JPH09143173A - 光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体 - Google Patents
光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体Info
- Publication number
- JPH09143173A JPH09143173A JP30152895A JP30152895A JPH09143173A JP H09143173 A JPH09143173 A JP H09143173A JP 30152895 A JP30152895 A JP 30152895A JP 30152895 A JP30152895 A JP 30152895A JP H09143173 A JPH09143173 A JP H09143173A
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 次の一般式（１）
【化１】
〔式中、Ｒ1 はアルキル基、アリール基又はアラルキル
基を示し、＊は不斉炭素の位置を示す〕で表わされる光
学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘
導体。 【効果】 本発明化合物を不斉補助剤として用いれば、
光学活性化合物を選択的かつ高収率で製造することがで
きる。
基を示し、＊は不斉炭素の位置を示す〕で表わされる光
学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘
導体。 【効果】 本発明化合物を不斉補助剤として用いれば、
光学活性化合物を選択的かつ高収率で製造することがで
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性化合物を
選択的に製造するために用いる不斉補助剤として有用な
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体に関
する。
選択的に製造するために用いる不斉補助剤として有用な
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体に関
する。
【０００２】
【従来の技術】不斉炭素を有する有機化合物には、エナ
ンチオマー（鏡像異性体）が存在する。このような有機
化合物を香料や食品添加物として用いる場合、各々のエ
ナンチオマーにより、臭いや味が異なることが知られて
いる。また、医薬品では、サリドマイドの例に如実に示
されたように両異性体によって薬効や毒性が大きく異な
ることが知られている。更に強誘電性液晶では純粋なキ
ラル分子構造を持つ化合物が求められており、光学純度
の低下は顕著な機能の低下をもたらすとされている。
ンチオマー（鏡像異性体）が存在する。このような有機
化合物を香料や食品添加物として用いる場合、各々のエ
ナンチオマーにより、臭いや味が異なることが知られて
いる。また、医薬品では、サリドマイドの例に如実に示
されたように両異性体によって薬効や毒性が大きく異な
ることが知られている。更に強誘電性液晶では純粋なキ
ラル分子構造を持つ化合物が求められており、光学純度
の低下は顕著な機能の低下をもたらすとされている。
【０００３】このように、医薬、農薬、香料、食品添加
物、エレクトロニクス等の産業分野では、いずれかのエ
ナンチオマーが求められており、更に光学純度の高いも
のが求められている。
物、エレクトロニクス等の産業分野では、いずれかのエ
ナンチオマーが求められており、更に光学純度の高いも
のが求められている。
【０００４】また、光学純度の高い化合物を製造するに
は、光学活性な出発原料を用いて、通常の化学反応で製
造する方法が最も容易であり、一般的である。従って、
光学活性な原料化合物は産業上重要であり、安価で大量
供給が求められている。
は、光学活性な出発原料を用いて、通常の化学反応で製
造する方法が最も容易であり、一般的である。従って、
光学活性な原料化合物は産業上重要であり、安価で大量
供給が求められている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような光学活性な
化合物の製造法としては、通常の反応により得たラセミ
体を光学活性な分割剤を用いて分離する方法や、酵素又
は生物学的手法を用いて片方の異性体のみを目的物に変
換する方法等が知られている。
化合物の製造法としては、通常の反応により得たラセミ
体を光学活性な分割剤を用いて分離する方法や、酵素又
は生物学的手法を用いて片方の異性体のみを目的物に変
換する方法等が知られている。
【０００６】しかしながら、このような方法では、産業
上利用できない異性体が半分残ってしまうため、資源の
有効利用が図れず、不経済であった。このため必要な光
学異性体のみを製造する方法が望まれており、現在、不
斉補助剤を用いる方法が実施されている。この不斉補助
剤のうち特に４−キラル−２−オキサゾリジノン誘導体
は入手の容易さと適用範囲の広さから繁用されている。
また、４−キラル−２−オキサゾリジノン誘導体を用い
た不斉合成反応例も数多く報告されており、このうち、
光学活性カルボン酸の立体選択的製造法としては、例え
ば次の反応式に示す方法が知られている。
上利用できない異性体が半分残ってしまうため、資源の
有効利用が図れず、不経済であった。このため必要な光
学異性体のみを製造する方法が望まれており、現在、不
斉補助剤を用いる方法が実施されている。この不斉補助
剤のうち特に４−キラル−２−オキサゾリジノン誘導体
は入手の容易さと適用範囲の広さから繁用されている。
また、４−キラル−２−オキサゾリジノン誘導体を用い
た不斉合成反応例も数多く報告されており、このうち、
光学活性カルボン酸の立体選択的製造法としては、例え
ば次の反応式に示す方法が知られている。
【０００７】
【化２】
【０００８】〔式中、Ｒ2 は低級アルキル基、アリール
基又はアラルキル基を示し、Ｒ3 及びＲ4 は有機基を示
し、＊は不斉炭素の位置を示す〕
基又はアラルキル基を示し、Ｒ3 及びＲ4 は有機基を示
し、＊は不斉炭素の位置を示す〕
【０００９】すなわち、４−置換−２−オキサゾリジノ
ン（２）をアシル化して化合物（３）とし、有機金属化
合物試薬を用いて金属エノラートを調製し、ハロゲン化
