JPH10148272A - 遮断開放器 - Google Patents

遮断開放器

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JPH10148272A
JPH10148272A JP8308865A JP30886596A JPH10148272A JP H10148272 A JPH10148272 A JP H10148272A JP 8308865 A JP8308865 A JP 8308865A JP 30886596 A JP30886596 A JP 30886596A JP H10148272 A JPH10148272 A JP H10148272A
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fluid
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outflow passage
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忠弘 大見
Yoshiyuki Hirao
圭志 平尾
Shigeaki Tanaka
林明 田中
Michio Yamaji
道雄 山路
Yuji Karato
裕司 唐土
Shinichi Ikeda
信一 池田
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    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
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    • Y10T137/87917—Flow path with serial valves and/or closures
    • Y10T137/88054—Direct response normally closed valve limits direction of flow

Abstract

(57)【要約】 【課題】 流体の置換が素早く行われて流体の純度が確
保される遮断開放器を提供する。 【解決手段】 弁7 の弁本体39が、第１流体用流入通路
61と、第２流体用流入通路63と、第１流体および第２流
体に共通の流出通路64とを有している。第１流体用流入
通路61と共通流出通路64とは、弁室62を介して常時連通
している。第２流体用流入通路63は、第１流体用流入通
路61および共通流出通路64に弁室62を介して連通しかつ
その連通が弁体67により遮断開放されるようになされて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造装置
における流体制御装置等に用いられる遮断開放器に関
し、特に、複数の弁を備えかつマスフローコントローラ
等の流体制御器の流体入口および／または流体出口に設
けられて複数の流体通路を遮断開放する遮断開放器に関
する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、マスフローコントローラの流体
入口側に設けられた従来の遮断開放器(81)を示している
（特開平５−１７２２６５号公報参照）。従来の遮断開
放器(81)は、入口より遠い方（図の左側）の第１開閉弁
(82)および入口に近い方（図の右側）の第２開閉弁(83)
を備えている。第１開閉弁(82)は、第１弁本体(84)およ
び第１弁アクチュエータ(86)よりなり、第２開閉弁(83)
は、第１弁本体(84)と一体に形成された第２弁本体(85)
および第２弁アクチュエータ(87)よりなる。第１弁本体
(84)は、第１流体用流入通路(88)と、この流入通路(88)
に弁室(89)を介して連通しかつその連通が第１弁アクチ
ュエータ(86)の操作により遮断開放される第１流体用流
出通路(90)とを有している。第２弁本体(85)は、第１弁
本体(84)の第１流体用流出通路(90)に常時連通し第１流
体をマスフローコントローラの入口側に排出する主流出
通路(91)と、一端側が第２弁本体(85)の下面に開口し他
端側が弁室(92)に通じている第２流体用流入通路(93)
と、一端側において第２流体用流入通路(93)と弁室(92)
を介して連通しかつその連通が第２弁アクチュエータ(8
7)の操作により遮断開放されるようになされているとと
もに、他端側において主流出通路(91)と常時連通してい
る第２流体用副流出通路(94)とを有している。図４にお
