JPH0938670A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPH0938670A JPH0938670A JP19655895A JP19655895A JPH0938670A JP H0938670 A JPH0938670 A JP H0938670A JP 19655895 A JP19655895 A JP 19655895A JP 19655895 A JP19655895 A JP 19655895A JP H0938670 A JPH0938670 A JP H0938670A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- producing
- ultrapure water
- urea
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＴＯＣが著しく低減された超純水を製造す
る。 【解決手段】 水溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩とによる
酸化手段を含む原水の前処理装置、一次純水製造装置及
び二次純水製造装置を備える超純水製造装置。 【効果】 従来の前処理装置では除去し得ず、超純水中
のＴＯＣ源となる、原水中の尿素を、ＮａＢｒ＋ＮａＣ
ｌＯ→ＮａＢｒＯ＋ＮａＣｌの反応で生成したＮａＢｒ
Ｏにより高度に分解除去することができ、ＴＯＣ濃度が
著しく低減された超純水を得ることが可能とされる。
る。 【解決手段】 水溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩とによる
酸化手段を含む原水の前処理装置、一次純水製造装置及
び二次純水製造装置を備える超純水製造装置。 【効果】 従来の前処理装置では除去し得ず、超純水中
のＴＯＣ源となる、原水中の尿素を、ＮａＢｒ＋ＮａＣ
ｌＯ→ＮａＢｒＯ＋ＮａＣｌの反応で生成したＮａＢｒ
Ｏにより高度に分解除去することができ、ＴＯＣ濃度が
著しく低減された超純水を得ることが可能とされる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明の超純水製造装置に係
り、特に、製造される超純水中のＴＯＣ（全有機体炭
素）を現状より大幅に低減化することができる超純水製
造装置に関する。
り、特に、製造される超純水中のＴＯＣ（全有機体炭
素）を現状より大幅に低減化することができる超純水製
造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、市水、地下水、工水等の原水から
超純水を製造する超純水製造装置は、基本的に、図１，
２に示す如く、前処理装置１、一次純水製造装置２及び
二次純水製造装置３から構成される。このうち、前処理
装置１は、凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過装置で構成さ
れる。一次純水製造装置は、図１に示す如く、２基の逆
浸透膜分離装置及び混床式イオン交換装置、或いは、図
２に示す如く、イオン交換純水装置（２床３塔式又は４
床５塔式）及び逆浸透膜分離装置で構成され、また、二
次純水製造装置は、低圧紫外線酸化装置、混床式イオン
交換装置及び限外濾過膜分離装置で構成される。
超純水を製造する超純水製造装置は、基本的に、図１，
２に示す如く、前処理装置１、一次純水製造装置２及び
二次純水製造装置３から構成される。このうち、前処理
装置１は、凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過装置で構成さ
れる。一次純水製造装置は、図１に示す如く、２基の逆
浸透膜分離装置及び混床式イオン交換装置、或いは、図
２に示す如く、イオン交換純水装置（２床３塔式又は４
床５塔式）及び逆浸透膜分離装置で構成され、また、二
次純水製造装置は、低圧紫外線酸化装置、混床式イオン
交換装置及び限外濾過膜分離装置で構成される。
【０００３】これらの各装置単位において、原水中のＴ
ＯＣ成分を分離、吸着、分解等の手段で低減化するもの
は、逆浸透膜分離装置、イオン交換純水装置、低圧紫外
線酸化装置である。
ＯＣ成分を分離、吸着、分解等の手段で低減化するもの
は、逆浸透膜分離装置、イオン交換純水装置、低圧紫外
線酸化装置である。
【０００４】各装置単位におけるＴＯＣ低減化機構は次
の通りである。 逆浸透膜分離装置：逆浸透膜を用いた濾過法であり、イ
オン性、コロイド性のＴＯＣを除去する。 イオン交換純水装置：イオン交換樹脂に吸着又はイオン
交換されるＴＯＣ成分を除去する。 低圧紫外線酸化装置：低圧紫外線ランプより出される１
８５ｎｍの紫外線によりＴＯＣを有機酸さらにはＣＯ2
まで分解する。分解された有機物は後段のイオン交換樹
