JPH06506394A - スプレーノズル用シールディングを有する流動床 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 スプレーノズル用シールディングを有する流動床発明の背景 発明の分野 本発明は、スプレーノズルを有する流動床システムに関するものである。この種 の一システム、ワースタ・システム型式の流動床処理装置であり、製品コンテナ 内に配置された外側円筒形の仕切りと、この仕切り内に配置されたスプレーノズ ルとを有している。このスプレーノズル自体は、シールドされ、有利には、円筒 形仕切りにより取囲まれている。この仕切りは、製品コンテナの底部のオリフィ スプレート又はスクリーンから延びており、スプレーノズルを保護している。

関連技術の説明 これまでワースタ・システム型式を含む種々異なる形式のスプレーコータが提案 されてきた。これら種々の公知装置の場合、スプレーノズルのすぐ上方に空気の 乱流が生じる。システム内の、コーティングされる粒子が、スプレーパターンが 完全に出来上る前に、流体の吐出スプレーパターン内へ入り込んでしまう。この 結果、スプレーパターンに早く入りすぎたこれらの粒子によって、制御されない 小滴が形成され、システム効率に影響を与え、過剰な凝集を生じ、処理時間が比 較的長くなる。

Ｇ、Ｌ、　ラーソンほかの米国特許第３．１１０．６２６号には、流動床空気流 内に浮遊するばらばらの固体のコーティングが、ホッパ形状のコーティングチャ ンバの底部区域に取付けられた速度集中制御素子の内部区域内で行なわれる装置 が開示されている。しかしながら、この装置は、上方へ流れる空気柱を有するス プレーパターンの基部をシールドする手段を有し、それによってスプレーパター ンが、事実上、コーティングされるばらばらの固体が入込む前に、出来上るよう にされている。

また、クリスチャン・ボデーほかによる米国特許第４．３３５，６７６号には、 噴流床式の粒状化及び又はコーティング装置が開示されている。この装置の場合 、流れを方向づける構造が、装置壁近辺での粒子の接触及び凝集を防ぐため、ガ ス状流を上方へ方向づけるようにされている。この特許は、しかし、スプレーパ ターンの下方部分が上方へ流れる空気柱により保護されて、それによりスプレー パターンが、コーティングされる粒子がスプレーパターンに入り込む前に、より 完全に出来上るような構成を開示しているわけではない。

更に、スタニスラウス・Ｍ、Ｐ、シユーザーズほかによる米国特許第４，７１０ ．３５３号には、液状スブレー材料が、垂直方向に閉じられた円錐形フィルムで ある中央チャネルから放出される。このフィルムは、ガス流のスラストを越える スラストにより形成され、周囲ガス流により霧化され、極微小の滴にされている 。この結果化ぜしめられるスプレーパターンは、その初めの基部の周囲がその周 囲に位置する上方へ可動の空気柱によって保護されることがない。

更にまた、ガスター・Ａ・マッグほかの米国特許には、所属流動床の各噴霧ノズ ルに計量ポンプ又は流量計を備える必要をなくした構成の噴霧ノズルが開示され ている。このコーティング流動床では流量制御管の内孔寸法を変化させることに よって、噴霧ノズルを通る流量が制御される。この特許には、しかしながら、コ ーティングされる粒子が、スプレーパターンの相応の形成前に、パターン内へ直 ちに入り込むことがないよう、スプレーパターンをシールドする構成は開示され ていない。

さらに、ウニルナ−・ブラットほかによる米国特許第４．８５８，５５２号に開 示されている装置の場合、流動流が粒子を、まだ可塑的な間に、チャネリング装 置を介して上方へ搬送する。このチャネリング装置は有孔の基部上方に間隔をお いて位置する凝集した材料を搬送するためのものである。有孔の基部により、粒 子は、凝集した材料に形を与える回転可能の手段の下側に衝突するようにされる 。このブラットほかによる装置は、コーティングされる粒子が、はじめに形成さ れるスプレーパターン内へ入り込むのを防ぐような構成は有していない。

