JPH09151178A - オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 - Google Patents
オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法Info
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- JPH09151178A JPH09151178A JP7314018A JP31401895A JPH09151178A JP H09151178 A JPH09151178 A JP H09151178A JP 7314018 A JP7314018 A JP 7314018A JP 31401895 A JP31401895 A JP 31401895A JP H09151178 A JPH09151178 A JP H09151178A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 不斉シクロプロパンカルボン酸類を製造する
際の不斉配位子として用いることのできるオキサゾリン
類を提供する。 【解決手段】 一般式（１）オキサゾリン類の光学活性
体またはラセミ体、その製造方法、ならびに一般式
（４）で示されるオレフィン類と一般式（５）で示され
るジアゾ酢酸エステル類との反応系内に、銅塩と不整配
位子としての当該オキサゾリジン化合物とを存在させる
ことより成る、一般式（６）で示される不整シクロプロ
パンカルボン酸の製造方法。 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、水素
原子、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を示
し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ10は、水素原子、アルケニル
基、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を示
し、＊は不斉炭素原子を示す。〕
際の不斉配位子として用いることのできるオキサゾリン
類を提供する。 【解決手段】 一般式（１）オキサゾリン類の光学活性
体またはラセミ体、その製造方法、ならびに一般式
（４）で示されるオレフィン類と一般式（５）で示され
るジアゾ酢酸エステル類との反応系内に、銅塩と不整配
位子としての当該オキサゾリジン化合物とを存在させる
ことより成る、一般式（６）で示される不整シクロプロ
パンカルボン酸の製造方法。 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、水素
原子、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を示
し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ10は、水素原子、アルケニル
基、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を示
し、＊は不斉炭素原子を示す。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オキサゾリン類、
その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類の製造方法に関する。
その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】不斉シクロプロパンカルボン酸類は、医
薬、農薬などの中間体として有用であり、オレフィン類
とジアゾ酢酸エステル類とを、銅塩と不斉配位子との存
在下に反応させて製造されることが知られている。従来
より、かかる不斉配位子として光学活性メチレンビスオ
キサゾリン類が提案されている（Tetrahedron Letters,
Vol.32,No.50,pp.7373-7376,1991）。しかしながら、光
学活性メチレンビスオキサゾリン類は、不安定で重合し
やすいばかりか、マロノニトリルを原料として複数工程
を経て低収率で製造されるため（Helvetica Chimica Ac
ta,Vol.74,p.2,1991）、不斉配位子としてかかるメチレ
ンビスオキサゾリン類を用いる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類の製造方法は、工業的に有利なものであるとは
言えなかった。
薬、農薬などの中間体として有用であり、オレフィン類
とジアゾ酢酸エステル類とを、銅塩と不斉配位子との存
在下に反応させて製造されることが知られている。従来
より、かかる不斉配位子として光学活性メチレンビスオ
キサゾリン類が提案されている（Tetrahedron Letters,
Vol.32,No.50,pp.7373-7376,1991）。しかしながら、光
学活性メチレンビスオキサゾリン類は、不安定で重合し
やすいばかりか、マロノニトリルを原料として複数工程
を経て低収率で製造されるため（Helvetica Chimica Ac
ta,Vol.74,p.2,1991）、不斉配位子としてかかるメチレ
ンビスオキサゾリン類を用いる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類の製造方法は、工業的に有利なものであるとは
言えなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者は、オ
ルトハロベンゾニトリル類やオルトハロ安息香酸から容
易に導くことのできる２−オルトハロフェニルオキサゾ
リン類を原料として１工程で収率よく製造し得、安定で
あり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを
銅塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン
酸類を製造する際の不斉配位子として用いることのでき
る新たな化合物を開発すべく、鋭意検討した結果、本発
明に至った。
ルトハロベンゾニトリル類やオルトハロ安息香酸から容
易に導くことのできる２−オルトハロフェニルオキサゾ
リン類を原料として１工程で収率よく製造し得、安定で
あり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを
銅塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン
酸類を製造する際の不斉配位子として用いることのでき
る新たな化合物を開発すべく、鋭意検討した結果、本発
明に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式（１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 は、それ
ぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示し、Ｒ1 とＲ2 とが結
合して環を形成していてもよい。＊は不斉炭素原子を示
す。ただし、Ｒ3 とＲ4 とが互いに同一であることはな
い。）で示されるオキサゾリン類の光学活性体またはラ
セミ体を提供するものである。
式（１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 は、それ
ぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示し、Ｒ1 とＲ2 とが結
合して環を形成していてもよい。＊は不斉炭素原子を示
す。ただし、Ｒ3 とＲ4 とが互いに同一であることはな
い。）で示されるオキサゾリン類の光学活性体またはラ
セミ体を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のオキサゾリン類における
置換基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6において、
アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニ
ル基、メンチル基、２，３，４−トリメチル−３−ペン
チル基、２，４−ジメチル−３−ペンチル基などが、ア
ラルキル基としてはベンジル基、２−フェニルエチル
基、２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基など
が、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基、ビフ
ェニル基、フリル基、チオフェニル基などがそれぞれ例
示され、Ｒ1 とＲ2 とが結合して環を形成している場合