アルキル等をジアステレオ選択的に反応させてジアステ
レオマー（４）を得た後、過酸化リチウムによる加水分
解を行い光学活性なカルボン酸（５）を得る方法が知ら
れている。
ン（２）をアシル化して化合物（３）とし、有機金属化
合物試薬を用いて金属エノラートを調製し、ハロゲン化
アルキル等をジアステレオ選択的に反応させてジアステ
レオマー（４）を得た後、過酸化リチウムによる加水分
解を行い光学活性なカルボン酸（５）を得る方法が知ら
れている。
【００１０】しかし、このような反応において、４−置
換−２−オキサゾリジノン（２）は、５位に置換基を有
しないためにオキサゾリジノン骨格のカルボニル基が求
核攻撃を受け易く、かつ副反応である開環反応も同時に
起こるために、エノラートアルキル化や脱アシル化反応
時において収率の低下がみられ、更に不斉補助剤の再使
用ができないという問題がある等の欠点があった。
換−２−オキサゾリジノン（２）は、５位に置換基を有
しないためにオキサゾリジノン骨格のカルボニル基が求
核攻撃を受け易く、かつ副反応である開環反応も同時に
起こるために、エノラートアルキル化や脱アシル化反応
時において収率の低下がみられ、更に不斉補助剤の再使
用ができないという問題がある等の欠点があった。
【００１１】従って本発明の目的は、このような欠点が
なく、所望の光学活性化合物を選択的に収率よく製造す
ることができる不斉補助剤を提供することにある。
なく、所望の光学活性化合物を選択的に収率よく製造す
ることができる不斉補助剤を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】斯かる実情に鑑み本発明
者らは、鋭意研究を行った結果、下記一般式（１）で表
わされる新規化合物を不斉補助剤として用いれば、高ジ
アステレオ選択的に反応が進行し、しかもこのものは、
オキサゾリジノン骨格が求核試薬に対して安定であるた
め、収率の低下がないこと、更には再使用が可能である
ことを見出し本発明を完成した。
者らは、鋭意研究を行った結果、下記一般式（１）で表
わされる新規化合物を不斉補助剤として用いれば、高ジ
アステレオ選択的に反応が進行し、しかもこのものは、
オキサゾリジノン骨格が求核試薬に対して安定であるた
め、収率の低下がないこと、更には再使用が可能である
ことを見出し本発明を完成した。
【００１３】すなわち本発明は、次の一般式（１）
【００１４】
【化３】
【００１５】〔式中、Ｒ1 はアルキル基、アリール基又
はアラルキル基を示し、＊は不斉炭素の位置を示す〕で
表わされる光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサ
ゾリジノン誘導体を提供するものである。
はアラルキル基を示し、＊は不斉炭素の位置を示す〕で
表わされる光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサ
ゾリジノン誘導体を提供するものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の５，５−ジフェニル−２
−オキサゾリジノン誘導体は前記一般式（１）で表わさ
れるものであり、式中のＲ1 のアルキル基としては炭素
数１〜４の低級アルキル基が好ましく、具体的には、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基が例示され
る。またＲ1 のうちアリール基としては、フェニル基、
ナフチル基、トリル基等が挙げられ、アラルキル基とし
ては、ベンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル
基等が挙げられる。
−オキサゾリジノン誘導体は前記一般式（１）で表わさ
れるものであり、式中のＲ1 のアルキル基としては炭素
数１〜４の低級アルキル基が好ましく、具体的には、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基が例示され
る。またＲ1 のうちアリール基としては、フェニル基、
ナフチル基、トリル基等が挙げられ、アラルキル基とし
ては、ベンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル
基等が挙げられる。
【００１７】本発明化合物（１）は、例えば次の反応式
に従ってＬ−又はＤ−アミノ酸あるいはそのエステルと
フェニルマグネシウムハロゲニドとの反応により容易に
得られる光学活性なアミノアルコール（８）にトリホス
ゲン、トリクロロメチルクロロホルメート、ホスゲン、
Ｎ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート、ジメチルカ
ーボネート、カルボニルジイミダゾール等を反応せしめ
ることによって製造することができる。
に従ってＬ−又はＤ−アミノ酸あるいはそのエステルと
フェニルマグネシウムハロゲニドとの反応により容易に
得られる光学活性なアミノアルコール（８）にトリホス
ゲン、トリクロロメチルクロロホルメート、ホスゲン、
Ｎ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート、ジメチルカ
ーボネート、カルボニルジイミダゾール等を反応せしめ
ることによって製造することができる。
【００１８】
【化４】
【００１９】〔式中、Ｒ1 及び＊は前記と同じものを示
し、Ｒ5 は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ6 及
びＲ7 は同一又は異なって、ハロゲン原子、トリハロゲ
ノメトキシ基、スクシニミジルオキシ基、低級アルコキ
シ基又はイミダゾリル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示
す〕
し、Ｒ5 は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ6 及
びＲ7 は同一又は異なって、ハロゲン原子、トリハロゲ
ノメトキシ基、スクシニミジルオキシ基、低級アルコキ
シ基又はイミダゾリル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示
す〕
【００２０】上記反応式において、出発原料であるアミ
ノ酸（６）としては、Ｌ−アラニン、Ｄ−アラニン、Ｌ