更に、Ｄ、Ｅ、　ワースタほかによる米国特許第３．１９６．８２７号は、内部 にアップベッドを有する管形の仕切り璧が開示されている。アップベッド内へは 空気及びスプレーパターンが向けられ、はとんど無重力的に浮遊する粒子のダウ ンベッドが管形仕切り壁の外側に配置されている。スプレーノズルは、仕切り壁 底部下と所属の空気分配プレート又はスクリーン上方に配置されている。この装 置の場合、コーティングされる粒子は、スプレーパターンの下方の始めの部分に 直ちに自由に入ることができる。

発明の要約 ノズル及びスプレーの雲霧（コーティング・ゾーンと呼ばれることも多い）の周 囲の区域の動力学が、全体のコーティング速度も決定すれば、流動床コーティン グ過程中の凝集総量をも決定する。一般に用いられている型式のノズルは、空気 式の噴霧ノズルである。

言いかえると、高速の空気ジェットを用いて液体ジェットを分散させて微細な滴 にし、これらの微細な滴を円錐形の雲霧又はスプレーパターンで噴霧する。

実験室での数回のワースタ・コーティング実験の過程で観察された点は、サブス トレートを含む材料が、流動化又は処理空気流から、スプレーパターンが完全に 形成される前に、スプレーノズルの液体／空気ジェット内へ引込まれるという点 であった。コーティングされる材料が接着性を有する場合には、材料が十分な力 で運動せしめられて、ノズル先端に腐食を生じさせることが判明した。

したがって、本発明は、アップベッド内にノズル下方部分を取囲むシールド又は バリヤを設けて、ノズルを保護し、ノズル周囲のシールド手段内での上向き空気 流が可能にされる。これにより、バリヤの外側の製品コンテナ内に配置された粒 子が、スプレーパターンが十分に形成される前にスプレーパターンに入り込むこ とが確実に防止される。これによってまた、流動床の粒子と接触する前に小滴密 度を低減させることができ、したがって、粒子表面が、より一様に湿潤にされ、 過剰な凝集が防止される。また、流体と粒子との接触が、より精密に制御され、 より高いスプレー量が、より少ない凝集度で達成できる。

本発明の主要目的は、ワースタ型の流動床処理装置のスプレーノズルを遮蔽保護 することである。この遮蔽保護により、スプレーパターンが形成される前に粒子 がスプレーパターン内へ入り込むのが防止される。

本発明の別の目的は、コーティングされる微粒子を、スプレーパターンの小滴密 度が実質的に低（されるときまで、スプレーパターンに入り込むのを阻止するこ とである。

更に、本発明の別の目的は、ワースタ型の処理装置のスプレーノズルにより形成 されるスプレーパターンの下方部分の周囲に、上昇空気の円柱状シールドを設け ることである。その場合、このシールドは、放出されるスプレーパターンを処理 空気の空気流速度に応じて垂直方向に調節されるようにする。

本発明の更に別の目的は、前述のようなシールドを設けることによって、シール ドの垂直方向位置決めが、関連スプレーパターンを変化させることに利用できる ようにすることである。

本発明の更に別の目的は、ワースタ型スプレーコータのアップベッド内にコーテ ィング区域を設け、このコーティング区域が上昇空気の円柱により保護され、そ れによってコーティング区域がより完全に形成され、粒子がコーティング区域に 入る前に、その液滴密度が実質的に低減されるようにすることである。

以上の目的は、順次明らかにされるその他の目的及び利点と一緒に、以下で添付 図面を参照してより完全に説明され請求される構成及び操作の詳細から明らかに なる。各図面において、等しい部品には等しい符号が付されている。

図面の簡単な説明 図１はワースタ型底部スプレーコータの略示部分縦断面図で、スプレーノズル周 囲に設けられ、ノズル上端より僅かに上方へ突出している管状の内側仕切り壁が 示されている。

図２は、内側仕切り壁が空気分配プレートに対して垂直方向に調節される形式を 示した略示拡大部分縦断面図である。

有利な実施態様の説明 図面には、本発明により変更された典型的なワースタ型コータが、全体を符号１ ０で示されている。このコータ１０は、製品コンテナ区画１２と、この区画１２ の上端が開いている膨張室１４と、製品コンテナ区画１２の下方に設けられ、空 気分配プレート又はスクリーン１８により区画１２から分離された下方高圧室１ ６とを有している。膨張室１４の上端は、その上方に設けられたフィルタハウジ ング（図示せず）に開いている。フィルタハウジングには、必要なエアフィルタ 構造体と空気出口とが備えられている。代表的なワースタ型コータは「製薬技術 百科辞典」第１巻、ｐ。

