JPH10134639A - 異方導電フィルムおよびその製法 - Google Patents

異方導電フィルムおよびその製法

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JPH10134639A
JPH10134639A JP8286692A JP28669296A JPH10134639A JP H10134639 A JPH10134639 A JP H10134639A JP 8286692 A JP8286692 A JP 8286692A JP 28669296 A JP28669296 A JP 28669296A JP H10134639 A JPH10134639 A JP H10134639A
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JP
Japan
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fine
holes
photosensitive resin
conductive
resin layer
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Application number
JP8286692A
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English (en)
Inventor
Masayoshi Tanaka
正善 田中
Masahiko Tatsuki
雅彦 辰木
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Sumitomo Riko Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Riko Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】均一な導電性バンプを有し、電気的接続信頼性
が高い異方導電フィルムを提供する。 【解決手段】フィルム1のパターン形成領域に複数の微
細貫通孔2が設けられ、これら複数の微細貫通孔2に導
電性物質が充填され導電性バンプ4が形成された異方導
電フィルムである。そして、上記フィルム1が感光性樹
脂で形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、異方導電フィルム
およびその製法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体高集積度技術とその高密度
実装技術の進展に伴い、半導体装置の電極数は増加し、
そのピッチも年々密度をあげている。また、この半導体
装置を用いて得られるプリンターや表示装置の解像度、
プリント回路基板の配線密度も同様に高い水準へと移行
している。しかも、上記半導体装置は、より薄く、より
軽く形成することが望まれている。このような環境のな
か、直接的または間接的に上記装置に用いられる異方導
電フィルムの必要性が年々上昇している。
【0003】従来の異方導電フィルムとしては、例え
ば、特開平3−266306号公報に記載されているよ
うに、ポリイミドフィルム等の絶縁性フィルムに微細貫
通孔を設け、この貫通孔にめっき等の手段を用いて導電
性物質を充填し、その際、貫通孔の上下両開口部から導
電性物質をリベット状に突出させて導電性バンプを形成
した異方導電フィルムが提案されている。
【0004】そして、上記異方導電フィルムの製法にお
いて、絶縁性フィルムに微細貫通孔を形成する場合、通
常、つぎの〜に示す方法が実施される。すわなち、
パンチング等による機械加工法、レーザー、プラズ
マ等によるドライエッチング法、薬品、溶剤等による
化学的なウェットエッチング法等が実施される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
の方法では、パンチング等による機械の圧力が絶縁性フ
ィルムに直接加わり、微細貫通孔周辺に、だれ、ばり等
が発生するため、均一な微細貫通孔の形成ができず、ま
た、形成する微細貫通孔の最小孔径にも自ずと限界があ
る。また、上記の方法では、デスミア処理等の煩雑な