いて、(95)(96)はダイヤフラムを示し、弁アクチュエー
タ(86)(87)の操作による弁棒(97)(98)の上下動に伴っ
て、ダイヤフラム(95)(96)が弁室(89)(92)内において上
下動することにより、各流入通路(88)(93)が遮断開放さ
れる。
【０００３】この種の遮断開放器では、通常、第１の流
体（例えばプロセスガス）を流した後、一旦この流れを
遮断し、第２の流体（例えばパージガス）を流すことに
より、第１の流体を遮断開放器外に排出して第２の流体
に置換し、その後再び、第１の流体を流すという作業が
行われる。上記従来の遮断開放器(81)において、第１の
流体と第２の流体とを切り替えて流す場合、次のように
なる。
【０００４】まず、第１弁アクチュエータ(86)および第
２弁アクチュエータ(87)を操作して、第１開閉弁(82)を
開、第２開閉弁(83)を閉とすることにより、第１の流体
が、第１弁本体(84)の流入通路(88)、同流出通路(90)お
よび第２弁本体(85)の主流出通路(91)を経て、マスフロ
ーコントローラの入口側に導入される。このとき、第２
流体用副流出通路(94)は第１の流体によって満たされる
ことになる。次いで、第１弁アクチュエータ(86)および
第２弁アクチュエータ(87)を操作して、第１開閉弁(82)
を閉、第２開閉弁(83)を開とすることにより、第２の流
体が、第２流体用流入通路(93)、第２流体用副流出通路
(94)および主流出通路(91)を経て、マスフローコントロ
ーラの入口側に導入される。このさい、第２の流体は、
第２流体用副流出通路(94)およびこれに続く主流出通路
(91)に残る第１の流体を自身の圧力により追い出して流
れ、第１弁本体(84)の第１流体用流出通路(90)は、第２
の流体に満たされることになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】遮断開放器において、
第１の流体と第２の流体とを切り替えて流す場合、流体
の置換が素早く行われて流体の純度が確保されること
が、非常に重要な性能となっている。
【０００６】上記従来の遮断開放器(81)の第２開閉弁(8
3)において、第１の流体を流した後に、第２流体用流入
通路(93)より第２の流体を導入したさい、第１弁本体(8
4)の第１流体用流出通路(90)が第１の流体の溜まり部に
なり、溜まり部にある第１の流体が第２の流体にわずか
ずつ混ざり、第２の流体が第１の流体に置換されにくい
という問題があった。
【０００７】この発明の目的は、流体の置換が素早く行
われて流体の純度が確保される遮断開放器を提供するこ
とにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】この発
明による遮断開放器は、複数の弁を備えかつマスフロー
コントローラ等の流体制御器の流体入口および／または
流体出口に設けられて複数の流体通路を遮断開放する遮
断開放器において、複数の弁のうち少なくとも１つの弁
の弁本体が、第１流入通路、第１流出通路および第２流
入または流出通路を有しており、第１流入通路と第１流
出通路とは、弁室を介して常時連通しており、第２流入
または流出通路は、第１流入通路および第１流出通路に
弁室を介して連通しかつその連通が弁体により遮断開放
されるようになされていることを特徴とするものであ
る。
【０００９】遮断開放器が流体制御器の流体入口側に設
けられる場合は、第２流入または流出通路は第２流体
（例えば半導体製造装置におけるプロセスガス）用流入
通路となり、第１流入通路は第１流体（同パージガス）
用流入通路となり、第１流出通路は、第１流体および第
２流体に共通の流出通路となる。
【００１０】したがって、図３に示すように、この発明
の遮断開放器(1) を流体制御器の流体入口側に設ける場
合、第１流入通路(61)、第１流出通路(64)および第２流
入または流出通路(63)を有している弁(7) について、例
えば、まず、アクチュエータ(38)の操作により第２流体
用流入通路（第２流入または流出通路）(63)と第１流体
用流入通路（第１流入通路）(61)および共通流出通路
（第１流出通路）(64)とを連通させて、第２の流体を第
２流体用流入通路(63)から共通流出通路(64)へと流す。
この後、アクチュエータ(38)の操作により第２流体用流
入通路(63)を遮断し、第１流体用流入通路(61)および共
通流出通路(64)に第１の流体を流す。このとき、第１の
流体は、自身の圧力によって共通流出通路(64)に残って
