JPH09510007A - 噴霧乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 乾燥チャンバと、有孔板（９、２１）の上に保たれたその底部における流動床とを備える噴霧乾燥装置において、流動化層が、仕切り手段（１２、２４）により、二つの領域（１３、１４及び２２、２３）に仕切られ、該二つの領域の一方にのみ、噴霧乾燥チャンバから粒子が供給される一方、第二の領域には、第一の領域のみから粒子が略供給され、該第二の領域が、著しく再混合しない流れにて粒子が領域を通る間に、その粒子を処理し得るよう設計されている。該装置は、後処理を行わずに、略無塵性であり、且つ所望の粒子サイズの分布、湿り程度及び表面処理状態にある製品を製造することを可能にする。更に、エネルギの利用の改善が為される。

Description

【発明の詳細な説明】 噴霧乾燥装置 本発明は、少なくとも一つの流体噴霧手段と、該噴霧手段の周りの流れとして チャンバ内に乾燥空気を導入する手段とを有する乾燥チャンバであって、円錐状 の下方テーパー付き部分と、その底部に設けられた有孔板とを有する該乾燥チャ ンバと、該板の頂部にて流動化された粒子層を保つべく該板の孔部分を通じて上 方に流れる空気流を発生させる手段とを備える噴霧乾燥装置に関する。 上記型式の噴霧乾燥装置、即ち、より従来型式の噴霧乾燥設備におけるような 乾燥チャンバにおいて、多数の異なる種類の製品を噴霧乾燥させるため、最初に 、噴霧した液滴を乾燥させ、その後に、そのようにして形成された粒子が著しい 水分含有率を有する間に、装置の底部分に保たれた流動床に受け取られる乾燥装 置に関し過去10年間に亙って、特別な関心が払われてきた。この流動床において 、湿った粒子の後乾燥（after-drying）が行われ、その粒子は凝集する傾向とな る。更に、極めて細かい粒子は、一定の程度まで吹き飛ばされて、噴霧チャンバ に運ばれ且つ凝集されて、流動床の無い従来の噴霧乾燥装置において得られるも のよりも優れた、粒子サイズの分布状態となるような仕方にて、製品が流動床か ら受け取られる。 これに加えて、非常に重要である、即ち、粒子サイズの分布よりも重要である 、極めて多数の更なる利点が得られる。こうしたその他の利点の例としては、エ ネルギ経済性が特に優れること、容量に比して構造が極めてコンパクトであるこ と、熱の影響を受け易い材料に関して特に重要なことである、乾燥すべき材料を 隠やかに取り扱い得ることが含まれる。 この型式の噴霧乾燥装置のより詳細な説明は、公告されたオランダ国特許出願 第2670／82号、その対応する欧州特許第97484号及び米国特許第4,490,403号、並 びに仏国特許第1,526,478号に開示されている。 当該型式の噴霧乾燥装置の底部に形成される流動床の必須の機能は、実際の噴 霧乾燥工程から比較的湿った粒子を取り込むことであり、この目的のためには、 層の高さが高ければ、その層の下方部分から細かい粒子を効果的に吹き出すこと が防止されるから、塵埃を除去する効果にとって好適な高さよりも高い流動床が 必要とされる。これに加えて、その層の全面にて噴霧乾燥領域から湿った粒子を 常に受け取るため、その層を形成する粒子は、その層における滞在時間が著しく 異なり、このため、その水分含有率が不均一である。このため、その流動床から 除去された製品は、通常、最終製品に望まれる以上の高い水分含有率となる。 このため、例えば、振動型、または静止型の流動床、或いは垂直な風分離装置 のような追加的な分離及び／又は後乾燥装置により、上記型式の公知の噴霧乾燥 装置を補足するのが通常である。 液体を噴霧することと、その後に、例えば、コーティング、または表面改質の ため、乾燥させることとを含む後処理を製品に為そうとするならば、従来の技術 では、流動床内にて、または、例えば、ドラム内で液体の噴霧が為される、特殊 な後処理装置をそのために使用することが必須の条件である。 