JPH0987259A - 光学活性オキサゾリン類及びそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 - Google Patents
光学活性オキサゾリン類及びそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法Info
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- JPH0987259A JPH0987259A JP7250836A JP25083695A JPH0987259A JP H0987259 A JPH0987259 A JP H0987259A JP 7250836 A JP7250836 A JP 7250836A JP 25083695 A JP25083695 A JP 25083695A JP H0987259 A JPH0987259 A JP H0987259A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】
【課題】 安価な原料から比較的少ない工程で収率よく
製造し得、しかも、安定であり、加えて不斉シクロプロ
パンカルボン酸類の製造において不斉配位子として使用
できる化合物を提供する。 【解決手段】 一般式（１） （式中Ｘは一般式（２） または、一般式（３） で示される置換基である。）で示される光学活性オキサ
ゾリン類。
製造し得、しかも、安定であり、加えて不斉シクロプロ
パンカルボン酸類の製造において不斉配位子として使用
できる化合物を提供する。 【解決手段】 一般式（１） （式中Ｘは一般式（２） または、一般式（３） で示される置換基である。）で示される光学活性オキサ
ゾリン類。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性オキサゾ
リン類、その製造方法及びそれを用いる不斉シクロプロ
パンカルボン酸類の製造方法に関する。
リン類、その製造方法及びそれを用いる不斉シクロプロ
パンカルボン酸類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】不斉シクロプロパンカルボン酸類は、医
薬、農薬などの中間体として有用であり、オレフィン類
とジアゾ酢酸エステル類とを、銅塩と不斉配位子との存
在下に反応させて製造されることが知られている。従来
より、かかる不斉配位子として、光学活性メチレンビス
オキサゾリン類が提案されている（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．５０，ｐ
ｐ．７３７３−７３７６，１９９１）。しかしながら、
かかるメチレンビスオキサゾリン類は不安定で重合し易
いばかりか、高価でかつ重合しやすいマロノニトリルを
原料として複数の工程を経て収率４５％と低収率で製造
されるため（Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ａ
ｃｔａ，Ｖｏｌ．７４，ｐ．２（１９９１））、不斉配
位子としてかかるメチレンビスオキサゾリン類を用いる
不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法は、工業的
に有利であるとは言えなかった。
薬、農薬などの中間体として有用であり、オレフィン類
とジアゾ酢酸エステル類とを、銅塩と不斉配位子との存
在下に反応させて製造されることが知られている。従来
より、かかる不斉配位子として、光学活性メチレンビス
オキサゾリン類が提案されている（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．５０，ｐ
ｐ．７３７３−７３７６，１９９１）。しかしながら、
かかるメチレンビスオキサゾリン類は不安定で重合し易
いばかりか、高価でかつ重合しやすいマロノニトリルを
原料として複数の工程を経て収率４５％と低収率で製造
されるため（Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ａ
ｃｔａ，Ｖｏｌ．７４，ｐ．２（１９９１））、不斉配
位子としてかかるメチレンビスオキサゾリン類を用いる
不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法は、工業的
に有利であるとは言えなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
安価な原料から比較的短い工程で収率よく製造し得、安
定であり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類
とを銅塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカル
ボン酸類を製造する際の不斉配位子として用いることの
できる新たな化合物を開発すべく鋭意検討した結果、本
発明に至った。
安価な原料から比較的短い工程で収率よく製造し得、安
定であり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類
とを銅塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカル
ボン酸類を製造する際の不斉配位子として用いることの
できる新たな化合物を開発すべく鋭意検討した結果、本
発明に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
一般式（１） （式中Ｘは一般式（２） または、一般式（３） で示される置換基である。式中、Ｒ1 、Ｒ2 は置換基を
有していてもよいアルキル基、アラルキル基もしくはア
リール基を示し、Ｒ3 は置換基を有していてもよいアリ
ール基を示し、Ｒ4 はヒドロキシル基またはアミノ基を
示す。また、Ｒ5、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ水
素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくは
アラルキル基もしくはアリール基を示す。ただし、少な
くともＲ5とＲ6 が同一であることはない。また、＊は
不斉炭素であることを示し、（＊）は不斉炭素であり得
ることを示す）で示される光学活性オキサゾリン類（以
下、化合物（１）と称することもある）を提供するもの
である。
一般式（１） （式中Ｘは一般式（２） または、一般式（３） で示される置換基である。式中、Ｒ1 、Ｒ2 は置換基を
有していてもよいアルキル基、アラルキル基もしくはア
リール基を示し、Ｒ3 は置換基を有していてもよいアリ
ール基を示し、Ｒ4 はヒドロキシル基またはアミノ基を
示す。また、Ｒ5、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ水
素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくは
アラルキル基もしくはアリール基を示す。ただし、少な
くともＲ5とＲ6 が同一であることはない。また、＊は
不斉炭素であることを示し、（＊）は不斉炭素であり得
ることを示す）で示される光学活性オキサゾリン類（以
下、化合物（１）と称することもある）を提供するもの
である。
【０００５】
【発明の実施の形態】ここで、Ｒ1 およびＲ2 の具体例
としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、
シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、メ
ンチル基、ジシクロヘキシル基、２、３、４−トリメチ
ル−３−ペンチル基、２、４−ジメチル−３−ペンチル
基などのアルキル基または、ベンジル基、２−フェニル
エチル基、２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基
などのアラルキル基、またはフェニル基、ナフチル基、
ビフェニル基、フリル基、チオフェニル基、２、６−ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−トリル基などのアリール基が例示さ
れる。さらにこれらはクロル、ブロムなどのハロゲン原
子、またはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｔ−ブトキシ基、などの低級アルコキシ基やフェノ
キシ基などのアリールオキシ基、またはｎ−プロピルチ
オ基、ｔ−ブチルチオ基などの低級アルキルチオ基、ま
たはフェニルチオ基などのアリールチオ基、またはニト
ロ基、水酸基などを有していてもよい。さらに、Ｒ1 お
よびＲ 2 がアリール基である場合は、該アリール基が、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低
級アルキル基を置換基として有していてもよい。またＲ
1 とＲ2 は同一であっても異なっていてもよい。
としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、
シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、メ
ンチル基、ジシクロヘキシル基、２、３、４−トリメチ
ル−３−ペンチル基、２、４−ジメチル−３−ペンチル
基などのアルキル基または、ベンジル基、２−フェニル
エチル基、２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基
などのアラルキル基、またはフェニル基、ナフチル基、
ビフェニル基、フリル基、チオフェニル基、２、６−ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−トリル基などのアリール基が例示さ
れる。さらにこれらはクロル、ブロムなどのハロゲン原
子、またはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｔ−ブトキシ基、などの低級アルコキシ基やフェノ
キシ基などのアリールオキシ基、またはｎ−プロピルチ
オ基、ｔ−ブチルチオ基などの低級アルキルチオ基、ま
たはフェニルチオ基などのアリールチオ基、またはニト
ロ基、水酸基などを有していてもよい。さらに、Ｒ1 お
よびＲ 2 がアリール基である場合は、該アリール基が、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低
級アルキル基を置換基として有していてもよい。またＲ
1 とＲ2 は同一であっても異なっていてもよい。
【０００６】Ｒ3 の具体例としてはフェニル基、ナフチ
ル基、ビフェニル基、フリル基、チオフェニル基、２、
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−トリル基などのアリール基が