脂で除去する。特に、揮発性有機物の分解に用いられ
る。 しかしながら、上記従来の超純水製造装置により製造さ
れた超純水中には、ＴＯＣが２〜５ｐｐｂ程度存在す
る。本出願人は、超純水中のＴＯＣ成分の由来について
検討した結果、現状の超純水製造装置で除去できずに超
純水中に残存するＴＯＣ成分は、主に原水（市水、工水
等）中に存在する尿素（ＮＨ2 ＣＯＮＨ2 ）であり、超
純水のＴＯＣのうち５０％以上を尿素が占めており、原
水中の尿素濃度が上昇するにつれ、得られる超純水中の
ＴＯＣが上昇することが判明した。
の通りである。 逆浸透膜分離装置：逆浸透膜を用いた濾過法であり、イ
オン性、コロイド性のＴＯＣを除去する。 イオン交換純水装置：イオン交換樹脂に吸着又はイオン
交換されるＴＯＣ成分を除去する。 低圧紫外線酸化装置：低圧紫外線ランプより出される１
８５ｎｍの紫外線によりＴＯＣを有機酸さらにはＣＯ2
まで分解する。分解された有機物は後段のイオン交換樹
脂で除去する。特に、揮発性有機物の分解に用いられ
る。 しかしながら、上記従来の超純水製造装置により製造さ
れた超純水中には、ＴＯＣが２〜５ｐｐｂ程度存在す
る。本出願人は、超純水中のＴＯＣ成分の由来について
検討した結果、現状の超純水製造装置で除去できずに超
純水中に残存するＴＯＣ成分は、主に原水（市水、工水
等）中に存在する尿素（ＮＨ2 ＣＯＮＨ2 ）であり、超
純水のＴＯＣのうち５０％以上を尿素が占めており、原
水中の尿素濃度が上昇するにつれ、得られる超純水中の
ＴＯＣが上昇することが判明した。
【０００５】そして、尿素を分解除去して得られる超純
水のＴＯＣを低減するシステムとして、前処理装置に尿
素の酵素分解装置を設けた超純水製造装置（特開平６−
８６９９７号公報）、及び、前処理装置に尿素の生物処
理手段を設けた超純水製造装置（特開平６−６３５９２
号公報）を先に提案した。
水のＴＯＣを低減するシステムとして、前処理装置に尿
素の酵素分解装置を設けた超純水製造装置（特開平６−
８６９９７号公報）、及び、前処理装置に尿素の生物処
理手段を設けた超純水製造装置（特開平６−６３５９２
号公報）を先に提案した。
【０００６】なお、化学大辞典（1989年（株）東京化学
同人）によれば、尿素の分解に関して、次のように記載
されている。
同人）によれば、尿素の分解に関して、次のように記載
されている。
【０００７】「静かに加熱すればアンモニアに、急熱す
ればシアヌル酸とアンモニアに分解される。酸、アルカ
リとの加熱、又は酵素ウレアーゼの作用（室温）により
加水分解し、アンモニアと炭酸になる。亜硝酸によって
炭酸、窒素、水に分解される。アルカリ性溶液中で次亜
臭素酸塩と作用させれば下記反応により窒素を生ずる
が、この反応はウレアーゼによる反応とともに尿素の定
量に用いられる。
ればシアヌル酸とアンモニアに分解される。酸、アルカ
リとの加熱、又は酵素ウレアーゼの作用（室温）により
加水分解し、アンモニアと炭酸になる。亜硝酸によって
炭酸、窒素、水に分解される。アルカリ性溶液中で次亜
臭素酸塩と作用させれば下記反応により窒素を生ずる
が、この反応はウレアーゼによる反応とともに尿素の定
量に用いられる。
【０００８】 CO(NH2)2＋3NaBrO＋2NaOH → N2 ＋Na2CO3＋3NaBr ＋3H2O 」 従来において、このように血中の尿素濃度等を測定する
ためにＮａＢｒＯを用いることは知られているが、超純
水製造システムのように大容量かつ連続処理システムに
おいて、市水、地下水、工業用水等に含有される微量尿
素を分解するためにＮａＢｒＯを用いることは知られて
いない。
ためにＮａＢｒＯを用いることは知られているが、超純
水製造システムのように大容量かつ連続処理システムに
おいて、市水、地下水、工業用水等に含有される微量尿
素を分解するためにＮａＢｒＯを用いることは知られて
いない。
【０００９】一方、尿素の分解には直接関与しないが、
特開平１−１５２００号公報には、ＮａＢｒ等の臭化塩
とＮａＣｌＯ等の次亜塩素酸塩から、下記反応で生成さ
せたＮａＢｒＯ等の次亜臭素酸塩を有効成分とするスラ
イム防除剤が開示されている。
特開平１−１５２００号公報には、ＮａＢｒ等の臭化塩
とＮａＣｌＯ等の次亜塩素酸塩から、下記反応で生成さ
せたＮａＢｒＯ等の次亜臭素酸塩を有効成分とするスラ
イム防除剤が開示されている。
【００１０】 ＮａＢｒ＋ＮａＣｌＯ→ＮａＢｒＯ＋ＮａＣｌ また、特開平６−２６９７８５号公報には、下記反応
で、臭化アルカリとオゾンとの反応で生成させた次亜臭
素酸アルカリにより、原水中の還元性窒素を分解する方
法が開示されている。
で、臭化アルカリとオゾンとの反応で生成させた次亜臭
素酸アルカリにより、原水中の還元性窒素を分解する方
法が開示されている。
【００１１】 Ｂｒ- ＋Ｏ3 →ＢｒＯ- ＋Ｏ2 ２ＮＨ3 ＋３ＢｒＯ- →Ｎ2 ＋３Ｂｒ- ＋３Ｈ2 Ｏ