１９２〜ｐ、１９５　（１９８８）に記載されている。

空気分配プレート又はスクリーン１８は複数の空気通過穴２０を有している。こ の通過穴２０を通って、空気又はガスが下方高圧室１６から製品コンテナ区域１ ２へ入る。ワースタ型流動床システムの場合には、通例、円筒形仕切り壁２２の 外側の区域に設けられた、プレート１８の穴の直径は、仕切りＷ１２２の下方に 設けられた穴の直径よりも小さくされている。この結果、空気の量及び速度は、 ダウンベッド区域でより中央区域でのほうが高い値となる。図面にはプレート１ ８は、１個しか示されていないが、通例、プレート１８は２個のプレート、すな わち外側環状プレートと内側の取外し可能のプレーＪとから構成されている。こ れによって、アップベッドとダウンベッドとの間の空気流量は、内側プレートを 、異なる空気通過穴形状を有するプレートに代えることで、変化させることがで きる。更に、内側プレート自体は、同一の空気通過穴形状を有する２個の重ねプ レートにより形成することができる。これらのプレートを互いに回転可能にする ことによって、有効大面積を変化させることができる製品コンテナ１２は、その 内部に適宜な形式で支持された円筒形仕切り壁２２を有している。この仕切り壁 は上端２４と下端２６とを有している。下端２６は、空気分配プレート又はスク リーン１８の上方に、間隔をおいて位置している。仕切り壁２２は、コンテナ区 画１２の内部を、外側環状ダウンベッド区域２８と内側アップベッド３０とに分 割している。全体を符号３２で示されたスプレーノズルが、空気分配プレート１ ８のところに、もしくはプレート１８を貫通して配置され、有利には、円筒形仕 切り豐２２及びその内部に設けられているアップベッド３ｏの内へ上向きに突入 している。スプレーノズル３２は、空気供給管３４を介して圧縮空気を供給され 、かつ流体供給管３６を介して圧縮コーティング流体を供給される。この点はこ の技術分野で周知のことである。

本発明は、上方へ突出しているスプレーノズル・アセンブリ３２の周囲にシール ド、たとえば内側円筒形仕切り壁４０を用いている。この仕切り壁４０はその下 端が管状のカラー４２内に、ぴったりとテレスコープ状に受容されている。管状 カラー４２は開口４４の周囲の空気分配プレート又はスクリーン１８に固定され ている。スプレーノズル・アセンブリ３２は、この開口４４を貫通し固定されて いる。管状カラー４２は、適当な固定具４６により空気分配プレート又はスクリ ーン１８に固定されている。カラー４２は、周方向に間隔をおいて軸方向スロッ ト４８を有している。これらスロット内には、仕切り壁４０の半径方向外方へ突 出する取付は用スタッド５０がスライド可能に受容されている。このスタッド５ ０は、これとねじ螺合するねじ山付ポルト５２を有し、それにより管状カラー４ ２に対する仕切り壁４２の垂直方向調節が可能になる。

スプレーノズル・アセンブリ３２は、空気及びコーティング用流体のスプレーパ ターン５６を放出する。

下方プレナムチャンバ１６内に導入される空気のいくらかは、仕切り壁４０下方 の空気配分プレート又はスクリーン１８に形成された穴２０を介して上方へ送ら れる。仕切り壁４０とスプレーノズル・アセンブリ３２Ｆ！４囲の上昇空気柱と が、スプレーパターン５６の下方開始部分を遮蔽保護している。アップベッド３ ０を通って上昇する粒子６０は、このスプレーパターン内へ引込まれない。この ため、環状の空気柱によって、スプレーパターン５６が十分に形成でき、スプレ ーパターンの液滴密度は、粒子６０がスプレーパターン５６内へ入る前には十分 に低減される。管状カラー４２に対して仕切り壁４０の高さを調節することによ り、スプレーノズル・アセンブリ３２の上端に対する仕切り壁４０の上端の高さ を調節できる。