いる第２の流体を追い出し、これにより、第１の流体と
第２の流体が混ざり合った状態が素早く解消され、短時
間で第１の流体だけが流れるようになる。
【００１１】遮断開放器が流体制御器の流体出口側に設
けられる場合は、第２流入または流出通路は第２流体用
流出通路となり、第１流出通路は第１流体用流出通路と
なり、第１流入通路は、第１の流体および第２の流体に
共通の流入通路となる。この場合は、流入と流出とが上
記と逆になるだけで、上記と同様の作用および効果とな
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、以下図
面を参照して説明する。
【００１３】この明細書において、前後・上下・左右に
ついては、図１を基準とし、同図の右を前、左を後、上
下を上下というものとし、左右は前方に向かっていうも
のとする。この前後・上下・左右は便宜的なもので、前
後が逆になったり、上下が左右になったりして使用され
ることもある。
【００１４】図１から図３までは、この発明の遮断開放
器(1)(2)の実施形態を示している。図１および図２に示
すように、この遮断開放器(1)(2)は、マスフローコント
ローラ(3) 等の流体制御器の入口側（後側）および出口
側（前側）に設けられて、半導体製造装置等において用
いられる流体制御装置(4) を構成する。
【００１５】入口側の遮断開放器(1) は、マスフローコ
ントローラ(3) に遠い方から順に、第１逆止弁(5) 、第
１開閉弁(6) および第２開閉弁(7) を備えている。ま
た、出口側の遮断開放器(2) は、マスフローコントロー
ラ(3) に近い方から順に、第３開閉弁(8) 、第４開閉弁
(9) 、第５開閉弁(10)および第２逆止弁(11)を備えてい
る。
【００１６】各開閉弁(6)(7)(8)(9)(10)は、それぞれ、
直方体状弁本体(37)(39)(41)(43)(45)およびこれに上方
から取り付けられて弁本体(37)(39)(41)(43)(45)内の流
路を適宜遮断開放するアクチュエータ(36)(38)(40)(42)
(44)よりなる。また、各逆止弁(5)(11) は、それぞれ、
上流側（後側）本体(33)(46)と、上流側弁本体(33)(46)
とねじで接続された中央弁本体(34)(47)と、中央弁本体
(34)(47)とねじで接続された下流側（前側）弁本体(35)
(48)と、後述する逆止め機構(49)とを備えている。
【００１７】流体制御装置(4) は、第１逆止弁(5) に接
続されたパージガス導入ライン(28)と、第２開閉弁(7)
に接続されたプロセスガス導入ライン(29)と、第３開閉
弁(8) に接続された真空引きライン(30)と、第４開閉弁
(10)に接続されたプロセスガス送り込みライン(31)と、
第２逆止弁(11)に接続されたパージガス排出ライン(32)
とを備えている。
【００１８】第１逆止弁(5) の上流側弁本体(33)の下面
には、下面にパージガス導入ライン(28)との接続用継手
部(13)を有する通路ブロック(12)が設けられている。第
１逆止弁(5) の下流側弁本体(35)の下面には、第１開閉
弁(6) の弁本体(37)との接続用の通路ブロック(14)が設
けられている。
【００１９】第２開閉弁(7) の弁本体(39)の下面には、
下面にプロセスガス導入ライン(29)との接続用継手部(1
6)を有する通路ブロック(15)が設けられている。また、
第２開閉弁(7) の弁本体(39)の前面には、マスフローコ
ントローラ(3) との接続用の通路ブロック(17)が設けら
れている。
【００２０】マスフローコントローラ(3) の後面には、
第２開閉弁(7) の弁本体(39)の前側の通路ブロック(17)
に上方からねじ込まれたねじにより接続されている入口
側通路ブロック(18)が設けられている。マスフローコン
トローラ(3) の前面には、入口側通路ブロック(18)と対
称な出口側通路ブロック(19)が設けられている。
【００２１】第３開閉弁(8) の弁本体(41)の後面には、
マスフローコントローラ(3) 前面の出口側通路ブロック
(19)との接続用の通路ブロック(20)が設けられている。
第３開閉弁(8) の弁本体(41)の下面には、下面に真空ポ
ンプに通じる真空引きライン(30)との接続用継手部(22)
を有する通路ブロック(21)が設けられている。
【００２２】第４開閉弁(9) の弁本体(43)の下面には、
下面にプロセスチャンバーに通じるプロセスガス送り込
みライン(31)との接続用の継手部(24)を有する通路ブロ