−イソロイシン、Ｄ−イソロイシン、Ｌ−ロイシン、Ｄ
−ロイシン、Ｌ−フェニルアラニン、Ｄ−フェニルアラ
ニン、Ｌ−バリン、Ｄ−バリン、Ｌ−ｔ−ロイシン、Ｄ
−ｔ−ロイシン、Ｄ−フェニルグリシン等が挙げられ
る。
ノ酸（６）としては、Ｌ−アラニン、Ｄ−アラニン、Ｌ
−イソロイシン、Ｄ−イソロイシン、Ｌ−ロイシン、Ｄ
−ロイシン、Ｌ−フェニルアラニン、Ｄ−フェニルアラ
ニン、Ｌ−バリン、Ｄ−バリン、Ｌ−ｔ−ロイシン、Ｄ
−ｔ−ロイシン、Ｄ−フェニルグリシン等が挙げられ
る。
【００２１】また、グリニャール試薬（７）の具体例と
しては、フェニルマグネシウムクロリド、フェニルマグ
ネシウムブロミド、フェニルマグネシウムアイオダイド
が挙げられる。
しては、フェニルマグネシウムクロリド、フェニルマグ
ネシウムブロミド、フェニルマグネシウムアイオダイド
が挙げられる。
【００２２】アミノ酸（６）とグリニャール試薬（７）
との反応は、アミノ酸（６）又はグリニャール試薬
（７）の何れか一方をテトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル等の適当な溶媒に溶かしておき、室温あるいは冷
却下に他方をゆっくりと添加して行えばよい。
との反応は、アミノ酸（６）又はグリニャール試薬
（７）の何れか一方をテトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル等の適当な溶媒に溶かしておき、室温あるいは冷
却下に他方をゆっくりと添加して行えばよい。
【００２３】このようにして得られたアミノアルコール
（８）から本発明化合物（１）を製造する閉環反応は、
ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、トルエン、
アセトニトリル等の溶媒中、塩基存在下あるいは非存在
下にカルボニル化試薬（９）を加え室温又は加熱するこ
とによって行われる。使用される塩基としては、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミ
ン、ジメチルアニリン、ピリジン、ナトリウムメトキシ
ド等の有機塩基；炭酸カリウム、水酸化カリウム等の無
機塩基が挙げられる。また、反応にはアミノアルコール
（８）１モルに対しカルボニル化試薬（９）１〜３モ
ル、塩基２〜６モルを使用して行われるが、特にアミノ
アルコール（８）１モルに対しカルボニル化試薬（９）
１〜１．５モル、塩基２〜３モル程度使用するのが好ま
しい。
（８）から本発明化合物（１）を製造する閉環反応は、
ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、トルエン、
アセトニトリル等の溶媒中、塩基存在下あるいは非存在
下にカルボニル化試薬（９）を加え室温又は加熱するこ
とによって行われる。使用される塩基としては、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミ
ン、ジメチルアニリン、ピリジン、ナトリウムメトキシ
ド等の有機塩基；炭酸カリウム、水酸化カリウム等の無
機塩基が挙げられる。また、反応にはアミノアルコール
（８）１モルに対しカルボニル化試薬（９）１〜３モ
ル、塩基２〜６モルを使用して行われるが、特にアミノ
アルコール（８）１モルに対しカルボニル化試薬（９）
１〜１．５モル、塩基２〜３モル程度使用するのが好ま
しい。
【００２４】本発明化合物（１）は、種々の不斉合成反
応に不斉補助剤として用いることができる。例えば、光
学活性なカルボン酸の製造は次の反応式に従って実施す
ることができる。
応に不斉補助剤として用いることができる。例えば、光
学活性なカルボン酸の製造は次の反応式に従って実施す
ることができる。
【００２５】
【化５】
【００２６】〔式中、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 及び＊は前記と
同じものを示し、Ｍは金属原子を示し、Ｙは水素原子又
は有機基を示し、Ｚはハロゲン原子を示す〕
同じものを示し、Ｍは金属原子を示し、Ｙは水素原子又
は有機基を示し、Ｚはハロゲン原子を示す〕
【００２７】すなわち、本発明化合物（１）をテトラヒ
ドロフランやジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中、
ｎ−ブチルリチウム、水素化ナトリウム等を用いて金属
塩（１１）とした後、ハロゲン化アシル（１２）を反応
させてアシル体（１３）とし、次いで不活性溶媒中、ｎ
−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等の
有機金属化合物や水素化ナトリウム、水素化リチウム等
を用いてエノラート（１４）とし、ハロゲン化アルキル
（１５）等をジアステレオ選択的に反応してジアステレ
オマー（１６）を得、これを過酸化リチウム（１７）を
用いて加水分解することにより容易に光学活性なカルボ
ン酸（１８）を得ることができる。また、このとき再生
した（１）は特に精製の操作を必要とせず再使用するこ
とができる。
ドロフランやジメチルホルムアミド等の不活性溶媒中、
ｎ−ブチルリチウム、水素化ナトリウム等を用いて金属
塩（１１）とした後、ハロゲン化アシル（１２）を反応
させてアシル体（１３）とし、次いで不活性溶媒中、ｎ
−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等の
有機金属化合物や水素化ナトリウム、水素化リチウム等
を用いてエノラート（１４）とし、ハロゲン化アルキル
（１５）等をジアステレオ選択的に反応してジアステレ
オマー（１６）を得、これを過酸化リチウム（１７）を
用いて加水分解することにより容易に光学活性なカルボ
ン酸（１８）を得ることができる。また、このとき再生
した（１）は特に精製の操作を必要とせず再使用するこ
とができる。
【００２８】
【発明の効果】本発明化合物を不斉補助剤として用いれ
ば、光学活性化合物を選択的かつ高収率で製造すること
ができる。
ば、光学活性化合物を選択的かつ高収率で製造すること
ができる。
【００２９】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３０】製造例１ （２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジフェニル−３−メチ