図には、外側仕切り壁２２、内側仕切り壁４０、スプレーノズル３２は１つだけ 示されているが、複数の外側仕切り壁を設け、その数に相応する複数のスプレー ノズル及び内側仕切り檗を設けることもできる。

前述の有利な実施態様に対して種々の変更態様が可能である。たとえば、スプレ ーノズルは、シールディングを設けるのが望ましいワースタ型コータ・システム とは異なるシステムに利用することもできる。そのようなシステムの場合には、 スプレーノズルは上向きに配置する必要はなく、コンテナ主軸線に対し角度を有 するようにすることができる。シールドを設けたスプレーノズルも、ワースタ型 の円筒形仕切り壁２２なしで用いることができる。シールド付きスプレーノズル は、また製品コンテナの代りに膨張室内に配置してもよい。更に、図には空気分 配プレート又はスクリーンが示されているが、ガス流は、他の構造ユニットを介 して処理装置内へ供給してもよい。加えて、スプレーノズルのシールディングは 、有利には内側円筒形仕切り！４０により構成されているが、他のシールディン グ・ユニットを用いてもよい。たとえば、ノズルを取囲む空気壁又は空気流によ り構成して、スプレーパターンへの粒子の早過ぎる進入を防止するようにしても よい。あるいは又、そらせ部材又はシールドは、スプレーノズルと一体に構成し て、粒子がスプレーパターンの形成を妨害することがないようにしてもよい。

以上説明した本発明のコンセプトを利用して、以下では本発明に従ったテスト手 順と、得られた成績を明らかにする： 材　料 はとんどの試験にモデル・コーティングのサブストレートとして、２０〜２５メ ツシユの寸法範囲の砂糖／コーンスターチ・ビーズにュー・パリエルズ、クロン ブトン＆ノウルズ、材料技術部）である。この種のビーズがモデルとして適当と 思われるのは、多くの活物質がコーティングのためにペレット形状に変えられる か、又はこれらの種類のビーズにかぶせられるからである。テオフィリン（＜３ ２５メツシユ、ニュージャージ州ノウル・ウィッパ二社製）や塩化カリウム（２ ０〜６０メツシユ、ミズーリ州セントルイスのマリンクロット社製）が、粉末サ ブストレートのモデルとして用いられた。

すべての試験を通じて代表的なＨＰＭＣ基のコーティング水溶液（カラーコン・ ウェストポイントのオパドリ社製。水道水中ＰＡＪＩＯ重量パーセント）を用い た。また緑色の処方（ＹＳ　Ｉ−３３０３Ｎ）を、はとんどの実験に用いたが、 コーテイング性能に対する粘性や組成の違いの影響を調べるため、（り色（Ｙ− １−３９１０）に変更した。

装　置 すべてのコーティング試験は、８１．２８ｃｍ（３２’）又は４５．７２ｃ■（ １８’）のワースタ・プロセスインサートを用いたＧＰＣＧ６０／１００流動床 造粒器／コータにュージャージ州うムゼーのブラット空気技術社）によって行な った。４５．７２ｃｍのワースタの試験では、標準的な２２．８６Ｃ舅（９′） 直径、長さ５５．８８ｃ冒（２２’）の仕切りインサートを利用した。

８１．２８ｃ露のワースタの試験は、直径３０．４８ｃ票（１２’）、長さ６９ ．８５ｃ層（２７，５’）の単一の仕切りインサートで行なわれた。

仕切り壁の高さは、コーティング区域を流過するサブストレートの流れが濃厚に なるように調節される。

２つの異なる寸法のワースタ・インサートでは空気流パターンが異なるため、仕 切り壁を各インサートでとに異なる高さに設定する必要がある。底板から１．９ ０ｃｍ（０，７５インチ）の間隔で、４５．７２Ｃ諺ワースタの場合には十分で ある。８１．２８ｃｍワースタの場合は、仕切り壁は底板から３．２Ｃ■（１， ２インチ）上方に位置するようにして、高密度の粒子流が維持されるようにする 。

底部スクリーンは、１０メツシユでステンレス鋼製オランダ編形式のもので、ど の試験の間も空気分配プレート上方に配置した。排気フィルタは“ＰＡＣＦ”型 で、処理工程中に生じるすべての微細粉を保留するために、３〜１０ミクロンの 定格のものを使用した。