例示され、さらにこれらは、メチル基、エチル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル
基、ｎ−ヘキシル基などの低級アルキル基、またはクロ
ル、ブロムなどのハロゲン原子、またはメトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、などの
低級アルコキシ基やフェノキシ基などのアリールオキシ
基、またはｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチオ基など
の低級アルキルチオ基、またはフェニルチオ基などのア
リールチオ基、またはニトロ基、水酸基などで置換され
ていてもよい。Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 の具体例は
Ｒ1 およびＲ2 で例示したものと同様なアルキル基もし
くはアラルキル基もしくはアリール基が例示できる。た
だし、少なくともＲ5 とＲ6 が同一であることはない。
ル基、ビフェニル基、フリル基、チオフェニル基、２、
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−トリル基などのアリール基が
例示され、さらにこれらは、メチル基、エチル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル
基、ｎ−ヘキシル基などの低級アルキル基、またはクロ
ル、ブロムなどのハロゲン原子、またはメトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、などの
低級アルコキシ基やフェノキシ基などのアリールオキシ
基、またはｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチオ基など
の低級アルキルチオ基、またはフェニルチオ基などのア
リールチオ基、またはニトロ基、水酸基などで置換され
ていてもよい。Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 の具体例は
Ｒ1 およびＲ2 で例示したものと同様なアルキル基もし
くはアラルキル基もしくはアリール基が例示できる。た
だし、少なくともＲ5 とＲ6 が同一であることはない。
【０００７】本発明における化合物（１）は、いずれも
文献未記載の化合物であって、一般式（１）における置
換基Ｘが一般式（２）で示される置換基に相当する化合
物（１）（以下、化合物（２）と称することもある）
は、一般式（４） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ前記と
同じ意味を示す）で示される２−メチルオキサゾリン類
と一般式（５） Ｒ1 ＣＯＲ2 （５） （式中、Ｒ1 およびＲ2 は前記と同じ意味を示す）で示
されるケトン類とを強塩基存在下で反応させて、また、
化合物（１）における置換基Ｘが一般式（３）で示され
る置換基に相当する化合物（１）（以下、化合物（３）
と称することもある）は、２−メチルオキサゾリン類と
一般式（６） Ｒ3 ＣＯＯＲ14 （６） （式中、Ｒ3 は前記と同じ意味を示し、Ｒ14はアルキル
基を示す）で示されるアリールカルボン酸エステル類ま
たは、一般式（７） Ｒ3 ＣＮ （７） （式中、Ｒ3 は前記と同じ意味を示す）で示されるアリ
ールニトリル類とを強塩基存在下で反応させてそれぞれ
製造することができる。
文献未記載の化合物であって、一般式（１）における置
換基Ｘが一般式（２）で示される置換基に相当する化合
物（１）（以下、化合物（２）と称することもある）
は、一般式（４） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ前記と
同じ意味を示す）で示される２−メチルオキサゾリン類
と一般式（５） Ｒ1 ＣＯＲ2 （５） （式中、Ｒ1 およびＲ2 は前記と同じ意味を示す）で示
されるケトン類とを強塩基存在下で反応させて、また、
化合物（１）における置換基Ｘが一般式（３）で示され
る置換基に相当する化合物（１）（以下、化合物（３）
と称することもある）は、２−メチルオキサゾリン類と
一般式（６） Ｒ3 ＣＯＯＲ14 （６） （式中、Ｒ3 は前記と同じ意味を示し、Ｒ14はアルキル
基を示す）で示されるアリールカルボン酸エステル類ま
たは、一般式（７） Ｒ3 ＣＮ （７） （式中、Ｒ3 は前記と同じ意味を示す）で示されるアリ
ールニトリル類とを強塩基存在下で反応させてそれぞれ
製造することができる。
【０００８】ケトン類としては、アセトン、ジプロピル
ケトン、などのジアルキルケトン類、および、ベンゾフ
ェノン、４、４’−ジメトキシベンゾフェノン、２、
２’−ジクロルベンゾフェノンなどのジアリールケトン
類等が例示される。アリールカルボン酸エステル類にお
ける置換基Ｒ14としてはＲ1 およびＲ2 で例示したアル
キル基と同様なアルキル基が例示でき、かかるアリール
カルボン酸エステル類としては、安息香酸メチルエステ
ル、パラメトキシ安息香酸メチルエステル、メタクロル
安息香酸エチルエステルなどが例示される。
ケトン、などのジアルキルケトン類、および、ベンゾフ
ェノン、４、４’−ジメトキシベンゾフェノン、２、
２’−ジクロルベンゾフェノンなどのジアリールケトン
類等が例示される。アリールカルボン酸エステル類にお
ける置換基Ｒ14としてはＲ1 およびＲ2 で例示したアル
キル基と同様なアルキル基が例示でき、かかるアリール
カルボン酸エステル類としては、安息香酸メチルエステ
ル、パラメトキシ安息香酸メチルエステル、メタクロル
安息香酸エチルエステルなどが例示される。
【０００９】アリールニトリル類としては、ベンゾニト
リル、パラメトキシベンゾニトリル、メタクロルベンゾ
ニトリル、などが例示される。
リル、パラメトキシベンゾニトリル、メタクロルベンゾ
ニトリル、などが例示される。
【００１０】２−メチルオキサゾリン類としては、４Ｒ
−２−メチル−４−フェニルオキサゾリン、４Ｒ、５Ｓ
−２−メチル−４−メチル−５−フェニルオキサゾリ
ン、４Ｓ−２−メチル−４−ベンジルオキサゾリンが例
示され、その使用量は上記ケトン類、アリールカルボン
酸エステル類またはアリールニトリル類１モルに対して
０．５〜１０モル、好ましくは０．９〜３モルである。
かかる２−メチルオキサゾリン類はいずれも公知であり
（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｐ８５３，１９８７）、アセト
ニトリル等のニトリル誘導体とＲ−２−フェニルグリシ
ノール、Ｌ−フェニルアラニノール、Ｌ−ノルエフェド
リンなどの光学活性２−アミノエタノールとを反応させ
て容易に製造し得る。
−２−メチル−４−フェニルオキサゾリン、４Ｒ、５Ｓ
−２−メチル−４−メチル−５−フェニルオキサゾリ
ン、４Ｓ−２−メチル−４−ベンジルオキサゾリンが例
示され、その使用量は上記ケトン類、アリールカルボン
酸エステル類またはアリールニトリル類１モルに対して
０．５〜１０モル、好ましくは０．９〜３モルである。
かかる２−メチルオキサゾリン類はいずれも公知であり
（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｐ８５３，１９８７）、アセト
ニトリル等のニトリル誘導体とＲ−２−フェニルグリシ
ノール、Ｌ−フェニルアラニノール、Ｌ−ノルエフェド
リンなどの光学活性２−アミノエタノールとを反応させ
て容易に製造し得る。
【００１１】強塩基類としては、ｔ−ブチルリチウム、
ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｎ−ブチルリチウムなどのア
ルキル金属、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
アミド、ナトリウムアミドなどの金属アミド、ナトリウ
ムメチラート、カリウムｔ−ブトキシドなどの金属アル
コラートが例示される。これら強塩基類の使用量は２−
メチルオキサゾリン類１モルに対して、通常０．５〜１
０モル、好ましくは１〜１．５モルの範囲である。
ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｎ−ブチルリチウムなどのア
ルキル金属、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
アミド、ナトリウムアミドなどの金属アミド、ナトリウ
ムメチラート、カリウムｔ−ブトキシドなどの金属アル
コラートが例示される。これら強塩基類の使用量は２−
メチルオキサゾリン類１モルに対して、通常０．５〜１
０モル、好ましくは１〜１．５モルの範囲である。
【００１２】上記で述べた反応は通常溶媒中で行われ、
かかる溶媒としては、エチルエーテル、ジエトキシメタ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサ
ンなどのエーテル系溶媒やヘキサン等の飽和脂肪族炭化
水素系溶媒などの反応に不活性な溶媒が使用され、その
使用量は、特に制限されないが、通常、２−メチルオキ
サゾリン類に対して重量比で１０〜５００倍である。
かかる溶媒としては、エチルエーテル、ジエトキシメタ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサ
ンなどのエーテル系溶媒やヘキサン等の飽和脂肪族炭化
水素系溶媒などの反応に不活性な溶媒が使用され、その
使用量は、特に制限されないが、通常、２−メチルオキ
サゾリン類に対して重量比で１０〜５００倍である。
【００１３】反応温度は、通常、−１００℃〜１０℃、
好ましくは−８０℃〜０℃の範囲である。
好ましくは−８０℃〜０℃の範囲である。
【００１４】得られた反応混合物から一般的な方法、例
えば、塩化アンモニウム水と混合後、トルエン、酢酸エ
チル、ジエチルエーテル、ジクロルメタンなどの有機溶
媒によって抽出処理し、得られた有機層を濃縮等によ
り、目的とする化合物（２）または（３）を得ることが
できる。また、必要によりカラムクロマトグラフィーや
蒸留により精製してもよい。
えば、塩化アンモニウム水と混合後、トルエン、酢酸エ
チル、ジエチルエーテル、ジクロルメタンなどの有機溶
媒によって抽出処理し、得られた有機層を濃縮等によ
り、目的とする化合物（２）または（３）を得ることが
できる。また、必要によりカラムクロマトグラフィーや
蒸留により精製してもよい。
【００１５】このようにして得られる化合物（２）とし
ては具体的に、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、
２−ジフェニルエチル）−４−フェニルオキサゾリン、
（４Ｒ、５Ｓ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフ
ェニルエチル）−４−メチル−５−フェニルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェ
ニルエチル）−４−ベンジルオキサゾリン、（４Ｓ）−
２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチル）−
４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−（２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピル）−４−フェニルオキサ
ゾリン、（４Ｓ）−２−（２−ヒドロキシ−２−メチル
プロピル）−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−
２−（２−ヒドロキシ−２−プロピルペンチル）−４−
フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキ
シ−２−プロピルペンチル）−４−ｔ−ブチルオキサゾ
リン、などを挙げることができる。
ては具体的に、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、
２−ジフェニルエチル）−４−フェニルオキサゾリン、
（４Ｒ、５Ｓ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフ
ェニルエチル）−４−メチル−５−フェニルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェ
ニルエチル）−４−ベンジルオキサゾリン、（４Ｓ）−
２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチル）−
４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−（２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピル）−４−フェニルオキサ
ゾリン、（４Ｓ）−２−（２−ヒドロキシ−２−メチル
プロピル）−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−
２−（２−ヒドロキシ−２−プロピルペンチル）−４−
フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキ
シ−２−プロピルペンチル）−４−ｔ−ブチルオキサゾ
リン、などを挙げることができる。
【００１６】また化合物（３）としては具体的に、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−
４−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ、５Ｓ）−２−（２
−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−４−メチル−５
−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−（２−アミノ
−２−フェニルビニル）−４−ベンジルオキサゾリン、
（４Ｒ）−２−（２−アミノ−２−フェニルビニル）−
４−フェニルオキサゾリン、（４Ｓ）−２−（２−ヒド
ロキシ−２−フェニルビニル）−４−ｔ−ブチルオキサ
ゾリン、（４Ｓ）−２−（２−アミノ−２−フェニルビ
ニル）−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、などを挙げるこ
とができる。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−
４−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ、５Ｓ）−２−（２
−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−４−メチル−５
−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−（２−アミノ
−２−フェニルビニル）−４−ベンジルオキサゾリン、
（４Ｒ）−２−（２−アミノ−２−フェニルビニル）−
４−フェニルオキサゾリン、（４Ｓ）−２−（２−ヒド
ロキシ−２−フェニルビニル）−４−ｔ−ブチルオキサ
ゾリン、（４Ｓ）−２−（２−アミノ−２−フェニルビ
ニル）−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、などを挙げるこ
とができる。
【００１７】このような本発明の化合物（１）はいずれ
も安定で、取扱も容易であり、例えば、不斉シクロプロ
パンカルボン酸類の製造における不斉配位子として使用
することができる。例えば、一般式（８） （式中、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原
子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくは、ア
ラルキル基もしくは、アリール基もしくはアルケニル基
を示す。ただし、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が同時に
同一であることはない。）で示されるオレフィン類と、
一般式（９） Ｎ2 ＣＨＣＯ2 Ｒ13 （９） （式中、Ｒ13は置換基を有していてもよいアルキル基も
しくはアラルキル基もしくアリール基を示す。）で示さ
れるジアゾ酢酸エステル類とを化合物（１）と銅塩の存
在下に反応させることによって、一般式（１０） （式中、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は前記と同
じ意味を示す。ただし、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が
同時に同一であることはない。また、＊および（＊）は
前記と同じ意味を示す）で示される不斉シクロプロパン
カルボン酸類を製造することができる。
も安定で、取扱も容易であり、例えば、不斉シクロプロ
パンカルボン酸類の製造における不斉配位子として使用
することができる。例えば、一般式（８） （式中、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原
子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくは、ア
ラルキル基もしくは、アリール基もしくはアルケニル基
を示す。ただし、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が同時に
同一であることはない。）で示されるオレフィン類と、
一般式（９） Ｎ2 ＣＨＣＯ2 Ｒ13 （９） （式中、Ｒ13は置換基を有していてもよいアルキル基も
しくはアラルキル基もしくアリール基を示す。）で示さ
れるジアゾ酢酸エステル類とを化合物（１）と銅塩の存
在下に反応させることによって、一般式（１０） （式中、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は前記と同
じ意味を示す。ただし、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が
同時に同一であることはない。また、＊および（＊）は
前記と同じ意味を示す）で示される不斉シクロプロパン
カルボン酸類を製造することができる。
【００１８】一般式（８）で示されるオレフィン類にお
けるＲ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12において、アルキル
基、アラルキル基、アリール基としては、Ｒ1 およびＲ
2 で例示したものと同様なものが例示できる。アルケニ
ル基としては１−プロペニル基、アリル基、イソプロペ
ニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテ
ニル基などが例示できる。
けるＲ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12において、アルキル
基、アラルキル基、アリール基としては、Ｒ1 およびＲ
2 で例示したものと同様なものが例示できる。アルケニ
ル基としては１−プロペニル基、アリル基、イソプロペ
ニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテ
ニル基などが例示できる。
【００１９】さらにＲ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は置換
基としてクロル、ブロムなどのハロゲン原子、またはメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキ
シ基、などの低級アルコキシ基やフェノキシ基などのア
リールオキシ基、またはｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチ
ルチオ基などの低級アルキルチオ基、またはフェニルチ
オ基などのアリールチオ基、またはニトロ基、水酸基な
どを有していてもよい。さらに、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およ
びＲ12がアリール基を有する場合は該アリール基が、メ
チル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低級
アルキル基で置換されていてもよい。ただし、Ｒ9 、Ｒ
10、Ｒ11およびＲ12が同時に同一であることはない。
基としてクロル、ブロムなどのハロゲン原子、またはメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキ
シ基、などの低級アルコキシ基やフェノキシ基などのア
リールオキシ基、またはｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチ
ルチオ基などの低級アルキルチオ基、またはフェニルチ
オ基などのアリールチオ基、またはニトロ基、水酸基な
どを有していてもよい。さらに、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およ
びＲ12がアリール基を有する場合は該アリール基が、メ
チル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低級
アルキル基で置換されていてもよい。ただし、Ｒ9 、Ｒ
10、Ｒ11およびＲ12が同時に同一であることはない。
【００２０】オレフィン類の具体例としては、イソブチ
レン、２−メチル−２−ブテン、２、５−ジメチル−
２、４−ヘキサジエン、スチレン、４−フェニル−１−
ブテンなどが挙げられる。
レン、２−メチル−２−ブテン、２、５−ジメチル−
２、４−ヘキサジエン、スチレン、４−フェニル−１−