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】前述の酵素分解装置や
生物処理手段を前処理装置に設けた超純水製造装置によ
れば、原水中の尿素を効率的に分解してＴＯＣが著しく
低減された超純水を製造することができるが、超純水製
造装置における尿素の効率的分解手段として、下記条件
を満足しうる更に別の手段の開発も望まれている。
生物処理手段を前処理装置に設けた超純水製造装置によ
れば、原水中の尿素を効率的に分解してＴＯＣが著しく
低減された超純水を製造することができるが、超純水製
造装置における尿素の効率的分解手段として、下記条件
を満足しうる更に別の手段の開発も望まれている。
【００１３】 微量域（数十〜数百ｐｐｂ）の尿素を分解できる 反応速度が速い（少なくとも３０分以内） 室温（２５℃前後）で反応が進む 本発明は上記従来の実情に鑑みてなされたものであっ
て、原水中の尿素を効率的に分解してＴＯＣが著しく低
減された超純水を製造することができる超純水製造装置
を提供することを目的とする。
て、原水中の尿素を効率的に分解してＴＯＣが著しく低
減された超純水を製造することができる超純水製造装置
を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の超純水製造装置
は、原水の前処理装置、一次純水製造装置及び二次純水
製造装置を備える超純水製造装置において、該前処理装
置は、水溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩とによる酸化手段
を含むことを特徴とする。
は、原水の前処理装置、一次純水製造装置及び二次純水
製造装置を備える超純水製造装置において、該前処理装
置は、水溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩とによる酸化手段
を含むことを特徴とする。
【００１５】即ち、本発明者らは、生物処理又は酵素分
解以外の尿素分解手段であって、室温で実現可能な手段
として、次亜臭素酸塩（ＮａＢｒＯ）或いは亜硝酸塩
（ＮａＮＯ2 ）を用いることを検討した。そして、次亜
臭素酸塩（ＮａＢｒＯ）であれば、前記〜の条件を
満足し得ることを知見した。
解以外の尿素分解手段であって、室温で実現可能な手段
として、次亜臭素酸塩（ＮａＢｒＯ）或いは亜硝酸塩
（ＮａＮＯ2 ）を用いることを検討した。そして、次亜
臭素酸塩（ＮａＢｒＯ）であれば、前記〜の条件を
満足し得ることを知見した。
【００１６】しかしながら、ＮａＢｒＯはＮａＯＨ濃厚
水溶液に臭素（Ｂｒ2 ）を反応させて製造するため、試
薬としてでしか存在せず、非常に高価であり（6000円／
ｋｇ）、超純水製造装置の実用化には適当ではない。
水溶液に臭素（Ｂｒ2 ）を反応させて製造するため、試
薬としてでしか存在せず、非常に高価であり（6000円／
ｋｇ）、超純水製造装置の実用化には適当ではない。
【００１７】そこで、ＮａＢｒＯの製造法、或いは、Ｎ
ａＢｒＯを用いる反応について検討した結果、ＮａＢｒ
Ｏによりアンモニア（ＮＨ3 ）を分解することができ、
下記反応で、尿素の分解と同様にＮ2 を生成するとの情
報を得た（W.R.Haag et al,Water Res., Vol.18, No.9,
pp1125-1128(1984))。
ａＢｒＯを用いる反応について検討した結果、ＮａＢｒ
Ｏによりアンモニア（ＮＨ3 ）を分解することができ、
下記反応で、尿素の分解と同様にＮ2 を生成するとの情
報を得た（W.R.Haag et al,Water Res., Vol.18, No.9,
pp1125-1128(1984))。
【００１８】 ２ＮＨ3 ＋３ＮａＢｒＯ→Ｎ2 ＋３ＮａＢｒ＋３Ｈ2 Ｏ 上記文献中には、ＮａＢｒＯの生成法として、ＮａＢｒ
にＯ3 ガスを反応させ目的物質を製造することが記載さ
れている。
にＯ3 ガスを反応させ目的物質を製造することが記載さ
れている。
【００１９】本発明者らは、この方式でＮａＢｒにＯ3
ガスを反応させてＮａＢｒＯを生成させ、原水中の尿素
を分解させることを検討した結果、分解率９０％以上の
良好な結果を得ることができた。
ガスを反応させてＮａＢｒＯを生成させ、原水中の尿素
を分解させることを検討した結果、分解率９０％以上の
良好な結果を得ることができた。
【００２０】しかしながら、上記Ｏ3 ガスを適用する方
式は、以下のような問題点があり、水処理技術に応用す
るには不適当であり、別の方式が望まれる。
式は、以下のような問題点があり、水処理技術に応用す
るには不適当であり、別の方式が望まれる。
【００２１】(i) Ｏ3 ガス発生装置が高価である (ii) Ｏ3 反応塔（Ｏ3 ガスを水中に溶解させるための