フィルタの揺振サイクルは、ＧＰＣＧモードで３０秒ごとに３秒間揺振するよう に設定した。このことは、各フィルタが、各６３秒の処理時間後に３秒間揺振さ れることを意味する。

ノズルは２つの型式のものを用いた。各ノズルは特徴的な異なるスプレーパター ンを形成する。モデル＃９４０／７−１−８２５　（Ｓ−２５と呼ばれ、ゲスタ ーフ・シュリック社製。所在地はドイツのコーブルク）は、これらの寸法のワー スタ・インサートの標準的なものである。モデル＃０／４−７−１−８４８　（ Ｓ−４８と呼ばれる）は、空気消費量がより高い値であり、より短距離で円錐形 のパターン（スプレーパターンを形成する）で小滴を供給する流体流を完全に噴 霧する。流体は、ぜん動ポンプによりノズルへ送られる。噴霧空気圧は、どのノ ズルが用いられても、小滴寸法分布が変らないように調節した。１．２■■の開 口を有するノズル口は、ノズル口端部と整列するように調節された空気キャップ と一緒に用いられる。

コーティング区域で流体流を変化させたこれらの実験では、流動化された粒子の 、噴霧流との接触が、７゜６２ｃｍは（３′）直径の円筒形仕切り壁により遅ら せられた。この仕切り壁は底板上に取付けられ、ノズル口高さの上方１．２７ｃ ｍ＋（０，５’　）まで延びている。

試験手順 空気量の設定は準備手続段階で流動化テストを行なって決定した。空気量は、各 試験を通じて各ユニットでコンスタントに維持され、改めて最適化は行なわなか った。４５．７２ｃ冒（１８’）ワースタの場合、空気量は２２５置３／謬ｉｎ （±３０±８／■ｉｎ）であり、８１．２８ｃ富（３２’）ワースタの場合は、 ５１０禦８／■ｉｎ（±３０−３／　＋＊ｉｎ）であった。両インサートでの実 験の場合、製品温度は３８℃〜４２℃に維持され、流入空気の露点は８℃（±１ ℃）に保たれた。

各回の稼働は、所望の試験条件となるように考慮され、そうした状態でスプレー が低速でスタートされた。スタート開始１５分後に採取したサンプルが、テスト 用の特別のシーブに１％以下しか残されていなければ、受入れ可能の性能とされ １、スプレー速度を上昇させた。スプレーの増量は、１％のサンプルがテストン ーブに残されていた時点を評価することによって決定した。

砂糖のビーズの場合、２０メツシユのシーブを、前述のテストンーブとした。各 試験後、装入物は２０メツシユのシーブを通過させて凝集物を除去する。２０メ ツシユのシーブを通過したビーズは、次の試験に使用した。８１．２８Ｃｓワー スタでの砂糖ビーズについての試験では、１８メツシユのシーブを用いて、反復 コーティングのためビーズが太き（なることが計算に入れられている。４５．７ ２Ｃｓワースタでは、４５ｋｇのスタート時の装入物を８１．２３　ｃｍワース タでの２００＆ｇと比較した。

テオフィリンをサブストレートとした実験では、４５．７２ｃ寓ワースタに２６ ６ｇの原材料を用いた。テオフィリンのテストンーブは１００メツシユのものを 用いた。塩化カリウムの場合は、製品コンテナに５０ｋｑが装入された。塩化カ リウムの場合、稼働の終りに、処理パラメータを変更し、１８メツシユで１％以 上残らない場合の最大可能スプレー量を見出すようにした。空気量は２２５１３ ／ｌ１ｉｎのプロトコル値から最大可能な値３６０　ｍｓ／ｗｉｎまで増大させ た。噴霧空気圧も２．５バールから４．０バールへ増大させた。

実験プログラム 実験のマトリックスは、ノズル型式、バリヤの設置、装置寸法を可変なものとし て、コーテイング性能をテストするために設定された。４５．７２ｃｍ（１８’ ）ワースタでは４回実験を行なった。砂糖ビーズ及びグリーンのコーティングに 、バリヤ付きとバリヤ無しのノズル５−２５と同じくノズル５−４８を用いた。