ブテンなどが挙げられる。
【００２１】一般式（９）で示されるジアゾ酢酸エステ
ル類のＲ13としては、Ｒ1 およびＲ 2 において記したも
のと同様のアルキル基、アラルキル基およびアリール基
が例示できる。かかるジアゾ酢酸エステル類としては、
例えば、ジアゾ酢酸エチルエステル、ジアゾ酢酸ｔ−ブ
チルエステル、ジアゾ酢酸シクロヘキシルエステル、ジ
アゾ酢酸１−メンチルエステルなどが挙げらる。
ル類のＲ13としては、Ｒ1 およびＲ 2 において記したも
のと同様のアルキル基、アラルキル基およびアリール基
が例示できる。かかるジアゾ酢酸エステル類としては、
例えば、ジアゾ酢酸エチルエステル、ジアゾ酢酸ｔ−ブ
チルエステル、ジアゾ酢酸シクロヘキシルエステル、ジ
アゾ酢酸１−メンチルエステルなどが挙げらる。
【００２２】銅塩としては、トリフルオロメタンスルホ
ン酸銅、酢酸銅、臭化銅、塩化銅、三フッ化銅、など１
価もしくは２価の銅塩が例示され、その使用量は化合物
（１）１モルに対して、通常、０．０１〜２モル、好ま
しくは０．１〜１モルである。
ン酸銅、酢酸銅、臭化銅、塩化銅、三フッ化銅、など１
価もしくは２価の銅塩が例示され、その使用量は化合物
（１）１モルに対して、通常、０．０１〜２モル、好ま
しくは０．１〜１モルである。
【００２３】化合物（１）の使用量はジアゾ酢酸エステ
ル類１モルに対して０．００１〜２モル、好ましくは
０．１〜１モルである。
ル類１モルに対して０．００１〜２モル、好ましくは
０．１〜１モルである。
【００２４】反応に際しては、通常、溶媒が用いられ、
かかる溶媒としては、例えば、エチルエーテル、ジエト
キシメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジオキサン等のエーテル系溶媒、または、ヘキサン等の
飽和脂肪族炭化水素系溶媒、または、クロロホルム、ジ
クロロメタン等の含ハロゲン化合物系溶媒、または酢酸
エチル等のエステル系溶媒などの、反応に不活性な溶媒
が使用され、その使用量は特に制限はないが、ジアゾ酢
酸エステル１モルに対して５〜５００モル、好ましくは
１０〜３００モルである。また、場合によっては原料オ
レフィン類を溶媒として使用してもよい。
かかる溶媒としては、例えば、エチルエーテル、ジエト
キシメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジオキサン等のエーテル系溶媒、または、ヘキサン等の
飽和脂肪族炭化水素系溶媒、または、クロロホルム、ジ
クロロメタン等の含ハロゲン化合物系溶媒、または酢酸
エチル等のエステル系溶媒などの、反応に不活性な溶媒
が使用され、その使用量は特に制限はないが、ジアゾ酢
酸エステル１モルに対して５〜５００モル、好ましくは
１０〜３００モルである。また、場合によっては原料オ
レフィン類を溶媒として使用してもよい。
【００２５】オレフィン類の使用量は、ジアゾ酢酸エス
テル類１モルに対して０．５モル以上であればよく、好
ましくは０．５〜３０モル、さらに好ましくは５〜１０
モルの範囲である。
テル類１モルに対して０．５モル以上であればよく、好
ましくは０．５〜３０モル、さらに好ましくは５〜１０
モルの範囲である。
【００２６】反応に際しては、例えば、溶媒中でオレフ
ィン類、光学活性オキサゾリン類および銅塩をあらかじ
め混合し、該混合物中にジアゾ酢酸エステル類を添加す
ればよい。
ィン類、光学活性オキサゾリン類および銅塩をあらかじ
め混合し、該混合物中にジアゾ酢酸エステル類を添加す
ればよい。
【００２７】なお、２価の銅塩を使用する場合には、ジ
アゾ酢酸エステル類を添加する前に、フェニルヒドラジ
ンなどのヒドラジン化合物を添加しておくことが反応速
度が速くなり好ましい。この場合、ヒドラジン化合物の
使用量は、通常、銅塩に対して０．８〜１モルである。
アゾ酢酸エステル類を添加する前に、フェニルヒドラジ
ンなどのヒドラジン化合物を添加しておくことが反応速
度が速くなり好ましい。この場合、ヒドラジン化合物の
使用量は、通常、銅塩に対して０．８〜１モルである。
【００２８】反応温度は、通常、−５０℃〜２００℃、
好ましくは０℃〜５０℃の範囲である。
好ましくは０℃〜５０℃の範囲である。
【００２９】反応終了後は、例えば、得られた反応混合
物をそのまま濃縮するか、該反応混合物を塩化アンモニ
ウム水中にあけ、トルエン、酢酸エチル、ジエチルエー
テル、ジクロルメタンの有機溶媒によって抽出処理し、
得られた有機層を濃縮することにより、目的とする不斉
シクロプロパンカルボン酸類を得ることができ、必要に
よりカラムクロマトグラフィーや蒸留により精製するこ
とができる。
物をそのまま濃縮するか、該反応混合物を塩化アンモニ
ウム水中にあけ、トルエン、酢酸エチル、ジエチルエー
テル、ジクロルメタンの有機溶媒によって抽出処理し、
得られた有機層を濃縮することにより、目的とする不斉
シクロプロパンカルボン酸類を得ることができ、必要に
よりカラムクロマトグラフィーや蒸留により精製するこ
とができる。
【００３０】かくして、得られる不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類としては、たとえば、１−Ｓ−エトキシカル
ボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン、１−Ｒ−エ
トキシカルボニル−２、２−ジメチルシクロプロパン、
１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−（２−メチル−
１−プロペニル）シクロプロパン、１−Ｓ−エトキシカ
ルボニル−２−Ｓ−ｔ−ブチルシクロプロパンなどが挙
げられる。
ルボン酸類としては、たとえば、１−Ｓ−エトキシカル
ボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン、１−Ｒ−エ
トキシカルボニル−２、２−ジメチルシクロプロパン、
１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−（２−メチル−
１−プロペニル）シクロプロパン、１−Ｓ−エトキシカ
ルボニル−２−Ｓ−ｔ−ブチルシクロプロパンなどが挙
げられる。
【００３１】
【発明の効果】本発明の光学活性オキサゾリン類は、安
価な原料から比較的短い工程で収率よく製造し得、安定
であり、加えてオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類と
を、銅塩の存在下に反応させる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類の製造において、不斉配位子として使用でき
る。
価な原料から比較的短い工程で収率よく製造し得、安定
であり、加えてオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類と
を、銅塩の存在下に反応させる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類の製造において、不斉配位子として使用でき
る。
【００３２】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
【００３３】〔参考例１〕 ４Ｒ−２−メチル−４−フェニルオキサゾリンの製造 （Ｒ）−（−）−フェニルグリシノール１０ｇ（７２．
９ｍｍｏｌ）を、アセトニトリル３００ｇに溶解した。
この溶液に、ビーズ状モレキュラーシーブ４Ａ、２０ｇ
を加え３０分間窒素気流下で攪拌した。次に、塩化亜鉛
１０ｇ（７３．４ｍｍｏｌ）を加え加熱還流しながら７
時間攪拌した。反応終了後、反応混合液をろ過しモレキ
ュラーシーブを除去し、ろ紙上のモレキュラーシーブを
アセトニトリル（５０ｇ×２）で洗浄し、洗浄液をろ液
と一緒にした後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液４００
ｇを加え３０分間攪拌した。析出した固体をろ別し、ろ
液を濃縮後、残滓を４００ｇの水にあけ酢酸エチル（３
００ｇ×２）で抽出した。有機層を合わせ、１００ｇの
水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮した。残滓
をクロロホルム−アセトン（２０：１）にてシリカゲル
カラムクロマト精製し、４Ｒ−２−メチル−４−フェニ
ルオキサゾリン９．２１ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）（収率
７８．５％）を得た。
９ｍｍｏｌ）を、アセトニトリル３００ｇに溶解した。
この溶液に、ビーズ状モレキュラーシーブ４Ａ、２０ｇ
を加え３０分間窒素気流下で攪拌した。次に、塩化亜鉛
１０ｇ（７３．４ｍｍｏｌ）を加え加熱還流しながら７
時間攪拌した。反応終了後、反応混合液をろ過しモレキ
ュラーシーブを除去し、ろ紙上のモレキュラーシーブを
アセトニトリル（５０ｇ×２）で洗浄し、洗浄液をろ液
と一緒にした後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液４００
ｇを加え３０分間攪拌した。析出した固体をろ別し、ろ
液を濃縮後、残滓を４００ｇの水にあけ酢酸エチル（３
００ｇ×２）で抽出した。有機層を合わせ、１００ｇの
水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮した。残滓
をクロロホルム−アセトン（２０：１）にてシリカゲル
カラムクロマト精製し、４Ｒ−２−メチル−４−フェニ
ルオキサゾリン９．２１ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）（収率
７８．５％）を得た。
【００３４】〔実施例１〕 （４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニル
エチル）−４−フェニルオキサゾリンの製造 ジイソプロピルアミン０．５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、この溶液を−７
８℃に冷却し攪拌しながらノルマルブチルリチウム３１
６ｍｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液（３．０９
ｍｌ）を滴下した。５分間−７８℃で攪拌後−１０℃ま
で昇温し、１５分間攪拌した。再び−７８℃に冷却し、
参考例１で得られた４Ｒ−２−メチル−４−フェニルオ
キサゾリン０．７９５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のテトラ
ヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を滴下した。−７８℃のま
ま、３０分間攪拌した後、同温度下、ベンゾフェノン
０．９０ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン
溶液（５ｍｌ）を滴下した。１５分間、−７８℃で攪拌
後、−１０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、反応混
合液に飽和塩化アンモニウム水溶液２ｍｌを加え５分間
攪拌後、２００ｍｌの水にあけクロロホルム（１５０ｇ
×２）で抽出した。有機層を５０ｇの水で洗浄し無水硫
酸ナトリウムで乾燥後濃縮した。残滓をクロロホルム−
アセトン（５０：１）にてシリカゲルクロマト精製し、
（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニル
エチル）−４−フェニルオキサゾリン１．４５ｇ（４．
２３ｍｍｏｌ）（収率８５．６％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ３．２０（ｄ，
１Ｈ），３．４３（ｄ，１Ｈ），３．８６（ｔ，１
Ｈ），４．４８（ｔ，１Ｈ），５．０７（ｔ，１Ｈ），
６．２５（ｂｓ，１Ｈ），６．６５（ｄ，２Ｈ），７．
１０−７．４０（ｍ，９Ｈ），７．４６−７．６０
（ｍ，４Ｈ）。
エチル）−４−フェニルオキサゾリンの製造 ジイソプロピルアミン０．５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、この溶液を−７
８℃に冷却し攪拌しながらノルマルブチルリチウム３１
６ｍｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液（３．０９
ｍｌ）を滴下した。５分間−７８℃で攪拌後−１０℃ま
で昇温し、１５分間攪拌した。再び−７８℃に冷却し、
参考例１で得られた４Ｒ−２−メチル−４−フェニルオ
キサゾリン０．７９５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のテトラ
ヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を滴下した。−７８℃のま
ま、３０分間攪拌した後、同温度下、ベンゾフェノン
０．９０ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン
溶液（５ｍｌ）を滴下した。１５分間、−７８℃で攪拌
後、−１０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、反応混
合液に飽和塩化アンモニウム水溶液２ｍｌを加え５分間
攪拌後、２００ｍｌの水にあけクロロホルム（１５０ｇ
×２）で抽出した。有機層を５０ｇの水で洗浄し無水硫
酸ナトリウムで乾燥後濃縮した。残滓をクロロホルム−
アセトン（５０：１）にてシリカゲルクロマト精製し、
（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニル
エチル）−４−フェニルオキサゾリン１．４５ｇ（４．
２３ｍｍｏｌ）（収率８５．６％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ３．２０（ｄ，
１Ｈ），３．４３（ｄ，１Ｈ），３．８６（ｔ，１
Ｈ），４．４８（ｔ，１Ｈ），５．０７（ｔ，１Ｈ），
６．２５（ｂｓ，１Ｈ），６．６５（ｄ，２Ｈ），７．
１０−７．４０（ｍ，９Ｈ），７．４６−７．６０
（ｍ，４Ｈ）。
【００３５】〔参考例２〕 ４Ｒ、５Ｓ−２−メチル−４−メチル−５−フェニルオ
キサゾリンの製造 参考例１において、（Ｒ）−（−）−フェニルグリシノ
ール１０ｇの代わりにＬ−ノルエフェドリン１０ｇ（６
６．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は参考例１と同様に操作
し、４Ｒ、５Ｓ−２−メチル−４−メチル−５−フェニ
ルオキサゾリン９．５２ｇ（５４．４ｍｍｏｌ）（収率
８２．３％）を得た。
キサゾリンの製造 参考例１において、（Ｒ）−（−）−フェニルグリシノ
ール１０ｇの代わりにＬ−ノルエフェドリン１０ｇ（６
６．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は参考例１と同様に操作
し、４Ｒ、５Ｓ−２−メチル−４−メチル−５−フェニ
ルオキサゾリン９．５２ｇ（５４．４ｍｍｏｌ）（収率
８２．３％）を得た。
【００３６】〔実施例２〕 ４Ｒ、５Ｓ−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニ
ルエチル）−４−メチル−５−フェニルオキサゾリンの
製造 実施例１において、４Ｒ−２−メチル−４−フェニルオ
キサゾリン０．７９５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）の代わり
に参考例２で得られた、４Ｒ、５Ｓ−２−メチル−４−
メチル−５−フェニルオキサゾリン０．８６５ｇ（４．
９４ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様に操作
し、４Ｒ、５Ｓ−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフ
ェニルエチル）−４−メチル−５−フェニルオキサゾリ
ン１．４９ｇ（４．１８ｍｍｏｌ）（収率８４．７％）
を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．５０（ｄ，
３Ｈ），３．３５（ｑ，２Ｈ），４．２５−４．４０
（ｍ，１Ｈ），５．４６（ｄ，１Ｈ），６．２３（ｂ
ｓ，１Ｈ），６．７６−６．８６（ｍ，２Ｈ），７．２
０−７．４０（ｍ，９Ｈ），７．５０−７．６２（ｍ，
４Ｈ）。
ルエチル）−４−メチル−５−フェニルオキサゾリンの
製造 実施例１において、４Ｒ−２−メチル−４−フェニルオ
キサゾリン０．７９５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）の代わり
に参考例２で得られた、４Ｒ、５Ｓ−２−メチル−４−
メチル−５−フェニルオキサゾリン０．８６５ｇ（４．
９４ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様に操作
し、４Ｒ、５Ｓ−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフ
ェニルエチル）−４−メチル−５−フェニルオキサゾリ
ン１．４９ｇ（４．１８ｍｍｏｌ）（収率８４．７％）
を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．５０（ｄ，
３Ｈ），３．３５（ｑ，２Ｈ），４．２５−４．４０
（ｍ，１Ｈ），５．４６（ｄ，１Ｈ），６．２３（ｂ
ｓ，１Ｈ），６．７６−６．８６（ｍ，２Ｈ），７．２
０−７．４０（ｍ，９Ｈ），７．５０−７．６２（ｍ，
４Ｈ）。
【００３７】〔参考例３〕 ４Ｓ−２−メチル−４−ベンジルオキサゾリンの製造 参考例１において、（Ｒ）−（−）−フェニルグリシノ
ール１０ｇの代わりにＬ−フェニルアラニノール１０ｇ
（６６．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は、参考例１と同様
に操作し、４Ｓ−２−メチル−４−ベンジルオキサゾリ
ン９．８４ｇ（５６．３ｍｍｏｌ）（収率８５．１％）
を得た。
ール１０ｇの代わりにＬ−フェニルアラニノール１０ｇ
（６６．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は、参考例１と同様
に操作し、４Ｓ−２−メチル−４−ベンジルオキサゾリ
ン９．８４ｇ（５６．３ｍｍｏｌ）（収率８５．１％）
を得た。
【００３８】〔実施例３〕 ４Ｓ−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−ベンジルオキサゾリンの製造 実施例１において、４Ｒ−２−メチル−４−フェニルオ
キサゾリン０．７９５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）の代わり
に参考例３で得られた、４Ｓ−２−メチル−４−ベンジ
ルオキサゾリン０．８６５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を用
いた以外は、実施例１と同様に操作し、４Ｓ−２−（２
−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチル）−４−ベン
ジルオキサゾリン１．５３ｇ（４．２８ｍｍｏｌ）（収
率８６．６％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．３２（ｑ，
１Ｈ），２．６８（ｑ，１Ｈ），３．１８（ｑ，２
Ｈ），３．８１（ｔ，１Ｈ），４．０９（ｔ，１Ｈ），
４．１５−４．２０（ｍ，１Ｈ），６．２６（ｓ，１
Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ），７．１５−７．３７
（ｍ，９Ｈ），７．４０−７．５５（ｍ，４Ｈ）。
ル）−４−ベンジルオキサゾリンの製造 実施例１において、４Ｒ−２−メチル−４−フェニルオ
キサゾリン０．７９５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）の代わり
に参考例３で得られた、４Ｓ−２−メチル−４−ベンジ
ルオキサゾリン０．８６５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を用
いた以外は、実施例１と同様に操作し、４Ｓ−２−（２
−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチル）−４−ベン
ジルオキサゾリン１．５３ｇ（４．２８ｍｍｏｌ）（収
率８６．６％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．３２（ｑ，
１Ｈ），２．６８（ｑ，１Ｈ），３．１８（ｑ，２
Ｈ），３．８１（ｔ，１Ｈ），４．０９（ｔ，１Ｈ），
４．１５−４．２０（ｍ，１Ｈ），６．２６（ｓ，１
Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ），７．１５−７．３７
（ｍ，９Ｈ），７．４０−７．５５（ｍ，４Ｈ）。
【００３９】〔実施例４〕 ４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−
４−フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、アセトン０．２８７ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を用い
た以外は実施例１と同様に操作し、４Ｒ−２−（２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピル）−４−フェニルオキサ
ゾリン０．８７０ｇ（３．９７ｍｍｏｌ）（収率８０．
