JP3815431B2 - 半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法に関し、特に、BGA(Ball Grid Array)型のパッケージに好適な半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
電子機器の小型化、高密度化に伴い、BGA型パッケージのはんだボールの狭ピッチ化、小径化が進んでいる。はんだボールの脱落や破損等は、はんだボールの小径化に伴いより大きな問題となってきている。BGA型パッケージのはんだボールの信頼性向上の一手段として、BGA型パッケージのインターポーザとして用いられる配線板のはんだボール搭載用ブラインドビアに、所定の厚みの導電層を形成することが提案されている。導電層の形成には、導電性ペーストのような導電材料を充填する方法、また、電解めっきによりブランドビア内に金属導電層を形成する方法が知られている(例えば、特許文献1)。
【0003】
【特許文献1】
特開平10−041356号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
電解めっきにより作られた金属導電層は、導電性ペースト等の充填により形成する場合に比較して導電性が高く、微細なブラインドビアにも適用できる利点がある。また、電解時間の長短によって導電金属層の厚みを変更できるため、金属導電層の厚みの自由度も高い。
【0005】
しかしながら、電解めっきによる場合、各ビア毎の電流分布が異なるとめっきの析出速度にばらつきが生じ、ビア毎のめっき厚を均一にすることが難しいという点が課題となっており、めっき厚の均一性を高めることが要求されている。また、絶縁層と導電層の熱膨張係数の違いや製造途中での応力発生等により、配線板に反りが発生する問題があり、後工程での不良や寸法精度低下の原因となる。
【0006】
本発明は上記に基づいてなされたもので、その目的とするところは、各ブラインドビア内の金属導電層のめっき厚の均一性を高めることができ、しかもテープキャリアに反りが発生しにくい半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、片面に複数の配線パターンが形成された絶縁テープ基材の他面に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成されたブラインドビアを複数個有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記ブラインドビアの周囲に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成された開口部を有することを特徴とする半導体装置用テープキャリアを提供する。
【0008】
また、本発明は、ブラインドビアとなる孔を複数個と、このブラインドビアとなる複数の孔の周囲に開口部となる孔が形成された絶縁テープ基材の片面に、銅箔とマスキングテープを順次貼り合わせ、そのテープ材を電解めっき液中に浸漬して前記銅箔に通電することにより、ブラインドビア内部に電解めっきにより金属導電層を形成すると同時に開口部内部に電解めっきにより金属導電層を形成することを特徴とする半導体装置用テープキャリアの製造方法を提供する。
【0009】
【発明の実施の形態】
添付図面を参照しながら本発明の半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法の実施の形態について説明する。
【0010】
図1は、本発明の半導体装置用テープキャリアの一実施の形態の説明図であり、絶縁層側から見た図面である。1は絶縁層であり、絶縁層1には、ブラインドビア3と、ブラインドビア3の周囲に形成された開口部4が設けられている。なお、ブラインドビア3および開口部4の内部には図示はされていないが後述する金属導電層が電解めっきにより形成されている。
【0011】
ブラインドビア3へ電解めっきを行う場合、開口部4が存在しないときは、外周部に位置するブランドビア3に電流が集中して析出速度が大きくなり、めっき厚が他の部分よりも大きくなってしまうという問題が発生していたが、本発明のように、ブラインドビア3の周囲に開口部4を形成し、しかも開口部4にも電解めっきを行うことで、ブラインドビア3に対しては均一なめっき厚を行うことが可能となる。
【0012】
一般に、ブラインドビア3は、図1に示すように、整列配置されたものが複数個配置されるが、その周辺に開口部4を形成することで電流集中が軽減され、金属導電層の厚みの均一化を図ることができる。また、内部に金属導電層が形成された開口部4が配列されることで絶縁層の剛性が高められ、半導体装置用テープキャリアの反りの発生を抑制できるという効果も同時に達成される。
【0013】
図2は、本発明の半導体装置用テープキャリアの製造方法の一実施の態様の説明図である。
【0014】
まず、(a)に示すように、絶縁層1にブラインドビアおよび開口部となる孔2をプレス加工により形成する。
【0015】