ック(23)が設けられている。
【００２３】第５開閉弁(10)の弁本体(45)の前面には、
第２逆止弁(11)の上流側弁本体(46)との接続用の通路ブ
ロック(25)が設けられている。
【００２４】第２逆止弁(11)の下流側弁本体(48)の下面
には、前面にパージガス排出ライン(32)との接続用継手
部(27)を有する通路ブロック(26)が設けられている。
【００２５】第１逆止弁(5) および第２逆止弁(11)にお
いて、上流側弁本体(33)(46)とこれの下面に設けられた
通路ブロック(12)(25)とは、上流側弁本体(33)(46)の上
方からねじ込まれたねじにより接続され、下流側弁本体
(35)(48)とこれの下面に設けられた通路ブロック(14)(2
6)とは、下流側弁本体(35)(48)の上方からねじ込まれた
ねじにより接続されている。したがって、これらのねじ
を外すことにより、第１逆止弁(5) および第２逆止弁(1
1)は、上方に取り外すことができる。
【００２６】図３は、入口側の遮断開放器(1) の断面を
示すもので、同図を参照して、第１逆止弁(5) 、第１開
閉弁(6) および第２開閉弁(7) の内部の構成とについて
説明する。
【００２７】第１逆止弁(5) の逆止め機構(49)は、中央
弁本体(34)に設けられた右向きの凹所(34a) に配置され
た筒状の静止シール部材(51)と、静止シール部材(51)の
下流側にこれと対向するように配置された筒状の可動シ
ール部材(52)と、中央弁本体(34)と下流側弁本体(35)と
の間に挟持され可動シール部材(52)を前後に移動させる
ダイヤフラム(53)とよりなる。第１逆止弁(5) の上流側
弁本体(33)には、一端が下向きに開口し他端が前向きに
開口した逆Ｌ形の流入通路(54)が設けられ、同下流側弁
本体(35)には、一端が下向きに開口し他端が後向きに開
口した逆Ｌ形の流出通路(56)が設けられている。静止シ
ール部材(51)の周壁には、流入通路(54)から凹所(34a)
内に通じる連通路(55)が設けられ、静止シール部材(51)
の前端部は端壁により閉鎖されている。したがって、可
動シール部材(52)の後端部が静止シール部材(52)の端壁
から離れていると、流体は、可動シール部材(52)の後端
部と静止シール部材(51)の端壁との隙間を通って、凹所
(34a) 内から可動シール部材(52)内または可動シール部
材(52)内から凹所(34a) 内に流れることが可能となる。
逆に、可動シール部材(52)の後端部が静止シール部材(5
1)の端壁に当接させられると、凹所(34a) 内から可動シ
ール部材(52)内または可動シール部材(52)内から凹所(3
4a) 内への流体の流れは阻止される。
【００２８】この第１逆止弁(5) によると、流入通路(5
4)に流体（この実施形態ではパージガス）が流入する
と、この流体圧力によりダイヤフラム(53)は前方に変形
させられ、この結果可動シール部材(52)が静止シール部
材(51)から離れ、流体は、自身の圧力によって、凹所(3
4a) 内から可動シール部材(52)内を経て、流出通路(56)
へと流れていく。一方、流入通路(54)に流体が導入され
なくなり、流出通路(56)側から凹所(34a) 内へ流体が逆
流しそうになると、ダイヤフラム(53)は後方に変形させ
られ、この結果、可動シール部材(52)が静止シール部材
(51)に当接し、流出通路(56)側から凹所(34a) 内への流
体の逆流は阻止される。なお、図示省略したが、第２逆
止弁(11)は、第１逆止弁(5) と同一の構成とされてい
る。
【００２９】第１逆止弁(5) の下流側弁本体(41)の下面
に設けられた接続用通路ブロック(14)には、第１逆止弁
(5) の流出通路(56)に通じるＬ字形連通路(57)が設けら
れている。
【００３０】第１開閉弁(6) の弁本体(37)には、Ｌ字形
連通路(57)に通じるＬ字形の流入通路(58)と、流入通路
(58)と弁室(59)を介して連通しかつその連通が弁アクチ
ュエータ(36)の操作により遮断開放されるＬ字形の流出
通路(60)とが形成されている。第１開閉弁(6) は、常時
開形のダイヤフラム弁とされており、ダイヤフラム（弁
体）(65)を押圧する弁棒(66)が下降させられることによ
り、流入通路(58)が遮断される。なお、図示省略した
が、第５開閉弁(10)は、第１開閉弁(6) と同じ形式であ
り、第１開閉弁(6) を前後逆にして、すなわち、流入通
路と流出通路とを逆にして使用されている。
【００３１】第２開閉弁(7) の弁本体(39)には、一端側