ル−１−ブタノールの製造：窒素気流下、フェニルマグ
ネシウムブロミド２Ｍのテトラヒドロフラン溶液２５０
ｇ（０．５０mol）中にＬ−バリンメチルエステル１
４．９ｇ（０．１１mol）のテトラヒドロフラン５ml溶
液をゆっくりと滴下し、終了後更に室温で２０時間攪拌
を続けた。反応液を塩化アンモニウム水溶液中に加え塩
化メチレンで抽出し、抽出液は水洗後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して２４．８ｇの残渣
を得た。この残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
媒 クロロホルム／メタノール）で精製し、標記化合物
を１４．６ｇ（収率５１％）得た。
ル−１−ブタノールの製造：窒素気流下、フェニルマグ
ネシウムブロミド２Ｍのテトラヒドロフラン溶液２５０
ｇ（０．５０mol）中にＬ−バリンメチルエステル１
４．９ｇ（０．１１mol）のテトラヒドロフラン５ml溶
液をゆっくりと滴下し、終了後更に室温で２０時間攪拌
を続けた。反応液を塩化アンモニウム水溶液中に加え塩
化メチレンで抽出し、抽出液は水洗後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して２４．８ｇの残渣
を得た。この残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
媒 クロロホルム／メタノール）で精製し、標記化合物
を１４．６ｇ（収率５１％）得た。
【００３１】実施例１ （４Ｓ）−４−メチル−５，５
−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：アセトニ
トリル１００ml中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジ
フェニル−１−プロパノール１．６７ｇ（７．３mmo
l）、トリエチルアミン１．６３ｇ（１６．２mmol）及
びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート２．０７ｇ
（８．１mmol）を加え、室温で１．５時間攪拌し、更に
１５．５時間加熱還流を続けた。放冷後、反応液に希塩
酸水溶液を加え塩化メチレンで抽出した。抽出液は、水
及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して白色
結晶である残渣を１．５４ｇ得た。この残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（溶媒 クロロホルム／メタノー
ル）で精製し、標記化合物を１．６２ｇ（収率８７％）
得た。
−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：アセトニ
トリル１００ml中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジ
フェニル−１−プロパノール１．６７ｇ（７．３mmo
l）、トリエチルアミン１．６３ｇ（１６．２mmol）及
びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート２．０７ｇ
（８．１mmol）を加え、室温で１．５時間攪拌し、更に
１５．５時間加熱還流を続けた。放冷後、反応液に希塩
酸水溶液を加え塩化メチレンで抽出した。抽出液は、水
及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して白色
結晶である残渣を１．５４ｇ得た。この残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（溶媒 クロロホルム／メタノー
ル）で精製し、標記化合物を１．６２ｇ（収率８７％）
得た。
【００３２】mp 268.4〜268.7℃ [α] D 21.6＝−298.90°(c=0.10,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 206.4(ε17800) IR νmax KBr cm-1: 3250, 1740,17201 H-NMR(DMSO-d6) δ: 0.85(3H,d,J=6.2Hz), 4.67(1H,q,
J=6.2Hz),7.22〜7.60(10H,m), 7.94(1H,s)
J=6.2Hz),7.22〜7.60(10H,m), 7.94(1H,s)
【００３３】実施例２ （４Ｓ）−４−イソプロピル−
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：
１，２−ジクロロエタン５０ml中に（２Ｓ）−２−アミ
ノ−１，１−ジフェニル−３−メチル−１−ブタノール
２．０ｇ（７．８mmol）、トリエチルアミン１．７ｇ
（１６．８mmol）及びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカー
ボネート２．２ｇ（８．６mmol）を加え、室温で４０分
間攪拌した後、更に１５時間加熱還流を続けた。以下、
実施例１と同様の操作を行い標記化合物を１．４ｇ（収
率６４％）得た。
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：
１，２−ジクロロエタン５０ml中に（２Ｓ）−２−アミ
ノ−１，１−ジフェニル−３−メチル−１−ブタノール
２．０ｇ（７．８mmol）、トリエチルアミン１．７ｇ
（１６．８mmol）及びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカー
ボネート２．２ｇ（８．６mmol）を加え、室温で４０分
間攪拌した後、更に１５時間加熱還流を続けた。以下、
実施例１と同様の操作を行い標記化合物を１．４ｇ（収
率６４％）得た。
【００３４】mp 253.2〜253.9℃ [α]D 22.0＝−253.10°(c=0.10,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 206.4(ε20800) IR νmax KBr cm-1: 3290, 17351 H-NMR(CDCl3)δ:0.66(3H,d,J=6.6Hz), 0.86(3H,d,J=6.