かかる後処理装置は、サイクロン、電子式フィルタ、フィルタバッグ、または 洗浄塔のような、排出される空気によって運ばれた細かい粒子を回収する付属の 設備を備えるため、スペースを必要とし、操作が複雑であり且つコストが嵩む。 無塵性であること、凝集程度、及び粒子サイズの分布に関する、噴霧乾燥させ た粉体の品質条件は、不断に厳しくなりつつある。その粉体の製造中、及びその 後のその粉体の使用中における、アレルギー現象、及び全体的な作業の環境条件 への関心の高まりに伴い、その周りが無塵性であることは、現代の多くの技術分 野における粉体材料に関する基本的条件となっている。 これと同時に、粉体材料の性能特性に関する基準は、益々厳しくなっている。 例えば、粉体の湿潤化速度及びその再溶融速度、その機械的な安定性、圧縮可能 性、または、例えば、活性成分を制御状態にて放出させ得る能力といった、分配 能力に関する特別な条件が課されている。かかる条件に適合するために、凝集化 、粒状化、コーティング等によって、噴霧した乾燥粉体をその後に処理すること が益々、必要とされている。 こうした品質に関する条件が厳しくなるに伴ない、上述したような幾つかの処 理装置を備える施設で行わなければならない工業的な噴霧乾燥工程の比率が不断 に増大している。 しかしながら、上述したように、一体化された流動床を備える噴霧乾燥装置に 加えて、後乾燥、塵埃の除去、コーティング等を行う後処理装置を備える施設に は、著しい欠点がある。 このため、本発明の目的は、単一のコンパクトな装置を構成する噴霧乾燥装置 であって、上記型式の後処理装置に接続するならば、一体化した流動床を備える 従来の噴霧乾燥装置を使用することによってしか達成し得ない品質条件を満たす 粉体製品を直接、製造することのできる噴霧乾燥装置を提供することである。 この目的は、本明細書の最初の文節に記載した型式の噴霧乾燥装置により達成 される。当該装置は、流動化粒子層が仕切り手段によって第一の領域、及び第二 の領域という少なくとも二つの領域に仕切られ、粒子を完全に且つ恒久的に混合 させ得るようにされたその第一の領域において、乾燥チャンバ内で形成された湿 った粒子が吸収され、第二の領域は、乾燥チャンバから遮蔽されて、該乾燥チャ ンバから直接、供給が為されないようにし、また、該第二の領域は、上記第一の 領域から粒子をその内部に導入する手段と接続され且つ該第二の領域から粒子を 除去する手段と接続されており、粒子を導入する上記の手段、及び粒子を除去す る上記の手段は、粒子が著しく再混合されずに第二の領域を通るような仕方で相 互に配置されている。 このように、流動化粒子層を仕切ることにより、一体化した流動床、即ち、比 較的大きい粒子層を備える、従来の噴霧乾燥装置の底部における流動化粒子層内 の状態に略同一の状態を第一の領域内に保つことができ、この場合、噴霧チャン バからその層に達する粒子が既に第一の層内に存在する粒子と常に混合され、そ の粒子の平均的な水分含有率は、従来のシステムにおけるよりも多少、高めに保 つことが可能である。上記の第二の領域において、粒子は、噴霧チャンバから直 接、供給されず、このため、この領域において、粉体を著しく再混合させずに、 いわゆる、充填（plug）流を保つことができ、このため、全ての粒子が略等しい 滞在時間を有し、従って、均一な処理が為される。この処理は、典型的に、後乾 燥とすることができるが、液体を噴霧し、その後に、コーティングし、または乾 燥させることから対応する処理であってもよい。細かい粒子の効果的な吹き飛ば し、即ち、除塵が行われるように、第二の領域における流動床の高さは、極めて 低く保つことが可能である。 本発明の特別な形態は、乾燥中に蒸発する水分の相当な部分を一体化した流動 床を備える従来の装置において可能な程度よりも多く、噴霧乾燥領域から流動化 層に除去することが可能なことである。