において第１開閉弁(6) のＬ字形の流出通路(60)に通じ
かつ他端側において弁室(62)に通じている第１流体用流
入通路(61)と、一端側において弁本体(39)下方の通路ブ
ロック(15)の流入通路（図示略）に通じ他端側において
弁室(62)に通じている第２流体用流入通路(63)と、一端
側において弁室(62)に通じ他端側においてマスフローコ
ントローラ(3) との接続用の通路ブロック(17)の流入通
路に通じている、第１流体および第２流体に共通の流出
通路(64)とを有している。第１流体用流入通路(61)と共
通流出通路(64)とは、弁室(62)を介して常時連通してお
り、第２流体用流入通路(63)は、第１流体用流入通路(6
1)および共通流出通路(64)と弁室(62)を介して連通しか
つその連通がダイヤフラム（弁体）(67)により遮断開放
されるようになされている。第２開閉弁(7) は、常時閉
形のダイヤフラム弁とされており、弁アクチュエータ(3
8)の操作により、ダイヤフラム(67)を押圧する弁棒(68)
が弁室(62)内において上昇させられることにより、第２
流体用流入通路(63)が開放される。第２流体用流入通路
(63)が遮断されている場合でも、第１流体用流入通路(6
1)と第１流体用流出通路(64)とは、弁室(62)底面に設け
られた環状溝(62a) を介して連通状態とされている。
【００３２】この流体制御装置によると、第１開閉弁
(6) を閉、第２開閉弁(7) を開、第３開閉弁(8) を閉、
第４開閉弁(9) を開、第５開閉弁(10)を閉として、プロ
セスガス導入ライン(29)から第２開閉弁(7) にプロセス
ガスを導入すると、プロセスガスは、マスフローコント
ローラ(3) により流量を調整されて、第３開閉弁(8) 、
第４開閉弁(9) およびプロセスガス送り込みライン(31)
を経て、プロセスチャンバーに送られる。この後、第１
開閉弁(6) を開、第２開閉弁(7) を閉、第３開閉弁(8)
を閉、第４開閉弁(9) を閉、第５開閉弁(10)を開とし
て、パージガス導入ライン(28)から第１逆止弁(5) にパ
ージガスを導入すると、パージガスは、第１逆止弁(5)
、第１開閉弁(6) 、第２開閉弁(7) 、マスフローコン
トローラ(3) 、第３開閉弁(8) 、第４開閉弁(9) 、第５
開閉弁(10)、第２逆止弁(11)およびパージガス排出ライ
ン(32)を経て流れ、これにより、流体制御装置内からプ
ロセスガスをパージする。これに引き続いて、第３開閉
弁(8) を開として、真空引きライン(30)を通じて真空引
きすると、流体制御装置内に残っているパージガスが吸
引されて流体制御装置内がクリーンな状態となる。
【００３３】図３を参照して、入口側の遮断開放器(1)
内でのガスの流れについて説明する。
【００３４】第２の流体（この実施形態ではプロセスガ
ス）を流すさい、第２開閉弁(7) については、弁アクチ
ュエータ(38)の操作により第２流体用流入通路(63)と第
１流体用流入通路(61)および共通流出通路(64)とを連通
させて、第２の流体を第２流体用流入通路(63)から共通
流出通路(64)へと流す。次いで、第１の流体（この実施
形態ではパージガス）を流すさいには、第２開閉弁(7)
については、弁アクチュエータ(38)の操作により第２流
体用流入通路(63)を遮断する。そして、第１の流体を流
す。このとき、第１の流体は、第１逆止弁(5) 、接続用
通路ブロック(14)および第１開閉弁(6) 内を流れて、第
２開閉弁(7) の第１流体用流入通路(61)内に流入し、自
身の圧力によって第２開閉弁(7) の共通流出通路(64)に
残っている第２の流体を追い出して、マスフローコント
ローラ(3) へと流れていく。これにより、第１の流体と
第２の流体が混ざり合った状態が素早く解消され、短時
間で第１の流体（パージガス）だけが流れるようにな
る。
【００３５】なお、図示省略したが、第３開閉弁(8) お
よび第４開閉弁(9) は、第２開閉弁(7) と同じ形式の弁
とされている。第４開閉弁(9) は、第２開閉弁(7) を前
後逆にして、すなわち、流入通路と流出通路とを逆にし
て使用されている。また、第３開閉弁(8) は、第２開閉
弁(7) を前後逆にし、さらに、流出通路を真空引き用通
路として使用されている。
【００３６】弁本体(37)(39)(41)(43)(45)同士の突き合
わせ端面および弁本体(33)(35)(39)(41)(43)(45)(46)(4
8)と通路ブロック(12)(14)(15)(17)(18)(19)(20)(21)(2