6Hz),1.50(1H,m), 4.33(1H,d,J=3.7Hz), 5.33(1H,m),
7.24〜7.55(10H,m)
6Hz),1.50(1H,m), 4.33(1H,d,J=3.7Hz), 5.33(1H,m),
7.24〜7.55(10H,m)
【００３５】実施例３ （４Ｓ）−４−イソプロピル−
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩
化メチレン５ml中にトリホスゲン０．１４ｇ（０．５mm
ol）を溶解し、この中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，１
−ジフェニル−３−メチル−１−ブタノール０．３０ｇ
（１．２mmol）及びトリエチルアミン０．３６ｇ（３．
５mmol）の塩化メチレン５ml溶液をゆっくりと滴下し、
終了後２４時間室温で攪拌を続けた。以下、実施例１と
同様の操作を行い標記化合物を０．２３ｇ（収率７７
％）得た。
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩
化メチレン５ml中にトリホスゲン０．１４ｇ（０．５mm
ol）を溶解し、この中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，１
−ジフェニル−３−メチル−１−ブタノール０．３０ｇ
（１．２mmol）及びトリエチルアミン０．３６ｇ（３．
５mmol）の塩化メチレン５ml溶液をゆっくりと滴下し、
終了後２４時間室温で攪拌を続けた。以下、実施例１と
同様の操作を行い標記化合物を０．２３ｇ（収率７７
％）得た。
【００３６】実施例４ （４Ｒ）−４−イソプロピル−
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：ア
セトニトリル１００ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，
１−ジフェニル−３−メチル−１−ブタノール２．０ｇ
（７．８mmol）、トリエチルアミン１．７ｇ（１６．８
mmol）及びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート
２．２ｇ（８．６mmol）を加え室温で１時間攪拌した
後、更に１５時間加熱還流を続けた。以下、実施例１と
同様の操作を行い標記化合物を１．６ｇ（収率７３％）
得た。
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：ア
セトニトリル１００ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，
１−ジフェニル−３−メチル−１−ブタノール２．０ｇ
（７．８mmol）、トリエチルアミン１．７ｇ（１６．８
mmol）及びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート
２．２ｇ（８．６mmol）を加え室温で１時間攪拌した
後、更に１５時間加熱還流を続けた。以下、実施例１と
同様の操作を行い標記化合物を１．６ｇ（収率７３％）
得た。
【００３７】mp 252.9〜253.5℃ [α]D 19.8＝＋270.78°(c=1.00,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 205.2(ε18300) IR νmax KBr cm-1: 3290, 1765, 17401 H-NMR(CDCl3)δ:0.66(3H,d,J=6.6Hz), 0.86(3H,d,J=6.
6Hz),1.50(1H,m), 4.33(1H,d,J=3.7Hz), 5.98(1H,m),
7.24〜7.55(10H,m)
6Hz),1.50(1H,m), 4.33(1H,d,J=3.7Hz), 5.98(1H,m),
7.24〜7.55(10H,m)
【００３８】実施例５ （４Ｓ）−４−イソブチル−
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：ア
セトニトリル１００ml中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，
１−ジフェニル−４−メチル−１−ペンタノール２．５
ｇ（９．３mmol）、トリエチルアミン２．１ｇ（２０．
５mmol）及びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカルボネート
２．６ｇ（１０．２mmol）を加え室温で１時間攪拌した
後、更に１５．５時間加熱還流を続けた。以下、実施例
１と同様の操作を行い標記化合物を２．４ｇ（収率８８
％）得た。
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：ア
セトニトリル１００ml中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，
１−ジフェニル−４−メチル−１−ペンタノール２．５
ｇ（９．３mmol）、トリエチルアミン２．１ｇ（２０．
５mmol）及びＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカルボネート
２．６ｇ（１０．２mmol）を加え室温で１時間攪拌した
後、更に１５．５時間加熱還流を続けた。以下、実施例
１と同様の操作を行い標記化合物を２．４ｇ（収率８８
％）得た。
【００３９】mp 214.3〜214.5℃ [α]D 22.4＝−282.05°(c=1.00,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 206.0(ε18300) IR νmax KBr cm-1: 3260, 1750, 17201 H-NMR(DMSO-d6)δ:0.76(3H,d,J=6.6Hz), 0.86(3H,d,J=
6.6Hz),0.85〜0.93(2H,m), 1.61〜1.66(1H,m), 4.49(1
H,dd,J=4.4 and 9.4Hz),7.22〜7.56(10H,m), 8.19(1H,
s)13 C-NMR(DMSO-d6):20.78, 23.75, 23.86, 41.76, 57.5
8, 87.63,125.64, 125.86, 127.44, 127.91, 128.00, 1
28.38, 139.78,143.44, 156.86
6.6Hz),0.85〜0.93(2H,m), 1.61〜1.66(1H,m), 4.49(1
