JPH08283248A - オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 - Google Patents
オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法Info
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- JPH08283248A JPH08283248A JP8015225A JP1522596A JPH08283248A JP H08283248 A JPH08283248 A JP H08283248A JP 8015225 A JP8015225 A JP 8015225A JP 1522596 A JP1522596 A JP 1522596A JP H08283248 A JPH08283248 A JP H08283248A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルキルニトリル類を原料として１工程で収
率よく製造し得、安定であり、しかもオレフィン類とジ
アゾ酢酸エステル類とを銅塩の存在下に反応させる際の
不斉配位子として用いることのできる新たな化合物を提
供する。 【解決手段】 一般式（１） で示されるオキサゾリン類の光学活性体またはラセミ
体。
率よく製造し得、安定であり、しかもオレフィン類とジ
アゾ酢酸エステル類とを銅塩の存在下に反応させる際の
不斉配位子として用いることのできる新たな化合物を提
供する。 【解決手段】 一般式（１） で示されるオキサゾリン類の光学活性体またはラセミ
体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オキサゾリン類、
その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類の製造方法に関する。
その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】不斉シクロプロパンカルボン酸類は医
薬、農薬などの中間体として有用であって、例えばオレ
フィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅塩と不斉配位子
との存在下に反応させて製造されることが知られてお
り、従来よりかかる不斉配位子として光学活性なメチレ
ンビスオキサゾリン類が知られている（Tetrahedron Le
tters,Vol.32,No.50,pp.7373-7376,1991）。しかしなが
ら、光学活性メチレンビスオキサゾリン類は不安定で重
合しやすいばかりか、マロノニトリルを原料として複数
工程を経て低収率で製造されるため（Helvetica Chimic
a Acta,Vol.74,p.2,1991）、不斉配位子としてかかるメ
チレンビスオキサゾリン類を用いる不斉シキロプロパン
カルボン酸類の製造方法は工業的に有利なものであると
は言えなかった。
薬、農薬などの中間体として有用であって、例えばオレ
フィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅塩と不斉配位子
との存在下に反応させて製造されることが知られてお
り、従来よりかかる不斉配位子として光学活性なメチレ
ンビスオキサゾリン類が知られている（Tetrahedron Le
tters,Vol.32,No.50,pp.7373-7376,1991）。しかしなが
ら、光学活性メチレンビスオキサゾリン類は不安定で重
合しやすいばかりか、マロノニトリルを原料として複数
工程を経て低収率で製造されるため（Helvetica Chimic
a Acta,Vol.74,p.2,1991）、不斉配位子としてかかるメ
チレンビスオキサゾリン類を用いる不斉シキロプロパン
カルボン酸類の製造方法は工業的に有利なものであると
は言えなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
アルキルニトリル類を原料として１工程で収率よく製造
し得、安定であり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エ
ステル類とを銅塩の存在下に反応させる際の不斉配位子
として用いることのできる新たな化合物を開発するべく
鋭意検討した結果、本発明に至った。
アルキルニトリル類を原料として１工程で収率よく製造
し得、安定であり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エ
ステル類とを銅塩の存在下に反応させる際の不斉配位子
として用いることのできる新たな化合物を開発するべく
鋭意検討した結果、本発明に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式（１） （式中、Ｒ1 は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示し、Ｒ2 、Ｒ3、
Ｒ4 、Ｒ5 はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基
を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
よいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルコキシル基または置換基を有して
いてもよいアリールオキシ基を示し、＊は不斉炭素原子
を示し、ｎは１または２を示す。ただし、Ｒ2 とＲ4 と
が互いに同一であることはない。）で示されるオキサゾ
リン類の光学活性体またはラセミ体を提供するものであ
る。
式（１） （式中、Ｒ1 は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示し、Ｒ2 、Ｒ3、
Ｒ4 、Ｒ5 はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基
を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
よいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルコキシル基または置換基を有して
いてもよいアリールオキシ基を示し、＊は不斉炭素原子
を示し、ｎは１または２を示す。ただし、Ｒ2 とＲ4 と
が互いに同一であることはない。）で示されるオキサゾ
リン類の光学活性体またはラセミ体を提供するものであ
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のオキサゾリン類における
置換基Ｒ1 において、アルキル基としてはメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ
−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ
−ノニル基、メンチル基、２，３，４−トリメチル−３