５−２５ノズルを用いた一組の実験は成績を確認するために反復された。粉末す ｊストレートとしてテオフィリンと塩化カリウムが、４５．７２ｃ■ワースタで の最後の２回の実験にバリヤ付の５−４８ノズルと一緒に用いられた。

８１．２８Ｃｓワースタでは、５−４８ノズルを用い、砂糖ビーズへのスプレー を２回の実験で行なった。１回はバリヤ付き、他の１回はバリヤ無しで行なった 。

これらの試験では、コーティング用の溶液をくり色に変更して、コーティング効 率が、より粘度の高い溶液のほうが高いかどうかを観察した。

成績及び検討 １％の凝集体発生時のスプレー量は、稼働中にバッチ・シートに報告されるデー タから評価された。４５゜７２Ｃｓワースタによる実験マトリックスのデータは 表１に示しである。５−４８ノズルでの実験データは２回の稼働の平均値である 。

表１　４５．７２ｃ■ワ一スタ 凝集体発生率１％時のスプレー量 （■ｌ／■ｉｎ） ノズル型式　バリヤ付　ノくリヤ無し ５−２５　・　２９０　９０ Ｓ−４８４１０２７０ この表から、凝集体レベルが等しい場合に、／くリヤを用いない標準的なケース と比較して、ノ（リヤを用（葛た場合、スプレー量が劇的に改善されることが分 かる。また、スプレーパターンの形成がより迅速なノズルに変えることにより改 善される効率が、標準型ノズル周囲にバリヤを用いた場合とほぼ等しいことも興 味ある事実である。この観察は、凝集体とスプレー量限界とが、形成中のスプレ ーパターンとサブストレートとの接触が早過ぎることに原因があるという仮説を 立証するものである。

同様のデータ解釈により、８１．．２８Ｃｓワースタは、１％の凝集体を、バリ ヤ無しでは５５０　ｑ／　ｗｉｎのスプレー量で、またバリヤ付きの場合は７８ ０ｇ／■ｉｎのスプレー量で生じさせている。今回は、５−４８ノズルテノミ、 （り色のコーティングで試験を行なった。効率は、４５．７２Ｃｓワースタでの 実験時同様の割合で増大する。但し、装置寸法及びコーティング特性は変更した 。

５−４８ノズルによりバリヤを用いてコーティングされたテオフィリン及び塩化 カリウムは、稼働中、従来型式の装置の構成の場合に類似の挙動を示した。塩化 カリウムの場合のスプレー量は、最初の凝集発生時点で１０５０ｇ／■ｉｎであ った。凝集体は１２５０ｇ／■ｉｎで徐々に形成され始めた。しかしながら、こ の高いスプレー量では、装置の乾燥能力が過剰となり、所望製品温度が維持され ない。その結果、過剰の表面湿分が、おそらく粒子間に流体ブリッジが形成され 、最終的に凝集状態が生じることになる。テオフィリンの場合、許容できるスプ レー量は劇的に低減されたとはいえ、スプレーされた２　３０　ｑ／　ｓｉｎの 量は予想よりは高い値であった。しかし、砂糖ビードの実験の場合のように、許 容レベルを越えることはなかった。

これらの実験の驚くべき成績は、サブストレートの粒状化処理を伴わない小粒子 サイズの材料をコートする能力を示すものであった。等しい倍率の走査電子顕微 鏡による比較では、粒子寸法分布のごく僅かな部分が、大部分の寸法分布の粒子 コーティングに含まれていることを示している。しかしまた一方では、材料の凝 集は止み、１０％のコーティングの場合、粒子寸法は４％のサンプルときわめて 類似している。最終コーティングされた粒子の平均寸法は、一般に受入れられて いる微粒子のディスクリート・コーティングの下限である１００ミクロンより有 意に低い値である。この観察から要請される点は、ディスクリート・コーティン グの場合の最小粒子寸法は、サブストレートとスプレーパターンの接触に影響さ れ、スプレーパターン形成中の接触を制限することにより、有意に小さくするこ とができるという点である。