3)(25)(26)との突き合わせ端面におけるシール部(69)
は、すべて同じ構成とされている。このシール部(69)の
構成について、第１逆止弁(5) の下流側弁本体(35)下面
の通路ブロック(14)と第１開閉弁(6) の弁本体(37)との
突き合わせ部を例にとって説明する。
【００３７】通路ブロック(14)の突き合わせ端面と弁本
体(37)の突き合わせ端面とは、対称状に形成されてお
り、いずれもリテーナ保持用円筒部(72)(73)を有してい
る。そして両突合わせ端面間に円環状ガスケット(70)が
介在させられ、リテーナ(71)がこのガスケット(70)の外
周面を保持してガスケット(70)を弁本体(37)に保持させ
ている。リテーナ(71)は、通路ブロック(14)および弁本
体(37)のどちらでも保持することができ、したがって、
これらの突き合わせ端面が雄型か雌型かを区別せずに、
種々の通路ブロック(12)(14)(15)(17)(18)(19)(20)(21)
(23)(25)(26)および種々の弁本体(33)(35)(37)(39)(41)
(43)(45)(46)(48)等を順次連結していくことができる。
【００３８】なお、第１開閉弁(6) の弁本体(37)と第２
開閉弁(7) の弁本体(39)とは、一体の部材として、シー
ル部を介在させないようにすることもできる。同様に、
第３開閉弁(8) の弁本体(41)、第４開閉弁(9) 弁本体(4
3)および第５開閉弁(10)の弁本体(45)同士を一体の部材
としてもよい。
【００３９】上記流体制御装置において、パージガスの
ラインとプロセスガスのラインとは、逆にしてもよい。
この場合は、プロセスガスを流したとき、これがパージ
ガスに素早く置き換わることになる。また、入口側の遮
断開放器(1) は、２つの開閉弁(6)(7)を有し、出口側の
遮断開放器(2) は、３つの開閉弁(8)(9)(10)を有してい
るが、これらの開閉弁の数は適宜変更可能である。そし
て、適当な数の開閉弁を有する遮断開放器がマスフロー
コントローラの入口側および出口側に設けられるととも
に、これがさらに並列状に配置されて、半導体製造装置
用の流体制御装置が構成される。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による遮断開放器を使用した流体制御
装置を示す正面図である。
【図２】同分解斜視図である。
【図３】遮断開放器の縦断面図である。
【図４】従来の遮断開放器の縦断面図である。
【符号の説明】
(1)(2) 遮断開放器 (3) マスフローコントローラ (6)(7) 弁 (38) 弁アクチュエータ (39) 弁本体 (61) 第１流入通路 (62) 弁室 (63) 第２流入または流出通路 (64) 第１流出通路 (67) ダイヤフラム（弁体）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平尾 圭志 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 田中 林明 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 山路 道雄 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 唐土 裕司 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 池田 信一 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 複数の弁(6)(7)を備えかつマスフローコ
    ントローラ等の流体制御器(3) の流体入口および／また
    は流体出口に設けられて複数の流体通路を遮断開放する
    遮断開放器において、 複数の弁(6)(7)のうち少なくとも１つの弁(7) の弁本体
    (39)が、第１流入通路(61)、第１流出通路(64)および第
    ２流入または流出通路(63)を有しており、第１流入通路
    (61)と第１流出通路(64)とは、弁室(62)を介して常時連
    通しており、第２流入または流出通路(63)は、第１流入
    通路(61)および第１流出通路(64)に弁室(62)を介して連
    通しかつその連通が弁体(67)により遮断開放されるよう
    になされていることを特徴とする遮断開放器。
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