４％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ１．３６（ｄ，
６Ｈ），２．５５（ｓ，２Ｈ），４．０５（ｔ，１
Ｈ），４．５０（ｂｓ，１Ｈ），４．６０（ｔ，１
Ｈ），５．２５（ｔ，１Ｈ），７．２０−７．４０
（ｍ，５Ｈ）。
４−フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、アセトン０．２８７ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を用い
た以外は実施例１と同様に操作し、４Ｒ−２−（２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピル）−４−フェニルオキサ
ゾリン０．８７０ｇ（３．９７ｍｍｏｌ）（収率８０．
４％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ１．３６（ｄ，
６Ｈ），２．５５（ｓ，２Ｈ），４．０５（ｔ，１
Ｈ），４．５０（ｂｓ，１Ｈ），４．６０（ｔ，１
Ｈ），５．２５（ｔ，１Ｈ），７．２０−７．４０
（ｍ，５Ｈ）。
【００４０】〔実施例５〕 ４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ−２−プロピルペンチル）
−４−フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、ジノルマルプロピルケトン０．５６４ｇ（４．９４
ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様に操作し、４
Ｒ−２−（２−ヒドロキシ−２−プロピルペンチル）−
４−フェニルオキサゾリン１．２０ｇ（４．３６ｍｍｏ
ｌ）（収率８８．２％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．９２（ｔ，
６Ｈ），１．３０−１．５０（ｍ，４Ｈ），１．５０−
１．６５（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｓ，２Ｈ），４．０
５（ｔ，１Ｈ），４．２２（ｂｓ，１Ｈ），４．６０
（ｔ，１Ｈ），５．２３（ｔ，１Ｈ），７．２０−７．
４０（ｍ，５Ｈ）。
−４−フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、ジノルマルプロピルケトン０．５６４ｇ（４．９４
ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様に操作し、４
Ｒ−２−（２−ヒドロキシ−２−プロピルペンチル）−
４−フェニルオキサゾリン１．２０ｇ（４．３６ｍｍｏ
ｌ）（収率８８．２％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．９２（ｔ，
６Ｈ），１．３０−１．５０（ｍ，４Ｈ），１．５０−
１．６５（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｓ，２Ｈ），４．０
５（ｔ，１Ｈ），４．２２（ｂｓ，１Ｈ），４．６０
（ｔ，１Ｈ），５．２３（ｔ，１Ｈ），７．２０−７．
４０（ｍ，５Ｈ）。
【００４１】〔実施例６〕 ４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−
４−フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、安息香酸メチルエステル０．６７３ｇ（４．９４ｍ
ｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様に操作し、４Ｒ
−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−４−
フェニルオキサゾリン１．１６ｇ（４．３８ｍｍｏｌ）
（収率８８．７％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ、ＴＭＳ）δ４．３２（ｔ，１
Ｈ），４．８５（ｔ，１Ｈ），５．２４（ｔ，１Ｈ），
５．６９（ｓ，１Ｈ），７．３０−７．５５（ｍ，８
Ｈ），７．８９（ｄ，２Ｈ），１０．２６（ｂｓ，１
Ｈ）。
４−フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、安息香酸メチルエステル０．６７３ｇ（４．９４ｍ
ｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様に操作し、４Ｒ
−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−４−
フェニルオキサゾリン１．１６ｇ（４．３８ｍｍｏｌ）
（収率８８．７％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ、ＴＭＳ）δ４．３２（ｔ，１
Ｈ），４．８５（ｔ，１Ｈ），５．２４（ｔ，１Ｈ），
５．６９（ｓ，１Ｈ），７．３０−７．５５（ｍ，８
Ｈ），７．８９（ｄ，２Ｈ），１０．２６（ｂｓ，１
Ｈ）。
【００４２】〔実施例７〕 ４Ｓ−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−
４−ベンジルオキサゾリンの製造 実施例３で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、安息香酸メチルエステル０．６７３ｇ（４．９４ｍ
ｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様に操作し、４Ｓ
−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−４−
ベンジルオキサゾリン１．１１ｇ（３．９７ｍｍｏｌ）
（収率８０．３％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．８５−３．
２０（ｍ，２Ｈ），４．２３（ｔ，１Ｈ），４．３６
（ｍ，１Ｈ），４．５０（ｔ，１Ｈ），５．６２（ｓ，
１Ｈ），７．１５−７．５０（ｍ，８Ｈ），７．８８
（ｄ，２Ｈ），１０．２６（ｂｓ，１Ｈ）。
４−ベンジルオキサゾリンの製造 実施例３で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、安息香酸メチルエステル０．６７３ｇ（４．９４ｍ
ｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様に操作し、４Ｓ
−２−（２−ヒドロキシ−２−フェニルビニル）−４−
ベンジルオキサゾリン１．１１ｇ（３．９７ｍｍｏｌ）
（収率８０．３％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．８５−３．
２０（ｍ，２Ｈ），４．２３（ｔ，１Ｈ），４．３６
（ｍ，１Ｈ），４．５０（ｔ，１Ｈ），５．６２（ｓ，
１Ｈ），７．１５−７．５０（ｍ，８Ｈ），７．８８
（ｄ，２Ｈ），１０．２６（ｂｓ，１Ｈ）。
【００４３】〔実施例８〕 ４Ｒ−２−（２−アミノ−２−フェニルビニル）−４−
フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、ベンゾニトリル０．５０９ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）
を用いた以外は実施例１と同様に操作し、４Ｒ−２−
（２−アミノ−２−フェニルビニル）−４−フェニルオ
キサゾリン１．０５５ｇ（４．２２ｍｍｏｌ）（収率８
５．４％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ３．９８（ｔ，
１Ｈ），４．５５（ｔ，１Ｈ），５．００（ｓ，１
Ｈ），５．３４（ｔ，１Ｈ），６．００−７．４０（ｂ
ｓ，２Ｈ），７．２０−７．４５（ｍ，８Ｈ），７．５
２−７．６５（ｍ，２Ｈ）。
フェニルオキサゾリンの製造 実施例１で用いたベンゾフェノン０．９０ｇの代わり
に、ベンゾニトリル０．５０９ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）
を用いた以外は実施例１と同様に操作し、４Ｒ−２−
（２−アミノ−２−フェニルビニル）−４−フェニルオ
キサゾリン１．０５５ｇ（４．２２ｍｍｏｌ）（収率８
５．４％）を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ３．９８（ｔ，
１Ｈ），４．５５（ｔ，１Ｈ），５．００（ｓ，１
Ｈ），５．３４（ｔ，１Ｈ），６．００−７．４０（ｂ
ｓ，２Ｈ），７．２０−７．４５（ｍ，８Ｈ），７．５
２−７．６５（ｍ，２Ｈ）。
【００４４】〔実施例９〕トリフルオロメタンスルホン
酸銅（ＩＩ）１８．０ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）および
実施例１で得られた、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ
−２、２−ジフェニルエチル）−４−フェニルオキサゾ
リン８５．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
３ｇに溶解させ１５分間２５℃で攪拌した。この溶液
に、フェニルヒドラジンを５μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）
加え５分間攪拌した。さらにスチレン１．０４ｇ（１０
ｍｍｏｌ）を加えこの混合液を１０分間攪拌したあと、
ジアゾ酢酸エチルエステルの塩化メチレン溶液（１０．
９％ｗ／ｗ）０．９ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を、１時間か
けて滴下した。滴下終了後さらに３時間、２５℃で攪拌
した。反応終了後、反応混合液を濃縮し、濃縮液をヘキ
サン−酢酸エチル（３０：１）にてシリカゲルカラムク
ロマト精製しシス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−
Ｓ−フェニルシクロプロパン４０．５ｍｇ（０．２１３
ｍｍｏｌ）（収率２１．３％、３２．９％ｅｅ）とトラ
ンス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−フェニル
シクロプロパン１３１．３ｍｇ（０．６９１ｍｍｏｌ）
（収率６９．１％、１５．８％ｅｅ）を得た。
酸銅（ＩＩ）１８．０ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）および
実施例１で得られた、（４Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ
−２、２−ジフェニルエチル）−４−フェニルオキサゾ
リン８５．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
３ｇに溶解させ１５分間２５℃で攪拌した。この溶液
に、フェニルヒドラジンを５μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）
加え５分間攪拌した。さらにスチレン１．０４ｇ（１０
ｍｍｏｌ）を加えこの混合液を１０分間攪拌したあと、
ジアゾ酢酸エチルエステルの塩化メチレン溶液（１０．
９％ｗ／ｗ）０．９ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を、１時間か
けて滴下した。滴下終了後さらに３時間、２５℃で攪拌
した。反応終了後、反応混合液を濃縮し、濃縮液をヘキ
サン−酢酸エチル（３０：１）にてシリカゲルカラムク
ロマト精製しシス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−
Ｓ−フェニルシクロプロパン４０．５ｍｇ（０．２１３
ｍｍｏｌ）（収率２１．３％、３２．９％ｅｅ）とトラ
ンス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−フェニル
シクロプロパン１３１．３ｍｇ（０．６９１ｍｍｏｌ）
（収率６９．１％、１５．８％ｅｅ）を得た。
【００４５】〔実施例１０〕実施例９において、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例２で得られた、４Ｒ、５Ｓ−２−（２−ヒド
ロキシ−２、２−ジフェニルエチル）−４−メチル−５
−フェニルオキサゾリン８９．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏ
ｌ）を使用すること以外は、実施例９と同様に操作し、
シス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｓ−フェニル
シクロプロパン４５．６ｍｇ（０．２４０ｍｍｏｌ）
（収率２４．０％、３７．５％ｅｅ）とトランス−１−
Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロ
パン１０７．０ｍｇ（０．５６３ｍｍｏｌ）（収率５
６．３％、２７．７％ｅｅ）を得た。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例２で得られた、４Ｒ、５Ｓ−２−（２−ヒド
ロキシ−２、２−ジフェニルエチル）−４−メチル−５
−フェニルオキサゾリン８９．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏ
ｌ）を使用すること以外は、実施例９と同様に操作し、
シス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｓ−フェニル
シクロプロパン４５．６ｍｇ（０．２４０ｍｍｏｌ）
（収率２４．０％、３７．５％ｅｅ）とトランス−１−
Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロ
パン１０７．０ｍｇ（０．５６３ｍｍｏｌ）（収率５
６．３％、２７．７％ｅｅ）を得た。
【００４６】〔実施例１１〕実施例９において、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例３で得られた、４Ｓ−２−（２−ヒドロキシ
−２、２−ジフェニルエチル）−４−ベンジルオキサゾ
リン８９．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること
以外は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｒ−エト
キシカルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン５
３．４ｍｇ（０．２８１ｍｍｏｌ）（収率２８．１％、
２７．０％ｅｅ）とトランス−１−Ｒ−エトキシカルボ
ニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン１３１．３ｍｇ
（０．６９１ｍｍｏｌ）（収率６９．１％、４．５％ｅ
ｅ）を得た。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例３で得られた、４Ｓ−２−（２−ヒドロキシ
−２、２−ジフェニルエチル）−４−ベンジルオキサゾ
リン８９．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること
以外は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｒ−エト
キシカルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン５
３．４ｍｇ（０．２８１ｍｍｏｌ）（収率２８．１％、
２７．０％ｅｅ）とトランス−１−Ｒ−エトキシカルボ
ニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン１３１．３ｍｇ
（０．６９１ｍｍｏｌ）（収率６９．１％、４．５％ｅ
ｅ）を得た。
【００４７】〔実施例１２〕実施例９において、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例４で得られた、４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピル）−４−フェニルオキサゾリン５
４．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｓ−エトキシ
カルボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン４６．９
ｍｇ（０．２４７ｍｍｏｌ）（収率２４．７％、３７．
９％ｅｅ）とトランス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−
２−Ｓ−フェニルシクロプロパン９１．９ｍｇ（０．４
８４ｍｍｏｌ）（収率４８．４％、４０．１％ｅｅ）を
得た。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例４で得られた、４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピル）−４−フェニルオキサゾリン５
４．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｓ−エトキシ
カルボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン４６．９
ｍｇ（０．２４７ｍｍｏｌ）（収率２４．７％、３７．
９％ｅｅ）とトランス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−
２−Ｓ−フェニルシクロプロパン９１．９ｍｇ（０．４
８４ｍｍｏｌ）（収率４８．４％、４０．１％ｅｅ）を
得た。
【００４８】〔実施例１３〕実施例９において、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例５で得られた、４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ
−２−プロピルペンチル）−４−フェニルオキサゾリン
６８．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｒ−エトキシ
カルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン１９．４
ｍｇ（０．１０２ｍｍｏｌ）（収率１０．２％、１４．
５％ｅｅ）とトランス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−
２−Ｒ−フェニルシクロプロパン９８．４ｍｇ（０．５
１８ｍｍｏｌ）（収率５１．８％、２６．８％ｅｅ）を
得た。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例５で得られた、４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ
−２−プロピルペンチル）−４−フェニルオキサゾリン
６８．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｒ−エトキシ
カルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン１９．４
ｍｇ（０．１０２ｍｍｏｌ）（収率１０．２％、１４．
５％ｅｅ）とトランス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−
２−Ｒ−フェニルシクロプロパン９８．４ｍｇ（０．５
１８ｍｍｏｌ）（収率５１．８％、２６．８％ｅｅ）を
得た。
【００４９】〔実施例１４〕実施例９において、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例６で得られた、４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ
−２−フェニルビニル）−４−フェニルオキサゾリン６
６．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｓ−エトキシ
カルボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン４０．５
ｍｇ（０．２１８ｍｍｏｌ）（収率２１．８％、２９．
６％ｅｅ）とトランス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−
２−Ｓ−フェニルシクロプロパン９９．６ｍｇ（０．５
２４ｍｍｏｌ）（収率５２．４％、２０．３％ｅｅ）を
得た。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例６で得られた、４Ｒ−２−（２−ヒドロキシ
−２−フェニルビニル）−４−フェニルオキサゾリン６
６．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｓ−エトキシ
カルボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン４０．５
ｍｇ（０．２１８ｍｍｏｌ）（収率２１．８％、２９．
６％ｅｅ）とトランス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−
２−Ｓ−フェニルシクロプロパン９９．６ｍｇ（０．５
２４ｍｍｏｌ）（収率５２．４％、２０．３％ｅｅ）を
得た。
【００５０】〔実施例１５〕実施例９において、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例７で得られた、４Ｓ−２−（２−ヒドロキシ
