JP3189507B2 - 表面処理装置 - Google Patents
表面処理装置Info
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- JP3189507B2 JP3189507B2 JP16633293A JP16633293A JP3189507B2 JP 3189507 B2 JP3189507 B2 JP 3189507B2 JP 16633293 A JP16633293 A JP 16633293A JP 16633293 A JP16633293 A JP 16633293A JP 3189507 B2 JP3189507 B2 JP 3189507B2
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B15/00—Fluidised-bed furnaces; Other furnaces using or treating finely-divided materials in dispersion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/32—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with introduction into the fluidised bed of more than one kind of moving particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/442—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using fluidised bed process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S118/00—Coating apparatus
- Y10S118/05—Fluidized bed
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、流動層式炉を用いた表
面処理装置、特に流動層を構成する粉末の流動化の均一
性を損なう流動層粉末の固化を防止すると同時に、反応
性の高い流動層粉末や雰囲気からガス分散板を保護する
表面処理装置に関するものである。
面処理装置、特に流動層を構成する粉末の流動化の均一
性を損なう流動層粉末の固化を防止すると同時に、反応
性の高い流動層粉末や雰囲気からガス分散板を保護する
表面処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】流動層を利用して被処理材の表面に炭化
物、窒化物等の表面処理層を形成させる技術として、本
発明者等が先になした流動層を利用した表面処理方法
（特開昭６３-１４８５６）がある。
物、窒化物等の表面処理層を形成させる技術として、本
発明者等が先になした流動層を利用した表面処理方法
（特開昭６３-１４８５６）がある。
【０００３】この方法は、アルミナ等の耐火物粉末（以
下、流動剤と記す）と、炭化物や窒化物等の形成元素を
含む金属および／またはそれらの合金粉末（以下、層形
成剤と記す）との混合粉末（以下、流動層粉末と記す）
を流動層式炉中に配置し、アルゴンガス等の流動化ガス
を導入して流動層粉末を流動化させ、流動層を形成し、
この流動層中に被処理材を配置するとともに、該流動層
中にハロゲン化物を随時供給することにより、加熱下に
おいて、被処理材表面に表面処理層を形成させることを
特徴とするものである。
下、流動剤と記す）と、炭化物や窒化物等の形成元素を
含む金属および／またはそれらの合金粉末（以下、層形
成剤と記す）との混合粉末（以下、流動層粉末と記す）
を流動層式炉中に配置し、アルゴンガス等の流動化ガス
を導入して流動層粉末を流動化させ、流動層を形成し、
この流動層中に被処理材を配置するとともに、該流動層
中にハロゲン化物を随時供給することにより、加熱下に
おいて、被処理材表面に表面処理層を形成させることを
特徴とするものである。
【０００４】表面処理層は、流動層に供給されたハロゲ
ン化物と、層形成剤粉末との反応によって生成した炭化
物形成元素のハロゲン化物のガスと、被処理材中の炭素
または窒素との反応によって形成される。このような層
形成の過程において、前記ハロゲン化物のガスの量や流
動化ガスの流量等、処理条件によつては、流動層粉末が
凝集し、しばしば流動層中に流動層粉末の固まりが形成
されることがあった。このような固まりが流動層内に形
成されると、固まりが形成された周囲の粉末の流動化の
不良や、流動層内の温度の不均一等のため、表面処理層
を均一に形成できる範囲が減少する問題が生じた。ま
た、被処理材を保持する治具が前記流動層粉末の固まり
によってじやまをされ、セッテイングにくるいを生じる
等の問題が発生し、固まりの除去のために処理が中断さ
れることが頻繁に起こった。流動層粉末の固化の量は、
流動化ガスの流量を増して流動化を激しくしたり、ハロ
ゲン化物の添加量を少量に抑えることで少なくすること
ができるが、実際の処理に適用すると、流動化ガスの消
費量が増してランニングコストが高くなったり、流動層
内の反応ガス濃度等の処理条件が変化して形成される表
面処理層の厚さが薄くなったり、あるいは厚さが不均一
になったりする等の問題があった。
ン化物と、層形成剤粉末との反応によって生成した炭化
物形成元素のハロゲン化物のガスと、被処理材中の炭素
または窒素との反応によって形成される。このような層
形成の過程において、前記ハロゲン化物のガスの量や流
動化ガスの流量等、処理条件によつては、流動層粉末が
凝集し、しばしば流動層中に流動層粉末の固まりが形成
されることがあった。このような固まりが流動層内に形
成されると、固まりが形成された周囲の粉末の流動化の
不良や、流動層内の温度の不均一等のため、表面処理層
を均一に形成できる範囲が減少する問題が生じた。ま
た、被処理材を保持する治具が前記流動層粉末の固まり
によってじやまをされ、セッテイングにくるいを生じる
等の問題が発生し、固まりの除去のために処理が中断さ
れることが頻繁に起こった。流動層粉末の固化の量は、
流動化ガスの流量を増して流動化を激しくしたり、ハロ
