイス酸としては、ＢＲ3 （式中、Ｒはフ
ッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基などの置換
基を有していてもよいフェニル基またはフッ素原子であ
る。）で示される化合物が挙げられ、たとえばトルフル
オロボロン、トリフェニルボロン、トリス（4-フルオロ
フェニル）ボロン、トリス（3,5-ジフルオロフェニル）
ボロン、トリス（4-フルオロメチルフェニル）ボロン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（p-
トリル）ボロン、トリス（o-トリル）ボロン、トリス
（3,5-ジメチルフェニル）ボロンなどが挙げられる。
ッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基などの置換
基を有していてもよいフェニル基またはフッ素原子であ
る。）で示される化合物が挙げられ、たとえばトルフル
オロボロン、トリフェニルボロン、トリス（4-フルオロ
フェニル）ボロン、トリス（3,5-ジフルオロフェニル）
ボロン、トリス（4-フルオロメチルフェニル）ボロン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（p-
トリル）ボロン、トリス（o-トリル）ボロン、トリス
（3,5-ジメチルフェニル）ボロンなどが挙げられる。
【００３４】イオン性化合物としては、トリアルキル置
換アンモニウム塩、N,N-ジアルキルアニリニウム塩、ジ
アルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウム
塩などを挙げることができる。具体的に、トリアルキル
置換アンモニウム塩としては、たとえばトリエチルアン
モニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリプロピルアン
モニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリ（n-ブチル）
アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられ
る。ジアルキルアンモニウム塩としては、たとえばジ
（1-プロピル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフ
ェニル）ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ
（フェニル）ホウ素などが挙げられる。さらにイオン性
化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、N,N-ジメチルア
ニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、フェロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートなどを挙げることもできる。
換アンモニウム塩、N,N-ジアルキルアニリニウム塩、ジ
アルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウム
塩などを挙げることができる。具体的に、トリアルキル
置換アンモニウム塩としては、たとえばトリエチルアン
モニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリプロピルアン
モニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリ（n-ブチル）
アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられ
る。ジアルキルアンモニウム塩としては、たとえばジ
（1-プロピル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフ
ェニル）ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ
（フェニル）ホウ素などが挙げられる。さらにイオン性
化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、N,N-ジメチルア
ニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、フェロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートなどを挙げることもできる。
【００３５】ボラン化合物としては、デカボラン（１
４）、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ノナボレ
ート、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕デカボレ
ート、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ビス（ド
デカハイドライドドデカボレート）ニッケル酸塩（III)
などの金属ボランアニオンの塩などが挙げられる。
４）、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ノナボレ
ート、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕デカボレ
ート、ビス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ビス（ド
デカハイドライドドデカボレート）ニッケル酸塩（III)
などの金属ボランアニオンの塩などが挙げられる。
【００３６】カルボラン化合物としては、4-カルバノナ
ボラン（１４）、1,3-ジカルバノナボラン（１３）、ビ
ス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハ
イドライド-7-カルバウンデカボレート）ニッケル酸塩
（IV）などの金属カルボランアニオンの塩などが挙げら
れる。
ボラン（１４）、1,3-ジカルバノナボラン（１３）、ビ
ス〔トリ（n-ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハ
イドライド-7-カルバウンデカボレート）ニッケル酸塩
（IV）などの金属カルボランアニオンの塩などが挙げら
れる。
【００３７】上記のようなイオン化イオン性化合物は、
１種単独でまたは２種以上組合わせて用いることができ
る。前記有機アルミニウムオキシ化合物またはイオン化
イオン性化合物は、上述した粒子状担体に担持させて用
いることもできる。
１種単独でまたは２種以上組合わせて用いることができ
る。前記有機アルミニウムオキシ化合物またはイオン化
イオン性化合物は、上述した粒子状担体に担持させて用
いることもできる。
【００３８】また触媒を形成するに際しては、有機アル
ミニウムオキシ化合物またはイオン化イオン性化合物と
ともに以下のような有機アルミニウム化合物を用いても
よい。
ミニウムオキシ化合物またはイオン化イオン性化合物と
ともに以下のような有機アルミニウム化合物を用いても
よい。
【００３９】有機アルミニウム化合物としては、分子内
に少なくとも１個のＡｌ−炭素結合を有する化合物が利
用できる。このような化合物としては、たとえば下記一
般式で表される有機アルミニウム化合物が挙げられる。
に少なくとも１個のＡｌ−炭素結合を有する化合物が利
用できる。このような化合物としては、たとえば下記一
般式で表される有機アルミニウム化合物が挙げられる。
【００４０】（Ｒ1 ）m Ａｌ（Ｏ（Ｒ2 ））nＨpＸq （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が通常１〜１５、好ましくは１〜
４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは
０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０
≦ｑ＜３を満たす数であって、しかも、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ
＝３である。） 本発明で用いられるポリプロピレンは、上記のようなメ
タロセン触媒の存在下に常法に従い、プロピレンを単独
重合させるか、またはプロピレンと少量の炭素原子数が
４〜２０のα−オレフィンとを共重合させることにより
製造することができる。
てもよく、炭素原子数が通常１〜１５、好ましくは１〜
４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは
０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０
≦ｑ＜３を満たす数であって、しかも、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ
＝３である。） 本発明で用いられるポリプロピレンは、上記のようなメ
タロセン触媒の存在下に常法に従い、プロピレンを単独
重合させるか、またはプロピレンと少量の炭素原子数が
４〜２０のα−オレフィンとを共重合させることにより
製造することができる。
【００４１】本発明に係るポリプロピレン製二軸延伸フ
ィルムは、上記のようなポリプロピレンからなるシート
またはフィルムを用いて従来公知の延伸装置により製造
することができる。たとえば、テンター法（縦横延伸、
横縦延伸）、同時二軸延伸法などが挙げられる。二軸延
伸フィルムの延伸倍率は、通常２０〜７０倍であること
が望ましい。また二軸延伸フィルムの厚さは、通常５〜
２００μｍであることが望ましい。このような二軸延伸
フィルムは、機械的強度に優れると共に、透明性に優れ
ている。
ィルムは、上記のようなポリプロピレンからなるシート
またはフィルムを用いて従来公知の延伸装置により製造
することができる。たとえば、テンター法（縦横延伸、
横縦延伸）、同時二軸延伸法などが挙げられる。二軸延
伸フィルムの延伸倍率は、通常２０〜７０倍であること
が望ましい。また二軸延伸フィルムの厚さは、通常５〜
２００μｍであることが望ましい。このような二軸延伸
フィルムは、機械的強度に優れると共に、透明性に優れ
ている。
【００４２】本発明のポリプロピレン製二軸延伸フィル
ムには、本発明の目的を損なわない範囲で、耐候性安定
剤、耐熱安定剤、帯電防止剤、スリップ防止剤、アンチ
ブロッキング剤、防曇剤、滑剤、顔料、染料、核剤、可
塑剤、老化防止剤、塩酸吸収剤、酸化防止剤等の添加剤
が必要に応じて配合されていてもよい。
ムには、本発明の目的を損なわない範囲で、耐候性安定
剤、耐熱安定剤、帯電防止剤、スリップ防止剤、アンチ
ブロッキング剤、防曇剤、滑剤、顔料、染料、核剤、可
塑剤、老化防止剤、塩酸吸収剤、酸化防止剤等の添加剤
が必要に応じて配合されていてもよい。
【００４３】
【発明の効果】本発明に係るポリプロピレン製二軸延伸
フィルムは、透明性、表面光沢などの光学的特性および
引張強度、耐衝撃性などの機械的特性に優れ、かつ透湿
度が低い。
フィルムは、透明性、表面光沢などの光学的特性および
引張強度、耐衝撃性などの機械的特性に優れ、かつ透湿
度が低い。
【００４４】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
【００４５】なお実施例においてフィルムの物性は以下
のようにして測定した。 ［ヘイズ（Ｈａｚｅ）］ＡＳＴＭ−Ｄ−１００３−６１
に従って測定した。
のようにして測定した。 ［ヘイズ（Ｈａｚｅ）］ＡＳＴＭ−Ｄ−１００３−６１
に従って測定した。
【００４６】［グロス（Ｇｌｏｓｓ）］ＪＩＳ Ｚ８７
４１にしたがって測定した。 ［ＹＭ］ 引張速度：２００ｍｍ／分 チャック間距離：８６ｍｍ ［フィルムインパクト］東洋精機製作所製振子式フィル
ム衝撃試験機（フィルムインパクトテスター）により測
定した。
４１にしたがって測定した。 ［ＹＭ］ 引張速度：２００ｍｍ／分 チャック間距離：８６ｍｍ ［フィルムインパクト］東洋精機製作所製振子式フィル
ム衝撃試験機（フィルムインパクトテスター）により測
定した。
【００４７】［２５μｍ透湿度］ＪＩＳ Ｚ−０２０８
に従い、４０℃、９０％ＲＨの条件で測定し、ｇ／ｍ2
・２４hrの単位で示す。
に従い、４０℃、９０％ＲＨの条件で測定し、ｇ／ｍ2
・２４hrの単位で示す。
【００４８】
【実施例１〜４】表１に示すようなポリプロピレンに、