の環としては、例えばシクロペンチル環、シクロヘキシ
ル環、ボルニル環、メンチル環、９，１０−ジヒドロ−
９−アントラセニル環、９，１０−ジヒドロ−９−フェ
ナントリル環、インデニル環、フルオレニル環などが挙
げられる。これらの置換基および環はさらに、例えば塩
素原子、臭素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低級アルキル基、
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブト
キシ基などの低級アルコキシル基、フェノキシ基などの
アリールオキシ基、ｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチ
オ基などの低級アルキルチオ基、フェニルチオ基などの
アリールチオ基、ニトロ基、水酸基などで置換されてい
てもよい。
置換基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6において、
アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニ
ル基、メンチル基、２，３，４−トリメチル−３−ペン
チル基、２，４−ジメチル−３−ペンチル基などが、ア
ラルキル基としてはベンジル基、２−フェニルエチル
基、２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基など
が、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基、ビフ
ェニル基、フリル基、チオフェニル基などがそれぞれ例
示され、Ｒ1 とＲ2 とが結合して環を形成している場合
の環としては、例えばシクロペンチル環、シクロヘキシ
ル環、ボルニル環、メンチル環、９，１０−ジヒドロ−
９−アントラセニル環、９，１０−ジヒドロ−９−フェ
ナントリル環、インデニル環、フルオレニル環などが挙
げられる。これらの置換基および環はさらに、例えば塩
素原子、臭素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低級アルキル基、
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブト
キシ基などの低級アルコキシル基、フェノキシ基などの
アリールオキシ基、ｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチ
オ基などの低級アルキルチオ基、フェニルチオ基などの
アリールチオ基、ニトロ基、水酸基などで置換されてい
てもよい。
【０００６】一般式（１）で示されるオキサゾリン類に
は、＊で示される不斉炭素原子を不斉中心とする少なく
とも２種類の光学活性体が存在するが、本発明のオキサ
ゾリン類はいずれの光学活性体であってもよいし、これ
らのラセミ体であってもよい。
は、＊で示される不斉炭素原子を不斉中心とする少なく
とも２種類の光学活性体が存在するが、本発明のオキサ
ゾリン類はいずれの光学活性体であってもよいし、これ
らのラセミ体であってもよい。
【０００７】このようなオキサゾリン類の光学活性体ま
たはラセミ体はいずれも文献未記載の化合物であって、
例えば一般式（２） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示す。）で示され
る２−オルトハロフェニルオキサゾリン類の光学活性体
またはラセミ体と一般式（３） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、それぞれ前記と同じ意味を示
す。）で示されるケトン類とを金属マグネシウムの存在
下に反応させることによって製造することができる。
たはラセミ体はいずれも文献未記載の化合物であって、
例えば一般式（２） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示す。）で示され
る２−オルトハロフェニルオキサゾリン類の光学活性体
またはラセミ体と一般式（３） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、それぞれ前記と同じ意味を示
す。）で示されるケトン類とを金属マグネシウムの存在
下に反応させることによって製造することができる。
【０００８】２−オルトハロフェニルオキサゾリン類に
おいて置換基Ｘで示されるハロゲン原子としては、例え
ば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、か
かる２−オルトハロフェニルオキサゾリン類の光学活性
体としては、（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４
−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモ
フェニル−４−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
オルトヨードフェニル−４−フェニルオキサゾリン、
（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４−フェニルメ
チルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモフェニ
ル−４−フェニルメチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
オルトヨードフェニル−４−フェニルメチルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４−イソプ
ロピルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモフェ
ニル−４−イソプロピルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
オルトヨードフェニル−４−イソプロピルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４−ｔ−ブ
チルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモフェニ
ル−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オル
トヨードフェニル−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４
Ｒ）−２−オルトヨードフェニル−４−（２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−トリル）オキサゾリンおよび上記各化
合物における（４Ｒ）が（４Ｓ）に相当する化合物など
が、ラセミ体としては上記各化合物における（４Ｒ）が
（４ＲＳ）に相当する化合物などが、それぞれ例示され
る。
おいて置換基Ｘで示されるハロゲン原子としては、例え
ば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、か
かる２−オルトハロフェニルオキサゾリン類の光学活性
体としては、（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４
−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモ
フェニル−４−フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
オルトヨードフェニル−４−フェニルオキサゾリン、
（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４−フェニルメ
チルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモフェニ
ル−４−フェニルメチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
オルトヨードフェニル−４−フェニルメチルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４−イソプ
ロピルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモフェ
ニル−４−イソプロピルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
オルトヨードフェニル−４−イソプロピルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−オルトクロルフェニル−４−ｔ−ブ
チルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オルトブロモフェニ
ル−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−オル
トヨードフェニル−４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４
Ｒ）−２−オルトヨードフェニル−４−（２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−トリル）オキサゾリンおよび上記各化
合物における（４Ｒ）が（４Ｓ）に相当する化合物など
が、ラセミ体としては上記各化合物における（４Ｒ）が
（４ＲＳ）に相当する化合物などが、それぞれ例示され
る。
【０００９】これらの化合物はいずれも公知であって、
例えばオルトハロベンゾニトリル類と２−アミノエタノ
ール類の光学活性体またはラセミ体とを、塩化亜鉛など
のルイス酸の存在下に反応させる方法や、オルトハロ安
息香酸類から容易に得られるオルトハロ安息香酸クロラ
イドと２−アミノエタノール類の光学活性体またはラセ
ミ体とを反応させて光学活性β−ヒドロキシアミド化合
物を得、次いでこれを縮環反応させる方法などによって
容易に製造することができる。ここで、２−アミノエタ
ノール類の光学活性体としては、（Ｒ）−ｔ−ロイシノ
ール、（Ｒ）−フェニルグリシノール、Ｌ−フェニルア
ラニノール、Ｌ−ノルエフェドリン、上記各化合物にお
ける（Ｒ）またはＬがそれぞれ（Ｓ）またはＤに相当す
る化合物などが、ラセミ体としては上記各化合物におけ
る（Ｒ）またはＬがそれぞれ（ＲＳ）またはＤＬに相当
する化合物などがそれぞれ例示される。
例えばオルトハロベンゾニトリル類と２−アミノエタノ
ール類の光学活性体またはラセミ体とを、塩化亜鉛など
のルイス酸の存在下に反応させる方法や、オルトハロ安
息香酸類から容易に得られるオルトハロ安息香酸クロラ
イドと２−アミノエタノール類の光学活性体またはラセ
ミ体とを反応させて光学活性β−ヒドロキシアミド化合
物を得、次いでこれを縮環反応させる方法などによって
容易に製造することができる。ここで、２−アミノエタ
ノール類の光学活性体としては、（Ｒ）−ｔ−ロイシノ
ール、（Ｒ）−フェニルグリシノール、Ｌ−フェニルア
ラニノール、Ｌ−ノルエフェドリン、上記各化合物にお
ける（Ｒ）またはＬがそれぞれ（Ｓ）またはＤに相当す
る化合物などが、ラセミ体としては上記各化合物におけ
る（Ｒ）またはＬがそれぞれ（ＲＳ）またはＤＬに相当
する化合物などがそれぞれ例示される。
【００１０】ケトン類としては、例えばアセトン、ジエ
チルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン、カ
ンファー、メントン、ベンゾフェノン、ジトリルケト
ン、ジメタクロルフェニルケトン、ジパラメトキシフェ
ニルケトン、ジナフチルケトンなどが挙げられ、その使
用量は、２−オルトハロフェニルオキサゾリン類に対し
て通常は０．１〜２モル倍、好ましくは０．３〜１．１
モル倍の範囲である。
チルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン、カ
ンファー、メントン、ベンゾフェノン、ジトリルケト
ン、ジメタクロルフェニルケトン、ジパラメトキシフェ
ニルケトン、ジナフチルケトンなどが挙げられ、その使
用量は、２−オルトハロフェニルオキサゾリン類に対し
て通常は０．１〜２モル倍、好ましくは０．３〜１．１
モル倍の範囲である。
【００１１】金属マグネシウムの使用量は、２−オルト
ハロフェニルオキサゾリン類に対して、通常は０．８〜
１０モル倍、好ましくは１〜１．５モル倍の範囲であ
る。
ハロフェニルオキサゾリン類に対して、通常は０．８〜
１０モル倍、好ましくは１〜１．５モル倍の範囲であ
る。
【００１２】反応は、通常、溶媒中で行われ、かかる溶
媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエトキシメタ
ンなどのエーテル系溶媒、これらのエーテル系溶媒と反
応に不活性な溶媒との混合溶媒などが挙げられる。ここ
で、反応に不活性な溶媒としては、例えばヘキサン、ト
ルエン、ベンゼンなどの炭化水素系溶媒などが挙げら
れ、その使用量はエーテル系溶媒に対して通常は９重量
倍以下である。これらの溶媒の使用量は、２−オルトフ
ェニルオキサゾリン類に対して通常は２〜５００重量倍
の範囲である。
媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエトキシメタ
ンなどのエーテル系溶媒、これらのエーテル系溶媒と反
応に不活性な溶媒との混合溶媒などが挙げられる。ここ
で、反応に不活性な溶媒としては、例えばヘキサン、ト
ルエン、ベンゼンなどの炭化水素系溶媒などが挙げら
れ、その使用量はエーテル系溶媒に対して通常は９重量
倍以下である。これらの溶媒の使用量は、２−オルトフ
ェニルオキサゾリン類に対して通常は２〜５００重量倍
の範囲である。
【００１３】反応に際しては、例えば溶媒中で２−オル
トハロフェニルオキサゾリン類と金属マグネシウムとを
混合し、次いでケトン類を加えればよく、反応温度は通
常は−１００℃〜１００℃、好ましくは−９０〜５０℃
の範囲である。
トハロフェニルオキサゾリン類と金属マグネシウムとを
混合し、次いでケトン類を加えればよく、反応温度は通
常は−１００℃〜１００℃、好ましくは−９０〜５０℃
の範囲である。
【００１４】なお、ケトン類を加える前に、ハロゲン化
合物を加えておくことによって、金属マグネシウムが活
性化され、２−オルトハロフェニルオキサゾリン類とケ
トン類との反応が速やかに進行させることができ、好ま
しい。かかるハロゲン化合物としては、例えばヨウ素、
ヨウ化メチル、１，２−ヨードエタン、ジブロモメタ
ン、１，２−ジブロモエタンなどが挙げられ、その使用
量は、２−オルトハロフェニルオキサゾリン類に対して
０．０００１〜０．１重量倍の範囲であることが好まし
い。これらのハロゲン化合物は、通常、溶媒中で予め金
属マグネシウムと混合して、あるいは２−オルトハロフ
ェニルオキサゾリン類とともに金属マグネシウムと混合
して用いられる。
合物を加えておくことによって、金属マグネシウムが活
性化され、２−オルトハロフェニルオキサゾリン類とケ
トン類との反応が速やかに進行させることができ、好ま
しい。かかるハロゲン化合物としては、例えばヨウ素、
ヨウ化メチル、１，２−ヨードエタン、ジブロモメタ
ン、１，２−ジブロモエタンなどが挙げられ、その使用
量は、２−オルトハロフェニルオキサゾリン類に対して
０．０００１〜０．１重量倍の範囲であることが好まし
い。これらのハロゲン化合物は、通常、溶媒中で予め金
属マグネシウムと混合して、あるいは２−オルトハロフ
ェニルオキサゾリン類とともに金属マグネシウムと混合
して用いられる。
【００１５】反応後、得られた反応混合物に、例えば塩
化アンモニウム水溶液などを加えた後、通常の方法、例
えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジクロ
ロメタンなどの水に不溶の溶媒を用いて抽出処理し、得
られた有機層を濃縮すれば、目的の一般式（１）で示さ
れるオキサゾリン類の光学活性体またはラセミ体を得る
ことができ、これはさらに通常の方法、例えばカラムク
ロマトグラフ処理や蒸留操作などによって精製されても
よい。かくして得られる一般式（１）で示されるオキサ
ゾリン類において、＊で示される不斉炭素原子を中心と
する立体配置は、用いた一般式（２）で示される２−オ
ルトハロメチルオキサゾリン類における場合と同様であ
る。また、本発明のオキサゾリン類のラセミ体は、通常
の方法、例えば光学活性カラムクロマトグラフ処理など
によって、容易に光学活性体に光学分割することができ
る。
化アンモニウム水溶液などを加えた後、通常の方法、例
えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジクロ
ロメタンなどの水に不溶の溶媒を用いて抽出処理し、得
られた有機層を濃縮すれば、目的の一般式（１）で示さ
れるオキサゾリン類の光学活性体またはラセミ体を得る
ことができ、これはさらに通常の方法、例えばカラムク
ロマトグラフ処理や蒸留操作などによって精製されても
よい。かくして得られる一般式（１）で示されるオキサ
ゾリン類において、＊で示される不斉炭素原子を中心と
する立体配置は、用いた一般式（２）で示される２−オ
ルトハロメチルオキサゾリン類における場合と同様であ
る。また、本発明のオキサゾリン類のラセミ体は、通常
の方法、例えば光学活性カラムクロマトグラフ処理など
によって、容易に光学活性体に光学分割することができ
る。
【００１６】かくして得られるオキサゾリン類の光学活
性体としては、（４Ｒ）−２−〔オルト−１−ヒドロキ
シ−１−メチルエチル）−フェニル〕−４−フェニルオ
キサゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（ジフェニルヒ
ドロキシメチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサ
ゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−
１−エチル−プロピル）−フェニル〕−４−フェニルオ
キサゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（２−ヒドロキ
シ−２−ボルニル）−フェニル〕−４−フェニルオキサ
ゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（３−ヒドロキシ−
３−メンチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサゾ
リン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−１
−インデニル）−フェニル〕−４−フェニルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシシクロ
ヘキシル）−フェニル〕−４−フェニルオキサゾリン、
（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシシクロペン
チル）−フェニル〕−４−フェニルメチルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（９−ヒドロキシ−９−
フルオレニル）−フェニル〕−４−フェニル−オキサゾ
リン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（９，１０−ジヒドロ
−９−アントラセニル）−フェニル〕−４−（２，６−
ジ−ｔ−ブチル−ｐ−トリル）オキサゾリン、（４Ｒ）
−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−１−ベンジル−２
−フェニルエチル）−フェニル〕−４−フェニルオキサ
ゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−
１−ベンジル−２−フェニルエチル）−フェニル〕−４
−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−トリル）オキサゾリ
ンおよび上記各化合物における（４Ｒ）が（４Ｓ）に相
当する化合物などが、またラセミ体としては上記各化合
物における（４Ｒ）が（４ＲＳ）に相当する化合物など
がそれぞれ例示される。
性体としては、（４Ｒ）−２−〔オルト−１−ヒドロキ
シ−１−メチルエチル）−フェニル〕−４−フェニルオ
キサゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（ジフェニルヒ
ドロキシメチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサ
ゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−
１−エチル−プロピル）−フェニル〕−４−フェニルオ
キサゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（２−ヒドロキ
シ−２−ボルニル）−フェニル〕−４−フェニルオキサ
ゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（３−ヒドロキシ−
３−メンチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサゾ
リン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−１
−インデニル）−フェニル〕−４−フェニルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシシクロ
ヘキシル）−フェニル〕−４−フェニルオキサゾリン、
（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシシクロペン
チル）−フェニル〕−４−フェニルメチルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（９−ヒドロキシ−９−
フルオレニル）−フェニル〕−４−フェニル−オキサゾ
リン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（９，１０−ジヒドロ
−９−アントラセニル）−フェニル〕−４−（２，６−
ジ−ｔ−ブチル−ｐ−トリル）オキサゾリン、（４Ｒ）
−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−１−ベンジル−２
−フェニルエチル）−フェニル〕−４−フェニルオキサ
ゾリン、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−
１−ベンジル−２−フェニルエチル）−フェニル〕−４
−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−トリル）オキサゾリ
ンおよび上記各化合物における（４Ｒ）が（４Ｓ）に相
当する化合物などが、またラセミ体としては上記各化合
物における（４Ｒ）が（４ＲＳ）に相当する化合物など
がそれぞれ例示される。
【００１７】これらのオキサゾリン類はいずれも安定で
あって、その光学活性体は不斉配位子として使用でき、
例えば、かかるオキサゾリン類の光学活性体と銅塩との
存在下に、一般式（４） （式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10は、それぞれ水素原
子、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いアラルキル基または置換基を有していてもよいアリー
ル基を示し、Ｒ7 とＲ8 とが結合して環を形成していて
もよい。但し、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10が同時に同一で
あることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（５） （式中、Ｒ11は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを反応させることによって、一般式
（６） （式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類を製造することができる。
あって、その光学活性体は不斉配位子として使用でき、
例えば、かかるオキサゾリン類の光学活性体と銅塩との
存在下に、一般式（４） （式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10は、それぞれ水素原
子、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いアラルキル基または置換基を有していてもよいアリー
ル基を示し、Ｒ7 とＲ8 とが結合して環を形成していて
もよい。但し、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10が同時に同一で
あることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（５） （式中、Ｒ11は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを反応させることによって、一般式
（６） （式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類を製造することができる。
【００１８】ここで、置換基Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10に
おけるアルケニル基としては、例えば２−メチル−１−
プロペニル基、２−ブテニル基、トランス−β−スチリ
ル基、３−フェニル−１−プロペニル基、１−シクロヘ
キセニル基などが、Ｒ7 とＲ 8 とが環を形成している場
合の環としては、例えばシクロヘキセニル環などがそれ
ぞれ挙げられ、これらの置換基および環は、前記の置換
基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 における場合と
同様に、さらに置換基を有していてもよい。また、置換
基Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11におけるアルキル基、
アラルキル基、アリール基としては、置換基Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 として前記したと同様の
ものがそれぞれ例示される。
おけるアルケニル基としては、例えば２−メチル−１−
プロペニル基、２−ブテニル基、トランス−β−スチリ
ル基、３−フェニル−１−プロペニル基、１−シクロヘ
キセニル基などが、Ｒ7 とＲ 8 とが環を形成している場
合の環としては、例えばシクロヘキセニル環などがそれ
ぞれ挙げられ、これらの置換基および環は、前記の置換
基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 における場合と
同様に、さらに置換基を有していてもよい。また、置換
基Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11におけるアルキル基、
アラルキル基、アリール基としては、置換基Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 として前記したと同様の
ものがそれぞれ例示される。
【００１９】かかるジアゾ酢酸エステル類としては、例
えばジアゾ酢酸のエチルエステル、イソプロピルエステ
ル、ｎ−プロピルエステル、ｔ−ブチルエステル、イソ
ブチルエステル、ｎ−ブチルエステル、ベンジルエステ
ル、シキロヘキシルエステル、１−メンチルエステル、
ｎ−ペンチルエステル、ネオペンチルエステル、ｎ−ヘ
キシルエステル、ｎ−ヘプチルエステルなどが挙げられ
る。
えばジアゾ酢酸のエチルエステル、イソプロピルエステ
ル、ｎ−プロピルエステル、ｔ−ブチルエステル、イソ
ブチルエステル、ｎ−ブチルエステル、ベンジルエステ
ル、シキロヘキシルエステル、１−メンチルエステル、
ｎ−ペンチルエステル、ネオペンチルエステル、ｎ−ヘ
キシルエステル、ｎ−ヘプチルエステルなどが挙げられ
る。
【００２０】オレフィン類としては、例えば２，５−ジ
メチル−２，４−ヘキサジエン、イソブチレン、２−メ
チル−２−ブテン、３−メチル−１−ブテン、３，３−
ジメチル−１−ブテン、２−ペンテン、４−メチル−１
−ペンテン、２−メチル−２−ペンテン、１−ヘキセ
ン、２−ヘキセン、２−ヘプテン、イソプレン、ビニル
シクロペンタン、スチレン、４−フェニル−１−ブテ
ン、１−メチル−１−シクロヘキセンなどが挙げられ、
その使用量はジアゾ酢酸エステル類に対して通常は０．
５〜３０モル倍の範囲である。
メチル−２，４−ヘキサジエン、イソブチレン、２−メ
チル−２−ブテン、３−メチル−１−ブテン、３，３−
ジメチル−１−ブテン、２−ペンテン、４−メチル−１
−ペンテン、２−メチル−２−ペンテン、１−ヘキセ
ン、２−ヘキセン、２−ヘプテン、イソプレン、ビニル
シクロペンタン、スチレン、４−フェニル−１−ブテ
ン、１−メチル−１−シクロヘキセンなどが挙げられ、
その使用量はジアゾ酢酸エステル類に対して通常は０．
５〜３０モル倍の範囲である。
【００２１】オキサゾリン類の使用量は、ジアゾ酢酸エ
ステル類に対して通常は０．００１〜２モル倍、好まし
くは０．０１〜１モル倍の範囲である。
ステル類に対して通常は０．００１〜２モル倍、好まし
くは０．０１〜１モル倍の範囲である。
【００２２】銅塩としては、例えばトリフルオロメタン
スルホン酸銅（Ｉ）、酢酸銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、塩
化銅（Ｉ）、三フッ化酢酸銅（Ｉ）などの１価の銅塩
や、上記各化合物における銅（Ｉ）が銅（ＩＩ）に相当
する化合物などが挙げられ、その使用量はオキサゾリン
類に対して通常は０．０１〜２モル倍、好ましくは０．
１〜１モル倍の範囲である。
スルホン酸銅（Ｉ）、酢酸銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、塩
化銅（Ｉ）、三フッ化酢酸銅（Ｉ）などの１価の銅塩
や、上記各化合物における銅（Ｉ）が銅（ＩＩ）に相当
する化合物などが挙げられ、その使用量はオキサゾリン
類に対して通常は０．０１〜２モル倍、好ましくは０．
１〜１モル倍の範囲である。
【００２３】反応は、オレフィン類の種類によっては無
溶媒で行うこともできるが、通常は溶媒中で行われ、か
かる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジエトキ
シメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジ
オキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサンなどの炭化水
素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エ
チルなどのエステル系溶媒などの反応に対して不活性な
溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独、また
は２種以上を混合して用いられ、その使用量はジアゾ酢
酸エステル類に対して通常は２〜２００重量倍の範囲で
ある。
溶媒で行うこともできるが、通常は溶媒中で行われ、か
かる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジエトキ
シメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジ
オキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサンなどの炭化水
素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エ
チルなどのエステル系溶媒などの反応に対して不活性な
溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独、また
は２種以上を混合して用いられ、その使用量はジアゾ酢
酸エステル類に対して通常は２〜２００重量倍の範囲で
ある。
【００２４】反応に際しては、例えば溶媒中でオレフィ
ン類とオキサゾリン類と銅塩とを混合し、次いでジアゾ
酢酸エステル類を加えればよく、反応温度は、通常−５
０〜２００℃、好ましくは０〜５０℃の範囲である。
ン類とオキサゾリン類と銅塩とを混合し、次いでジアゾ
酢酸エステル類を加えればよく、反応温度は、通常−５
０〜２００℃、好ましくは０〜５０℃の範囲である。
【００２５】なお、銅塩として２価の銅塩を用いる場
合、ジアゾ酢酸エステル類を加える前にヒドラジン類を
加えておくことによって、オレフィン類とジアゾ酢酸エ
ステル類との反応速度を速めることができ、好ましい。
かかるヒドラジン類としては、例えばフェニルヒドラジ
ンなどが挙げられ、その使用量は銅塩に対して１．２モ
ル倍以下、特には０．８〜１．２モル倍の範囲であるこ
とが好ましい。
合、ジアゾ酢酸エステル類を加える前にヒドラジン類を
加えておくことによって、オレフィン類とジアゾ酢酸エ
ステル類との反応速度を速めることができ、好ましい。
かかるヒドラジン類としては、例えばフェニルヒドラジ
ンなどが挙げられ、その使用量は銅塩に対して１．２モ
ル倍以下、特には０．８〜１．２モル倍の範囲であるこ
とが好ましい。
【００２６】反応後、得られた反応混合物に、例えば塩
化アンモニウム水溶液などを加えたのち、通常の方法、
例えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジク
ロルメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて抽出処理
し、得られた有機層を濃縮すれば、一般式（６）で示さ
れる不斉シクロプロパンカルボン酸類を得ることができ
る。
化アンモニウム水溶液などを加えたのち、通常の方法、
例えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジク
ロルメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて抽出処理
し、得られた有機層を濃縮すれば、一般式（６）で示さ
れる不斉シクロプロパンカルボン酸類を得ることができ
る。
【００２７】かくして得られる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類としては、例えば１−（Ｓ）−エトキシカルボ
ニル−２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン、１−
（Ｒ）−エトキシカルボニル−２，２−ジメチルシクロ
プロパン、１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン、１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−ｔ
−ブチルシクロプロパンなどが挙げられる。
ボン酸類としては、例えば１−（Ｓ）−エトキシカルボ
ニル−２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン、１−
（Ｒ）−エトキシカルボニル−２，２−ジメチルシクロ
プロパン、１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン、１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−ｔ
−ブチルシクロプロパンなどが挙げられる。
【００２８】
【発明の効果】本発明のオキサゾリン類は、オルトハロ
ベンゾニトリル類やオルトハロ安息香酸から容易に導く
ことのできる２−オルトハロフェニルオキサゾリン類を
原料として１工程で収率よく製造し得、安定であり、し
かもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅塩の存
在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン酸類を製
造する際の不斉配位子として用いることができる。
ベンゾニトリル類やオルトハロ安息香酸から容易に導く
ことのできる２−オルトハロフェニルオキサゾリン類を
原料として１工程で収率よく製造し得、安定であり、し
かもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅塩の存
在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン酸類を製
造する際の不斉配位子として用いることができる。
【００２９】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。
【００３０】参考例１ オルトブロモ安息香酸５ｇ（２４．９ｍｍｏｌ）とチオ
ニルクロライド３０ｇ（２５２．２ｍｍｏｌ）とを０℃
にて混合し、３０分間攪拌した。次いで、同温度下にて
ジメチルホルムアミド１００ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）を
加え、室温に昇温し、さらに２時間攪拌したのち濃縮し
た。得られた残渣をクロロホルム２５０ｍｌと混合し、
攪拌しながら０℃に冷却し、次いでトリエチルアミン２
０ｇ（１９７．６ｍｍｏｌ）を加えてさらに１０分間攪
拌し、その後、（Ｓ）−ｔ−ロイシノール２．９２ｇ
（２４．９ｍｍｏｌ）を加え、さらに２時間攪拌したの
ち、得られた反応混合物を濃縮した。得られた残渣を水
２００ｇと混合し、クロロホルム１５０ｇを用いる抽出
処理を２回行い、得られた有機層を合わせ、水１００ｇ
を用いて洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濃縮した。得られた残渣を０℃にてチオニルクロライド
３０ｇ（２５２．２ｍｍｏｌ）と混合し、２時攪拌した
のち、余剰のチオニルクロライドを留去した。得られた
残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｇを加えた
のち、酢酸エチル２００ｇを用いる抽出操作を２回行
い、得られた有機層を合わせ、水１００ｇを用いて洗浄
したのち、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥後、濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ処
理（ノルマルヘキサン：クロロホルム＝３：１）して、
（４Ｓ）−２−オルトブロモフェニル−４−ｔ−ブチル
オキサゾリン６．０６ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）を得た。
オルトブロモ安息香酸からの収率は８６．３％であっ
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ１．００（Ｓ，
９Ｈ）、４．０９（ｔ，１Ｈ）、４．２６（ｔ，１
Ｈ）、４．４０（ｔ，１Ｈ）、７．２０〜７．３７
（ｍ，２Ｈ）、７．５９〜７．６９（ｍ，２Ｈ）
ニルクロライド３０ｇ（２５２．２ｍｍｏｌ）とを０℃
にて混合し、３０分間攪拌した。次いで、同温度下にて
ジメチルホルムアミド１００ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）を
加え、室温に昇温し、さらに２時間攪拌したのち濃縮し
た。得られた残渣をクロロホルム２５０ｍｌと混合し、
攪拌しながら０℃に冷却し、次いでトリエチルアミン２
０ｇ（１９７．６ｍｍｏｌ）を加えてさらに１０分間攪
拌し、その後、（Ｓ）−ｔ−ロイシノール２．９２ｇ
（２４．９ｍｍｏｌ）を加え、さらに２時間攪拌したの
ち、得られた反応混合物を濃縮した。得られた残渣を水
２００ｇと混合し、クロロホルム１５０ｇを用いる抽出
処理を２回行い、得られた有機層を合わせ、水１００ｇ
を用いて洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濃縮した。得られた残渣を０℃にてチオニルクロライド
３０ｇ（２５２．２ｍｍｏｌ）と混合し、２時攪拌した
のち、余剰のチオニルクロライドを留去した。得られた
残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｇを加えた
のち、酢酸エチル２００ｇを用いる抽出操作を２回行
い、得られた有機層を合わせ、水１００ｇを用いて洗浄
したのち、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥後、濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ処
理（ノルマルヘキサン：クロロホルム＝３：１）して、
（４Ｓ）−２−オルトブロモフェニル−４−ｔ−ブチル
オキサゾリン６．０６ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）を得た。
オルトブロモ安息香酸からの収率は８６．３％であっ
た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ１．００（Ｓ，
９Ｈ）、４．０９（ｔ，１Ｈ）、４．２６（ｔ，１
Ｈ）、４．４０（ｔ，１Ｈ）、７．２０〜７．３７
（ｍ，２Ｈ）、７．５９〜７．６９（ｍ，２Ｈ）
【００３１】実施例１ 室温で粉末状の金属マグネシウム１００ｍｇ（４．１２
ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン１０ｍｌを攪拌しなが
ら加え、５０℃に昇温した。次いで、同温度で攪拌下、
（４Ｓ）−オルトブロモフェニル−４−ｔ−ブチルオキ
サゾリン１．１２８ｇ（４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフ
ラン溶液（５ｍｌ）を３０分間かけて供給するととも
に、その供給開始５分後に１，２−ジブロモエタン４０
ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）を加えた。供給終了後、７０
℃に昇温し、さらに１０分間攪拌を続けた。次いで室温
に冷却し、アセトン２ｇ（３４．５ｍｍｏｌ）のテトラ
ヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を５分間かけて加え、さら
に同温度下で２時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液１０ｍｌを加え、１０分間攪拌したのち、
水２００ｇを加え、クロロホルム２００ｇを用いる抽出
処理を２回行い、得られた有機層を合わせ、水１００ｇ
を用いて洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフ処理（ノルマルヘキサン：クロロホルム＝１：１）
して、（４Ｓ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサ
ゾリン０．９４ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を得た（収率９０
％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．９２（Ｓ，
９Ｈ）、１．５１（ｄ，６Ｈ）、２．４０〜２．６５
（ｂｓ，１Ｈ）、３．６９〜３．９０（ｍ，３Ｈ）、
７．２０（ｄ，１Ｈ）、７．３２〜７．４９（ｍ，２
Ｈ）、７．８５（ｄ，１Ｈ）
ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン１０ｍｌを攪拌しなが
ら加え、５０℃に昇温した。次いで、同温度で攪拌下、
（４Ｓ）−オルトブロモフェニル−４−ｔ−ブチルオキ
サゾリン１．１２８ｇ（４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフ
ラン溶液（５ｍｌ）を３０分間かけて供給するととも
に、その供給開始５分後に１，２−ジブロモエタン４０
ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）を加えた。供給終了後、７０
℃に昇温し、さらに１０分間攪拌を続けた。次いで室温
に冷却し、アセトン２ｇ（３４．５ｍｍｏｌ）のテトラ
ヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を５分間かけて加え、さら
に同温度下で２時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液１０ｍｌを加え、１０分間攪拌したのち、
水２００ｇを加え、クロロホルム２００ｇを用いる抽出
処理を２回行い、得られた有機層を合わせ、水１００ｇ
を用いて洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフ処理（ノルマルヘキサン：クロロホルム＝１：１）
して、（４Ｓ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサ
ゾリン０．９４ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を得た（収率９０
％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．９２（Ｓ，
９Ｈ）、１．５１（ｄ，６Ｈ）、２．４０〜２．６５
（ｂｓ，１Ｈ）、３．６９〜３．９０（ｍ，３Ｈ）、
７．２０（ｄ，１Ｈ）、７．３２〜７．４９（ｍ，２
Ｈ）、７．８５（ｄ，１Ｈ）
【００３２】参考例２ クロルベンゼン５００ｍｌに（Ｒ）−（−）−フェニル
グリシノール５ｇ（３６．４ｍｍｏｌ）を溶解し、ビー
ズ状モレキュラーシーブ４Ａ ２０ｇを加え、攪拌しな
がらオルトブロモベンゾニトリル５ｇ（２７．５ｍｍｏ
ｌ）を加えた。さらに塩化亜鉛５ｇ（３６．７ｍｍｏ
ｌ）を加え、昇温し、１４５℃にて還流下７時間攪拌し
た後、ビーズ状モレキュラーシーブ４Ａを濾別して濾液
を得た。濾別後のビーズ状モレキュラーシーブ４Ａをク
ロロホルム５０ｇにて２回洗浄し、得られた洗液を先の
濾液と合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液７００ｇ
を加えて３時間攪拌した。その後、析出物を濾別し、水
１００ｇを用いる水洗を２回行ったのち、無水硫酸ナト
リウムを用いて乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフ処理（ノルマルヘキサン：
クロロホルム＝１：２）して、（４Ｒ）−２−オルトブ
ロモフェニル−４−フェニルオキサゾリン７．２８ｇ
（２４．１ｍｍｏｌ）を得た。（Ｒ）−（−）−フェニ
ルグリシノールからの収率８７．７％。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ４．２８（ｔ，
１Ｈ）、４．８３（ｔ，１Ｈ）、５．４５（ｔ，１
Ｈ）、７．２０〜７．４５（ｍ，７Ｈ）、７．６７
（ｄ，１Ｈ）、７．７９（ｄ，１Ｈ）
グリシノール５ｇ（３６．４ｍｍｏｌ）を溶解し、ビー
ズ状モレキュラーシーブ４Ａ ２０ｇを加え、攪拌しな
がらオルトブロモベンゾニトリル５ｇ（２７．５ｍｍｏ
ｌ）を加えた。さらに塩化亜鉛５ｇ（３６．７ｍｍｏ
ｌ）を加え、昇温し、１４５℃にて還流下７時間攪拌し
た後、ビーズ状モレキュラーシーブ４Ａを濾別して濾液
を得た。濾別後のビーズ状モレキュラーシーブ４Ａをク
ロロホルム５０ｇにて２回洗浄し、得られた洗液を先の
濾液と合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液７００ｇ
を加えて３時間攪拌した。その後、析出物を濾別し、水
１００ｇを用いる水洗を２回行ったのち、無水硫酸ナト
リウムを用いて乾燥後、濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフ処理（ノルマルヘキサン：
クロロホルム＝１：２）して、（４Ｒ）−２−オルトブ
ロモフェニル−４−フェニルオキサゾリン７．２８ｇ
（２４．１ｍｍｏｌ）を得た。（Ｒ）−（−）−フェニ
ルグリシノールからの収率８７．７％。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ４．２８（ｔ，
１Ｈ）、４．８３（ｔ，１Ｈ）、５．４５（ｔ，１
Ｈ）、７．２０〜７．４５（ｍ，７Ｈ）、７．６７
（ｄ，１Ｈ）、７．７９（ｄ，１Ｈ）
【００３３】実施例２ （４Ｓ）−オルトブロモフェニル−４−ｔ−ブチルオキ
サゾリン１．１２８ｇに代えて、（４Ｒ）−２−オルト
ブロモフェニル−４−フェニルオキサゾリン１．２０８
ｇ（４ｍｍｏｌ）を用いる以外は、実施例１と同様に操
作して、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−
１−メチルエチル）−フェニル〕−４−フェニルオキサ
ゾリン１ｇ（３．５８ｍｍｏｌ）を得た（収率８９
％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ１．４５（ｄ，
６Ｈ）、３．５５〜３．８０（ｂｓ，１Ｈ）、３．８１
〜３．９０（ｍ，１Ｈ）、３．９７（ｔ，１Ｈ）、５．
０９〜５．１９（ｍ，１Ｈ）、７．１６〜７．５０
（ｍ，８Ｈ）、７．９９（ｄ，１Ｈ）
サゾリン１．１２８ｇに代えて、（４Ｒ）−２−オルト
ブロモフェニル−４−フェニルオキサゾリン１．２０８
ｇ（４ｍｍｏｌ）を用いる以外は、実施例１と同様に操
作して、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−
１−メチルエチル）−フェニル〕−４−フェニルオキサ
ゾリン１ｇ（３．５８ｍｍｏｌ）を得た（収率８９
％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ１．４５（ｄ，
６Ｈ）、３．５５〜３．８０（ｂｓ，１Ｈ）、３．８１
〜３．９０（ｍ，１Ｈ）、３．９７（ｔ，１Ｈ）、５．
０９〜５．１９（ｍ，１Ｈ）、７．１６〜７．５０
（ｍ，８Ｈ）、７．９９（ｄ，１Ｈ）
【００３４】実施例３ トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）１８ｍｇ
（０．０５ｍｍｏｌ）と（４Ｓ）−２−〔オルト−（１
−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−フェニル〕−４−
ｔ−ブチルオキサゾリン６５．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏ
ｌ）とをジクロルメタン３ｇに溶解し、２５℃で１５分
間攪拌した後、フェニルヒドラジン５μｌ（０．０５ｍ
ｍｏｌ）を加え、さらに５分間攪拌した。次いで、同温
度下で２，５−ジメチル−２，４−ヘキサジエン１．１
ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌したのち、ジ
アゾ酢酸エチルエステル１１４ｍｇ（１ｍｍｏｌ）のジ
クロルメタン溶液（１ｇ）を２時間かけて加え、さらに
同温度下で３時間攪拌したのち、溶媒を留去した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ処理して、
トランス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン１１６．６ｍｇ（０．５９５ｍｍｏｌ、５４．８％ｅ
ｅ、収率５９．５％）とシス−１−（Ｒ）−エトキシカ
ルボニル−２−（Ｓ）−（２−メチル−１−プロペニ
ル）シクロプロパン６３．３ｍｇ（０．３２３ｍｍｏ
ｌ、３７．９％ｅｅ、収率３２．３％）とを得た。
（０．０５ｍｍｏｌ）と（４Ｓ）−２−〔オルト−（１
−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−フェニル〕−４−
ｔ−ブチルオキサゾリン６５．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏ
ｌ）とをジクロルメタン３ｇに溶解し、２５℃で１５分
間攪拌した後、フェニルヒドラジン５μｌ（０．０５ｍ
ｍｏｌ）を加え、さらに５分間攪拌した。次いで、同温
度下で２，５−ジメチル−２，４−ヘキサジエン１．１
ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌したのち、ジ
アゾ酢酸エチルエステル１１４ｍｇ（１ｍｍｏｌ）のジ
クロルメタン溶液（１ｇ）を２時間かけて加え、さらに
同温度下で３時間攪拌したのち、溶媒を留去した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ処理して、
トランス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン１１６．６ｍｇ（０．５９５ｍｍｏｌ、５４．８％ｅ
ｅ、収率５９．５％）とシス−１−（Ｒ）−エトキシカ
ルボニル−２−（Ｓ）−（２−メチル−１−プロペニ
ル）シクロプロパン６３．３ｍｇ（０．３２３ｍｍｏ
ｌ、３７．９％ｅｅ、収率３２．３％）とを得た。
【００３５】実施例４ （４Ｓ）−２−〔オルト−（１−ヒドロキシ−１−メチ
ルエチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサゾリン
６５．３ｍｇに代えて、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１
−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−フェニル〕−４−
フェニルオキサゾリン７０．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏ
ｌ）を用いる以外は、実施例３と同様に操作して、トラ
ンス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−
（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパン９３．
５ｍｇ（０．４７７ｍｍｏｌ、３７．１％ｅｅ、収率４
７．７％）とシス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−
２−（Ｓ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプ
ロパン５３．５ｍｇ（０．２７３ｍｍｏｌ、３３．４％
ｅｅ、収率２７．３％）とを得た。
ルエチル）−フェニル〕−４−ｔ−ブチルオキサゾリン
６５．３ｍｇに代えて、（４Ｒ）−２−〔オルト−（１
−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−フェニル〕−４−
フェニルオキサゾリン７０．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏ
ｌ）を用いる以外は、実施例３と同様に操作して、トラ
ンス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−
（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパン９３．
５ｍｇ（０．４７７ｍｍｏｌ、３７．１％ｅｅ、収率４
７．７％）とシス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−
２−（Ｓ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプ
ロパン５３．５ｍｇ（０．２７３ｍｍｏｌ、３３．４％
ｅｅ、収率２７．３％）とを得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 67/343 Ｃ０７Ｃ 67/343 69/743 69/743 69/747 69/747 Ｚ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (5)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 は、それ
ぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示し、Ｒ1 とＲ2 とが結
合して環を形成していてもよい。＊は不斉炭素原子を示
す。ただし、Ｒ3 とＲ4 とが互いに同一であることはな
い。）で示されるオキサゾリン類の光学活性体またはラ
セミ体。 - 【請求項２】一般式（２） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示す。）で示され
る２−オルトハロフェニルオキサゾリン類の光学活性体
またはラセミ体と一般式（３） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、それぞれ前記と同じ意味を示
す。）で示されるケトン類とを金属マグネシウムの存在
下に反応させることを特徴とする請求項１に記載の一般
式（１）で示されるオキサゾリン類の光学活性体または
ラセミ体の製造方法。 - 【請求項３】一般式（４） （式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10は、それぞれ水素原
子、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いアラルキル基または置換基を有していてもよいアリー
ル基を示し、Ｒ7 とＲ8 とが結合して環を形成していて
もよい。但し、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10が同時に同一で
あることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（５） （式中、Ｒ11は、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換
基を有していてもよいアリール基を示す。）で示される
ジアゾ酢酸エステル類とを、一般式（１）で示されるオ
キサゾリン類の光学活性体と銅塩との存在下に反応させ
ることを特徴とする一般式（６） （式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類の製造方法。 - 【請求項４】銅塩が、２価の銅塩であることを特徴とす
る請求項３に記載の製造方法。 - 【請求項５】２価の銅塩が、トリフルオロメタンスルフ
ォン酸銅（ＩＩ）であることを特徴とする請求項４に記
載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7314018A JPH09151178A (ja) | 1995-12-01 | 1995-12-01 | オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7314018A JPH09151178A (ja) | 1995-12-01 | 1995-12-01 | オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09151178A true JPH09151178A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=18048219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7314018A Withdrawn JPH09151178A (ja) | 1995-12-01 | 1995-12-01 | オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09151178A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007246517A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-09-27 | Kobe Univ | 光学活性な５−ヒドロキシ−３−ケトエステル化合物の製法 |
-
1995
- 1995-12-01 JP JP7314018A patent/JPH09151178A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007246517A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-09-27 | Kobe Univ | 光学活性な５−ヒドロキシ−３−ケトエステル化合物の製法 |
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|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
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