これは、後乾燥を流動化層の第二の領域 内で行うことができるため、かかる状態の間に装置を作動させ、従来の装置で可 能な場合よりも高い水分含有率の状態にて、噴霧乾燥させた粒子が流動化層内に 受け取られるからである。当業者にとって公知であるように、流動化層内での乾 燥は、噴霧乾燥におけるよりもエネルギ消費の点でより経済的であるから、本発 明のよる装置は、全体的なエネルギ経済性を改善することが可能である。 二つの領域を実際的に仕切り且つ乾燥チャンバからの湿った粒子が第一の領域 しか達しないのを防止することは、従属項の記載から理解され得るように、各種 の方法にて行うことができ、これらについては、以下の添付図面に関して説明す る。 添付図面において、 図１は、本発明による噴霧乾燥装置の実施の形態の概略図、 図２は、図１の一点鎖線で囲った装置の部分の概略図的な拡大断面図、 図３は、上方から見た図２の面III−IIIに沿った概略図、 図４は、図１の一点鎖線で囲った部分のもう一つの実施の形態を示す図、 図５は、上記部分の更なる実施の形態の図である。 図１において、参照符号１は、液体噴霧手段２を備える乾燥チャンバを示し、 該液体噴霧手段は、図示した実施の形態において、回転する噴霧ホイールである が、一又は二以上のノズルとしてもよい。該噴霧手段には、供給導管３を通じて 、乾燥すべき溶液、または懸濁液が供給される。 該チャンバ手段４の頂部には、供給導管５を通じて主たる乾燥空気を受け取る 空気分配装置が設けられている。 本明細書及び請求の範囲において、乾燥空気という語は、気体状であり且つ該 当する温度における乾燥能力を有する任意の媒体を含む広義の意味で使用する。 この語は、外気にのみ限定されるものでない。 噴霧手段２の周りにおける流れとして、チャンバ手段４から乾燥チャンバ１に 乾燥空気が導入され、これは、最初にその乾燥空気がら旋状の経路に沿って流れ るような仕方で行われることが好ましい。 乾燥チャンバ手段４からの乾燥空気の流れにより、乾燥すべき液滴が噴霧手段 ２から運ばれ、これにより、その液滴の液体層の相当な部分が蒸発して湿った粒 子を形成し、その粒子は、乾燥空気の流れにより乾燥チャンバ内の下方に運ばれ る。 図１に図示するような典型的な実施の形態において、乾燥チャンバ手段４から 供給された乾燥空気は、下向きの中央の流れを形成し、この流れは、チャンバの 底部に達する前に、外方に曲がり且つ乾燥チャンバの外周に沿って垂直に移動し 、乾燥チャンバの外周付近の出口６を通って乾燥チャンバの上方部分から排出さ れる。 該乾燥チャンバは、円錐状の下方テーパー付き部分７を備えており、該テーパ ー付き部分７は、底部にて、図２及び図３により明確に示した構造の流動チャン バ８に接続されている。 この流動化チャンバには、略水平の有孔板９が設けられており、該有孔板９は 、空気分配装置として機能し、該板の頂部に粉体粒子の流動化層を保つことを可 能にする。 この有孔板９は、作動中、該板の上方に位置する流動化粉体層の動きを制御す る特別な方法、特別な寸法により且つ特別の方向に向けてそれ自体公知の方法に て、配置された孔を形成することができる。 図１、図２及び図３に示した実施の形態に従い、有孔板９の下方にプレナムチ ャンバ１０が設けられており、該プレナムチャンバは、供給導管１１を通じて乾 燥空気を受け取り、所望の流動化を行うのに必要な空気量を有孔板に供給する。 本発明による装置の図１、図２及び図３に示した実施の形態において、該有孔 板は円形であり、その直径は、乾燥チャンバの円錐形部分７の下方部分よりも大 きく、また、流動化チャンバの円錐形部分の下方に同軸状に配置されることが重 要である。 該有孔板９の真上には、円筒状の垂直な仕切り壁１２が設けられており、該仕 切り壁１２は、有孔板上において、第一の領域１３を第二の領域１４から仕切る 。 図１、図２及び図３に示した実施の形態において、円筒状仕切り壁１２の直径 、従って、上記第一の領域１３の直径は、乾燥チャンバの円錐形部分７の下方直 径部分よりも大きい。 