−ペンチル基、２，４−ジメチル−３−ペンンチル基な
どが、アラルキル基としてはベンジル基、２−フェニル
エチル基、２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基
などが、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基ビ
フェニル基、フリル基、チオフェニル基などが例示さ
れ、これらの置換基はさらに塩素原子、臭素原子などの
ハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキ
シ基、ｔ−ブトキシ基などのアルコキシル基、フェノキ
シ基などのアリールオキシ基、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−
ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低級ア
ルキル基、ｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチオ基など
の低級アルキルチオ基、フェニルチオ基などのアリール
チオ基、ニトロ基、水酸基などで置換されていてもよ
い。
置換基Ｒ1 において、アルキル基としてはメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ
−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ
−ノニル基、メンチル基、２，３，４−トリメチル−３
−ペンチル基、２，４−ジメチル−３−ペンンチル基な
どが、アラルキル基としてはベンジル基、２−フェニル
エチル基、２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基
などが、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基ビ
フェニル基、フリル基、チオフェニル基などが例示さ
れ、これらの置換基はさらに塩素原子、臭素原子などの
ハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキ
シ基、ｔ−ブトキシ基などのアルコキシル基、フェノキ
シ基などのアリールオキシ基、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−
ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低級ア
ルキル基、ｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチオ基など
の低級アルキルチオ基、フェニルチオ基などのアリール
チオ基、ニトロ基、水酸基などで置換されていてもよ
い。
【０００６】置換基Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 において、
アルキル基、アラルキル基、アリール基としては置換基
Ｒ1 として前記したと同様のものが、ハロゲン原子とし
ては塩素原子、臭素原子などが、アルケニル基としては
２−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、トラ
ンス−β−スチリル基、３−フェニル−１−プロペニル
基、１−シクロヘキセニル基などが、アルコキシル基と
してはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ
−ブトキシ基などが、アリールオキシ基としてはフェノ
キシ基などがそれぞれ例示される。これらのアルキル
基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコ
キシル基、アリールオキシ基はさらに前記の置換基Ｒ1
におけると同様の置換基で置換されていてもよい。
アルキル基、アラルキル基、アリール基としては置換基
Ｒ1 として前記したと同様のものが、ハロゲン原子とし
ては塩素原子、臭素原子などが、アルケニル基としては
２−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、トラ
ンス−β−スチリル基、３−フェニル−１−プロペニル
基、１−シクロヘキセニル基などが、アルコキシル基と
してはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ
−ブトキシ基などが、アリールオキシ基としてはフェノ
キシ基などがそれぞれ例示される。これらのアルキル
基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコ
キシル基、アリールオキシ基はさらに前記の置換基Ｒ1
におけると同様の置換基で置換されていてもよい。
【０００７】このような一般式（１）で示されるオキサ
ゾリン類には、＊で示される不斉炭素原子を不斉中心と
する少なくとも２種類の光学活性体が存在するが、本発
明のオキサゾリン類はいずれの光学活性体であってもよ
いし、これらのラセミ体であってもよい。
ゾリン類には、＊で示される不斉炭素原子を不斉中心と
する少なくとも２種類の光学活性体が存在するが、本発
明のオキサゾリン類はいずれの光学活性体であってもよ
いし、これらのラセミ体であってもよい。
【０００８】かかるオキサゾリン類の光学活性体、ラセ
ミ体はいずれも文献未記載の化合物であって、例えば一
般式（２） （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、＊はそれぞれ前記と
同じ意味を示す。）で示される２−アミノエタノール類
の光学活性体またはラセミ体と一般式（３） （式中、Ｒ1 、ｎは前記と同じ意味を示す。）で示され
るアルキルニトリル類とをルイス酸の存在下に反応させ
ることによって、１工程で容易に好収率で製造すること
ができる。
ミ体はいずれも文献未記載の化合物であって、例えば一
般式（２） （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、＊はそれぞれ前記と
同じ意味を示す。）で示される２−アミノエタノール類
の光学活性体またはラセミ体と一般式（３） （式中、Ｒ1 、ｎは前記と同じ意味を示す。）で示され
るアルキルニトリル類とをルイス酸の存在下に反応させ
ることによって、１工程で容易に好収率で製造すること
ができる。
【０００９】ここで２−アミノエタノール類の光学活性
体としては、例えば（Ｒ）−ｔ−ロイシノール、（Ｒ）
−フェニルグリシノール、Ｌ−フェニルアラニノール、
Ｌ−ノルエフェドリン、Ｌ−バリノールおよび上記各化
合物における（Ｒ）またはＬが（Ｓ）またはＤに相当す
る化合物などが、またラセミ体としては、例えば上記各
化合物における（Ｒ）またはＬが（ＲＳ）またはＤＬに
相当する化合物などがそれぞれ挙げられる。
体としては、例えば（Ｒ）−ｔ−ロイシノール、（Ｒ）
−フェニルグリシノール、Ｌ−フェニルアラニノール、
Ｌ−ノルエフェドリン、Ｌ−バリノールおよび上記各化
合物における（Ｒ）またはＬが（Ｓ）またはＤに相当す