ゲン化物の添加量を少量に抑えることで少なくすること
ができるが、実際の処理に適用すると、流動化ガスの消
費量が増してランニングコストが高くなったり、流動層
内の反応ガス濃度等の処理条件が変化して形成される表
面処理層の厚さが薄くなったり、あるいは厚さが不均一
になったりする等の問題があった。
【０００５】また、前記従来の表面処理方法では、ガス
分散板が、直接流動層と接触しているため、ガス分散板
が流動層内のハロゲン化物のガスに曝され、腐食した
り、反応生成物がガス分散板の細孔に詰まって、ガス分
散板の流動化ガスを分散させる作用が低下する等の問題
があった。
分散板が、直接流動層と接触しているため、ガス分散板
が流動層内のハロゲン化物のガスに曝され、腐食した
り、反応生成物がガス分散板の細孔に詰まって、ガス分
散板の流動化ガスを分散させる作用が低下する等の問題
があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、流動層
を利用して、流動層内に浸漬した被処理材を表面処理す
る際に問題となる流動層粉末の固化について詳細に研究
を行った。その結果、流動化ガスの流れが不均一となっ
て、層形成剤粉末のほとんど動かない部分が存在した場
合に、層形成剤粉末間の同一部分における接触が長期に
わたるため、直接金属等の粉末間の反応が進行して互い
に結合し、固まりが生成すること、また、この固まりの
生成の際に流動剤を構成するアルミナ等の粉末をも巻き
込んで成長すること、さらに，ガス分散板の上に流動化
ガスによって流動化しない程度の重量の粉末からなる粗
粒層を設けると、流動化ガスの流れを常に均一にでき、
流動層粉末の局部的停滞を無くすことができ、前記固ま
りの生成を防止できるることをつきとめ、本発明をなす
に至ったものである。本発明は、流動化ガスの流量等の
処理条件を変化させることなく流動層粉末の固化を防止
すると同時に、ガス分散板が反応性の高い流動層粉末や
雰囲気に直接曝されないようにして、ガス分散板の腐食
等を防止することが可能な表面処理装置を提供するもの
である。
を利用して、流動層内に浸漬した被処理材を表面処理す
る際に問題となる流動層粉末の固化について詳細に研究
を行った。その結果、流動化ガスの流れが不均一となっ
て、層形成剤粉末のほとんど動かない部分が存在した場
合に、層形成剤粉末間の同一部分における接触が長期に
わたるため、直接金属等の粉末間の反応が進行して互い
に結合し、固まりが生成すること、また、この固まりの
生成の際に流動剤を構成するアルミナ等の粉末をも巻き
込んで成長すること、さらに，ガス分散板の上に流動化
ガスによって流動化しない程度の重量の粉末からなる粗
粒層を設けると、流動化ガスの流れを常に均一にでき、
流動層粉末の局部的停滞を無くすことができ、前記固ま
りの生成を防止できるることをつきとめ、本発明をなす
に至ったものである。本発明は、流動化ガスの流量等の
処理条件を変化させることなく流動層粉末の固化を防止
すると同時に、ガス分散板が反応性の高い流動層粉末や
雰囲気に直接曝されないようにして、ガス分散板の腐食
等を防止することが可能な表面処理装置を提供するもの
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の表面処理装置
は、流動化ガス導入口と、該流動化ガス導入口と連通し
たガス分散板と、ガス排出口とを有する炉本体と、該炉
本体内部の、前記ガス分散板上部に配置されたアルミナ
等の耐火物粉末と被処理材表面に表面処理層を形成する
ための金属および/または合金粉末との混合粉末から構
成される流動層粉末と、該炉本体を加熱する加熱手段と
からなり、流動化ガスによって前記流動層粉末を流動化
させて、流動層を形成し、該流動層内において、加熱
下、ハロゲン化物の存在のもとに被処理材の表面に表面
処理層を形成する表面処理装置であって、前記流動層と
ガス分散板との間に、以下の関係式を満足する平均粒径
D（m）を有する粉末からなり、流動化ガスによって流動
化しない粗粒層が配置されてなる。 （１６５０Ｖμ／ＰＧ）1/2＜Ｄ＜６．５ｄ Ｖ 流動化ガスの流速（ｍ／ｓ） μ 流動化ガスの粘性係数（ｋｇ／ｍ・ｓ） Ｐ 粗粒層を構成する粉末の平均密度（ｋｇ／ｍ3） Ｇ 重力加速度（９．８ｍ／ｓ2） ｄ 金属および／または合金粉末の平均粒径（ｍ）
は、流動化ガス導入口と、該流動化ガス導入口と連通し
たガス分散板と、ガス排出口とを有する炉本体と、該炉
本体内部の、前記ガス分散板上部に配置されたアルミナ
等の耐火物粉末と被処理材表面に表面処理層を形成する
ための金属および/または合金粉末との混合粉末から構
成される流動層粉末と、該炉本体を加熱する加熱手段と
からなり、流動化ガスによって前記流動層粉末を流動化
させて、流動層を形成し、該流動層内において、加熱
下、ハロゲン化物の存在のもとに被処理材の表面に表面
処理層を形成する表面処理装置であって、前記流動層と
ガス分散板との間に、以下の関係式を満足する平均粒径
D（m）を有する粉末からなり、流動化ガスによって流動
化しない粗粒層が配置されてなる。 （１６５０Ｖμ／ＰＧ）1/2＜Ｄ＜６．５ｄ Ｖ 流動化ガスの流速（ｍ／ｓ） μ 流動化ガスの粘性係数（ｋｇ／ｍ・ｓ） Ｐ 粗粒層を構成する粉末の平均密度（ｋｇ／ｍ3） Ｇ 重力加速度（９．８ｍ／ｓ2） ｄ 金属および／または合金粉末の平均粒径（ｍ）
【０００８】
【作用】本発明は前記構成、すなわちガス分散板と流動
層の間に、上記関係式（１）を満足する平均粒径の粉末
からなる粗粒層を設けることによって、流動化ガスの流
れを均一化し、ガス分散板直上に流動層粉末の動かない
領域である局部停滞部を無くすことが出来る。前記関係
式を満足する平均粒径を有する粗粒層を設けたことによ
り、流動化ガスの流れを均一化し、流動層粉末の停滞部
を無くすことができる理由は、今のところ明確ではない
が、次のようであると推定される。（１）式の平均粒径
Ｄの最小値を規定する項、すなわち（１６５０Ｖμ／Ｐ
Ｇ）1/2 は、所定の流動化ガスの流速で流動化する粉末
の最大径を定めるもの（流動層の反応工学（１９８４）
培風館）である。したがって、この項で与えられるＤ値
よりも大きな径の粉末は流動化せず、粗粒層を形成でき
る。したがって、粗粒の粒径を、前記Ｄ値よりも小さく
すると、粗粒が流動化してしまい、粗粒層を形成できず
流動層粉末と分散板との隔離ができなくなる。また、
