JPH10130586A - 接着剤組成物、硬化物、物品及び接着方法 - Google Patents

接着剤組成物、硬化物、物品及び接着方法

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JPH10130586A
JPH10130586A JP8303542A JP30354296A JPH10130586A JP H10130586 A JPH10130586 A JP H10130586A JP 8303542 A JP8303542 A JP 8303542A JP 30354296 A JP30354296 A JP 30354296A JP H10130586 A JPH10130586 A JP H10130586A
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acrylate
meth
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article
substrate
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JP8303542A
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Kiyohisa Tokuda
清久 徳田
Kenji Yoshida
謙司 吉田
Kazuhiko Ishii
一彦 石井
Minoru Yokoshima
実 横島
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】接着性に優れた硬化物を与える光ディスク用、
特にDVD用に適した接着剤組成物を提供する。 【解決手段】ポリウレタン(メタ)アクリレート及び/
又はビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート
(A)とモノイソシアネート化合物(a)と分子中に1
個の水酸基を有する不飽和基含有化合物(b)との反応
物(B)と(A)及び(B)成分以外の不飽和基含有化
合物(C)と光重合開始剤(D)を含有することを特徴
とする接着剤組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、接着剤組成物に関
し、特に波長が280nm以上、380nm以下のエネ
ルギー線の最大透過率が45%以下である基材どうしを
接着することができる、紫外線硬化性接着剤組成物、硬
化物、物品及び接着方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、不透明な基材どうしの接着方法
は、熱による接着方法が採用されている。熱よる接着法
には、エポキシ系、メラミン系、ウレタン系及びアクリ
ル系の樹脂と熱硬化剤によるものが多く、ホットメルト
系樹脂等も知られている。
【0003】しかしながら、熱による接着方法では、基
材が熱により反る、あるいは変形するなどの問題があっ
たため、基材の適用範囲に制限があった。また、ホット
メルト系樹脂では、熱安定性や耐候性が悪く高温の環境
下で使用することは困難であった。さらに、熱による接
着方法では通常数十分の硬化時間が必要なため生産性が
劣るという問題もあったそのため不透明な基材における
接着剤には、生産性において満足するものがいまだ提供
されていない状況にある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の熱による接
着法では、基材の反り、変形を生じ、生産性に問題があ
り、その解決が望まれている。特に今後、更に高記録密
度化が要求される光ディスク分野における接着において
は接着性、ディスクの反り、記録膜の保護、及び変形に
対して、より特性的に優れた接着剤を使用しなければな
らないという課題が残っている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、不透明な基材でも硬
化ができ、かつ保存安定性に優れ、接着性、ディスクの
反り、記録膜の腐食の防止性及び変形等に優れた光ディ
スク用接着剤組成物、硬化物、物品及び接着方法を提供
することに成功した。すなわち、本発明は、(1)ポリ
ウレタン(メタ)アクリレート及び/又はビスフェノー
ル型エポキシ(メタ)アクリレート(A)とモノイソシ
アネート化合物(a)と分子中に1個の水酸基を有する
不飽和基含有化合物(b)との反応物(B)と(A)及
び(B)成分以外の不飽和基含有化合物(C)と光重合
開始剤(D)を含有することを特徴とする接着剤組成
物、(2)(1)の接着剤組成物の硬化物、(3)
(1)の接着剤組成物の硬化物を接着層として有する物
品、(4)物品が光ディスクである(3)の物品、
(5)光ディスクがDVDである(4)の物品、(6)
(1)の接着剤組成物を280nm〜380nmの波長
におけるエネルギー線の最大透過率が45%以下である
基材に塗布した後、他の基材をこの塗布面に密着させ、
次いで紫外線を照射することを特徴とする基材の接着方
法、に関する。
【0006】本発明では、ポリウレタン(メタ)アクリ
レート及び/又はビスフェノール型エポキシ(メタ)ア
クリレート(A)を使用する。ポリウレタン(メタ)ア
クリレートの具体例としては、例えば、ポリオール化合
物(イ)と有機ポリイソシアネート(ロ)を反応させ、
次いで水酸基含有(メタ)アクリレート(ハ)を反応さ
せることにより得ることができる。ポリオール化合物
(イ)と有機ポリイソシアネート(ロ)との反応は、ポ
リオール化合物(イ)の水酸基1当量に対して有機ポリ
イソシアネート(ロ)のイソシアネート基1.1〜2.
5当量を反応させるのが好ましく、特に好ましくは1.