適当な酸化防止剤、塩酸吸収剤、帯電防止剤を添加し、
押出機によりペレタイズした。そしてさらに押出機で溶
融後、樹脂温度２７０℃でＴ−ダイより押出し、シート
状に冷却固化し、次いで１３０℃と１４０℃の加熱ロー
ル（速度４ｍ／分、２０ｍ／分）を通すことにより、延
伸倍率５倍になるように縦方法に延伸した。次いで、こ
のシートを入口付近１９０℃、出口付近１６５℃のテン
ター内で横方向に延伸倍率１０倍になるように延伸する
ことにより、厚みが約２５μｍのフィルムを得た。この
フィルムについて各種物性を評価した。
適当な酸化防止剤、塩酸吸収剤、帯電防止剤を添加し、
押出機によりペレタイズした。そしてさらに押出機で溶
融後、樹脂温度２７０℃でＴ−ダイより押出し、シート
状に冷却固化し、次いで１３０℃と１４０℃の加熱ロー
ル（速度４ｍ／分、２０ｍ／分）を通すことにより、延
伸倍率５倍になるように縦方法に延伸した。次いで、こ
のシートを入口付近１９０℃、出口付近１６５℃のテン
ター内で横方向に延伸倍率１０倍になるように延伸する
ことにより、厚みが約２５μｍのフィルムを得た。この
フィルムについて各種物性を評価した。
【００４９】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｆ 210/06 Ｃ０８Ｆ 210/06 Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＳ Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＳ // Ｂ２９Ｋ 23:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 23:12 23:14
Claims (2)
- 【請求項１】(1) ２３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定
されるメルトフローレートが０．１〜２０ｇ／10分の範
囲にあり、(2) 示差走査型熱量計により測定される吸熱
曲線の最大ピーク位置の温度が１３０〜１７０℃の範囲
にあり、(3) 13Ｃ−ＮＭＲにより測定されるメソペンタ
ッドアイソタクティシティーが８０〜１００％の範囲に
あり、(4) ゲルパーミエーションクロマトグラフィーに
より測定される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜
３．５の範囲にあり、(5) 室温デカン可溶成分が２．０
重量％以下であるポリプロピレンを熱成形して得られる
ことを特徴とするポリプロピレン製二軸延伸フィルム。 - 【請求項２】前記ポリプロピレンは、メタロセン触媒を
用いて製造されたものである請求項１に記載のポリプロ
ピレン製二軸延伸フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8350753A JPH10182899A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | ポリプロピレン製二軸延伸フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8350753A JPH10182899A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | ポリプロピレン製二軸延伸フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10182899A true JPH10182899A (ja) | 1998-07-07 |
Family
ID=18412637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8350753A Pending JPH10182899A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | ポリプロピレン製二軸延伸フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10182899A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002275333A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Grand Polymer Co Ltd | ポリプロピレン樹脂組成物および二軸延伸フィルム |
| JP2002275282A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Grand Polymer Co Ltd | ポリプロピレン二軸延伸フィルム |
| JP2004315582A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-11 | Mitsui Chemicals Inc | ポリプロピレン樹脂組成物および二軸延伸フィルム |
| WO2010074188A1 (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | 住友化学株式会社 | 光拡散板及び面光源装置並びに液晶表示装置 |
| JP2014055283A (ja) * | 2012-06-29 | 2014-03-27 | Toyobo Co Ltd | 延伸ポリプロピレンフィルム |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62119215A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | プロピレン系ランダム共重合体およびそれからなる熱可塑性樹脂用耐衝撃性改善剤 |
| WO1995027740A1 (fr) * | 1994-04-11 | 1995-10-19 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Procede de production d'une composition de polymere de propylene, et composition de polymere de propylene |
| JPH07286007A (ja) * | 1994-04-20 | 1995-10-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | 二軸延伸フィルム用ポリプロピレンおよび二軸延伸フィルム |
| JPH07309912A (ja) * | 1994-05-19 | 1995-11-28 | Tokuyama Corp | ポリプロピレン樹脂および延伸フィルム |
| JPH0873528A (ja) * | 1994-09-09 | 1996-03-19 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | プロピレン単独重合体およびそれを用いた二軸延伸フィルム |
| JPH08504457A (ja) * | 1992-12-16 | 1996-05-14 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | プロピレン単独重合体 |
| JPH08198979A (ja) * | 1995-01-23 | 1996-08-06 | Showa Denko Kk | 延伸ポリプロピレンフィルム |
| JPH08325327A (ja) * | 1995-06-02 | 1996-12-10 | Chisso Corp | 高立体規則性ポリプロピレン |
| JPH091652A (ja) * | 1995-05-31 | 1997-01-07 | Hoechst Ag | 向上した水蒸気および酸素遮断性を有する二軸延伸ポリプロピレンフィルム |
| JPH091649A (ja) * | 1995-05-31 | 1997-01-07 | Hoechst Ag | 向上した機械的性質と遮断性を有する二軸延伸ポリプロピレンフィルム |
-
1996
- 1996-12-27 JP JP8350753A patent/JPH10182899A/ja active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62119215A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | プロピレン系ランダム共重合体およびそれからなる熱可塑性樹脂用耐衝撃性改善剤 |
| JPH08504457A (ja) * | 1992-12-16 | 1996-05-14 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | プロピレン単独重合体 |
| WO1995027740A1 (fr) * | 1994-04-11 | 1995-10-19 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Procede de production d'une composition de polymere de propylene, et composition de polymere de propylene |
| JPH07286007A (ja) * | 1994-04-20 | 1995-10-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | 二軸延伸フィルム用ポリプロピレンおよび二軸延伸フィルム |
| JPH07309912A (ja) * | 1994-05-19 | 1995-11-28 | Tokuyama Corp | ポリプロピレン樹脂および延伸フィルム |
| JPH0873528A (ja) * | 1994-09-09 | 1996-03-19 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | プロピレン単独重合体およびそれを用いた二軸延伸フィルム |
| JPH08198979A (ja) * | 1995-01-23 | 1996-08-06 | Showa Denko Kk | 延伸ポリプロピレンフィルム |
| JPH091652A (ja) * | 1995-05-31 | 1997-01-07 | Hoechst Ag | 向上した水蒸気および酸素遮断性を有する二軸延伸ポリプロピレンフィルム |
| JPH091649A (ja) * | 1995-05-31 | 1997-01-07 | Hoechst Ag | 向上した機械的性質と遮断性を有する二軸延伸ポリプロピレンフィルム |
| JPH08325327A (ja) * | 1995-06-02 | 1996-12-10 | Chisso Corp | 高立体規則性ポリプロピレン |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002275282A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Grand Polymer Co Ltd | ポリプロピレン二軸延伸フィルム |
| JP2002275333A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Grand Polymer Co Ltd | ポリプロピレン樹脂組成物および二軸延伸フィルム |
| JP2004315582A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-11 | Mitsui Chemicals Inc | ポリプロピレン樹脂組成物および二軸延伸フィルム |
| WO2010074188A1 (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | 住友化学株式会社 | 光拡散板及び面光源装置並びに液晶表示装置 |
| JP2014055283A (ja) * | 2012-06-29 | 2014-03-27 | Toyobo Co Ltd | 延伸ポリプロピレンフィルム |
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