（１）式のＤの最大値を規定する項、すなわち６．５ｄ
は、層形成剤粉末の平均粒径がｄの場合、この粉末を通
過させる粗粒層の平均粒径Ｄを与えるものである。した
がって、この項で与えられるＤ値よりも小さな径の粉末
からなる粗粒層は、通過する層形成剤粉末の数を少なく
できる。この６．５ｄより粗流層の径を大きくすると、
粗粒間の隙間も大きくなり、この隙間に入り込む層形成
剤粉末の数が多くなり、粗粒間の隙間に入り込んで固定
される粉末が存在するようになるとその部分でそれらの
粉末の固化が進行し、この固化した粉末が、流動化ガス
の流れを阻害し、さらに、その直上に流動層粉末の局部
停滞部を生成させることになり、固化領域が拡大してい
く。そこで粗粒層を構成する粉末の径を（１）式の右項
より小さくするのである。該粉末の平均粒径Ｄが、前記
（１）式の範囲内にあると粉末間の隙間が小さくなっ
て、その数が多くなるため、ガスの分散が良くなり流動
層粉末を均一に流動化できる。このように、流動層粉末
の停滞を無くすことができるため、流動層粉末間の同一
部分における接触が長期にわたることがなく、直接金属
等の粉末間の反応が進行しにくくなり固化を防止でき
る。また、前記粗粒層を設けたことにより流動層粉末と
ガス分散板の接触がなくなり、また、粗粒層と流動層粉
末との間に圧力差が生じるので、流動化ガスやハロゲン
化物のガスが逆流することがなく、流動層の雰囲気にガ
ス分散板が曝されることがない。
層の間に、上記関係式（１）を満足する平均粒径の粉末
からなる粗粒層を設けることによって、流動化ガスの流
れを均一化し、ガス分散板直上に流動層粉末の動かない
領域である局部停滞部を無くすことが出来る。前記関係
式を満足する平均粒径を有する粗粒層を設けたことによ
り、流動化ガスの流れを均一化し、流動層粉末の停滞部
を無くすことができる理由は、今のところ明確ではない
が、次のようであると推定される。（１）式の平均粒径
Ｄの最小値を規定する項、すなわち（１６５０Ｖμ／Ｐ
Ｇ）1/2 は、所定の流動化ガスの流速で流動化する粉末
の最大径を定めるもの（流動層の反応工学（１９８４）
培風館）である。したがって、この項で与えられるＤ値
よりも大きな径の粉末は流動化せず、粗粒層を形成でき
る。したがって、粗粒の粒径を、前記Ｄ値よりも小さく
すると、粗粒が流動化してしまい、粗粒層を形成できず
流動層粉末と分散板との隔離ができなくなる。また、
（１）式のＤの最大値を規定する項、すなわち６．５ｄ
は、層形成剤粉末の平均粒径がｄの場合、この粉末を通
過させる粗粒層の平均粒径Ｄを与えるものである。した
がって、この項で与えられるＤ値よりも小さな径の粉末
からなる粗粒層は、通過する層形成剤粉末の数を少なく
できる。この６．５ｄより粗流層の径を大きくすると、
粗粒間の隙間も大きくなり、この隙間に入り込む層形成
剤粉末の数が多くなり、粗粒間の隙間に入り込んで固定
される粉末が存在するようになるとその部分でそれらの
粉末の固化が進行し、この固化した粉末が、流動化ガス
の流れを阻害し、さらに、その直上に流動層粉末の局部
停滞部を生成させることになり、固化領域が拡大してい
く。そこで粗粒層を構成する粉末の径を（１）式の右項
より小さくするのである。該粉末の平均粒径Ｄが、前記
（１）式の範囲内にあると粉末間の隙間が小さくなっ
て、その数が多くなるため、ガスの分散が良くなり流動
層粉末を均一に流動化できる。このように、流動層粉末
の停滞を無くすことができるため、流動層粉末間の同一
部分における接触が長期にわたることがなく、直接金属
等の粉末間の反応が進行しにくくなり固化を防止でき
る。また、前記粗粒層を設けたことにより流動層粉末と
ガス分散板の接触がなくなり、また、粗粒層と流動層粉
末との間に圧力差が生じるので、流動化ガスやハロゲン
化物のガスが逆流することがなく、流動層の雰囲気にガ
ス分散板が曝されることがない。
【０００９】
【発明の効果】本発明の表面処理装置によれば、ガス分
散板と流動層との間に粗粒層を配置したので、流動層粉
末の局部停滞部がなくなり、流動層粉末の固化を防止す
ることが出来る。したがって、本装置を用いて品物を表
面処理する場合に、流動層粉末の固化による流動化不良
および流動化不良による流動層内の温度の不均一、流動
層の固化領域の増大による有効処理領域の減少、処理治
具の流動層内のセッティングのくるい等の問題がなく、
固まりの除去のために処理を中断することもなく、効率
的に処理を実施することができる。また、前記粗粒によ
って反応性の高い流動層の粉末や雰囲気からガス分散板
を保護することが可能となる。
散板と流動層との間に粗粒層を配置したので、流動層粉
末の局部停滞部がなくなり、流動層粉末の固化を防止す
ることが出来る。したがって、本装置を用いて品物を表
面処理する場合に、流動層粉末の固化による流動化不良
および流動化不良による流動層内の温度の不均一、流動
層の固化領域の増大による有効処理領域の減少、処理治
具の流動層内のセッティングのくるい等の問題がなく、
固まりの除去のために処理を中断することもなく、効率
的に処理を実施することができる。また、前記粗粒によ
って反応性の高い流動層の粉末や雰囲気からガス分散板
を保護することが可能となる。
【００１０】
（具体化した発明）以下，本発明を具体化した具体例を
説明する。本具体化した発明において用いる表面処理装
置は、一般に乾燥、焼却、還元等の目的で通常使用され
ている流動層式炉を利用すればよい。例えば、図１に示
すように炉本体１の下部にアルゴン等の流動化ガスの導
入口１１が開口し、炉内の導入口側にガス分散板１２が
設けられており、また、炉本体周囲には流動層を加熱す
るための加熱器２が設けられる。本表面処理装置は、炉
本体上部にガス排出口５１を有する蓋５を装着し、被処
理材３の出し入れはこの扉を開閉して行う。また、炉本
体の流動化ガス分散板上には粗粒層７および流動層４が
配置される。また、炉本体下部にハロゲン化物供給手段
６を設ける。また、表面処理層として、窒化物層等を形
成する場合には、窒素含有ガス等を、炉外から炉本体内
部に供給するためのガス供給用の管等を設けてもよい。
説明する。本具体化した発明において用いる表面処理装
置は、一般に乾燥、焼却、還元等の目的で通常使用され
ている流動層式炉を利用すればよい。例えば、図１に示
すように炉本体１の下部にアルゴン等の流動化ガスの導
入口１１が開口し、炉内の導入口側にガス分散板１２が