結　論 以上説明したすべての実験を通じて明らかになった点は、サブストレートと形成 途中のスプレーパターンとの接触を制限して、粒子表面がスプレーパターンの液 滴密度の低い区域でのみスプレーに露出されるようにすることによって、サブス トレート表面全体の湿潤化が低減され、製品の凝集率が低減されるという点であ る。スプレーパターンに固体が入り込むのを防止するためのバリヤを採用し、か つまたノズル設計を変更することによって、より小さなスペースでスプレーパタ ーンが形成されるようにすることで、はぼ同等の効果が得られる。バリヤを変更 ノズルと一緒に用いた場合にも、かなり効率が改善されることが明らかとなった 。改良された固体・流体接触のこの技術は、異なる３種のサブストレートについ て、異なる２つの寸法の装置を用い、異なる２つのコーティング処方を通じて観 察された。

改善されたコーティング効率の予想された成績に加えて、最小の粒子寸法のサン プルであるテオフィリンの場合には、コーティングされた材料の粒子寸法が、通 例、許容される最小寸法以下に維持できることも、観察された。

ＦＩＧ、１

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. １．流動床コータであって、製品コンテナと上方へ噴射するスプレーノズルとを 有し、前記製品コンテナが、上方へは膨張室へ開口し、下方へは空気分配プレー ト／スクリーンを介して下方プレナムチャンバへ開いており、前記プレート／ス クリーンが、前記下方プレナムチャンバから上向き空気流を前記製品コンテナ内 へ送るために設けられた穴を有しており、前記製品コンテナが、前記空気分配プ レート／スクリーン上方に間隔をおいて配置された実質的に円筒形の仕切り壁を 有し、この仕切り壁により前記製品コンテナが内側アツプベツド区域と外側ダウ ンベッド区域とに分割されており、更に前記スプレーノズルが前記円筒形仕切り 壁内の実質的に中央に取付けられている形式のものにおいて、その改良型が、前 記空気分配プレート／スクリーンに隣接して取付けられた直立する円筒形内側仕 切り壁を有し、この内側仕切り壁の上端が、前記スプレーノズルの上端と少なく とも等しい高さに位置し開口しており、他方、前記内側仕切り壁の下端は、前記 空気分配プレート／スクリーンを通過して下方プレナムチャンバからの空気を受 入れるように開口されており、このように構成することにより、スプレーノズル が形成する少なくとも初期のスプレーパターン内への、前記アツプベツドから上 方へ移動する粒子の侵入が防止されることを特徴とする流動床コータ。
2. ２．前記円筒形内側仕切り壁を、前記空気分配プレート／スクリーンに対して取 付け、かつ軸方向に調節するための支持手段により、前記内側仕切り壁が前記空 気分配プレート／スクリーンと結合されていることを特徴とする、請求項１記載 のコータ。
3. ３．前記支持手段が、前記内側仕切り壁を前記空気分配プレート／スクリーンに 対して軸方向に調節することにより、前記空気分配プレート／スクリーンに対し て前記内側仕切り壁の下端を全体として密封維持する手段を有することを特徴と する、請求項２記載のコータ。
4. ４．前記支持手段が、前記空気分配プレート／スクリーンから上方へ突出する円 筒形カラーを有しており、前記内側仕切り壁が前記カラー内へ調節可能にテレス コープ式にそう入されていることを特徴とする、請求項２記載のコータ。
5. ５．流動床コータであって、製品コンテナと上方へ噴霧するスプレーノズルとを 有しており、前記製品コンテナが、上方へは膨張室内へ開口し、下方へは空気分 配プレート／スクリーンを介して下方プレナムチャンバ内に開いており、前記空 気分配プレート／スクリーンが、上向き空気流を前記下方プレナムチャンバから 前記製品コンテナ内へ送るための穴を有しており、前記製品コンテナが前記空気 分配プレート／スクリーン上方に間隔を置いて配置された実質的に円筒形の仕切 り壁を有し、この仕切り壁により内側アツプベツド区域と外側ダウンベッド区域 とが形成され、更に、前記スプレーノズルが前記円筒形仕切り壁内の、実質的に 中央に取付けられている形式のものにおいて、その改良型が前記スプレーノズル に隣接配置されたシールド手段を有しており、それによって前記スプレーノズル が形成する初期スプレーパターンヘの、アツプベツドを上昇する粒子の侵入が防 止されることを特徴とする流動床コータ。