塔）として高さ３ｍ以上の反応塔を必要とする (iii) 残留Ｏ3 を後処理（還元法又は活性炭分解法）で
確実に分解する必要がある そこで、本発明者らは、ＮａＢｒＯを簡易に製造する方
法について種々検討した結果、水処理の分野では非常に
一般的な次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ）とＮａＢｒと
を反応させることにより、ＮａＢｒＯが生成し、これに
より、原水中の尿素を効率的に分解できることを発見し
た。このＮａＢｒＯ生成反応は、以下の通りであると推
定される。
塔）として高さ３ｍ以上の反応塔を必要とする (iii) 残留Ｏ3 を後処理（還元法又は活性炭分解法）で
確実に分解する必要がある そこで、本発明者らは、ＮａＢｒＯを簡易に製造する方
法について種々検討した結果、水処理の分野では非常に
一般的な次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ）とＮａＢｒと
を反応させることにより、ＮａＢｒＯが生成し、これに
より、原水中の尿素を効率的に分解できることを発見し
た。このＮａＢｒＯ生成反応は、以下の通りであると推
定される。
【００２２】 ＮａＢｒ＋ＮａＣｌＯ→ＮａＢｒＯ＋ＮａＣｌ ところで、本発明者らは、難溶性臭化物塩であるＡｇＢ
ｒとＮａＣｌＯとを用いて原水中の尿素の分解を試みた
ところ、尿素は分解されないことが判明した。
ｒとＮａＣｌＯとを用いて原水中の尿素の分解を試みた
ところ、尿素は分解されないことが判明した。
【００２３】この結果から、原水中の尿素分解機構とし
ては、水に溶解しているＢｒ- イオンが触媒作用を奏す
るものと推定された。
ては、水に溶解しているＢｒ- イオンが触媒作用を奏す
るものと推定された。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
【００２５】本発明の超純水製造装置は、図１，２に示
すような超純水製造装置において、前処理装置に、水溶
性臭化物塩と次亜塩素酸塩との添加手段を設けると共
に、水溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩との反応、及び、水
溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩との反応で生成する次亜臭
素酸塩と尿素との反応に必要な滞留時間を確保する手段
を設けることにより、容易に実現できる。
すような超純水製造装置において、前処理装置に、水溶
性臭化物塩と次亜塩素酸塩との添加手段を設けると共
に、水溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩との反応、及び、水
溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩との反応で生成する次亜臭
素酸塩と尿素との反応に必要な滞留時間を確保する手段
を設けることにより、容易に実現できる。
【００２６】水溶性臭化物塩及び次亜塩素酸塩の添加手
段としては、適当な配管に水溶性臭化物塩と次亜塩素酸
塩の注入配管を接続すれば良く、また、上記滞留時間の
確保のためには、別途反応槽を設けても良いが、一般
に、凝集→加圧浮上（沈殿）→濾過といった前処理設備
の滞留時間は少なくとも１時間以上あるため、これを代
用しても良い。
段としては、適当な配管に水溶性臭化物塩と次亜塩素酸
塩の注入配管を接続すれば良く、また、上記滞留時間の
確保のためには、別途反応槽を設けても良いが、一般
に、凝集→加圧浮上（沈殿）→濾過といった前処理設備
の滞留時間は少なくとも１時間以上あるため、これを代
用しても良い。
【００２７】従って、具体的には、前処理装置として
は、次のような構成とするのが好ましい。
は、次のような構成とするのが好ましい。
【００２８】(1) 原水→（水溶性臭化物塩及び次亜塩素
酸塩添加）→反応槽→限外濾過膜分離装置→一次純水製
造装置へ (2) 原水→（水溶性臭化物塩及び次亜塩素酸塩添加）→
凝集・加圧浮上（沈殿）→重力式濾過器→一次純水製造
装置へ (3) 原水→（水溶性臭化物塩及び次亜塩素酸塩添加）→
反応槽→重力式濾過器→一次純水製造装置へ 本発明において、水溶性臭化物塩としては、ＮａＢｒ，
ＫＢｒ，ＮＨ4 Ｂｒ，ＣａＢｒ2 等を用いることがで
き、また、次亜塩素酸塩としてはＮａＣｌＯ，サラシ粉
等を用いることができる。これらの水溶性臭化物塩及び
次亜塩素酸塩は、適当な濃度の水溶液として添加され
る。
酸塩添加）→反応槽→限外濾過膜分離装置→一次純水製
造装置へ (2) 原水→（水溶性臭化物塩及び次亜塩素酸塩添加）→
凝集・加圧浮上（沈殿）→重力式濾過器→一次純水製造
装置へ (3) 原水→（水溶性臭化物塩及び次亜塩素酸塩添加）→
反応槽→重力式濾過器→一次純水製造装置へ 本発明において、水溶性臭化物塩としては、ＮａＢｒ，