る化合物などが、またラセミ体としては、例えば上記各
化合物における（Ｒ）またはＬが（ＲＳ）またはＤＬに
相当する化合物などがそれぞれ挙げられる。
【００１０】アルキルニトリル類としては、例えばメト
キシアセトニトリル、ｔ−ブチルオキシアセトニトリ
ル、フェニルオキシアセトニトリル、ベンジルオキシア
セトニトリル、２−メトキシプロピオニトリル、２−ｔ
−ブチルオキシプロピオニトリル、２−フェニルオキシ
プロピオニトリル、２−ベンジルオキシプロピオニトリ
ルなどが挙げられ、その使用量は２−アミノエタノール
類に対して通常は０．５〜３モル倍、好ましくは０．５
〜２モル倍の範囲である。
キシアセトニトリル、ｔ−ブチルオキシアセトニトリ
ル、フェニルオキシアセトニトリル、ベンジルオキシア
セトニトリル、２−メトキシプロピオニトリル、２−ｔ
−ブチルオキシプロピオニトリル、２−フェニルオキシ
プロピオニトリル、２−ベンジルオキシプロピオニトリ
ルなどが挙げられ、その使用量は２−アミノエタノール
類に対して通常は０．５〜３モル倍、好ましくは０．５
〜２モル倍の範囲である。
【００１１】ルイス酸としては、例えば塩化亜鉛、塩化
鉄、塩化スズ、アルミニウムトリクロライド、ボロント
リフルオライド、臭化鉄、アルミニウムトリイソプロポ
キシド、酢酸亜鉛などが挙げられ、これらはそれぞれ単
独または２種以上を混合して用いられる。かかるルイス
酸の使用量は２−アミノエタノール類に対して通常は
０．０１〜１０モル倍、好ましくは０．１〜３モル倍の
範囲である。
鉄、塩化スズ、アルミニウムトリクロライド、ボロント
リフルオライド、臭化鉄、アルミニウムトリイソプロポ
キシド、酢酸亜鉛などが挙げられ、これらはそれぞれ単
独または２種以上を混合して用いられる。かかるルイス
酸の使用量は２−アミノエタノール類に対して通常は
０．０１〜１０モル倍、好ましくは０．１〜３モル倍の
範囲である。
【００１２】反応は通常、溶媒中で行われ、かかる溶媒
としては、例えばトルエン、キシレン、ヘキサン、クロ
ルベンゼンなどのルイス酸を用いる反応に対して不活性
な溶媒が用いられる。これらの溶媒はそれぞれ単独また
は２種以上を混合して用いられ、その使用量は２−アミ
ノエタノール類に対して通常は２〜２００重量倍の範囲
である。
としては、例えばトルエン、キシレン、ヘキサン、クロ
ルベンゼンなどのルイス酸を用いる反応に対して不活性
な溶媒が用いられる。これらの溶媒はそれぞれ単独また
は２種以上を混合して用いられ、その使用量は２−アミ
ノエタノール類に対して通常は２〜２００重量倍の範囲
である。
【００１３】反応に際しては、例えば溶媒中で２−アミ
ノエタノール類の光学活性体もしくはラセミ体、アルキ
ルニトリル類およびルイス酸を混合すればよく、反応温
度は通常５０〜２５０℃、好ましくは６０〜１６０℃の
範囲である。
ノエタノール類の光学活性体もしくはラセミ体、アルキ
ルニトリル類およびルイス酸を混合すればよく、反応温
度は通常５０〜２５０℃、好ましくは６０〜１６０℃の
範囲である。
【００１４】反応後、得られた反応混合物に、例えば炭
酸水素ナトリウム水溶液などのアルカリ水溶液を加えた
のち、通常の方法、例えばトルエン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジクロルメタンなどの水に不溶の有機溶
媒を用いて抽出処理し、得られた有機層を濃縮すれば、
原料として用いた２−アミノエタノール類に対応するオ
キサゾリン類の光学活性体もしくはラセミ体を得ること
ができる。かかるオキサゾリン類はさらに通常の方法、
例えばカラムクロマトグラム処理、蒸留操作などの方法
によって精製されてもよい。
酸水素ナトリウム水溶液などのアルカリ水溶液を加えた
のち、通常の方法、例えばトルエン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジクロルメタンなどの水に不溶の有機溶
媒を用いて抽出処理し、得られた有機層を濃縮すれば、
原料として用いた２−アミノエタノール類に対応するオ
キサゾリン類の光学活性体もしくはラセミ体を得ること
ができる。かかるオキサゾリン類はさらに通常の方法、
例えばカラムクロマトグラム処理、蒸留操作などの方法
によって精製されてもよい。
【００１５】かくして得られる一般式（１）で示される
オキサゾリン類において、＊で示される不斉炭素原子を
中心とする立体配置は、原料として用いた一般式（２）
で示される２−アミノエタノール類におけると同様であ
る。また、得られたオキサゾリン類がラセミ体である場
合、これは通常の方法、例えば光学活性カラムクロマト
グラム処理などによって容易に光学活性体に光学分割す
ることができる。
オキサゾリン類において、＊で示される不斉炭素原子を
中心とする立体配置は、原料として用いた一般式（２）
で示される２−アミノエタノール類におけると同様であ
る。また、得られたオキサゾリン類がラセミ体である場
合、これは通常の方法、例えば光学活性カラムクロマト
グラム処理などによって容易に光学活性体に光学分割す
ることができる。
【００１６】かくして得られるオキサゾリン類の光学活
性体としては、例えば２−メトキシメチル−４−（Ｒ）
−フェニルオキサゾリン、２−エトキシメチル−４−
（Ｒ）−ｔ−ブチルオキサゾリン、２−ネオペンチルオ
キシメチル−４−（Ｒ）−ベンジルオキサゾリン、２−
ベンジルキシメチル−４−（Ｒ）−メチル−５−（Ｒ）
−フェニルオキサゾリンおよび上記各化合物における
（Ｒ）が（Ｓ）に相当する化合物などが、またラセミ体
としては、例えば上記各化合物における（Ｒ）が（Ｒ
Ｓ）に相当する化合物などがそれぞれ挙げられる。
性体としては、例えば２−メトキシメチル−４−（Ｒ）
−フェニルオキサゾリン、２−エトキシメチル−４−
（Ｒ）−ｔ−ブチルオキサゾリン、２−ネオペンチルオ
キシメチル−４−（Ｒ）−ベンジルオキサゾリン、２−
ベンジルキシメチル−４−（Ｒ）−メチル−５−（Ｒ）
−フェニルオキサゾリンおよび上記各化合物における
（Ｒ）が（Ｓ）に相当する化合物などが、またラセミ体
としては、例えば上記各化合物における（Ｒ）が（Ｒ
Ｓ）に相当する化合物などがそれぞれ挙げられる。
【００１７】これらのオキサゾリン類はいずれも安定で
あって、その光学活性体は不斉配位子として用いること
ができ、例えばかかるオキサゾリン類の光学活性体と銅
塩との存在下に、一般式（４） （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 はそれぞれ水素原子、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
ラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基
を示し、Ｒ6 とＲ 7 とが結合して環を形成していてもよ
い。ただし、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 が同時に同一であ
ることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（５） （式中、Ｒ10は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを反応させることによって、一般式
（６） （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類を製造することができる。
あって、その光学活性体は不斉配位子として用いること
ができ、例えばかかるオキサゾリン類の光学活性体と銅
塩との存在下に、一般式（４） （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 はそれぞれ水素原子、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
ラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基
を示し、Ｒ6 とＲ 7 とが結合して環を形成していてもよ
い。ただし、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 が同時に同一であ
ることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（５） （式中、Ｒ10は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを反応させることによって、一般式
（６） （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類を製造することができる。
【００１８】ここで、置換基Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 に
おけるアルニル基としては置換基Ｒ 2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ
5 として前記したと同様のものが、Ｒ6 とＲ7 とが結合
して環を形成している場合の環としては、例えばシクロ
ヘキセニル環などがそれぞれ挙げられ、これらの置換基
および環は前記の置換基Ｒ1 における場合と同様にさら
に置換基を有していてもよい。また、置換基Ｒ6 、
Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10におけるアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基としては、置換基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ 3 、
Ｒ4 、Ｒ5 として前記したと同様のものがそれぞれ例示
される。
おけるアルニル基としては置換基Ｒ 2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ
5 として前記したと同様のものが、Ｒ6 とＲ7 とが結合
して環を形成している場合の環としては、例えばシクロ
ヘキセニル環などがそれぞれ挙げられ、これらの置換基
および環は前記の置換基Ｒ1 における場合と同様にさら
に置換基を有していてもよい。また、置換基Ｒ6 、
Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10におけるアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基としては、置換基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ 3 、
Ｒ4 、Ｒ5 として前記したと同様のものがそれぞれ例示
される。
【００１９】かかるジアゾ酢酸エステル類としては、例
えばジアゾ酢酸のメチルエステル、エチルエステル、ｎ
−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステ
ル、ベンジルエステル、シクロヘキシルエステル、ｌ−
メンチルエステル、ｎ−ペンチルエステル、ネオペンチ
ルエステル、ｎ−ヘキシルエステル、ｎ−ヘプチルエス
テルなどが挙げられる。
えばジアゾ酢酸のメチルエステル、エチルエステル、ｎ
−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステ
ル、ベンジルエステル、シクロヘキシルエステル、ｌ−
メンチルエステル、ｎ−ペンチルエステル、ネオペンチ
ルエステル、ｎ−ヘキシルエステル、ｎ−ヘプチルエス
テルなどが挙げられる。
【００２０】オレフィン類としては、例えば２，５−ジ
メチル−２，４−ヘキサジエン、イソブチレン、２−メ
チル−２−ブテン、３−メチル−１−ブテン、３，３−
ジメチル−１−ブテン、２−ペンテン、４−メチル−１
−ペンテン、２−メチル−２−ペンテン、１−ヘキセ
ン、２−ヘキセン、２−ヘプテン、イソプレン、１−メ
チル−１−シクロヘキセン、ビニルシクロペンタン、ス
チレン、４−フェニル−１−ブテンなどが挙げられ、そ
の使用量はジアゾ酢酸エステル類に対して通常は０．５
〜３０モル倍の範囲である。
メチル−２，４−ヘキサジエン、イソブチレン、２−メ
チル−２−ブテン、３−メチル−１−ブテン、３，３−
ジメチル−１−ブテン、２−ペンテン、４−メチル−１
−ペンテン、２−メチル−２−ペンテン、１−ヘキセ
ン、２−ヘキセン、２−ヘプテン、イソプレン、１−メ
チル−１−シクロヘキセン、ビニルシクロペンタン、ス
チレン、４−フェニル−１−ブテンなどが挙げられ、そ
の使用量はジアゾ酢酸エステル類に対して通常は０．５
〜３０モル倍の範囲である。
【００２１】オキサゾリン類の使用量はジアゾ酢酸エス
テル類に対して通常は０．００１〜２モル倍、好ましく
は０．０１〜１モル倍の範囲である。
テル類に対して通常は０．００１〜２モル倍、好ましく
は０．０１〜１モル倍の範囲である。
【００２２】銅塩としては、例えばトリフルオロメタン
スルホン酸銅（Ｉ）、三フッ化酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅
（Ｉ）などの銅（Ｉ）の有機塩、臭化銅（Ｉ）、塩化銅
（Ｉ）などの銅（Ｉ）のハロゲン化物などの１価の銅
塩、上記各化合物における銅（Ｉ）が銅（ＩＩ）に相当
する銅（ＩＩ）の有機塩、銅（ＩＩ）のハロゲン化物な
どの２価の銅塩が挙げられる。これらの銅塩はそれぞれ
単独または２種以上を混合して用いられ、その使用量は
オキサゾリン類に対して通常は０．０１〜２モル倍、好
ましくは０．１〜１モル倍の範囲である。
スルホン酸銅（Ｉ）、三フッ化酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅
（Ｉ）などの銅（Ｉ）の有機塩、臭化銅（Ｉ）、塩化銅
（Ｉ）などの銅（Ｉ）のハロゲン化物などの１価の銅
塩、上記各化合物における銅（Ｉ）が銅（ＩＩ）に相当
する銅（ＩＩ）の有機塩、銅（ＩＩ）のハロゲン化物な
どの２価の銅塩が挙げられる。これらの銅塩はそれぞれ
単独または２種以上を混合して用いられ、その使用量は
オキサゾリン類に対して通常は０．０１〜２モル倍、好
ましくは０．１〜１モル倍の範囲である。
【００２３】反応は、用いるオレフィン類の種類によっ