−２−フェニルビニル）−４−ベンジルオキサゾリン６
９．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｒ−エトキシ
カルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン５３．０
ｍｇ（０．２７９ｍｍｏｌ）（収率２７．９％、３２．
９％ｅｅ）とトランス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−
２−Ｒ−フェニルシクロプロパン１１９．７ｍｇ（０．
６３０ｍｍｏｌ）（収率６３．０％、３６．３％ｅｅ）
を得た。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例７で得られた、４Ｓ−２−（２−ヒドロキシ
−２−フェニルビニル）−４−ベンジルオキサゾリン６
９．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外
は、実施例９と同様に操作し、シス−１−Ｒ−エトキシ
カルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン５３．０
ｍｇ（０．２７９ｍｍｏｌ）（収率２７．９％、３２．
９％ｅｅ）とトランス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−
２−Ｒ−フェニルシクロプロパン１１９．７ｍｇ（０．
６３０ｍｍｏｌ）（収率６３．０％、３６．３％ｅｅ）
を得た。
【００５１】〔実施例１６〕実施例９において、（４
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例８で得られた、４Ｒ−２−（２−アミノ−２
−フェニルビニル）−４−フェニルオキサゾリン６２．
５ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外は、実
施例９と同様に操作し、 シス−１−Ｓ−エトキシカル
ボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン４９．０ｍｇ
（０．２５８ｍｍｏｌ）（収率２５．８％、３１．５％
ｅｅ）とトランス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−２−
Ｓ−フェニルシクロプロパン１０４．１ｍｇ（０．５４
８ｍｍｏｌ）（収率５４．８％、２４．０％ｅｅ）を得
た。
Ｒ）−２−（２−ヒドロキシ−２、２−ジフェニルエチ
ル）−４−フェニルオキサゾリン８５．８ｍｇの代わり
に、実施例８で得られた、４Ｒ−２−（２−アミノ−２
−フェニルビニル）−４−フェニルオキサゾリン６２．
５ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を使用すること以外は、実
施例９と同様に操作し、 シス−１−Ｓ−エトキシカル
ボニル−２−Ｒ−フェニルシクロプロパン４９．０ｍｇ
（０．２５８ｍｍｏｌ）（収率２５．８％、３１．５％
ｅｅ）とトランス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−２−
Ｓ−フェニルシクロプロパン１０４．１ｍｇ（０．５４
８ｍｍｏｌ）（収率５４．８％、２４．０％ｅｅ）を得
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (11)
- 【請求項１】一般式（１） （式中Ｘは一般式（２） または、一般式（３） で示される置換基である。式中、Ｒ1 、Ｒ2 は置換基を
有していてもよいアルキル基、アラルキル基もしくはア
リール基を示し、Ｒ3 は置換基を有していてもよいアリ
ール基を示し、Ｒ4 はヒドロキシル基またはアミノ基を
示す。また、Ｒ5、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 はそれぞれ水
素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくは
アラルキル基もしくはアリール基を示す。ただし、少な
くともＲ5とＲ6 が同一であることはない。また、＊は
不斉炭素であることを示し、（＊）は不斉炭素であり得
ることを示す）で示される光学活性オキサゾリン類。 - 【請求項２】一般式（１）における置換基Ｘが一般式
（２）で示される置換基であることを特徴とする請求項
１に記載の光学活性オキサゾリン類。 - 【請求項３】一般式（１）における置換基Ｘが一般式
（３）で示される置換基であることを特徴とする請求項
１に記載の光学活性オキサゾリン類。 - 【請求項４】一般式（４） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は前記と同じ意味
を示す。ただし、少なくともＲ5 とＲ6 が同一であるこ
とはない。また、＊および（＊）は前記と同じ意味を示
す）で示される２−メチルオキサゾリン類と一般式
（５） Ｒ1 ＣＯＲ2 （５） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同じ意味を示す。）で示さ
れるケトン類とを、強塩基の存在下に反応させることを
特徴とする、請求項２に記載の光学活性オキサゾリン類
の製造方法。 - 【請求項５】一般式（４）で示される２−メチルオキサ
ゾリン類と一般式（６） Ｒ3 ＣＯＯＲ14 （６） （式中、Ｒ3 は前記と同じ意味を示し、また、Ｒ14はア
ルキル基を示す）で示されるアリールカルボン酸エステ
ル類または、一般式（７） Ｒ3 ＣＮ （７） （式中、 Ｒ3 は前記と同じ意味を示す。）で示される
アリールニトリル類とを、強塩基の存在下に反応させる
ことを特徴とする請求項３に記載の光学活性オキサゾリ
ン類の製造方法。 - 【請求項６】強塩基がアルキル金属、金属アミドまたは
金属アルコラートであることを特徴とする請求項４およ
び５に記載の光学活性オキサゾリン類の製造方法。 - 【請求項７】一般式（８） （式中、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原
子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくは、ア
ラルキル基もしくは、アリール基もしくはアルケニル基
を示す。ただし、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が同時に
同一であることはない。）で示されるオレフィン類と、
一般式（９） Ｎ2 ＣＨＣＯ2 Ｒ13 （９） （式中、Ｒ13は置換基を有していてもよいアルキル基も
しくはアラルキル基もしくアリール基を示す。）で示さ
れるジアゾ酢酸エステル類とを一般式（１）で示される
光学活性オキサゾリン類と、銅塩の存在下に反応させる
ことを特徴とする、一般式（１０） （式中、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は前記と同
じ意味を示す。ただし、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が
同時に同一であることはない。また、＊および（＊）は
前記と同じ意味を示す）で示される不斉シクロプロパン
カルボン酸類の製造方法。 - 【請求項８】一般式（１）で示される光学活性オキサゾ
リン類の使用量が一般式（９）で示されるジアゾ酢酸エ
ステル類１モルに対して０．００１から２モルである請
求項７に記載の不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造
方法。 - 【請求項９】銅塩の使用量が一般式（１）で示される光
学活性オキサゾリン類１モルに対して０．０１から２モ
ルである請求項７に記載の不斉シクロプロパンカルボン
酸類の製造方法。 - 【請求項１０】銅塩が２価の銅塩である請求項７に記載
の不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法。 - 【請求項１１】２価の銅塩がトリフルオロメンタンスル
ホン酸銅（ＩＩ）である請求項１０に記載の不斉シクロ
プロパンカルボン酸類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7250836A JPH0987259A (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | 光学活性オキサゾリン類及びそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7250836A JPH0987259A (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | 光学活性オキサゾリン類及びそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0987259A true JPH0987259A (ja) | 1997-03-31 |
Family
ID=17213746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7250836A Withdrawn JPH0987259A (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | 光学活性オキサゾリン類及びそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0987259A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007066617A1 (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-14 | Takasago International Corporation | 金属触媒による縮合反応 |
-
1995
- 1995-09-28 JP JP7250836A patent/JPH0987259A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007066617A1 (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-14 | Takasago International Corporation | 金属触媒による縮合反応 |
| US7888513B2 (en) | 2005-12-05 | 2011-02-15 | Takasago International Corporation | Condensation reaction by metal catalyst |
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