3〜2.0当量である。反応温度は、70〜100℃が
好ましく、反応時間は、5〜20時間が好ましい。次に
ポリオール化合物(イ)と有機ポリイソシアネート
(ロ)との反応物(エ)と水酸基含有(メタ)アクリレ
ート(ハ)を反応させる。前記反応物(I)のイソシア
ネート基1当量に対して、水酸基含有(メタ)アクリレ
ート(ハ)の水酸基0.95〜1.5当量を反応させる
のが好ましく、特に好ましくは1.0/1.1当量であ
る。反応温度は、60〜100℃が好ましく、反応時間
は5〜20時間程度である。反応中、重合を防止するた
めに重合禁止剤(例えば、p−メトキシフェノール、メ
チルハイドロキノン等)や反応を促進するための反応触
媒(例えば、ジ−n−ブチルスズジラウリレート等)を
使用することができる。
【0007】ポリオール化合物(イ)としては、例え
ば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−
メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジ
オール、2−エチル−2−ブチル1,3−プロパンジオ
ール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノ
ールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリ
コール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク
酸、マレンイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、アジピン酸、ダイマー酸、水添ダイ
マー酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物
であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類と
ε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクト
ンポリオール類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又は
これらの酸無水物類とε−カプロラクトンとの反応物、
ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等を
挙げることができる。
【0008】有機ポリイソシアネート(ロ)としては、
例えばトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメ
タン−4,4′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニ
ルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、2,4,4′−トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、2,2′,4−トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネート等を挙げることができる。水酸基含有
(メタ)アクリレート(ハ)としては、例えば、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,4−ブタン
ジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレートとε−カプロラクトンとの反
応物、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル
(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメ
チロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)
アクリレート等を挙げることができる。
【0009】ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリ
レートとしては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェーノ
ル型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させるこ
とにより得ることができる。ビスフェノール型エポキシ
樹脂のエポキシ基1当量に対して、(メタ)アクリル酸
0.9〜1.5モル反応させるのが好ましく、より好ま
しくは0.95〜1.1モルである。反応温度は80〜
120℃が好ましく、反応時間は10〜35時間程度で
ある。反応を促進させるために、例えばトリフェニルホ
スフィン、トリエタノールアミン、テトラエチルアンモ
ニウムクロライド等の触媒を使用するのが好ましい。
又、反応中、重合を防止するために重合禁止剤(例え
ば、p−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン
等)を使用することもできる。
【0010】本発明で使用する反応物(A)は、モノイ
ソシアネート化合物(a)と分子中に1個の水酸基を有
する不飽和基含有化合物(b)を反応させることにより
得ることができる。
【0011】モノイソシアネート化合物(a)の具体例
としては、例えば、n−ブチルイソシアネート、n−ヘ
キサンイソシアネート、イソオクチルイソシアネート、
フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等を
挙げることができる。
【0012】分子中に1個の水酸基を有する不飽和基含
有化合物(b)の具体例としては、例えば、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロ
ールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート等の(メ
タ)アクリレート類や2−ヒドロキシエチルビニルエー
テル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、トリエ
チレングリコールモノビニルエーテル、4−ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4−ジメ
チロールモノビニルエーテル等のビニルエーテル類を挙
げることができる。
【0013】前記、モノイソシアネート化合物(a)と
分子中に1個の水酸基を有する不飽和基含有化合物
(b)の反応は、(a)成分のイソシアネート基1当量
に対して、(b)成分の水酸基、0.95〜1.5当量
を反応させるのが好ましく、特に好ましくは0.99〜
1.1当量である。反応温度は、60〜100℃が好ま
しく、反応時間は、1〜10時間が好ましい。反応時の
重合を防止するため重合禁止剤(例えば、p−メトキシ
フェノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン
等)を使用するのが好ましい。
【0014】本発明では、前記(A)及び(B)成分以
外の不飽和基含有化合物(C)を使用する。(C)成分
の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アク
リレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)ア
クリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル
オキシエチル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエ
チルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデ
カンモノ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)
アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アク
リレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロ
ラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、0−フェニルフェニルオキシ
エチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプ
ロポキシジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アク
リロキシエチル〕イソシアヌレート、カプロラクトン変
性トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレ
ート等の(メタ)アクリレートモノマー類、2−ヒドロ
キシエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジ
ビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4−ジメチロー
ルジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニル
エーテル等のビニルエーテル化合物を挙げることができ
る。
【0015】光重合開始剤(D)の具体例としては、例
えば2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−
1−オン、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
メチルフェニルグリオキシレート、ベンジルジメチルケ
タール、ミヒラーズケトン、2−ベンジル−2−ジメチ
ルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−
1,2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−
2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド
等を挙げることができる。好ましい光重合開始剤として
は、例えば、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−
1−オン等の波長360nm以下で最大モル吸光係数5
000以上の光重合開始剤と2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,
6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル
ペンチルホスフィンオキサイド等の波長360nm以上
で最大モル吸光係数が500以上の光重合開始剤の組合
せを挙げることができる。
【0016】本発明の組成物を構成する(A)〜(D)
成分の使用割合としては、(A)成分の使用量は好まし
くは10〜70重量%、より好ましくは20〜60重量
%であり、(B)成分の使用量は、好ましくは3〜50
重量%、より好ましくは5〜40重量%であり、(C)
成分の使用量は好ましくは、26〜86重量%、より好
ましくは40〜80重量%であり、(D)成分の使用量
は好ましくは、0.5〜20重量%、より好ましくは3
〜10重量%である。
【0017】本発明ではアミン類等の光重合開始助剤を
併用することができる。アミン類等の光重合開始剤とし
ては例えば、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート、
ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安
息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル
等が挙げられる。光重合開始助剤の使用量は通常、組成
物中に好ましくは0〜15重量%、さらに好ましくは0
〜10重量%程度である。
【0018】本発明の接着剤組成物は、更に必要に応じ
て高分子ポリマーとして例えば、ポリエステルエラスト
マー、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリカーボネ
ート系樹脂等を使用することができ、さらに必要に応じ
て、シランカップリング剤、重合禁止剤、レベリング
剤、表面潤滑剤、消泡剤、光安定剤、酸化防止剤、可ソ
剤、帯電防止剤、充填剤等の添加剤も併用することがで
きる。
【0019】本発明の接着剤組成物は、上記の各成分の
加熱溶解もしくは混合し分散等を行うことにより調製す
ることができる。
【0020】本発明の接着剤組成物の硬化物は、屈折率
(25℃)が約1.50〜1.60であることが好まし
い。本発明の接着剤組成物の硬化物は、常法により紫外
線、可視光レーザー等の光線を照射することにより得る
ことができる。本発明の接着剤組成物の紫外線等のエネ
ルギー線照射による硬化は、具体的には低圧または高圧
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン灯等を用いて
紫外線を照射して行う。特に、光源としては350〜4
50nmにエネルギー強度が強いランプが好ましい。
【0021】本発明の接着剤組成物は、波長が280n
m以上、380nm以下における最大透過率が45%以
下、特に30%以下、さらには20%以下である不透明
基材どうしの接着剤として有用である(ここで、「以
下」とは0を含まない意味である。)一方が透明基材で
他方が不透明基材である場合も適用可能であることはも
ちろんである。このような不透明基材としては、例えば
光ディスク基板(例えば、ポリカーボネート樹脂、アモ
ルファスポリオレフィン系樹脂等)であって、これに無
機スパッタ膜、特に金属スパッタ膜を形成した基材、さ
らに、その無機スパッタ膜、特に金属スパッタ膜上に紫
外線硬化型保護膜が形成された基材等が挙げられる。
【0022】本発明の接着剤組成物は、不透明基板上
に、ロールコーター、スピンコーター、スクリーン印刷
機等の塗工装置を用いて乾燥塗布膜厚が好ましくは1〜
100μm、より好ましくは5〜50μmとなるように
塗布し、紫外線を不透明基材の上から、または透明基材
の上から照射して硬化することにより基材どうしを接着
させることができる。尚、これらの方法において、本接
着剤組成物の硬化は紫外線の代わりに可視光レーザーに
よることもできる。
【0023】本発明の物品は、上記の本発明の接着剤組
成物の接着硬化層を有するもので、例えば光ディスク、
光カード、ICカード、IDカード等が挙げられる。光
ディスクとしては、例えばCD(コンパクトディス
ク)、LD(レーザーディスク)、MO(光磁気ディス
ク)、DVD(デジタル バーサイタイル又はビデオデ
ィスク)等が挙げられる。これらのうち、両面式又は片
面二層式のDVDは不透明基板どうしを接着する必要が
あり、本発明の接着剤組成物の性能を十分に利用する点
で好ましい。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、実施例中の部は重量部である。 (B)成分の合成例 合成例1 フェニルイソシアネート119部、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート122部及びp−メトキシフェノール
0.1部を仕込み、85℃で反応させ残存のイソシアネ
ートが0.05%以下になるまで約10時間反応させ下
記の構造式の生成物(B−1)を得た。
【0025】
【化1】
【0026】生成物の屈折率(25℃)は1.5360
で常温(25℃)で白色の固体であった。
【0027】合成例2 フェニルイソシアネート119部、2−ヒドロキシ−3
−フェニルオキシプロピルアクリレート217部、ジー
n−ブチルスズジラウリレート0.03部及びp−メト
キシフェノール0.17部を仕込み85℃で反応させ、
残存のイソシアネートが0.01以下になるまで約5時
間反応させ、下記の構造式の生成物(B−2)を得た。
【0028】
【化2】
【0029】生成物の屈折率(25℃)は1.575で
粘度(25℃)450CPSであった。
【0030】合成例3 フェニルイソシアネート119部、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート129部、ジ−n−ブチルスズジラウ
リレート0.03部を及びp−メトキシフェノール0.
1部を仕込み85℃で反応させ、残存のイソシアネート
が0.01%以下になるまで約5時間反応させ、下記の
構造式の生成物(B−3)を得た。
【0031】
【化3】
【0032】生成物の屈折率(25℃)は1.5315
で常温(25℃)で白色の固体であった。 実施例1〜3および比較例1、2 表1の配合組成にしたがって本発明の、または比較例の
接着剤組成物を調製し(表1において、数値は重量部で
ある。)得られた各組成物を用いて光ディスク基材(ア
ルミ蒸着されたポリカーボネート基板で、280nm以
上、380nm以下における最大透過率が0.05%の
もの)に塗布し、次いでチッ化シリコンのスパッタ膜の
作製された光ディスク基板(チッ化シリコンスパッタさ
れたポリカーボネート基板で280nm以上、380n
m以下における最大透過率が13%のもの)をチッ化シ
リコンのスパッタ膜側を塗布面に膜厚が約10μmにな
るように接着し、チッ化シリコンのスパッタ膜の光ディ
スク基板側から紫外線を照射し硬化させ試験片を得た。
その後、接着した基材を剥離し、その表面の状態を観察
した。観察した結果を硬化性とし、表1に示した。 ○・・・・タックが認められない △・・・・少しタックが認められる ×・・・・全く硬化していない 前記で得た試験片を用いてピール試験を行ないピール値
(g/cm)を測定し、結果を表1に示した(数値が大
きいほど接着性に優れている。) 表1の組成で調製した接着剤組成物を蛍光灯(60w)
下2mの位置に1時間放置しゲル化するかどうか評価し
た。 ○・・・・ゲル化しない ×・・・・ゲル化
【0033】
【表1】 表1 実施例 比較例 1 2 3 1 2 KAYARAD UX−4101*1 10 10 30 10 30 KAYARAD UX−6101*2 10 KAYARAD R−114 *3 40 25 40 合成例1で得た反応物(B−1) 15 10 合成例2で得た反応物(B−2) 15 合成例3で得た反応物(B−3) 10 テトラヒドロフルフリルアクリレート 35 20 50 30 アクリロイルモルホリン 40 20 30 ルジリンTPO *4 0.6 0.6 0.6 0.6 0.6 イルガキュアー184 *5 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 p−メトキシフェノール(重合禁止剤) 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 硬化性 ○ ○ ○ ○ ○ ピール値(g/cm) 30 25 35 10 8 保存安定性(ゲル化の有無) ○ ○ ○ ○ ○
【0034】注) *1:KAYARAD UX−4
101:日本化薬(株)製、ポリカプロラクトンウレタ
ンアクリレート。 *2:KAYARAD UX−6106:日本化薬
(株)製、ポリエーテルウレタンアクリレート。 *3:KAYARAD R−114:日本化薬(株)
製、ビスフェノールA型エポキシアクリレート。 *4:ルシリルTPO:BASF(株)製、2,4,6
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ド。光重合開始剤。 *5:イルガキュアー184:チバ・ガイギー社製、ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン。光重合開始
剤。 表1から明らかなように、本発明の接着剤組成物は、接
着性に優れ、硬化性、保存安定性も良好なものである。
【0035】
【発明の効果】本発明の接着剤組成物は、接着性に優
れ、硬化性、保存安定性が良好で記録膜の保護等が良好
な硬化物を与える。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ポリウレタン(メタ)アクリレート及び/
    又はビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート
    (A)とモノイソシアネート化合物(a)と分子中に1
    個の水酸基を有する不飽和基含有化合物(b)との反応
    物(B)と(A)及び(B)成分以外の不飽和基含有化
    合物(C)と光重合開始剤(D)を含有することを特徴
    とする接着剤組成物。
  2. 【請求項2】請求項1記載の接着剤組成物の硬化物。
  3. 【請求項3】請求項1記載の接着剤組成物の硬化物を接
    着層として有する物品。
  4. 【請求項4】物品が光ディスクである請求項3の物品。
  5. 【請求項5】光ディスクがDVDである請求項4の物
    品。
  6. 【請求項6】請求項1記載の接着剤組成物を、280n
    m〜380nmの波長におけるエネルギー線の最大透過
    率が45%以下である基材に塗布した後、他の基材をこ
    の塗布面に密着させ、次いで紫外線を照射することを特
    徴とする基材の接着方法。
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