ては無溶媒で行うこともできるが、通常は溶媒中で行わ
れ、かかる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジ
エトキシメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサンなどの
炭化水素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，
２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、
酢酸エチルなどのエステル系溶媒などの反応に対して不
活性な溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独
または２種以上を混合して用いられ、その使用量はジア
ゾ酢酸エステル類に対して通常は２−２００重量倍の範
囲である。
ては無溶媒で行うこともできるが、通常は溶媒中で行わ
れ、かかる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジ
エトキシメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサンなどの
炭化水素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，
２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、
酢酸エチルなどのエステル系溶媒などの反応に対して不
活性な溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独
または２種以上を混合して用いられ、その使用量はジア
ゾ酢酸エステル類に対して通常は２−２００重量倍の範
囲である。
【００２４】反応に際しては、例えば溶媒中でオレフィ
ン類、オキサゾリン類および銅塩を混合したのち、ジア
ゾ酢酸エステル類を加えればよく、反応温度は通常−５
０〜２００℃、好ましくは０〜５０℃の範囲である。
ン類、オキサゾリン類および銅塩を混合したのち、ジア
ゾ酢酸エステル類を加えればよく、反応温度は通常−５
０〜２００℃、好ましくは０〜５０℃の範囲である。
【００２５】なお、銅塩として２価の銅塩を用いる場
合、ジアゾ酢酸エステル類を加える前にヒドラジン化合
物を加えておくことによって、オレフィン類とジアゾ酢
酸エステル類との反応を速めることができ、好ましい。
かかるヒドラジン化合物としては、例えばフェニルヒド
ラジンなどが挙げられ、その使用量は銅塩に対して通常
は０．８〜１．２重量倍の範囲である。
合、ジアゾ酢酸エステル類を加える前にヒドラジン化合
物を加えておくことによって、オレフィン類とジアゾ酢
酸エステル類との反応を速めることができ、好ましい。
かかるヒドラジン化合物としては、例えばフェニルヒド
ラジンなどが挙げられ、その使用量は銅塩に対して通常
は０．８〜１．２重量倍の範囲である。
【００２６】反応後、得られた反応混合物に、例えば塩
化アンモニウム水溶液などを加えたのち、通常の方法、
例えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジク
ロルメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて抽出処理
し、得られた有機層を濃縮することによって、目的の不
斉シクロプロパンカルボン酸類を得ることができ、これ
はさらに通常の方法、例えばカラムクロマトグラフ処理
や蒸留操作などによって精製されてもよい。
化アンモニウム水溶液などを加えたのち、通常の方法、
例えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジク
ロルメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて抽出処理
し、得られた有機層を濃縮することによって、目的の不
斉シクロプロパンカルボン酸類を得ることができ、これ
はさらに通常の方法、例えばカラムクロマトグラフ処理
や蒸留操作などによって精製されてもよい。
【００２７】かくして得られる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類としては、例えば１−（Ｓ）−エトキシカルボ
ニル−２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン、１−
（Ｒ）−エトキシカルボニル−２，２−ジメチルシクロ
プロパン、１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン、１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−ｔ
−ブチルシクロプロパンなどが挙げられる。
ボン酸類としては、例えば１−（Ｓ）−エトキシカルボ
ニル−２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン、１−
（Ｒ）−エトキシカルボニル−２，２−ジメチルシクロ
プロパン、１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン、１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−ｔ
−ブチルシクロプロパンなどが挙げられる。
【００２８】
【発明の効果】本発明のオキサゾリン類は、アルキルニ
トリル類を原料として１工程で収率よく製造し得、安定
であり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類と
を銅塩の存在下に反応させる際の不斉配位子として用い
ることができる。
トリル類を原料として１工程で収率よく製造し得、安定
であり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類と
を銅塩の存在下に反応させる際の不斉配位子として用い
ることができる。
【００２９】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるも
のではない。
明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるも
のではない。
【００３０】実施例１ メトキシアセトニトリル３．８４ｇ（５４ｍｍｏｌ）、
（Ｒ）−２−フェニルグリシノール２２ｇ（１６０．４
ｍｍｏｌ）および塩化亜鉛２．２ｇ（１６．１ｍｍｏ
ｌ）をクロルベンゼン２００ｇと混合し、加熱還流させ
ながら８時間攪拌した。反応後、反応混合物に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液４５０ｇを加え、３０分攪拌して
析出した固体を濾別した。濾液を各３００ｇの酢酸エチ
ルで２回抽出処理し、得られた有機層を合わせ、水１０
０ｇで洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃
縮処理して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ処理（クロロホルム：アセトン＝１０：１）し
て、２−メトキシメチル−４−（Ｒ）−フェニルオキサ
ゾリン９．０９ｇ（４７．５ｍｍｏｌ）を得た（収率８
８％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ３．５０（ｓ，
３Ｈ）、４．１９（ｔ，１Ｈ）、４．２３（ｄ，２
Ｈ）、４．６９（ｔ，１Ｈ）、５．２２（ｔ，１Ｈ）、
７．２０−７．４０（ｍ，５Ｈ）
（Ｒ）−２−フェニルグリシノール２２ｇ（１６０．４
ｍｍｏｌ）および塩化亜鉛２．２ｇ（１６．１ｍｍｏ
ｌ）をクロルベンゼン２００ｇと混合し、加熱還流させ
ながら８時間攪拌した。反応後、反応混合物に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液４５０ｇを加え、３０分攪拌して
析出した固体を濾別した。濾液を各３００ｇの酢酸エチ
ルで２回抽出処理し、得られた有機層を合わせ、水１０
０ｇで洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃
縮処理して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ処理（クロロホルム：アセトン＝１０：１）し
て、２−メトキシメチル−４−（Ｒ）−フェニルオキサ
ゾリン９．０９ｇ（４７．５ｍｍｏｌ）を得た（収率８
８％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ３．５０（ｓ，
３Ｈ）、４．１９（ｔ，１Ｈ）、４．２３（ｄ，２
Ｈ）、４．６９（ｔ，１Ｈ）、５．２２（ｔ，１Ｈ）、
７．２０−７．４０（ｍ，５Ｈ）
【００３１】実施例２ メトキシアセトニトリル３．８４ｇ（５４ｍｍｏｌ）、
Ｌ−フェニルアラニノール２４．３ｇ（１６０．４ｍｍ
ｏｌ）および塩化亜鉛２．２ｇ（１６．１ｍｍｏｌ）を
クロルベンゼン３００ｇと混合し、加熱還流させながら
８時間攪拌した。反応後、反応混合物に飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液８００ｇを加え、３０分攪拌して析出し
た固体を濾別した。濾液を各４００ｇの酢酸エチルで２
回抽出処理し、得られた有機層を合わせ、水２００ｇで
洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮処理
して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
処理（クロロホルム：アセトン＝１０：１）して、２−
メトキシメチル−４−（Ｒ）−ベンジルオキサゾリン１
０．１７ｇ（４９．６ｍｍｏｌ）を得た（収率９２
％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ）、３．１８（ｄｄ，１Ｈ）、３．４１（ｓ，
３Ｈ）、４．０２（ｔ，１Ｈ）、４．１０（ｓ，２
Ｈ）、４．２５（ｔ，１Ｈ）、４．３９−４．５５
（ｍ，１Ｈ）、７．１７−７．３５（ｍ，５Ｈ）
Ｌ−フェニルアラニノール２４．３ｇ（１６０．４ｍｍ
ｏｌ）および塩化亜鉛２．２ｇ（１６．１ｍｍｏｌ）を
クロルベンゼン３００ｇと混合し、加熱還流させながら
８時間攪拌した。反応後、反応混合物に飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液８００ｇを加え、３０分攪拌して析出し
た固体を濾別した。濾液を各４００ｇの酢酸エチルで２
回抽出処理し、得られた有機層を合わせ、水２００ｇで
洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮処理
して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
処理（クロロホルム：アセトン＝１０：１）して、２−
メトキシメチル−４−（Ｒ）−ベンジルオキサゾリン１
０．１７ｇ（４９．６ｍｍｏｌ）を得た（収率９２
％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ）、３．１８（ｄｄ，１Ｈ）、３．４１（ｓ，
３Ｈ）、４．０２（ｔ，１Ｈ）、４．１０（ｓ，２
Ｈ）、４．２５（ｔ，１Ｈ）、４．３９−４．５５
（ｍ，１Ｈ）、７．１７−７．３５（ｍ，５Ｈ）
【００３２】実施例３ Ｌ−フェニルアラニノールに代えてＬ−ノルエフェドリ
ン２４．３ｇ（１６０．４ｍｍｏｌ）を用いる以外は実
施例２と同様に操作して、２−メトキシメチル−４−
（Ｓ）−メチル−５−（Ｒ）−フェニルオキサゾリン
７．１ｇ（３４．６ｍｍｏｌ）を得た（収率６４％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．８０（ｄ，
１Ｈ）、３．５２（ｓ，３Ｈ）、４．２１（ｓ，２
Ｈ）、４．４１−４．６０（ｍ，１Ｈ）、５．６５
（ｄ，１Ｈ）、７．１８−７．４５（ｍ，５Ｈ）
ン２４．３ｇ（１６０．４ｍｍｏｌ）を用いる以外は実
施例２と同様に操作して、２−メトキシメチル−４−
（Ｓ）−メチル−５−（Ｒ）−フェニルオキサゾリン
７．１ｇ（３４．６ｍｍｏｌ）を得た（収率６４％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ０．８０（ｄ，
１Ｈ）、３．５２（ｓ，３Ｈ）、４．２１（ｓ，２
Ｈ）、４．４１−４．６０（ｍ，１Ｈ）、５．６５
（ｄ，１Ｈ）、７．１８−７．４５（ｍ，５Ｈ）
【００３３】実施例４ ３−メトキシプロピオニトリル４．６ｇ（５４ｍｍｏ
ｌ）、（Ｒ）−２−フェニルグリシノール２２ｇ（１６
０．４ｍｍｏｌ）および塩化亜鉛２．２ｇ（１６．１ｍ
ｍｏｌ）をクロルベンゼン３００ｇと混合し、加熱還流
させながら８時間攪拌した。反応後、反応混合物に飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液４５０ｇを加え、３０分攪拌
して析出した固体を濾別した。濾液を各３００ｇの酢酸
エチルで２回抽出処理し、得られた有機層を合わせ、水
１００ｇで洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、濃縮処理して、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフ処理（クロロホルム：アセトン＝１０：
１）して、２−メトキシエチル−４−（Ｒ）−フェニル
オキサゾリン３．１ｇ（１５．１ｍｍｏｌ）を得た（収
率２８％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．６６（ｔ，
２Ｈ）、３．４０（ｓ，３Ｈ）、３．７５（ｔ，２
Ｈ）、４．１０（ｔ，１Ｈ）、４．６１（ｔ，１Ｈ）、
５．１９（ｔ，１Ｈ）、７．２０−７．４０（ｍ，５
Ｈ）
ｌ）、（Ｒ）−２−フェニルグリシノール２２ｇ（１６
０．４ｍｍｏｌ）および塩化亜鉛２．２ｇ（１６．１ｍ
ｍｏｌ）をクロルベンゼン３００ｇと混合し、加熱還流