装置を作動させると、噴霧手段２から供給された液滴を乾燥させることにより 粒子が形成される。該粒子は、その大部分が直接に流動化チャンバ８に入り、ま た一部の粒子は部分７の斜壁上に配置された後に、該斜壁から、液滴は下方に移 動して流動化チャンバに入る。この場合、これらの粒子は、第一の領域１３に受 け取られ、この第一の領域１３内にて、比較的高さの高い流動化された粒子層が 保持される。 この第一の領域において、流動化層の高さが比較的高いため、粒子は相当な水 分含有率にて受け取られ、これは望ましいことであり、このため、これらの粒子 は、その後に、エネルギ経済性が優れた状態にて乾燥させることができる。 所望の乾燥が為され、粉体が連続的に、または体系的に第一の領域から第二の 領域１４に供給されるように、第一の領域１における粒子の滞在時間が調節され る。 この第一の領域から第二の領域への粒子の移動は、有孔板の上方における高さ が調節可能である仕切り壁１２に形成されたオーバーフロー・スロット１５を通 じて行うことができるが、粒子の移動を制御する、技術的により進歩したシステ ムを採用することを検討することも可能である。 粉体の移動を制御すべくオーバーフロー・スロット１５、または同様の手段を 通じて運ばれる粒子は、上記第二の領域内に流動化層を形成し、この流動化層は 、図示した実施の形態において円形であり、流動化チャンバ８の壁により、及び 円筒状の仕切り壁１２によりその境界が設定されている。仕切り壁１２と流動化 チャンバ８の壁との間には、第二の仕切り壁１６が設けられており、この第二の 仕 切り壁１６は、仕切り壁１２に形成されたオーバーフロー・スロット１５に近い 位置にて仕切り壁１２に合流する。仕切り壁１６が流動化チャンバの壁に合流す る箇所の近くに出口１７（図３）が配置されており、該出口１７には、例えば、 オーバーフロー・スロットとすることもできる、粒子の除去を制御する手段が設 けられている。 例えば、いわゆる鰓（gill）状スリットの形態をした孔のような、領域１４の 下方に位置する有孔板９の一部分にて特定の方向に方向決めされた孔により、流 動化粒子は、水平方向に拡がる固有の性質があるため、オーバーフロー・スロッ ト１５を通じて第二の領域１４に達する粒子は、領域１４を通る均一な流れとし て流れて、出口１７に達し、この出口１７から排出される。 領域１４を通って流れる間に、目標とする充填流が、粒子が略再混合せずに流 れて、該領域における粒子の滞在時間が等しくなるようにすることが重要である 。 領域１４において、細かい粒子を極めて効果的に吹き飛ばし、その結果、実質 的に無塵の製品が製造されるように流動床の高さを低くすることができる。更に 、ノズル（図示せず）が領域１４内に配置されており、更に凝集させ、または粒 子のコーティング、またはその他の表面改質のため、適当な液体をこのノズル１ ４を通じて噴霧することができる。最後に述べた処理に関して、領域１４の流れ は、著しく再混合させずに、均一で且つ均質に保つことが重要である。 第二の領域１４内にてこうした望ましい状態を保つためには、噴霧乾燥チャン バ１から相当な量の粒子が第二の領域１４内に下降しないようにすることが前提 条件である。 このことは、第一の領域１３の直径が乾燥チャンバの円錐形部分７の下方の最 狭小部分の直径よりも大きく、またはその直径と等しく、このため、円錐形部分 ７の斜壁に沿って下方に移動し、またはこの斜壁に接触せずに下降する粒子は、 第一の領域１３内に受け入れられるようにした、主として、図１、図２及び図３ に示した実施の形態により実現される。 乾燥チャンバから直接、第二の領域１４に達する可能性のある粒子量を更に制 限するため、円形の仕切り壁１２は、該仕切り壁により仕切られる流動化層の高 さよりも著しく上方に伸長させることができ、このため、流動化チャンバの上方 の斜め壁１８との間に、比較的小さい環状の通路１９を規定し、第二の領域から 去る空気が、粒子が乾燥チャンバから第二の領域１４まで逆方向に流れるのを防 止し得るような高速度にてこの小さい環状の通路１９を通じて乾燥チャンバ内に て上方に流れる。 