設けられており、また、炉本体周囲には流動層を加熱す
るための加熱器２が設けられる。本表面処理装置は、炉
本体上部にガス排出口５１を有する蓋５を装着し、被処
理材３の出し入れはこの扉を開閉して行う。また、炉本
体の流動化ガス分散板上には粗粒層７および流動層４が
配置される。また、炉本体下部にハロゲン化物供給手段
６を設ける。また、表面処理層として、窒化物層等を形
成する場合には、窒素含有ガス等を、炉外から炉本体内
部に供給するためのガス供給用の管等を設けてもよい。
【００１１】前記したように、炉本体のガス分散板直上
に，粗粒層を、さらに該粗粒層の上に流動粉末層を設置
する。流動層粉末は耐火物粉末（流動剤）と、表面処理
層を形成するための金属および／または合金粉末（層形
成剤）とからなる。流動剤は、被処理材を構成する元素
ならびに層形成剤を構成する粉末と反応しない不活性な
ものであれば限定はない。例えば、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ
3 ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2 ）、ジルコニア（ＺｒＯ2 ）等の１種以上を用い
る。
に，粗粒層を、さらに該粗粒層の上に流動粉末層を設置
する。流動層粉末は耐火物粉末（流動剤）と、表面処理
層を形成するための金属および／または合金粉末（層形
成剤）とからなる。流動剤は、被処理材を構成する元素
ならびに層形成剤を構成する粉末と反応しない不活性な
ものであれば限定はない。例えば、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ
3 ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2 ）、ジルコニア（ＺｒＯ2 ）等の１種以上を用い
る。
【００１２】また、層形成剤は炭化物、窒化物、炭窒化
物、固溶体、金属間化合物等を形成可能な金属および／
または合金粉末をいう。例えば、炭化物または窒化物形
成金属等としては、クロム、バナジウムやチタン等のよ
うに炭素や窒素と結合して炭化物や窒化物を形成しやす
い金属、その合金としては、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｖまた
はＦｅ−Ｔｉ等の合金鉄等がある。これらの金属または
合金は１種以上で用いる。
物、固溶体、金属間化合物等を形成可能な金属および／
または合金粉末をいう。例えば、炭化物または窒化物形
成金属等としては、クロム、バナジウムやチタン等のよ
うに炭素や窒素と結合して炭化物や窒化物を形成しやす
い金属、その合金としては、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｖまた
はＦｅ−Ｔｉ等の合金鉄等がある。これらの金属または
合金は１種以上で用いる。
【００１３】金属および／または合金粉末からなる層形
成剤の粒径ｄは、０．５〜１．２×１０-4ｍ（８０〜３
５０メッシユ）の範囲のものが望ましい。また、該層形
成剤の平均粒径ｄも０．５〜１．２×１０-4ｍの範囲内
になるようにするのが望ましい。
成剤の粒径ｄは、０．５〜１．２×１０-4ｍ（８０〜３
５０メッシユ）の範囲のものが望ましい。また、該層形
成剤の平均粒径ｄも０．５〜１．２×１０-4ｍの範囲内
になるようにするのが望ましい。
【００１４】流動剤と層形成剤の組成は表面層の種類や
厚さ等によって適宜決定されるが、通常、層形成剤の量
は、流動剤の重量に対し２から８０％の範囲で用いる。
また、流動剤を構成する粉末の平均粒径ｄ´は、層形成
剤の平均粒径ｄ、平均密度ρに対し、（ｄ´）3 ×ρ´
＝ｄ3 ×ρ（ρ´は流動剤を構成する粉末の平均密度）
の関係が成立するように選択される。
厚さ等によって適宜決定されるが、通常、層形成剤の量
は、流動剤の重量に対し２から８０％の範囲で用いる。
また、流動剤を構成する粉末の平均粒径ｄ´は、層形成
剤の平均粒径ｄ、平均密度ρに対し、（ｄ´）3 ×ρ´
＝ｄ3 ×ρ（ρ´は流動剤を構成する粉末の平均密度）
の関係が成立するように選択される。
【００１５】次に、粗粒層を構成する粉末の種類として
は、流動層粉末ならびに流動層内の雰囲気と反応をしな
い不活性なものであれば、特に限定はない。望ましく
は、アルミナ（Ａｌ2 ０3 ）、酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏ2 ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、ジルコニア（ＺｒＯ
2 ）等の耐火物粉末等１種以上を用いるとよい。粗粒の
平均粒径Ｄは、前記関係式（１）を満足することが必要
である。なお、粗粒は流動層の上下方向に大きく動かな
ければ、配置された位置に届まっている必要はなく、む
しろ、２次元的には動き回った方が流動化ガスの流れの
均一化等に好影響を及ぼす。
は、流動層粉末ならびに流動層内の雰囲気と反応をしな
い不活性なものであれば、特に限定はない。望ましく
は、アルミナ（Ａｌ2 ０3 ）、酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏ2 ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、ジルコニア（ＺｒＯ
2 ）等の耐火物粉末等１種以上を用いるとよい。粗粒の
平均粒径Ｄは、前記関係式（１）を満足することが必要
である。なお、粗粒は流動層の上下方向に大きく動かな
ければ、配置された位置に届まっている必要はなく、む
しろ、２次元的には動き回った方が流動化ガスの流れの
均一化等に好影響を及ぼす。
【００１６】また、粗粒層のガス分散板に接する部分
等、粗粒の一部を粗粒より大きな粒径の粉末に置き換え
てもよい。こうすれば、圧力損失をさらに小さくするこ
とができる。
等、粗粒の一部を粗粒より大きな粒径の粉末に置き換え
てもよい。こうすれば、圧力損失をさらに小さくするこ
とができる。
【００１７】粗粒層の厚さは、５〜３００ｍｍとする。
５ｍｍより薄いと、ガス分散板を出た流動化ガスを均一
に分散させるのに不十分となり、一方、３００ｍｍより
厚くしても、固化防止能が向上するわけではなく、逆に
粗粒層による圧力損失が大きくなり、同じ流動化状態を
得るためにガス消費量が多くなる。
５ｍｍより薄いと、ガス分散板を出た流動化ガスを均一
に分散させるのに不十分となり、一方、３００ｍｍより
厚くしても、固化防止能が向上するわけではなく、逆に
粗粒層による圧力損失が大きくなり、同じ流動化状態を
得るためにガス消費量が多くなる。
【００１８】次に、加熱手段は、特に限定はないが、通
常は、図１のように流動層を含む炉本体１を電気炉等の
外部加熱器２内に装入して、外部から流動層を加熱す
る。流動化ガスとしては、通常、アルゴン等の不活性ガ
スを用いる。表面処理層として窒化物や炭窒化物等の層
を形成する場合には、流動化ガスに、窒素を含有するア
ンモニア等の反応性ガスを添加してもよい。流動化ガス
の流動層内での流量および流速は良好な流動化に十分な
範囲であればよい。流速等が小さすぎると流動化が不十
分で流動層内の温度分布が不良となる。逆に、大きすぎ
るとガスの使用量が多くなり、また、著しいバブリング
が生じ処理操作が困難になる。また、流動化ガスの粘性
係数は、例えば、１０００℃において、アルゴンでは
６．３×１０-5ｋｇ／ｍ・ｓ、ヘリウムでは５．１×１
０-5ｋｇ／ｍ・ｓである。
常は、図１のように流動層を含む炉本体１を電気炉等の
外部加熱器２内に装入して、外部から流動層を加熱す
る。流動化ガスとしては、通常、アルゴン等の不活性ガ
スを用いる。表面処理層として窒化物や炭窒化物等の層
を形成する場合には、流動化ガスに、窒素を含有するア
ンモニア等の反応性ガスを添加してもよい。流動化ガス
の流動層内での流量および流速は良好な流動化に十分な
範囲であればよい。流速等が小さすぎると流動化が不十
分で流動層内の温度分布が不良となる。逆に、大きすぎ
るとガスの使用量が多くなり、また、著しいバブリング
が生じ処理操作が困難になる。また、流動化ガスの粘性
係数は、例えば、１０００℃において、アルゴンでは
６．３×１０-5ｋｇ／ｍ・ｓ、ヘリウムでは５．１×１
０-5ｋｇ／ｍ・ｓである。
【００１９】また、表面処理層を形成すべき被処理材は
表面処理層の種類によって、適宜選択して用いればよ
く、通常は鉄鋼、ニッケル、等の金属材料や超硬合金、
炭素材料等の非金属を用いる。
表面処理層の種類によって、適宜選択して用いればよ
く、通常は鉄鋼、ニッケル、等の金属材料や超硬合金、
炭素材料等の非金属を用いる。
【００２０】また、ハロゲン化物は、層形成剤粉末と反
応して表面層形成に寄与するハロゲン化物のガスを発生
させるものであれば特に限定はなく、例えば、ハロゲン
化アンモニウム塩、金属ハロゲン化物、アルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属のハロゲン化物、ハロゲン化水素
等のうちの１種以上を用いればよい。また、ハロゲン化
物は、粉末状、ペレット状および／またはガス状で用い
る。ハロゲン化物の添加は流動層式炉加熱前に流動層粉
末中に混合して行ってもよいが、通常は、前記した図１
に示すようにペレット状とし、ハロゲン化物供給用管６
を通して流動層中に供給する。また、ハロゲン化物の添
加量は、表面処理層の種類や厚さ等を考慮して適宜決定
される。
応して表面層形成に寄与するハロゲン化物のガスを発生
させるものであれば特に限定はなく、例えば、ハロゲン
化アンモニウム塩、金属ハロゲン化物、アルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属のハロゲン化物、ハロゲン化水素
等のうちの１種以上を用いればよい。また、ハロゲン化
物は、粉末状、ペレット状および／またはガス状で用い
る。ハロゲン化物の添加は流動層式炉加熱前に流動層粉
末中に混合して行ってもよいが、通常は、前記した図１
に示すようにペレット状とし、ハロゲン化物供給用管６
を通して流動層中に供給する。また、ハロゲン化物の添
加量は、表面処理層の種類や厚さ等を考慮して適宜決定
される。
【００２１】また、表面処理は、通常、４００〜１２０
０℃に、１〜１００時間加熱して行う。
０℃に、１〜１００時間加熱して行う。
【００２２】かかる構成からなる表面処理装置を用い
て、以下のようにして表面処理を行う。すなはち、流動
化ガスによって流動層粉末を流動化させて流動層を形成
し、流動層中に、被処理材を、埋没させ、加熱下、ハロ
ゲン化物の存在のもとに前記被処理材の表面に表面処理
層を形成させるものである。
て、以下のようにして表面処理を行う。すなはち、流動
化ガスによって流動層粉末を流動化させて流動層を形成
し、流動層中に、被処理材を、埋没させ、加熱下、ハロ
ゲン化物の存在のもとに前記被処理材の表面に表面処理
層を形成させるものである。
【００２３】
（実施例１）図１に示す表面処理装置を用いて、鋼表面
に炭化物被覆処理を行った。まず、内径５０ｍｍの炉本
体１下部のガス分散板１２の上にアルミナ粉末からなる
粗粒層７を約１００ｍｍの厚さで設け、その上に流動層
粉末を１０００ｇ挿入した。粗粒層表面から流動層表面
までの厚さは約２６０ｍｍである。流動層粉末には、平
均粒径１．８×１０-4ｍのアルミナと平均粒径１．２×
１０-4ｍのフェロバナジウムの混合粉末を用いた。つい
で、流動化ガスとしてアルゴンガスを毎分１２リットル
の流量でガス供給通路１１よりガス分散板１２を介して
炉本体１内に送入した。これにより、流動層粉末は流動
化し、流動層４が形成された。
に炭化物被覆処理を行った。まず、内径５０ｍｍの炉本
体１下部のガス分散板１２の上にアルミナ粉末からなる
粗粒層７を約１００ｍｍの厚さで設け、その上に流動層
粉末を１０００ｇ挿入した。粗粒層表面から流動層表面
までの厚さは約２６０ｍｍである。流動層粉末には、平
均粒径１．８×１０-4ｍのアルミナと平均粒径１．２×
１０-4ｍのフェロバナジウムの混合粉末を用いた。つい
で、流動化ガスとしてアルゴンガスを毎分１２リットル
の流量でガス供給通路１１よりガス分散板１２を介して
炉本体１内に送入した。これにより、流動層粉末は流動
化し、流動層４が形成された。
【００２４】粗粒層を構成するアルミナの粒径は、上記
条件に基づき（１）式によって計算し決めた。（１）式
の左項の計算にあたって、流動化ガスの流速Ｖは０．１
０ｍ／ｓ、流動化ガスであるアルゴンの粘性係数μは
６．３×１０-5ｋｇ／ｍ・ｓ、粗粒層を構成するアルミ
ナの平均密度Ｐは４．０８×１０3 ｋｇ／ｍ3 、重力加
速度Ｇは９．８ｍ／ｓ2 とした。その結果、左項の値は
5 ．1 ×１０-4ｍ、また、右項の値は７．８×１０-4ｍ
である。
条件に基づき（１）式によって計算し決めた。（１）式
の左項の計算にあたって、流動化ガスの流速Ｖは０．１
０ｍ／ｓ、流動化ガスであるアルゴンの粘性係数μは
６．３×１０-5ｋｇ／ｍ・ｓ、粗粒層を構成するアルミ
ナの平均密度Ｐは４．０８×１０3 ｋｇ／ｍ3 、重力加
速度Ｇは９．８ｍ／ｓ2 とした。その結果、左項の値は
5 ．1 ×１０-4ｍ、また、右項の値は７．８×１０-4ｍ
である。
【００２５】次に、排ガス処理装置（図示せず）に連通
した排ガス排出口５１を有する蓋５によって炉本体を密
閉した後、流動層を加熱器２によって加熱した。流動層
の流動化の程度は、流動化ガスの流量を一定にして供給
すると、温度の上昇とともに激しくなるので、流動化ガ
スの流量を温度の上昇とともに徐々に少なくし、１００
０℃に達したとき毎分２．６リットルとした。したがっ
て、この状態における流動の程度は室温の場合とほぼ同
様である。次に、被処理材３である冷間工具鋼（ＳＫＤ
１１）を、流動層中に埋没した。
した排ガス排出口５１を有する蓋５によって炉本体を密
閉した後、流動層を加熱器２によって加熱した。流動層
の流動化の程度は、流動化ガスの流量を一定にして供給
すると、温度の上昇とともに激しくなるので、流動化ガ
スの流量を温度の上昇とともに徐々に少なくし、１００
０℃に達したとき毎分２．６リットルとした。したがっ
て、この状態における流動の程度は室温の場合とほぼ同
様である。次に、被処理材３である冷間工具鋼（ＳＫＤ
１１）を、流動層中に埋没した。
【００２６】次に、活性剤として、径が５×１０-3ｍの
塩化アンモニウムペレット１０を活性剤供給用ホッパー
８の上部から挿入し、棒９によって活性剤供給管６内
に、１時間に、流動層粉末に対し平均０．８重量％の割
合でプッシュして落下させた。２時間の処理を行った
後、蓋を外して被処理材を炉外へ取り出し室温まで空冷
した。
塩化アンモニウムペレット１０を活性剤供給用ホッパー
８の上部から挿入し、棒９によって活性剤供給管６内
に、１時間に、流動層粉末に対し平均０．８重量％の割
合でプッシュして落下させた。２時間の処理を行った
後、蓋を外して被処理材を炉外へ取り出し室温まで空冷
した。
【００２７】次に、加熱器２の電源を切断して、そのま
ま流動化ガスを流しながら炉本体を室温まで冷却した
後、速やかに流動層粉末を炉本体から取り出し、１４メ
ッシュのふるいにかけて、ふるいの上に残った粉末の固
まりの重量で固化の量を測定した。
ま流動化ガスを流しながら炉本体を室温まで冷却した
後、速やかに流動層粉末を炉本体から取り出し、１４メ
ッシュのふるいにかけて、ふるいの上に残った粉末の固
まりの重量で固化の量を測定した。
【００２８】以上の操作を、粗粒の粒径を（１）式の範
囲内にある６×１０-4ｍ、ならびに（１）式の範囲外に
ある２．１、１０および２０×１０-4ｍの４種類に変化
させて行った結果は、表１の通りであった。いずれの場
合でも被処理材表面には、５〜６μｍの均一な厚さのバ
ナジウム炭化物層が形成されていた。しかし、固化した
流動層粉末の重量には大きな違いがみられた。すなわ
ち、層形成剤粉末の粒径ｄ（１．３×１０-4ｍ）に対す
る（１）式の範囲より大きな粒径となる１０および２０
×１０-4ｍの粗粒の場合には、ふるいの上に数ｃｍの粉
末の固まりが見られたが，前記範囲に相当する粒径６×
１０-4ｍ、およびこの範囲より小さな粒径２．１×１０
-4ｍの粗粒を用いた場合には、固化した粉末はなかっ
た。しかし、粒径２．１×１０-4ｍの粗粒の場合は、そ
れ自身が流動化し、分散板が流動層粉末や雰囲気に曝さ
れてしまった。
囲内にある６×１０-4ｍ、ならびに（１）式の範囲外に
ある２．１、１０および２０×１０-4ｍの４種類に変化
させて行った結果は、表１の通りであった。いずれの場
合でも被処理材表面には、５〜６μｍの均一な厚さのバ
ナジウム炭化物層が形成されていた。しかし、固化した
流動層粉末の重量には大きな違いがみられた。すなわ
ち、層形成剤粉末の粒径ｄ（１．３×１０-4ｍ）に対す
る（１）式の範囲より大きな粒径となる１０および２０
×１０-4ｍの粗粒の場合には、ふるいの上に数ｃｍの粉
末の固まりが見られたが，前記範囲に相当する粒径６×
１０-4ｍ、およびこの範囲より小さな粒径２．１×１０
-4ｍの粗粒を用いた場合には、固化した粉末はなかっ
た。しかし、粒径２．１×１０-4ｍの粗粒の場合は、そ
れ自身が流動化し、分散板が流動層粉末や雰囲気に曝さ
れてしまった。
【００２９】
【表１】
【００３０】（実施例２）炉本体の内径を２００ｍｍ、
粗粒層の厚さを１００ｍｍ、流動層粉末の厚さを６００
ｍｍ、塩化アンモニウムペレットの添加量を１時間に、
流動層粉末に対し平均０．０１重量％、１０００℃にお
ける流動化ガスの流量を４０リットルとした以外は実施
例１と同一の条件で，炭化物被覆処理を行った。炉本体
の内径および流動化ガスの流量を変えたことにより
（１）式の左項の値は４．９×１０-4ｍである。
粗粒層の厚さを１００ｍｍ、流動層粉末の厚さを６００
ｍｍ、塩化アンモニウムペレットの添加量を１時間に、
流動層粉末に対し平均０．０１重量％、１０００℃にお
ける流動化ガスの流量を４０リットルとした以外は実施
例１と同一の条件で，炭化物被覆処理を行った。炉本体
の内径および流動化ガスの流量を変えたことにより
（１）式の左項の値は４．９×１０-4ｍである。
【００３１】粗粒の粒径を、実施例１と同様に、４種類
に変化させて炭化物被覆処理を行った。該処理によって
生成した固化粉末の重量は、表２の通りである。（１）
式の範囲より大きな粒径２０×１０-4ｍの粉末の場合で
は固化が多かったが、（１）式の範囲に相当する粒径６
×１０-4ｍおよびこの範囲より小さな粒径２．１×１０
-4ｍの粉末を設置した場合には、粉末は固化しなかっ
た。しかし、粒径２．１×１０-4ｍの粗粒の場合は、実
施例１と同様に、それ自身が流動化し、分散板が流動層
粉末や雰囲気に曝されてしまった。このように、粗粒層
を流動層粉末とガス分散板との間に設けることによっ
て、流動層粉末の固化を防止し得ると同時にガス分散板
を流動層粉末および流動層内の雰囲気から保護すること
ができる。
に変化させて炭化物被覆処理を行った。該処理によって
生成した固化粉末の重量は、表２の通りである。（１）
式の範囲より大きな粒径２０×１０-4ｍの粉末の場合で
は固化が多かったが、（１）式の範囲に相当する粒径６
×１０-4ｍおよびこの範囲より小さな粒径２．１×１０
-4ｍの粉末を設置した場合には、粉末は固化しなかっ
た。しかし、粒径２．１×１０-4ｍの粗粒の場合は、実
施例１と同様に、それ自身が流動化し、分散板が流動層
粉末や雰囲気に曝されてしまった。このように、粗粒層
を流動層粉末とガス分散板との間に設けることによっ
て、流動層粉末の固化を防止し得ると同時にガス分散板
を流動層粉末および流動層内の雰囲気から保護すること
ができる。
【００３２】
【表２】
【００３３】
【図１】 本実施例１で使用した表面処理装置の概略図
１．炉本体 ２．加熱器 ３．被処理材 ４．流動層 ５．蓋 ６．ハロゲン化物供給手段 ７．粗粒層 ８．活性剤供給用ホッパー １０．ペレット １２．ガス分散板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 10/34 F27B 15/00
Claims (1)
- 【請求項１】流動化ガス導入口と、該流動化ガス導入口
と連通したガス分散板と、ガス排出口とを有する炉本体
と、該炉本体内部の、前記ガス分散板上部に配置された
アルミナ等の耐火物粉末と被処理材表面に表面処理層を
形成するための金属および/または合金粉末との混合粉
末から構成される流動層粉末と、該炉本体を加熱する加
熱手段とからなり、流動化ガスによって前記流動層粉末
を流動化させて、流動層を形成し、該流動層内におい
て、加熱下、ハロゲン化物の存在のもとに被処理材の表
面に表面処理層を形成する表面処理装置であって、前記
流動層とガス分散板との間に、以下の関係式を満足する
平均粒径D（m）を有する粉末からなり、流動化ガスによ
って流動化しない粗粒層が配置されてなることを特徴と
する表面処理装置。 （１６５０Ｖμ／ＰＧ）1/2＜Ｄ＜６．５ｄ Ｖ 流動化ガスの流速（ｍ／ｓ） μ 流動化ガスの粘性係数（ｋｇ／ｍ・ｓ） Ｐ 粗粒層を構成する粉末の平均密度（ｋｇ／ｍ3） Ｇ 重力加速度（９．８ｍ／ｓ2） ｄ 金属および／または合金粉末の平均粒径（ｍ）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16633293A JP3189507B2 (ja) | 1992-06-30 | 1993-06-11 | 表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-197602 | 1992-06-30 | ||
| JP19760292 | 1992-06-30 | ||
| JP16633293A JP3189507B2 (ja) | 1992-06-30 | 1993-06-11 | 表面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673525A JPH0673525A (ja) | 1994-03-15 |
| JP3189507B2 true JP3189507B2 (ja) | 2001-07-16 |
Family
ID=16377209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16633293A Expired - Lifetime JP3189507B2 (ja) | 1992-06-30 | 1993-06-11 | 表面処理装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5620521A (ja) |
| EP (1) | EP0577086B1 (ja) |
| JP (1) | JP3189507B2 (ja) |
| DE (1) | DE69324072T2 (ja) |
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| ES (1) | ES2132153T3 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| DE4443914A1 (de) * | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Bayerische Motoren Werke Ag | Thermochemische Wärmebehandlung eines Metall-Bauteiles mittels Diffusion eines Elementes in einer Wirbelbett-Vorrichtung |
| US7621887B2 (en) * | 2000-10-10 | 2009-11-24 | Meridian Medical Technologies, Inc. | Wet/dry automatic injector assembly |
| US6506048B1 (en) * | 2001-11-01 | 2003-01-14 | Procedyne Corp. | Apparatus and method for transferring heat treated parts |
| CA2502575A1 (en) * | 2002-11-15 | 2004-06-03 | University Of Utah Research Foundation | Integral titanium boride coatings on titanium surfaces and associated methods |
| US7459105B2 (en) * | 2005-05-10 | 2008-12-02 | University Of Utah Research Foundation | Nanostructured titanium monoboride monolithic material and associated methods |
| EP2487441A3 (en) * | 2005-07-21 | 2012-11-21 | Hard Technologies Pty Ltd | Duplex surface treatment of metal objects |
| CN1962886A (zh) * | 2006-11-23 | 2007-05-16 | 中冶华天工程技术有限公司 | 一种合金化微调方法 |
| US7905433B2 (en) * | 2007-06-20 | 2011-03-15 | New Jersey Institute Of Technology | Systems and methods for reducing electrostatic charge in a fluidized bed |
| US20100176339A1 (en) * | 2009-01-12 | 2010-07-15 | Chandran K S Ravi | Jewelry having titanium boride compounds and methods of making the same |
| US9585199B2 (en) * | 2013-10-30 | 2017-02-28 | Atomic Energy Council—Institute of Nuclear Energy Research | Hybrid heating apparatus applicable to the moving granular bed filter |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4217851A (en) * | 1979-08-27 | 1980-08-19 | American Cyanamid Company | Tablet coating apparatus |
| US4314525A (en) * | 1980-03-03 | 1982-02-09 | California Institute Of Technology | Fluidized bed silicon deposition from silane |
| CA1164632A (en) * | 1981-10-19 | 1984-04-03 | Jorg-Hein Walling | Fluidizable bed structure |
| JPS60251274A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-11 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 窒化物被覆方法 |
| DE3431044A1 (de) * | 1984-08-23 | 1986-03-06 | Elektroschmelzwerk Kempten GmbH, 8000 München | Verfahren zum borieren von metall und metall-legierungen mittels fester boriermittel |
| JPS6280258A (ja) * | 1985-10-03 | 1987-04-13 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 表面処理方法及びその装置 |
| JPH0819514B2 (ja) * | 1986-07-07 | 1996-02-28 | 株式会社豊田中央研究所 | 表面処理方法およびその装置 |
| US4806387A (en) * | 1986-08-05 | 1989-02-21 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for coating metal part with synthetic resin |
| JPS6447844A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-22 | Toyota Central Res & Dev | Method and apparatus for treating surface |
| DK0471276T3 (da) * | 1990-08-10 | 1996-03-18 | Toyoda Chuo Kenkyusho Kk | Fremgangsmåde til fremstilling af et nitrid- eller carbonnitridlag |
| US5236503A (en) * | 1991-10-28 | 1993-08-17 | Glatt Air Techniques, Inc. | Fluidized bed with spray nozzle shielding |
-
1993
- 1993-06-11 JP JP16633293A patent/JP3189507B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-29 DE DE69324072T patent/DE69324072T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-06-29 EP EP93110384A patent/EP0577086B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-29 DK DK93110384T patent/DK0577086T3/da active
- 1993-06-29 ES ES93110384T patent/ES2132153T3/es not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-02-10 US US08/386,230 patent/US5620521A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69324072T2 (de) | 1999-12-09 |
| JPH0673525A (ja) | 1994-03-15 |
| EP0577086A1 (en) | 1994-01-05 |
| US5620521A (en) | 1997-04-15 |
| DE69324072D1 (de) | 1999-04-29 |
| DK0577086T3 (da) | 2000-06-05 |
| ES2132153T3 (es) | 1999-08-16 |
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