ＫＢｒ，ＮＨ4 Ｂｒ，ＣａＢｒ2 等を用いることがで
き、また、次亜塩素酸塩としてはＮａＣｌＯ，サラシ粉
等を用いることができる。これらの水溶性臭化物塩及び
次亜塩素酸塩は、適当な濃度の水溶液として添加され
る。
【００２９】水溶性臭化物塩及び次亜塩素酸塩の添加量
は、原水中の尿素に見合った量、即ち、原水中の尿素の
分解に必要な量とされるが、原水の尿素濃度は年間で変
動し、また、原水中の尿素を連続的にモニタリングする
手段は、一般に用いられていないことから、必要量の２
〜３倍当量、例えば、通常の市水、地下水、工水を原水
とする超純水製造装置であれば、ＮａＢｒ：０．１〜５
０ｐｐｍ、ＮａＣｌＯ：０．５〜２０ｐｐｍ（Ｃｌ2 と
して）の割合で添加するのが好ましい。
は、原水中の尿素に見合った量、即ち、原水中の尿素の
分解に必要な量とされるが、原水の尿素濃度は年間で変
動し、また、原水中の尿素を連続的にモニタリングする
手段は、一般に用いられていないことから、必要量の２
〜３倍当量、例えば、通常の市水、地下水、工水を原水
とする超純水製造装置であれば、ＮａＢｒ：０．１〜５
０ｐｐｍ、ＮａＣｌＯ：０．５〜２０ｐｐｍ（Ｃｌ2 と
して）の割合で添加するのが好ましい。
【００３０】また、反応時間、即ち、滞留時間は原水中
の尿素濃度によっても異なるが、５分以上の反応時間を
確保するのが好ましい。
の尿素濃度によっても異なるが、５分以上の反応時間を
確保するのが好ましい。
【００３１】なお、反応系のｐＨは、４〜１１の範囲で
あれば良いが、反応効率の面からはｐＨ５〜８に調整す
ることが望ましい。
あれば良いが、反応効率の面からはｐＨ５〜８に調整す
ることが望ましい。
【００３２】本発明の超純水製造装置は、前処理装置に
おいて、前記(1) 〜(3) の如く、水溶性臭化物塩及び次
亜塩素酸塩による尿素の分解手段を設けること以外は、
図１，２に示す従来の超純水製造装置と同様な構成とす
ることができ、前処理装置１で処理された前処理水は、
次いで一次純水製造装置２において、まず、第１の逆浸
透膜分離装置及び第２の逆浸透膜分離装置にて２段逆浸
透膜分離処理され、更に混床式イオン交換装置でイオン
交換される。或いは、イオン交換純水装置と逆浸透膜分
離装置で処理される。
おいて、前記(1) 〜(3) の如く、水溶性臭化物塩及び次
亜塩素酸塩による尿素の分解手段を設けること以外は、
図１，２に示す従来の超純水製造装置と同様な構成とす
ることができ、前処理装置１で処理された前処理水は、
次いで一次純水製造装置２において、まず、第１の逆浸
透膜分離装置及び第２の逆浸透膜分離装置にて２段逆浸
透膜分離処理され、更に混床式イオン交換装置でイオン
交換される。或いは、イオン交換純水装置と逆浸透膜分
離装置で処理される。
【００３３】更に、一次純水製造装置２の処理水は、二
次純水製造装置３にて、タンクを経て低圧紫外線酸化装
置に導入され、含有されるＴＯＣがイオン化ないし分解
され、このうち、イオン化された有機物は、後段の混床
式イオン交換装置で除去される。この混床式イオン交換
装置の処理水は更に限外濾過膜分離装置で膜分離処理さ
れ、超純水が得られる。
次純水製造装置３にて、タンクを経て低圧紫外線酸化装
置に導入され、含有されるＴＯＣがイオン化ないし分解
され、このうち、イオン化された有機物は、後段の混床
式イオン交換装置で除去される。この混床式イオン交換
装置の処理水は更に限外濾過膜分離装置で膜分離処理さ
れ、超純水が得られる。
【００３４】このように、本発明の超純水製造装置にお
いては、原水を直接通水する前処理装置として、水溶性
臭化物塩及び次亜塩素酸塩による尿素の酸化分解手段を
設けること以外は、基本的に従来の超純水製造装置と同
様の構成とすることができ、一次純水製造装置及び二次
純水製造装置における逆浸透膜分離装置やイオン交換純
水装置等の各装置単位の組み合せや構成は従来のものを
そのまま採用することができる。
いては、原水を直接通水する前処理装置として、水溶性
臭化物塩及び次亜塩素酸塩による尿素の酸化分解手段を
設けること以外は、基本的に従来の超純水製造装置と同
様の構成とすることができ、一次純水製造装置及び二次
純水製造装置における逆浸透膜分離装置やイオン交換純
水装置等の各装置単位の組み合せや構成は従来のものを
そのまま採用することができる。
【００３５】
【実施例】以下に具体的な実施例及び比較例を挙げて本
発明をより具体的に説明する。
発明をより具体的に説明する。
【００３６】実施例１ 図１に示す超純水製造装置により原水（厚木市水（平成
７年４月〜６月））の処理を行なった。なお、前処理装
置としては、原水として市水を用いたため、凝集・加圧
浮上（沈澱）・濾過装置は省略し、滞留時間１５分の反
応槽を設け、反応槽の原水流入側で、ＮａＢｒ：５ｐｐ