また、この原理は、乾燥チャンバからの粒子が第二の領域１４内に直接、受け 取られるのを防止する唯一の手段としても使用することができる。このため、所 望のときは、図２に示した第一の領域１３を犠牲にして、第二の領域１４を大き くすることが可能となる。 第二の領域１４から上方に吹き飛ばされた細かい粒子、及びこの第二の領域１ ４からの空気は、通路１９を通じて上方に運ばれ、乾燥チャンバの底部分に体系 的に導入され、この乾燥チャンバ内にて、粒子は、望ましい仕方にて、円錐形部 分７の壁に粉体を塗布する効果を付与し、湿った粒子と合流し、その湿った粒子 と凝集させて、所望の粒子サイズを実現することができる。 上述の原理、即ち、乾燥チャンバからの粒子が入るのを防止するのに十分な空 気速度を得るべく第二の領域の上方に亙る通路が狭小であることは、図４に示し た本発明による装置の多少異なる実施の形態にも利用される。 この実施の形態において、流動化チャンバは、乾燥チャンバの下方の円錐形部 分７の円筒状伸長部である、管状部分２０により構成される。この流動化チャン バにおいては、円錐形部分７の下方部分と略同一の径である円形の有孔板２１が 設けられる。 第一の領域２２は、円筒状の垂直仕切り壁２４により第二の領域２３から仕切 られており、該仕切り壁２４は、流動化位置の上方にて上方に伸長する漏斗状部 分２５を形成し、該漏斗状部分の上縁部は、部分２０の壁との間に、狭小な通路 ２６を形成し、その内部に細かい粒子を取り込んだ第二の領域からの排出空気が 、上方からの粒子が第二の領域２３に入り込まないような上方への速度にてこの 狭小な通路２６を通る。 図４の実施の形態は、一体化した流動床を備える既存の噴霧乾燥装置を改装す るときに特に、適したものである。 図２に示した装置の部分は、図４に示したものに密接に関係する変形例である 。 図４にも示した図５の参照符号は、図４に関する説明にて述べたものと同一の ものを示す。 図５に示した実施の形態において、乾燥チャンバの斜壁７は、該斜壁７が壁２ ０に合流する、所定位置を超えて下方に伸長している。この伸長部３０と漏斗状 部分２５の上方縁部との間に、通路３１が設けられており、流動床からの空気が 、乾燥チャンバから流動床２３に沈降する粒子の動きが有効に反作用を受けるよ うな速度にてこの通路を通って乾燥チャンバに入る。 装置の実施の形態に関係なく、二つの領域に導入される乾燥空気、または冷風 の量及びその温度は独立的に制御し得ることが望ましい。 図４及び図５に示した実施の形態において、その目的のため、流動床の下方の チャンバが円筒状壁２７により仕切られており、このため、第一の領域の下方の 中央部分に管２８を通じて乾燥空気が供給される一方、第二の領域２３には、管 ２９を通じて供給される。 有孔板の下方に配置されたチャンバの一部分に対する代替例、または捕捉例と して、有孔板９、または２１は、その二つの領域の下方に有孔の程度が異なる状 態にて構成することができる。 図１に関して上述したように、供給導管５を通じて供給された乾燥空気により 一部分が形成され、また、導管１１、または２８、２９を通じて導入された乾燥 及び処理空気により一部分形成された、使用済みの乾燥及び処理空気は、乾燥装 置から出口６を通じて排出される。この空気と共に、相当量の細かい粒子が運ば れ、これらの粒子は、図示しない手段によって分離され且つ工程に戻すことがで きる。こうした細かい粒子は相当な量であり、例えば、噴霧手段２付近にて吹き 飛ばすことにより、各種の方法で且つ異なる場所に運ばれ、または噴霧チャンバ 内の中央領域に、または第一の領域１３または２２内の流動化層に運ばれるが、 このことは、当業者にとって明らかなことであろう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＴ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ， ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＥ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＮＬ，ＮＯ， ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＴＪ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．少なくとも一つの流体噴霧手段（２）と、該噴霧手段の周りにおける流れ としてチャンバ内に乾燥空気を導入する手段（５）とを有する乾燥チャンバ（１ ）を備える噴霧乾燥装置であって、該乾燥チャンバ（１）が、円錐状の下方テー パー付き部分と、底部にて有孔板（９、２１）と、該有孔板の頂部に流動化した 粒子層を保つべく、該有孔板の孔を通じて上方への空気流を発生させる手段とを 備える噴霧乾燥装置にして、 前記流動化した粒子層が、仕切り手段（１２、２４）によって第一の領域（１ ３、２２）と、第二の領域（１４、２３）とから成る少なくとも二つの領域に仕 切られ、該第一の領域において、前記乾燥チャンバ（１）内で形成された湿った 粒子から水分を吸収し、該第一の領域は、粒子を完全に且つ恒久的に混合させ得 るようにされ、該第二の領域は、乾燥チャンバ（１）から遮蔽されることにより 、粒子が、乾燥チャンバ（１）から直接には第二領域内に供給されず、また、該 第二の領域は、前記第一の領域（１３、２２）から粒子をその内部に導入する手 段（１５）と、及び前記第二の領域から粒子を除去する手段（１７）とに接続さ れ、粒子を導入する前記手段（１５）、及び粒子を除去する前記手段（１７）が 、著しく再混合することなく粒子が第二の領域（１４、２３）を通るような仕方 で相互に配置されることを特徴とする噴霧乾燥装置。 ２．請求の範囲第１項に記載の噴霧乾燥装置にして、 前記有孔板（９）が、前記乾燥チャンバ（１）の円錐形部分（７）の底部分よ りも大きい面積を有し且つ流動化チャンバ（８）内に配置され、該流動化チャン バ（８）には、上方テーパー付き部分（１８）が接続され、該上方テーパー付き 部分が、前記乾燥チャンバの円錐形部分の底部分と接続され、該上方テーパー付 き部分が、前記有孔板（９）の真上に略垂直な仕切り板（１２）を有し、有孔板 上における該仕切り板が、中央領域を仕切って前記第一の領域（１３）を形成し 、該仕切り板が、第二の領域（１４）を構成する領域から乾燥チャンバの円錐形 部分の底部分（７）の面積に等しいか、またはそれよりも大きくなるように伸長 部を有し、該伸長部が前記第一の領域に構成する領域を囲繞することを特徴とす る 噴霧乾燥装置。 ３．請求の範囲第１項または第２項に記載の噴霧乾燥装置にして、 前記有孔板（９）が円形であり且つ前記乾燥チャンバ（１）の円錐形部分（７ ）の底部分よりも大きい径を有し、前記流動化チャンバ（８）内で前記底部分よ りも下方に同軸状に配置され、円形である前記第一の領域（１３）が、円筒状の 垂直の仕切り壁（１２）が有孔板上に同心状に配置された状態にて第二の領域（ １４）に向けてその境が設定される一方、前記第二の領域（１４）が仕切り壁と 流動化チャンバ（８）の壁との間に配置され、 前記第一の領域（１３）の径が前記乾燥チャンバの円錐形部分の底部分の径よ りも大きく、またはそれに等しく、 前記もう一方の領域（１４）には、前記仕切り手段（１２）から流動化チャン バ（８）の周壁まで伸長する垂直の仕切り壁（１６）が設けられ、 前記円形の第一の領域（１３）から前記環状の第二の領域（１４）までの流動 化粒子に対する通路が前記仕切り壁（１６）の一側部に近い位置に設けられ、 粒子が前記環状の通路を流動化状態にて通った後に、第二の領域（１４）から 粒子を除去するため、前記仕切り壁（１６）の反対側の近くの位置に出口通路（ １７）が設けられることを特徴とする噴霧乾燥装置。 ４．請求の範囲第１項乃至第３項の何れかの項に記載の噴霧乾燥装置にして、 装置が作動している間、流動化された粒子層の表面が存在する、第一の領域よ りも上方であって第二の領域（１４）の上方には、乾燥チャンバ（１）と第二の 領域（１４）との間の通路（１９）を制限する遮蔽体が設けられ、この通路にお いて、装置の作動中、第二の領域内の流動化した層から上昇する気体の流れの速 度が、前記乾燥チャンバ内で形成された粒子が第二の領域（１４）内の流動化し た層内に下方に導入されるのを略防止するのに十分である、上昇速度であるよう にしたことを特徴とする噴霧乾燥装置。 ５．請求の範囲第２項、第３項または第４項に記載の噴霧乾燥装置にして、前 記遮蔽体が、前記二つの領域を仕切る仕切り壁（１２）の上方伸長部により形成 されることを特徴とする噴霧乾燥装置。 ６．前記有孔板（２１）が円形であり且つ前記乾燥チャンバの円錐形部分（７ ）の底部分と略等しい径を有し、該有孔板が、前記円錐形部分の下方にて筒状の 流動化チャンバ（２０）内に配置された、請求の範囲第１項に記載の噴霧乾燥装 置にして、 前記第一の領域（２２）及び前記第二の領域（２３）が、円筒状の垂直の仕切 り壁（２４）により仕切られ、該仕切り壁が、流動化層よりも上方にて、上方に 伸長する漏斗状部分（２５）を形成し、該垂直仕切り壁の上縁部が、前記流動化 チャンバ（２０）の筒状壁と共に、前記乾燥チャンバ（１）と第二の領域（２３ ）との間の通路（２６）を画成することを特徴とする噴霧乾燥装置。 ７．前記有孔板（２１）が円形であり且つ前記乾燥チャンバの円錐形部分の底 部分と略等しい径を有し、該有孔板が、前記乾燥チャンバの前記円錐形部分（７ ）の下方にて筒状の流動化チャンバ（２０）内に配置された、請求の範囲第１項 に記載の噴霧乾燥装置にして、 前記第一の領域（２２）及び前記第二の領域（２３）が、円筒状の垂直の仕切 り壁（２４）により仕切られ、該仕切り壁が、流動化層よりも上方にて、上方に 伸長する漏斗状部分（２５）を形成し、該円筒状の垂直仕切り壁の上縁部が、前 記乾燥チャンバの前記円錐形部分（７）を形成する斜壁の伸長部（３０）と共に 、前記乾燥チャンバ（１）と前記第二の領域（２３）との間の通路（３１）を画 成することを特徴とする噴霧乾燥装置。 ８．請求の範囲第１項乃至第７項の何れかの項に記載の噴霧乾燥装置にして、 乾燥及び流動化空気の供給源に接続されたプレナムチャンバ（１０）が前記有 孔板（９）の下方に設けられ、該プレナムチャンバが、前記第一の領域（１３） に達する孔に対し、及び前記第二の領域（１４）に達する孔の双方に対し、乾燥 及び流動化空気を供給することを特徴とする噴霧乾燥装置。 ９．請求の範囲第１項乃至第６項の何れかの項に記載の噴霧乾燥装置にして、 前記第一の領域（２２）の下方に配置された前記有孔板の部分に対し、及び前 記第二の領域（２３）の下方に配置された前記有孔板の部分に対し、乾燥及び流 動化空気を別個に供給する手段（２７、２８、２９）が、前記有孔板（２１）の 下方に設けられることを特徴とする噴霧乾燥装置。 １０．請求の範囲第１項乃至第９項の何れかの項に記載の噴霧乾燥装置にして、 前記第一の領域（１３）から前記第二の領域（１４）への流動化粒子の通路（ １５）がオーバーフロー・スロットであり、前記有孔板の上方における該オーバ ーフロー・スロットの高さが調節可能であることを特徴とする噴霧乾燥装置。 １１．請求の範囲第１項乃至第１０項の何れかの項に記載の噴霧乾燥装置にして 、 前記第二の領域から粒子を除去する前記出口通路（１７）が前記流動化チャン バ（８）の周壁に形成されたオーバーフロー・スロットであり、前記有孔板の上 方における該オーバーフロー・スロットの高さが調節可能であることを特徴とす る噴霧乾燥装置。