(b)に示すように、絶縁層1に銅箔5をラミネートし、ブラインドビア3および開口部4を形成する。
【0016】
(c)に示すように、銅箔5の表面にマスキングテープ6をラミネートする。
【0017】
(d)に示すように、テープ材をめっき液中に浸漬して銅箔5に通電し、ブラインドビア3および開口部4に金属導電層7を析出させる。
【0018】
(e)に示すように、マスキングテープ6を剥離して銅箔5を露出させる。
【0019】
(f)に示すように、銅箔5の表面にエッチング用レジスト8を塗布し、露光、現像を行うことにより、(g)に示すような配線パターン9を形成する。
【0020】
最後に、(h)に示すように、エッチング用レジスト8を剥離して半導体装置用テープキャリアを得る。
【0021】
(実施例)
厚さ50μmのポリイミドテープに厚さ12μmの接着剤を塗布した絶縁テープ基材(絶縁層)に、金型を用いてBGAパッケージのはんだボール搭載位置に相当する場所に直径300μmの貫通孔を複数個形成すると同時に、この貫通孔の周囲に幅100μm、長さ400μmの貫通孔を複数個形成した。続いて、厚さ18μmの銅箔を貼り合わせて貫通孔の一方を塞ぎ、直径300μmのブラインドビアおよび幅100μm、長さ400μmの開口部を形成した。ブラインドビアは等間隔に整列配置し、その周囲を開口部が取り囲むようにした。銅箔の全表面を覆うようにマスキングテープを貼り合わせ、この状態で硫酸銅めっき液中に浸漬し、陰極電流密度5A/cm2で27分間電解銅めっきを行い、ブラインドビア内と開口部内に30μm厚の銅めっき層(金属導電層)を形成した。その後、マスキングテープを剥し、銅箔面にエッチング用の感光性液体レジストを厚さ3μmで塗布し、配線パターンのマスクを用いて配線パターンを形成し、液体レジストをアルカリ性のレジスト剥離液で除去し、目的とする半導体装置用テープキャリアを得た。
【0022】
図3および図4は、それぞれ、本発明の半導体装置用テープキャリアの他の実施の形態を示したもので、図3は、ブラインドビア3の周囲を円形の開口部10で取り囲んだもの、図4は、ブラインドビア3の周囲を長方形の開口部44で連続的に取り囲んだものである。
【0023】
【発明の効果】
以上説明してきた通り、本発明は、内部に電解めっきにより金属導電層が形成されたブラインドビアを複数個有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記ブラインドビアの周囲に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成された開口部を有する半導体装置用テープキャリアを提供するものであり、これによって、各ブランドビア内の金属導電層のめっき厚の均一性を高めることができ、しかもテープキャリアに反りが発生しにくい半導体装置用テープキャリアを実現できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置用テープキャリアの一実施の形態の説明図。
【図2】本発明の半導体装置用テープキャリアの製造方法の一実施の形態の説明図。
【図3】本発明の半導体装置用テープキャリアの他の実施の形態の説明図。
【図4】本発明の半導体装置用テープキャリアの他の実施の形態の説明図。
【符号の説明】
1:絶縁層
2:孔
3:ブラインドビア
4:開口部
5:銅箔
6:マスキングテープ
7:金属導電層
8:レジスト
9:配線パターン
Claims (5)
- 片面に複数の配線パターンが形成された絶縁テープ基材の他面に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成されたブラインドビアを複数個有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記ブラインドビアの周囲に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成された開口部を有することを特徴とする半導体装置用テープキャリア。
- 前記ブラインドビアは、その複数個が整列配置されている請求項1記載の半導体装置用テープキャリア。
- 前記ブラインドビア内に形成された金属導電層と前記開口部に形成された金属導電層とは、同時に電解めっきにより形成されたものである請求項1記載の半導体装置用テープキャリア。
- ブラインドビアとなる孔を複数個と、このブラインドビアとなる複数の孔の周囲に開口部となる孔が形成された絶縁テープ基材の片面に、銅箔とマスキングテープを順次貼り合わせ、そのテープ材を電解めっき液中に浸漬して前記銅箔に通電することにより、ブラインドビア内部に電解めっきにより金属導電層を形成すると同時に開口部内部に電解めっきにより金属導電層を形成することを特徴とする半導体装置用テープキャリアの製造方法。
- 前記ブラインドビアとなる孔は、その複数個が整列配置されている請求項4記載の半導体装置用テープキャリアの製造方法。
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