作業工程が必要になるのに加えて、デスミア処理によっ
ても微細貫通孔からスミアを完全に除去できないため、
均一な微細貫通孔の形成ができない。さらに、上記の
方法では、サイドエッチングが発生するため、シャープ
で均一な微細貫通孔の形成ができない。このように、上
記〜の方法は、いずれも均一な微細貫通孔を形成す
ることができないため、めっき等による導電性物質の充
填が不均一になる。その結果、均一な導電性バンプを形
成することができないため、電気的接続信頼性が低いと
いう問題がある。加えて、デスミア処理等の煩雑な作業
工程が必要になるため、量産性の点で問題があり、ま
た、製造コストも高くなる。
【0006】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、均一な導電性バンプを有し電気的接続信頼性が
高く、量産可能な異方導電フィルムおよびその製法の提
供をその目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、フィルムのパターン形成領域に複数の
微細貫通孔が設けられ、これら複数の微細貫通孔に導電
性物質が充填され導電性バンプが形成された異方導電フ
ィルムであって、上記フィルムが感光性樹脂で形成され
た異方導電フィルムを第1の要旨とし、この異方導電フ
ィルムを製造するための、導電性基材上に感光性樹脂層
を積層形成する工程と、上記感光性樹脂層を所定のパタ
ーンに露光した後、現像して複数の微細貫通孔を形成す
る工程と、上記複数の微細貫通孔の形成により露呈した
導電性基材の表面の部分をエッチッグにより穿って凹部
に形成する工程と、上記複数の微細貫通孔に導電性物質
を充填して導電性バンプを形成する工程と、上記感光性
樹脂層に積層形成された導電性基材を除去する工程とを
備えた異方導電フィルムの製法を第2の要旨とする。
【0008】すなわち、本発明者らは、前記課題を解決
すべく、フィルム材料を中心に研究を重ねた。その結
果、従来の絶縁性フィルムに代えて、感光性樹脂からな
るフィルム(感光性樹脂層)を用いると、露光・現像処
理を行うだけで、従来の機械加工法に比べ、極めて簡単
に均一な微細貫通孔を形成することができることを突き
止めた。また、上記のように微細貫通孔が均一であるこ
とから、その孔に充填される導電性物質が比較的均一充
填されることとなり、その結果、形成される導電性バン
プが均一となり、異方導電フィルムの電気的接続信頼性
が高くなることを見出し本発明に到達した。
【0009】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を詳
しく説明する。
【0010】本発明の異方導電フィルムは、例えば、図
1に示すように、感光性樹脂フィルム1に、所定のパタ
ーン形成領域に複数の微細貫通孔2が、隣接する微細貫
通孔2と一定間隔を保った状態で設けられ(図では、便
宜上2個の微細貫通孔のみを示す)、これら複数の微細
貫通孔2に導電性物質が充填され導通路3に形成され構
成されて、この導通路3の上下両端部は、微細貫通孔2
の上下開口部から突出して導電性バンプ4が形成されて
いる。なお、本発明における異方導電フィルムとは、感
光性樹脂フィルム1の厚み方向のみに導電性を有し、そ
の方向と交差する方向(面方向)が電気的に絶縁された
ものをいう。
【0011】上記感光性樹脂フィルム1の形成材料であ
る感光性樹脂は、後述する露光・現像工程により容易に
複数の微細貫通孔2を形成できるものであれば特に限定
はなく、例えば、感光性エポキシ樹脂、感光性ポリイミ
ド樹脂等の感光性永久レジスト等があげられる。なかで
も、感光性エポキシ樹脂からなる感光性永久レジストが
最も好ましい。
【0012】上記導通路3の形成材料である導電性物質
としては、導電性を有するものであれば特に限定するも
のではなく、従来公知の金属製導電性材料が用いられ、
例えば、金、銀、銅、ニッケル、コバルト、鉛、すず等
の各種金属、およびこれら金属を主成分とする各種金属
合金等があげられる。
【0013】本発明の異方導電フィルムは、例えば、つ
ぎのようにして製造することができる。これを図2〜図
5に基づいて具体的に説明する。図2は感光性樹脂層の
形成工程を示す断面図、図3は微細貫通孔の形成工程を
示す断面図、図4はエッチング工程を示す断面図、図5
は導通性バンプの形成工程を示す断面図である。
【0014】これらの図において、まず、図2に示すよ
うに、前処理を施したアルミニウム箔、銅箔等の各種金
属箔5を準備し、この金属箔5上に、感光性樹脂液をバ
ーコート法により塗布することにより、上記感光性樹脂
からなる感光性樹脂層6を積層形成する。
【0015】ついで、上記感光性樹脂層6の所定の領域
をパターンマスクを用いてマスクし、その状態で水銀ラ
ンプを用い紫外線照射することにより、所定のパターン
に露光する。続いて、これを、アルカリ系現像液等を用
いて現像することにより、図3に示すように、感光性樹
脂層6に、複数の微細貫通孔2を形成する。この微細貫
通孔2は、図示のように、感光性樹脂層6のみを貫通し
ているものであり、この微細貫通孔2の開口から、その
下側の、金属箔5の表面の部分5aが露呈している。
【0016】つぎに、上記処理を終えた感光性樹脂層付
金属箔5を、希塩酸または塩化第二鉄溶液等からなるエ
ッチング液に浸漬することにより、上記微細貫通孔2の
開口側から、金属箔5の露呈した表面の部分5aをエッ
チングし、図4に示すように、金属箔5に凹部5bを形
成する。
【0017】ついで、図5に示すように、上記処理を終
えた感光性樹脂層付金属箔5を、電気ニッケルめっき液
または電気銅めっき液等に浸漬し、電解析出させること
により、上記凹部5bおよび微細貫通孔2に導電性物質
を充填して導通路3に形成するとともに、この導通路3
の上下両端部に上記微細貫通孔2の上下開口部から突出
した導電性バンプ4を形成する。
【0018】こののち、上記感光性樹脂層6から、この
感光性樹脂層6に積層形成された金属箔5を機械的に除
去する。このようにして、図1に示すような、本発明の
異方導電フィルムが得られる。
【0019】なお、以上の説明において、前記感光性樹
脂層6の形成方法としては、バーコート法に限らず、感
光性樹脂液をスプレー塗布する方法等があげられる。
【0020】また、前記露光手段としては、水銀ランプ
を用いた紫外線照射法に限らず、紫外線ランプ等を用い
た紫外線照射法等があげられる。
【0021】前記エッチングに用いるエッチング溶液と
しては、塩化第二鉄溶液に限らず、塩化第二銅溶液等が
あげられる。
【0022】前記微細貫通孔2に導通路3を形成する方
法および導電性バンプ4を形成する方法としては、めっ
き液を用いた電気めっき法に限らず、無電解めっき法、
導電性物質の溶融浴に浸漬して引き上げることにより導
電性物質を析出させる方法や、物理的に導電性物質を埋
め込む方法等があげられる。なかでも、硫酸銅溶液、ピ
ロリン酸銅溶液等を用いためっき法によるのが最も好ま
しい。
【0023】前記金属箔5の除去方法としては、金属箔
5を機械的に剥離する方法に限らず、前記金属箔5を溶
液中に浸漬して金属箔5を溶解させることにより除去す
る方法等があげられる。
【0024】つぎに、本発明の実施例について説明す
る。
【0025】
【実施例1】まず、厚み80μmのアルミニウム箔を準
備し、このアルミニウム箔上に、感光性永久レジスト
(シプレイ社製のマルチポジットXP−9500CC)
をバーコート法により塗布して、厚み40μmの感光性
樹脂層を積層形成し、90℃で30分間ベーキングした
(図2参照)。ついで、上記感光性樹脂層の所定の領域
をパターンマスクを用いてマスクし、その状態で水銀ラ
ンプを用いて紫外線を照射(3J/cm2 )し、所定の
パターンに露光した後、90℃で15分間ベーキングを
行い、10%NaOH現像液(シプレイ社製のXP−9
1254−4)を用いて現像した。さらに、全面照射
(1J/cm2 )し、140℃で1時間ベーキングし
た。これにより、感光性樹脂層に複数の微細貫通孔が形
成される(図3参照)。なお、微細貫通孔の直径は10
0μm、ピッチは200μmであった。
【0026】つぎに、上記処理を終えた感光性樹脂層付
アルミニウム箔を、30%の塩酸からなるエッチング液
に浸漬し、上記微細貫通孔の開口側からアルミニウム箔
の露呈した表面の部分をエッチングし、アルミニウム箔
に凹部を形成した(図4参照)。ついで、上記処理を終
えた感光性樹脂層付アルミニウム箔を、ピロリン酸銅溶
液からなるめっき液に浸漬することにより、上記凹部お
よび微細貫通孔に、導通路および導電性バンプを形成し