H,dd,J=4.4 and 9.4Hz),7.22〜7.56(10H,m), 8.19(1H,
s)13 C-NMR(DMSO-d6):20.78, 23.75, 23.86, 41.76, 57.5
8, 87.63,125.64, 125.86, 127.44, 127.91, 128.00, 1
28.38, 139.78,143.44, 156.86
【００４０】実施例６ （４Ｓ）−４−ｔ−ブチル−
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩
化メチレン５０ml中に（２Ｓ−２−アミノ−３，３−ジ
メチル−１，１−ジフェニル−１−ブタノール１．０ｇ
（３．７mmol）及びトリエチルアミン２．３ｇ（２２．
３mmol）を溶解し、この中にトリホスゲン１．１ｇ
（３．７mmol）の塩化メチレン１８ml溶液をゆっくりと
滴下し、終了後１８時間室温で攪拌を続けた。以下、実
施例１と同様の操作を行い標記化合物を０．６ｇ（収率
５２％）得た。
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩
化メチレン５０ml中に（２Ｓ−２−アミノ−３，３−ジ
メチル−１，１−ジフェニル−１−ブタノール１．０ｇ
（３．７mmol）及びトリエチルアミン２．３ｇ（２２．
３mmol）を溶解し、この中にトリホスゲン１．１ｇ
（３．７mmol）の塩化メチレン１８ml溶液をゆっくりと
滴下し、終了後１８時間室温で攪拌を続けた。以下、実
施例１と同様の操作を行い標記化合物を０．６ｇ（収率
５２％）得た。
【００４１】mp 283.1〜283.2℃ [α]D 21.4＝−157.50°(c=0.10,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 205.6(ε18000) IR νmax KBr cm-1: 3275, 17351 H-NMR(CDCl3)δ:0.79(9H,s), 4.23(1H,s), 7.24〜7.61
(11H,m)
(11H,m)
【００４２】実施例７ （４Ｓ）−４−ベンジル−５，
５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩化メ
チレン２００ml中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，１，３
−トリフェニル−１−プロパノール２．０ｇ（６．６mm
ol）及びトリエチルアミン２．０ｇ（１９．８mmol）を
溶解し、この中にトリホスゲン１．０ｇ（３．３mmol）
の塩化メチレン８ml溶液をゆっくりと滴下し、終了後室
温で１８．５時間攪拌を続けた。以下、実施例１と同様
の操作を行い標記化合物を１．７ｇ（収率７７％）得
た。
５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩化メ
チレン２００ml中に（２Ｓ）−２−アミノ−１，１，３
−トリフェニル−１−プロパノール２．０ｇ（６．６mm
ol）及びトリエチルアミン２．０ｇ（１９．８mmol）を
溶解し、この中にトリホスゲン１．０ｇ（３．３mmol）
の塩化メチレン８ml溶液をゆっくりと滴下し、終了後室
温で１８．５時間攪拌を続けた。以下、実施例１と同様
の操作を行い標記化合物を１．７ｇ（収率７７％）得
た。
【００４３】mp 259.5〜261.4℃ [α]D 21.7＝−278.20°(c=1.00,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 207.2(ε25600) IR νmax KBr cm-1: 3250, 1760, 17251 H-NMR(CDCl3)δ:2.19(1H,dd,J=11.6 and 13.7Hz),2.61
(1H,dd,J=2.9 and 13.7Hz), 4.67(1H,dd,J=2.9 and 11.
6Hz),4.90(1H,bs), 7.12〜7.57(15H,m)
(1H,dd,J=2.9 and 13.7Hz), 4.67(1H,dd,J=2.9 and 11.
6Hz),4.90(1H,bs), 7.12〜7.57(15H,m)
【００４４】実施例８ （４Ｒ）−４−ベンジル−５，
５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：アセト
ニトリル５０ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，１，３
−トリフェニル−１−プロパノール２．０ｇ（６．６mm
ol）、トリエチルアミン１．５ｇ（１４．５mmol）及び
Ｎ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート１．９ｇ
（７．３mmol）を加え室温で２０分間攪拌した後、更に
８時間加熱還流を続けた。以下、実施例１と同様の操作
を行い標記化合物を１．９ｇ（収率８８％）得た。
５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：アセト
ニトリル５０ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，１，３
−トリフェニル−１−プロパノール２．０ｇ（６．６mm
ol）、トリエチルアミン１．５ｇ（１４．５mmol）及び
Ｎ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート１．９ｇ
（７．３mmol）を加え室温で２０分間攪拌した後、更に
８時間加熱還流を続けた。以下、実施例１と同様の操作
を行い標記化合物を１．９ｇ（収率８８％）得た。
【００４５】mp 262.1〜262.4℃ [α]D 22.8＝＋277.48°(c=1.00,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 206.4(ε28300) IR νmax KBr cm-1: 3250, 1760, 17251 H-NMR(CDCl3)δ:2.19(1H,dd,J=11.6 and 13.7Hz),2.61
(1H,dd,J=2.9 and 13.7Hz), 4.67(1H,dd,J=2.9 and 11.
6Hz),4.90(1H,bs), 7.12〜7.57(15H,m)
(1H,dd,J=2.9 and 13.7Hz), 4.67(1H,dd,J=2.9 and 11.