させながら８時間攪拌した。反応後、反応混合物に飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液４５０ｇを加え、３０分攪拌
して析出した固体を濾別した。濾液を各３００ｇの酢酸
エチルで２回抽出処理し、得られた有機層を合わせ、水
１００ｇで洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、濃縮処理して、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフ処理（クロロホルム：アセトン＝１０：
１）して、２−メトキシエチル−４−（Ｒ）−フェニル
オキサゾリン３．１ｇ（１５．１ｍｍｏｌ）を得た（収
率２８％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ）δ２．６６（ｔ，
２Ｈ）、３．４０（ｓ，３Ｈ）、３．７５（ｔ，２
Ｈ）、４．１０（ｔ，１Ｈ）、４．６１（ｔ，１Ｈ）、
５．１９（ｔ，１Ｈ）、７．２０−７．４０（ｍ，５
Ｈ）
【００３４】実施例５ トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）１８ｍｇ
（０．０５ｍｍｏｌ）および２−メトキシメチル−４−
（Ｒ）−フェニルオキサゾリン４７．８ｍｇ（０．２５
ｍｍｏｌ）をジクロルメタン３ｇに溶解し、２５℃で１
５分間攪拌したのち、フェニルヒドラジン５μｌ（０．
０５ｍｍｏｌ）を加え、さらに５分間攪拌した。次いで
スチレン１．０４ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、１０分間
攪拌したのち、ジアゾ酢酸エチルエステル１１４ｍｇ
（１ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（１ｇ）を１時間
かけて滴下し、滴下後さらに同温度下、３時間攪拌した
のち、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ処理して、シス−１−（Ｓ）−エトキ
シカルボニル−２−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン５
０ｍｇ（０．２４７ｍｍｏｌ、光学純度１６．７％ｅ
ｅ、収率２４．７％）とトランス−１−（Ｒ）−エトキ
シカルボニル−２−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン７
６．８ｍｇ（０．４０４ｍｍｏｌ、光学純度１３％ｅ
ｅ、収率４０．４％）とを得た。
（０．０５ｍｍｏｌ）および２−メトキシメチル−４−
（Ｒ）−フェニルオキサゾリン４７．８ｍｇ（０．２５
ｍｍｏｌ）をジクロルメタン３ｇに溶解し、２５℃で１
５分間攪拌したのち、フェニルヒドラジン５μｌ（０．
０５ｍｍｏｌ）を加え、さらに５分間攪拌した。次いで
スチレン１．０４ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、１０分間
攪拌したのち、ジアゾ酢酸エチルエステル１１４ｍｇ
（１ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（１ｇ）を１時間
かけて滴下し、滴下後さらに同温度下、３時間攪拌した
のち、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ処理して、シス−１−（Ｓ）−エトキ
シカルボニル−２−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン５
０ｍｇ（０．２４７ｍｍｏｌ、光学純度１６．７％ｅ
ｅ、収率２４．７％）とトランス−１−（Ｒ）−エトキ
シカルボニル−２−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン７
６．８ｍｇ（０．４０４ｍｍｏｌ、光学純度１３％ｅ
ｅ、収率４０．４％）とを得た。
【００３５】実施例６ ２−メトキシメチル−４−（Ｒ）−フェニルオキサゾリ
ンに代えて２−メトキシメチル−４−（Ｒ）−ベンジル
オキサゾリン５１．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を用い
る以外は実施例５と同様に操作して、シス−１−（Ｓ）
−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−フェニルシクロプ
ロパン６４．８ｍｇ（０．３４１ｍｍｏｌ、光学純度４
２．４％ｅｅ、収率３４．１％）とトランス−１−
（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−フェニルシ
クロプロパン１０５ｍｇ（０．５５２ｍｍｏｌ、光学純
度５５．８％ｅｅ、収率５５．２％）とを得た。
ンに代えて２−メトキシメチル−４−（Ｒ）−ベンジル
オキサゾリン５１．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を用い
る以外は実施例５と同様に操作して、シス−１−（Ｓ）
−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−フェニルシクロプ
ロパン６４．８ｍｇ（０．３４１ｍｍｏｌ、光学純度４
２．４％ｅｅ、収率３４．１％）とトランス−１−
（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−フェニルシ
クロプロパン１０５ｍｇ（０．５５２ｍｍｏｌ、光学純
度５５．８％ｅｅ、収率５５．２％）とを得た。
【００３６】実施例７ ２−メトキシメチル−４−（Ｒ）−フェニルオキサゾリ
ンに代えて２−メトキシメチル−４−（Ｓ）−メチル−
５−（Ｒ）−オキサゾリンン５１．３ｍｇ（０．２５ｍ
ｍｏｌ）を用いる以外は実施例５と同様に操作して、シ
ス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−フ
ェニルシクロプロパン５０．２ｍｇ（０．２６５ｍｍｏ
ｌ、光学純度３０％ｅｅ、収率２６．５％）とトランス
−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−フェ
ニルシクロプロパン８０．５ｍｇ（０．４２３ｍｍｏ
ｌ、光学純度３３．３％ｅｅ、収率４２．３％）とを得
た。
ンに代えて２−メトキシメチル−４−（Ｓ）−メチル−
５−（Ｒ）−オキサゾリンン５１．３ｍｇ（０．２５ｍ
ｍｏｌ）を用いる以外は実施例５と同様に操作して、シ
ス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−フ
ェニルシクロプロパン５０．２ｍｇ（０．２６５ｍｍｏ
ｌ、光学純度３０％ｅｅ、収率２６．５％）とトランス
−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−フェ
ニルシクロプロパン８０．５ｍｇ（０．４２３ｍｍｏ
ｌ、光学純度３３．３％ｅｅ、収率４２．３％）とを得
た。
【００３７】実施例８ ２−メトキシメチル−４−（Ｒ）−フェニルオキサゾリ
ンに代えて２−メトキシエチル−４−（Ｓ）−メチル−
５−（Ｒ）−オキサゾリンン５１．３ｍｇ（０．２５ｍ
ｍｏｌ）を用いる以外は実施例５と同様に操作して、シ
ス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−フ
ェニルシクロプロパン４５．８ｍｇ（０．２４１ｍｍｏ
ｌ、光学純度４０．４％ｅｅ、収率２４．１％）とトラ
ンス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−
フェニルシクロプロパン８８．１ｍｇ（０．４６３ｍｍ
ｏｌ、光学純度４９．８％ｅｅ、収率４６．３％）とを
得た。
ンに代えて２−メトキシエチル−４−（Ｓ）−メチル−
５−（Ｒ）−オキサゾリンン５１．３ｍｇ（０．２５ｍ
ｍｏｌ）を用いる以外は実施例５と同様に操作して、シ
ス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｒ）−フ
ェニルシクロプロパン４５．８ｍｇ（０．２４１ｍｍｏ
ｌ、光学純度４０．４％ｅｅ、収率２４．１％）とトラ
ンス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−
フェニルシクロプロパン８８．１ｍｇ（０．４６３ｍｍ
ｏｌ、光学純度４９．８％ｅｅ、収率４６．３％）とを
得た。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/743 9546−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 69/743 69/753 9546−4Ｈ 69/753 Ａ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (5)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ1 は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示し、Ｒ2 、Ｒ3、
Ｒ4 、Ｒ5 はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換基
を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
よいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルコキシル基または置換基を有して
いてもよいアリールオキシ基を示し、＊は不斉炭素原子
を示し、ｎは１または２を示す。ただし、Ｒ2 とＲ4 と
が互いに同一であることはない。）で示されるオキサゾ
リン類の光学活性体またはラセミ体。 - 【請求項２】一般式（２） （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、＊はそれぞれ前記と
同じ意味を示す。）で示される２−アミノエタノール類
の光学活性体またはラセミ体と一般式（３） （式中、Ｒ1 、ｎは前記と同じ意味を示す。）で示され
るアルキルニトリル類とをルイス酸の存在下に反応させ
ることを特徴とする請求項１に記載のオキサゾリン類の
光学活性体またはラセミ体の製造方法。 - 【請求項３】一般式（４） （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 はそれぞれ水素原子、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
ラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基
を示し、Ｒ6 とＲ 7 とが結合して環を形成していてもよ
い。ただし、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 が同時に同一であ
ることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（５） （式中、Ｒ10は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを、一般式（１）で示されるオキサ
ゾリン類の光学活性体と銅塩との存在下に反応させるこ
とを特徴とする一般式（６） （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類の製造方法。 - 【請求項４】銅塩が２価の銅塩であることを特徴とする
請求項３に記載の製造方法。 - 【請求項５】２価の銅塩が銅（ＩＩ）の有機酸塩または
ハロゲン化物であることを特徴とする請求項４に記載の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8015225A JPH08283248A (ja) | 1995-02-15 | 1996-01-31 | オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2698895 | 1995-02-15 | ||
| JP7-26988 | 1995-02-15 | ||
| JP8015225A JPH08283248A (ja) | 1995-02-15 | 1996-01-31 | オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08283248A true JPH08283248A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=26351345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8015225A Pending JPH08283248A (ja) | 1995-02-15 | 1996-01-31 | オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08283248A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1314673C (zh) * | 2002-07-02 | 2007-05-09 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 具有手性的多齿噁唑啉配体及其与主族金属或过渡金属的配合物、合成方法及其用途 |
-
1996
- 1996-01-31 JP JP8015225A patent/JPH08283248A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1314673C (zh) * | 2002-07-02 | 2007-05-09 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 具有手性的多齿噁唑啉配体及其与主族金属或过渡金属的配合物、合成方法及其用途 |
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