た。なお、ピロリン酸銅溶液を用いためっきの条件は、
浴組成:Cu2 2 7 ・3H2 O(70〜100g
/l)、K4 2 7 (270〜380g/l)、p
H:8.6〜9.0、温度:55℃、電流密度:5
A/dm2 であった。
【0027】こののち、上記感光性樹脂層から、この感
光性樹脂層に積層形成されたアルミニウム箔を機械的に
剥離して除去することにより、目的とする異方導電フィ
ルムを製造した(図1参照)。
【0028】
【実施例2】実施例1のピロリン酸銅溶液に代えて、硫
酸銅溶液を用いてめっきを行った。それ以外は、実施例
1と同様にして、異方導電フィルムを製造した。なお、
硫酸銅溶液を用いためっきの条件は、浴組成:CuS
4 ・5H2 O(180〜210g/l)、H2 SO4
(30〜60g/l)、光沢剤(金属化工技術研究所製
のKALL−5M)13ml/l、温度:30℃、
電流密度:25A/dm2 であった。
【0029】
【発明の効果】以上のように、本発明の異方導電フィル
ムは、感光性樹脂からなるフィルムのパターン形成領域
に複数の微細貫通孔を設け、これら複数の微細貫通孔に
導電性物質を充填して導電性バンプを形成して構成され
ているため、その製造に際し、感光性樹脂からなるフィ
ルム(感光性樹脂層)に対して、露光・現像処理を行う
だけで、極めて簡単に均一な微細貫通孔を形成すること
ができる。したがって、その微細貫通孔を利用して形成
された導電性バンプの分布も均一となり、電気的信頼性
が高くなる。
【0030】また、本発明の製法によれば、導電性基材
上に積層形成された感光性樹脂層を所定のパターンに露
光した後、現像して複数の微細貫通孔を形成し、この微
細貫通孔の形成により露呈した導電性基材の表面の部分
をエッチッグにより穿って凹部に形成し、ついで、この
微細貫通孔に導電性物質を充填して導電性バンプを形成
する。そのため、従来のような、煩雑な機械加工法、ド
ライエッチング法、ウェットエッチング法を行うことな
く、極めて簡単に均一な微細貫通孔を形成し、それを利
用して導電性バンプを形成することができる。したがっ
て、電気的信頼性の高い異方導電フィルムを安価に量産
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の異方導電フィルムの一実施例を示す断
面図である。
【図2】本発明の異方導電フィルムの製法に係る感光性
樹脂層の形成工程を示す断面図である。
【図3】本発明の異方導電フィルムの製法に係る微細貫
通孔の形成工程を示す断面図である。
【図4】本発明の異方導電フィルムの製法に係るエッチ
ング工程を示す断面図である。
【図5】本発明の異方導電フィルムの製法に係る導電性
バンプの形成工程を示す断面図である。
【符号の説明】
1 感光性樹脂フィルム 2 微細貫通孔 3 導通路 4 導電性バンプ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フィルムのパターン形成領域に複数の微
    細貫通孔が設けられ、これら複数の微細貫通孔に導電性
    物質が充填され導電性バンプが形成された異方導電フィ
    ルムであって、上記フィルムが感光性樹脂で形成されて
    いることを特徴とする異方導電フィルム。
  2. 【請求項2】 上記感光性樹脂が、感光性エポキシ樹脂
    である請求項1記載の異方導電フィルム。
  3. 【請求項3】 導電性基材上に感光性樹脂層を積層形成
    する工程と、上記感光性樹脂層を所定のパターンに露光
    した後、現像して複数の微細貫通孔を形成する工程と、
    上記複数の微細貫通孔の形成により露呈した導電性基材
    の表面の部分をエッチッグにより穿って凹部に形成する
    工程と、上記複数の微細貫通孔に導電性物質を充填して
    導電性バンプを形成する工程と、上記感光性樹脂層に積
    層形成された導電性基材を除去する工程とを備えたこと
    を特徴とする異方導電フィルムの製法。
JP8286692A 1996-10-29 1996-10-29 異方導電フィルムおよびその製法 Pending JPH10134639A (ja)

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