ｍと、ＮａＣｌＯ：５ｐｐｍ（Ｃｌ2 として）とを添加
した。また、この反応槽流出側で還元剤としてＮａＨＳ
Ｏ3 を１０ｐｐｍ添加した。
７年４月〜６月））の処理を行なった。なお、前処理装
置としては、原水として市水を用いたため、凝集・加圧
浮上（沈澱）・濾過装置は省略し、滞留時間１５分の反
応槽を設け、反応槽の原水流入側で、ＮａＢｒ：５ｐｐ
ｍと、ＮａＣｌＯ：５ｐｐｍ（Ｃｌ2 として）とを添加
した。また、この反応槽流出側で還元剤としてＮａＨＳ
Ｏ3 を１０ｐｐｍ添加した。
【００３７】その他の装置の仕様は次の通りである。
【００３８】逆浸透膜分離装置：日東電工（株）製「Ｎ
ＴＲ−７５９ＨＲ−Ｓ４」（ＮａＣｌ除去率＞９９％） 混床式イオン交換装置：非再生型，ＳＶ＝６０ｈｒ-1 低圧紫外線酸化装置：０．３ｋｗＨ／ｍ3 限外濾過膜分離装置：外圧中空糸型限外濾過膜 得られた超純水のＴＯＣを表１に示す。
ＴＲ−７５９ＨＲ−Ｓ４」（ＮａＣｌ除去率＞９９％） 混床式イオン交換装置：非再生型，ＳＶ＝６０ｈｒ-1 低圧紫外線酸化装置：０．３ｋｗＨ／ｍ3 限外濾過膜分離装置：外圧中空糸型限外濾過膜 得られた超純水のＴＯＣを表１に示す。
【００３９】比較例１ 反応槽を設けず、ＮａＢｒ及びＮａＣｌＯの添加を行わ
なかったこと以外は実施例１と同様に処理を行なった。
得られた超純水のＴＯＣを表１に示す。
なかったこと以外は実施例１と同様に処理を行なった。
得られた超純水のＴＯＣを表１に示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】表１より明らかなように、本発明の超純水
製造装置によれば、ＴＯＣが０．６〜１．０ｐｐｂまで
低下し、著しく高水質の超純水が得られる。
製造装置によれば、ＴＯＣが０．６〜１．０ｐｐｂまで
低下し、著しく高水質の超純水が得られる。
【００４２】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の超純水製造
装置によれば、市水、地下水、工業用水を原水として超
純水を製造するに当り、得られる超純水に含まれるＴＯ
Ｃを著しく低減し、極めて純度の高い超純水を製造する
ことが可能とされる。
装置によれば、市水、地下水、工業用水を原水として超
純水を製造するに当り、得られる超純水に含まれるＴＯ
Ｃを著しく低減し、極めて純度の高い超純水を製造する
ことが可能とされる。
【図１】超純水製造装置の一例を示す系統図である。
【図２】超純水製造装置の別の例を示す系統図である。
１ 前処理装置 ２ 一次純水製造装置 ３ 二次純水製造装置
Claims (1)
- 【請求項１】 原水の前処理装置、一次純水製造装置及
び二次純水製造装置を備える超純水製造装置において、 該前処理装置は、水溶性臭化物塩と次亜塩素酸塩とによ
る酸化手段を含むことを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19655895A JP3546548B2 (ja) | 1995-08-01 | 1995-08-01 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19655895A JP3546548B2 (ja) | 1995-08-01 | 1995-08-01 | 超純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0938670A true JPH0938670A (ja) | 1997-02-10 |
| JP3546548B2 JP3546548B2 (ja) | 2004-07-28 |
Family
ID=16359739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19655895A Expired - Fee Related JP3546548B2 (ja) | 1995-08-01 | 1995-08-01 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3546548B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002336887A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2006503098A (ja) * | 2002-10-16 | 2006-01-26 | バックマン・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレーテッド | 安定なｎ−ブロモ−２−ピロリドン、同化合物の製造方法、および水処理における使用 |