6. ６．流動床コータであって、製品コンテナを有しており、この製品コンテナが、 上方へは膨張室へ開口し、下方へは空気分配プレート／スクリーンを介して下方 プレナムチャンバ内に開いており、前記空気分配プレー／スクリーンが、上向き 空気流を前記下方プレナムチャンバから前記製品コンテナへ送るための穴を有し ており、更に前記製品コンテナが下方へ噴射するスプレーノズルを有する形式の ものにおいて、その改良型が、前記スプレーノズルに隣接する位置に、流動床を 上方へ移動する粒子が、前記スプレーノズルにより形成される初期スプレーパタ ーンに侵入するのを阻止するシールド手段を有することを特徴とする流動床コー タ。
7. ７．流動床処理装置であって、流動化ガス源として噴射スプレーノズルとを前記 処理装置内に有する形式のものにおいて、その改良型が、前記スプレーノズルに 隣接した位置に、流動床を通って移動する粒子の、前記ノズルにより形成される 初期スプレーパターン内への侵入を阻止するシールド手段を有していることを特 徴とする流動床処理装置。
8. ８．前記シールド手段が、前記スプレーノズルを取囲む円筒形仕切り壁を有し、 この仕切り壁の一端が前記スプレーノズルの最も外側の先端に近いレベルに位置 することを特徴とする、請求項７記載の流動床処理装置。
9. ９．前記円筒形仕切り壁の反対側の端部が、前記流動床ガス源から流動化ガスを 受取るように配置されていることを特徴とする、請求項８記載の流動床処理装置 。
10. １０．製品コンテナ区画と上方へ噴射するスプレーノズルとを有し、この製品コ ンテナ区画が上方へは膨張室内へ開口し、下方へは、全体として水平に配置され た空気分配プレート／スクリーンを介して下方プレナムチャンバ内へ開いており 、前記空気分配プレート／スクリーンが、上向き空気流を前記下方プレナムチャ ンバから前記製品コンテナ区画内へ送る穴を有しており、前記製品コンテナ区画 が、前記空気分配プレート／スクリーン上方に間隔をおいて配置された実質的に 円筒形の仕切り壁を有し、この仕切り壁によって、前記製品コンテナが内側アツ プベツド区域と外側ダウンベッド区域とに分けられており、更に前記スプレーノ ズルが前記円筒形仕切り壁内の実質的に中央に取付けられている形式の流動床内 で製品をコーティングする方法において、前記方法が、円筒形の内側仕切り壁を 、前記空気分配プレート／スクリーンの近くに、上方へ延び、かつ前記ノズルを 取囲むように配置するステップと、前記ノズルに対し少なくとも等しい高さレベ ルまで上方に突出するようにするステップと、前記空気分配プレート／スクリー ンと前記ノズルの周囲の前記円筒形仕切り壁とを介して空気が上方へ通過するよ うにして、前記ノズルにより形成される初期スプレーパターンを前記アツプベツ ド内を上方へ移動する粒子の侵入から保護するステップとを有することを特徴と する、流動床内で製品をコーティングする方法。
11. １１．製品コンテナ区域と上方へ噴射するスプレーノズルとを有し、前記製品コ ンテナ区域が、上方へは上方膨張室内へ開口し、下方へは、全体として水平の空 気分配プレート／スクリーンを介して下方プレナムチャンバ内へ開いており、前 記空気分配プレート／スクリーンが、上向き空気流を前記下方のプレナムチャン バから前記製品コンテナ区画内へ送る穴を有しており、前記製品コンテナ区画が 、前記空気分配プレート／スクリーン上方に間隔をおいてコンテナ内の中央に支 持された直立円筒形仕切り壁を有し、この仕切り壁により前記製品コンテナが内 側アツプベツドと外側ダウンベッドとに分けられており、更に前記スプレーノズ ルが前記アツプベツドの下方部分内の中央に配置されている形式の流動床の造粒 器／コータの処理時間を短縮する方法において、前記方法が、前記空気分配プレ ート／スクリーンから前記スプレーノズル周囲を上方へ流れ、かつ前記スプレー ノズル上端とほぼ垂直方向に整列する高さのところから前記アツプベツド内へ自 由に吹出される空気の、半径方向に制限され、保護された空気柱を形成する複数 ステップを有することを特徴とする、流動床の造粒器／コータの処理時間を短縮 する方法。