6Hz),4.90(1H,bs), 7.12〜7.57(15H,m)
【００４６】実施例９ （４Ｒ）−４−ベンジル−５，
５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩化メ
チレン３０ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，１，３−
トリフェニル−１−プロパノール０．８１ｇ（２．７mm
ol）及びトリエチルアミン０．８１ｇ（８．１mmol）を
溶解し、この中にトリホスゲン０．３２ｇ（１．１mmo
l）の塩化メチレン６ml溶液をゆっくりと滴下し、終了
後室温で２４時間攪拌を続け、更に４時間加熱還流を行
った。以下、実施例１と同様の操作を行い標記化合物を
０．６５ｇ（収率７４％）得た。
５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：塩化メ
チレン３０ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，１，３−
トリフェニル−１−プロパノール０．８１ｇ（２．７mm
ol）及びトリエチルアミン０．８１ｇ（８．１mmol）を
溶解し、この中にトリホスゲン０．３２ｇ（１．１mmo
l）の塩化メチレン６ml溶液をゆっくりと滴下し、終了
後室温で２４時間攪拌を続け、更に４時間加熱還流を行
った。以下、実施例１と同様の操作を行い標記化合物を
０．６５ｇ（収率７４％）得た。
【００４７】実施例１０ （４Ｒ）−４−フェニル−
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：ト
ルエン７０ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，１，２−
トリフェニルエタノール２．５ｇ（８．７mmol）及びト
リエチルアミン１．９ｇ（１９．０mmol）を溶解し、こ
の中にＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート２．４
ｇ（９．５mmol）を加え室温で１時間攪拌した後、更に
８．５時間加熱還流を続けた。以下、実施例１と同様の
操作を行い標記化合物を１．３ｇ（収率４７％）得た。
５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノンの製造：ト
ルエン７０ml中に（２Ｒ）−２−アミノ−１，１，２−
トリフェニルエタノール２．５ｇ（８．７mmol）及びト
リエチルアミン１．９ｇ（１９．０mmol）を溶解し、こ
の中にＮ，Ｎ′−ジスクシニミジルカーボネート２．４
ｇ（９．５mmol）を加え室温で１時間攪拌した後、更に
８．５時間加熱還流を続けた。以下、実施例１と同様の
操作を行い標記化合物を１．３ｇ（収率４７％）得た。
【００４８】mp 246.5〜247.2℃ [α]D 20.0＝＋218.15°(c=1.00,CHCl3) UV λmax MeOH nm: 206.0(ε27800) IR νmax KBr cm-1: 3270, 1750, 17151 H-NMR(CDCl3)δ:5.48(1H,bs), 5.61(1H,s),7.02〜7.69
(15H,m)
(15H,m)
【００４９】応用例 （１）（４Ｒ）−４−ベンジル−３−（３−フェニルプ
ロピオニル）−５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジ
ノンの製造：窒素気流下、無水テトラヒドロフラン５ml
中に水素化ナトリウム０．２２ｇ（純度６０％，５．５
mmol）を加え０℃に冷却した。この中に冷却下（４Ｒ）
−４−ベンジル−５，５−ジフェニル−２−オキサゾリ
ジノン１．４４ｇ（４．４mmol）を加え１５分間攪拌を
続けた後、３−フェニルプロピオニルクロライド０．９
２ｇ（５．５mmol）をゆっくりと滴下した。終了後、０
℃で２０分間攪拌し、更に室温で１９時間攪拌を続け
た。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、抽出液を食
塩水で洗浄後、減圧下溶媒を留去して２．７９ｇの残渣
を得た。この残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
媒 ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し無色油状物
である標記化合物を２．００ｇ（収率９８％）得た。
ロピオニル）−５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジ
ノンの製造：窒素気流下、無水テトラヒドロフラン５ml
中に水素化ナトリウム０．２２ｇ（純度６０％，５．５
mmol）を加え０℃に冷却した。この中に冷却下（４Ｒ）
−４−ベンジル−５，５−ジフェニル−２−オキサゾリ
ジノン１．４４ｇ（４．４mmol）を加え１５分間攪拌を
続けた後、３−フェニルプロピオニルクロライド０．９
２ｇ（５．５mmol）をゆっくりと滴下した。終了後、０
℃で２０分間攪拌し、更に室温で１９時間攪拌を続け
た。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、抽出液を食
塩水で洗浄後、減圧下溶媒を留去して２．７９ｇの残渣
を得た。この残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
媒 ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し無色油状物
である標記化合物を２．００ｇ（収率９８％）得た。
【００５０】1H-NMR(CDCl3)δ:2.78〜2.87(4H,m), 3.10
〜3.17(2H,m),5.66(1H,dd,J=5.1 and J=7.7Hz), 6.75〜
7.48(20H,m)
〜3.17(2H,m),5.66(1H,dd,J=5.1 and J=7.7Hz), 6.75〜
7.48(20H,m)
【００５１】（２）（４Ｒ）−４−ベンジル−３−（２
−メチル−３−フェニルプロピオニル）−５，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリジノンの製造：窒素気流下、無
水テトラヒドロフラン１０ml中に（４Ｒ）−４−ベンジ
ル−３−（３−フェニルプロピオニル）−５，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリジノン２．０３ｇ（４．４mmo
l）を加え０℃に冷却した。この中に冷却下リチウムジ
イソプロピルアミド２．０Ｍ溶液２．４９ml（５．０mm
ol）を滴下し、終了後０℃で１時間攪拌した。次いで、
ヨウ化メチル０．７１ｇ（５．０mmol）を滴下し、終了
後０℃で１時間、更に室温で１８時間攪拌を続けた。反
応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄後減
圧下溶媒を留去して３．３６ｇの残渣を得た。この残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒 ｎ−ヘキサン
／酢酸エチル）にて精製しジアステレオマーの混合物で
ある標記化合物を１．３４ｇ（収率６４％）得た。この
混合物の1H-NMRスペクトル分析を行い積分値を比較した
ところジアステレオマー比は９３．５：６．５であっ
た。
−メチル−３−フェニルプロピオニル）−５，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリジノンの製造：窒素気流下、無
水テトラヒドロフラン１０ml中に（４Ｒ）−４−ベンジ
ル−３−（３−フェニルプロピオニル）−５，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリジノン２．０３ｇ（４．４mmo
l）を加え０℃に冷却した。この中に冷却下リチウムジ
イソプロピルアミド２．０Ｍ溶液２．４９ml（５．０mm
ol）を滴下し、終了後０℃で１時間攪拌した。次いで、
ヨウ化メチル０．７１ｇ（５．０mmol）を滴下し、終了
後０℃で１時間、更に室温で１８時間攪拌を続けた。反
応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄後減
圧下溶媒を留去して３．３６ｇの残渣を得た。この残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒 ｎ−ヘキサン
／酢酸エチル）にて精製しジアステレオマーの混合物で