| WO2009003572A1 (de) * | 2007-06-29 | 2009-01-08 | Christ Water Technology Ag | Aufbereitung von wasser mit hypobromitlösung |
| WO2011108610A1 (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-09 | 栗田工業株式会社 | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2011183245A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置 |
| JP2011183275A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2012011356A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2015100733A (ja) * | 2013-11-22 | 2015-06-04 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
| JP2017104860A (ja) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | Ａｇｃエンジニアリング株式会社 | 下水処理システム、および下水処理方法 |
| WO2021261145A1 (ja) * | 2020-06-23 | 2021-12-30 | オルガノ株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
-
1995
- 1995-08-01 JP JP19655895A patent/JP3546548B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002336887A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2006503098A (ja) * | 2002-10-16 | 2006-01-26 | バックマン・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレーテッド | 安定なｎ−ブロモ−２−ピロリドン、同化合物の製造方法、および水処理における使用 |
| WO2009003572A1 (de) * | 2007-06-29 | 2009-01-08 | Christ Water Technology Ag | Aufbereitung von wasser mit hypobromitlösung |
| JP2010531724A (ja) * | 2007-06-29 | 2010-09-30 | クリスト ウォーター テクノロジー アクチェン ゲゼルシャフト | 次亜臭素酸塩による水処理 |
| US8496830B2 (en) | 2007-06-29 | 2013-07-30 | Christ Water Technology Ag | Treatment of water with hypobromite solution |
| JP2011183245A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造方法及び装置 |
| WO2011108610A1 (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-09 | 栗田工業株式会社 | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2011183275A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2012011356A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2015100733A (ja) * | 2013-11-22 | 2015-06-04 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
| JP2017104860A (ja) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | Ａｇｃエンジニアリング株式会社 | 下水処理システム、および下水処理方法 |
| WO2021261145A1 (ja) * | 2020-06-23 | 2021-12-30 | オルガノ株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3546548B2 (ja) | 2004-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6464867B1 (en) | Apparatus for producing water containing dissolved ozone | |