ある標記化合物を１．３４ｇ（収率６４％）得た。この
混合物の1H-NMRスペクトル分析を行い積分値を比較した
ところジアステレオマー比は９３．５：６．５であっ
た。
【００５２】主生成物の1H-NMR分析値1 H-NMR(CDCl3)δ:1.06(3H,d,J=6.8Hz), 2.45(1H,dd,J=
7.3 and 13.8Hz),2.69〜2.84(3H,m), 3.86〜3.93(1H,
m), 5.58(1H,dd,J=5.4 and 7.5Hz),6.74〜7.34(20H,m)
7.3 and 13.8Hz),2.69〜2.84(3H,m), 3.86〜3.93(1H,
m), 5.58(1H,dd,J=5.4 and 7.5Hz),6.74〜7.34(20H,m)
【００５３】（３）（４Ｒ）−４−ベンジル−３−（２
−メチル−３−フェニルプロピオニル）−５，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリジノンの加水分解 テトラヒドロフラン３９mlと水１３mlの混液に（４Ｒ）
−４−ベンジル−３−（２−メチル−３−フェニルプロ
ピオニル）−５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノ
ン５００mg（１．１mmol）を加え０℃に冷却した。この
中に水酸化リチウム・一水和物９１mg（２．２mmol）及
び３０％過酸化水素水０．５mlを加え０℃で１時間、更
に室温で５時間攪拌を続けた。反応液に１．５Ｍ亜硫酸
ナトリウム水溶液１．０ml及び飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液を加え減圧下テトラヒドロフランを留去し、残水
溶液を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層は水洗
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し
て（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジフェニル−２−
オキサゾリジノンを３２９mg回収した。水層は塩酸酸性
とした後、酢酸エチルで抽出し、抽出液は水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。次いで、減圧下溶媒を留
去して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒
クロロホルム／メタノール）にて精製し、２−メチル
−３−フェニルプロピオン酸を１５５mg（収率８６％）
得た。
−メチル−３−フェニルプロピオニル）−５，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリジノンの加水分解 テトラヒドロフラン３９mlと水１３mlの混液に（４Ｒ）
−４−ベンジル−３−（２−メチル−３−フェニルプロ
ピオニル）−５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノ
ン５００mg（１．１mmol）を加え０℃に冷却した。この
中に水酸化リチウム・一水和物９１mg（２．２mmol）及
び３０％過酸化水素水０．５mlを加え０℃で１時間、更
に室温で５時間攪拌を続けた。反応液に１．５Ｍ亜硫酸
ナトリウム水溶液１．０ml及び飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液を加え減圧下テトラヒドロフランを留去し、残水
溶液を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層は水洗
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し
て（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジフェニル−２−
オキサゾリジノンを３２９mg回収した。水層は塩酸酸性
とした後、酢酸エチルで抽出し、抽出液は水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。次いで、減圧下溶媒を留
去して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒
クロロホルム／メタノール）にて精製し、２−メチル
−３−フェニルプロピオン酸を１５５mg（収率８６％）
得た。
【００５４】参考例 （４Ｓ）−４−ベンジル−３−
（２−メチル−３−フェニルプロピオニル）−２−オキ
サゾリジノンの製造：窒素気流下、無水テトラヒドロフ
ラン２０ml中に（４Ｓ）−４−ベンジル−３−（３−フ
ェニルプロピオニル）−２−オキサゾリジノン３．１０
ｇ（１０．０mmol）を加え０℃に冷却した。この中に、
冷却下リチウムジイソプロピルアミド２．０Ｍ溶液５．
５ml（１１．０mmol）を滴下し、終了後０℃で１時間攪
拌した。次いで、ヨウ化メチル１．５６ｇ（１１．０mm
ol）を滴下し、終了後０℃で１時間、更に室温で２１時
間攪拌を続けた。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出
し、食塩水で洗浄後減圧下溶媒を留去して３．０６ｇの
残渣を得た。この残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（溶媒 ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し標記化
合物を０．８１ｇ（収率２５％）得た。
（２−メチル−３−フェニルプロピオニル）−２−オキ
サゾリジノンの製造：窒素気流下、無水テトラヒドロフ
ラン２０ml中に（４Ｓ）−４−ベンジル−３−（３−フ
ェニルプロピオニル）−２−オキサゾリジノン３．１０
ｇ（１０．０mmol）を加え０℃に冷却した。この中に、
冷却下リチウムジイソプロピルアミド２．０Ｍ溶液５．
５ml（１１．０mmol）を滴下し、終了後０℃で１時間攪
拌した。次いで、ヨウ化メチル１．５６ｇ（１１．０mm
ol）を滴下し、終了後０℃で１時間、更に室温で２１時
間攪拌を続けた。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出
し、食塩水で洗浄後減圧下溶媒を留去して３．０６ｇの
残渣を得た。この残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（溶媒 ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し標記化
合物を０．８１ｇ（収率２５％）得た。
Claims (1)
- 【請求項１】 次の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 はアルキル基、アリール基又はアラルキル
基を示し、＊は不斉炭素の位置を示す〕で表わされる光
学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘
導体。
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| JP30152895A JPH09143173A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体 |
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| JP30152895A JPH09143173A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体 |
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ID=17898023
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| JP30152895A Pending JPH09143173A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JPH09143173A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1995
- 1995-11-20 JP JP30152895A patent/JPH09143173A/ja active Pending
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