| US8496830B2 (en) | Treatment of water with hypobromite solution | |
| JP3919259B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3546548B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH11244853A (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP2008043898A (ja) | 水処理システム及び水処理方法 | |
| JPH10137542A (ja) | 排煙脱硫排水の処理方法 | |
| JP5678436B2 (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
| JP2002210494A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPS62110795A (ja) | 高純度水の製造装置 | |
| JPS6336890A (ja) | 高純度水の製造装置 | |
| JPH1199394A (ja) | 水中の有機物除去方法 | |
| JPH09253638A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH07124559A (ja) | 海水淡水化プロセスにおける被処理水の殺菌方法 | |
| JPH10309588A (ja) | 水処理方法、水処理装置及び純水製造装置 | |
| JPH09122690A (ja) | 有機態窒素の分解方法及び水処理装置 | |
| JPH0929075A (ja) | 膜分離プロセスにおける消毒副生成物の低減化方法 | |
| JPH10314735A (ja) | 純水製造方法 | |
| JP2015100733A (ja) | 超純水製造システム及び超純水製造方法 | |
| JP3259557B2 (ja) | 有機物の除去方法 | |
| JP3313549B2 (ja) | 塩化物イオン含有排水中の有機物の分解除去方法 | |
| JP5782675B2 (ja) | 水処理方法及び超純水製造方法 | |
| JP2000308815A (ja) | オゾン溶解水の製造装置 | |
| JP2003190979A (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
| JPH01284385A (ja) | 純水及び超純水の製造方法及びその製造装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20031224 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040218 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040323 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040405 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080423 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080423 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090423 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090423 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100423 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100423 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110423 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120423 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120423 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |