JPH09323431A - インクジェット式記録ヘッド、その製造方法及びそれを用いたインクジェット式記録装置 - Google Patents

インクジェット式記録ヘッド、その製造方法及びそれを用いたインクジェット式記録装置

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JPH09323431A
JPH09323431A JP9076251A JP7625197A JPH09323431A JP H09323431 A JPH09323431 A JP H09323431A JP 9076251 A JP9076251 A JP 9076251A JP 7625197 A JP7625197 A JP 7625197A JP H09323431 A JPH09323431 A JP H09323431A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェット式記録ヘッドの圧電体膜を振
動させたり、インクの流動、機械的な振動により、イン
クリザーバー部上の膜にクラックが発生し、インクリザ
ーバー部上の膜が破壊される等の機械的な強度不足を防
止すること。 【解決手段】 複数の圧力発生室４と連通するリザーバ
５を単一のインク室１１と複数の凹部９により形成し
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を吐出し
て紙などの記録媒体上に画像データ等に基づいた記録画
像を形成するインクジェットプリンタ等のインクジェッ
ト記録装置に用いられるインクジェット式記録ヘッドに
関し、詳細には圧力発生室、インク供給路、インクリザ
ーバーが単結晶シリコン基板で形成されたインクジェッ
ト式記録ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を弾性板で構成し、この弾性板を圧
電振動子により変形させて圧力発生室のインクを加圧し
てノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット
式記録ヘッドには、圧電振動子の軸方向に伸長、収縮す
る縦振動モードの圧電振動子を使用したものと、たわみ
振動モードの圧電振動子を使用したものの２種類が実用
化されている。
【０００３】前者は圧電振動子の端面を弾性板に当接さ
せることにより圧力発生室の容積を変化させることがで
きて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電弾性板をノズル開口の配列ピッチに一致させて
櫛歯状に切分けるという困難な工程や、切分けられた圧
電振動体を圧力発生室に位置合わせして固定する作業が
必要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
【０００４】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で弾性板に圧電振動体を
作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する
関係上、或程度の面積が必要となり、高密度配列が困難
であるという問題がある。
【０００５】後者の記録ヘッドの不都合を解消すべく、
特開平5-286131号公報に見られるように、弾性板の表面
全体に亙って成膜技術により均一な圧電体膜を形成し、
この圧電体膜をリソグラフィ法により圧力発生室に対応
する形状に切分けて各圧力発生室毎に独立するように圧
電振動子を形成したものが提案されている。
【０００６】また、国際公開WO92/09111号には、単結晶
シリコン基板の一方の面に成膜技術によって圧電体膜を
形成し、単結晶シリコン基板の他方の面に圧力発生室等
を構成する凹部をエッチングにより形成し、この凹部が
形成された面にノズル開口が形成されたノズルプレート
を接合することによりインクジェット式記録ヘッドを形
成したものが提案されている。 これによればＰＺＴ素
子の切断・貼付工程が不要となって、リソグラフィー法
という精密で、かつ簡便な手法で圧電振動子を作り付け
ることができるばかりでなく、厚みを薄くできて高速駆
動が可能であるという利点がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、圧電材
料層が非常に薄いため、バルクの圧電体を貼付したもの
に比較して剛性が低いという問題点を持っている。
【０００８】例えば図９に示すように、面方位（１１
０）の単結晶シリコン基板Ａに、酸化シリコン膜Ｂを形
成し、この酸化シリコン膜Ｂ上に振動板Ｃ、下電極Ｄ、
圧電体膜Ｅ、上電極Ｆを成膜技術により一体的に形成
し、次に単結晶シリコン基板Ａに、複数の圧力発生室
Ｇ、及び各圧力発生室ＧとインクリザーバーＩを連通す
るインク供給路Ｈが形成され、その後ノズル開口Ｋが形
成されたノズルプレートＪを封止することによって形成
されたインクジェット式記録ヘッドにおいて、圧電体膜
Ｅ及び上電極Ｆを配線の関係でインクリザーバーＩ上ま
で延ばして形成する事が考えられる。
【０００９】このような構造の場合、図９（ｂ）に示す
ように圧電体膜に上下の電極により電圧を印加すると圧
電体膜が収縮し、これにより振動板が図面アの方向にた
わみ圧力発生室が加圧されてインクがノズル開口より吐
出する。このインクの吐出とあわせてインク供給口から
リザーバにもインクが逆流し、逆流したインクによって
リザーバ内の圧力が高まり、リザーバ上の振動板を変形
させ、更に振動板上の下電極、圧電体膜、上電極も変形
させてしまい、場合によっては圧電体膜にクラックが入
り、インクジェット式記録ヘッドとして機能しなくなる
という課題を有する。
【００１０】このような問題点を解決するためにリザー
バ部の単結晶シリコンを一部残して機械的強度を大きく
する方法も考えられるが、この方法ではリザーバのイン
ク容量が減少するため、例えば全ノズルからインクを高
速に吐出するような場合圧力発生室へのインクの供給不
足が生じドット抜けなどを起こす可能性がある。また、
この方法で供給量を大きくするためにインクリザーバを
更に大きくするとまた機械強度が下がり、更に単結晶シ
リコン膜のインクリザーバと対向する部位を厚くしなけ
らばならず、結果としてヘッドの大型化を招いてしま
う。さらに、リザーバの深さ方向の精度を出すのが非常
に困難である。
【００１１】そこで、本発明はこのような課題を解決す
るもので、その目的とするところは、インクリザーバの
機械的強度を向上させて下電極、圧電体膜、上電極にク
ラックを発生させることがなく、またインク供給不足が
生じることのない小型のインクジェット式記録ヘッドを
提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明のインクジェット式記録ヘッドは、イン
クを吐出する複数のノズル開口が形成されたノズルプレ
ートと、前記ノズル開口に各々連通した複数の圧力発生
室、前記圧力発生室にインクを供給するインク供給路及
びこのインク供給路に連通するリザーバが形成された流
路形成基板と、この流路形成基板上に形成された振動板
と、この振動板上の前記圧力発生室に対応する位置に形
成された電極と圧電体膜よりなる薄膜圧電体素子とを備
えたインクジェット式記録ヘッドであって、前記リザー
バが共通インク室と、複数の凹部により形成されている
ことを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の実施例について図面を用
いて詳細に説明する。
【００１４】図１は本発明のインクジェット式記録ヘッ
ドの分解斜視図であり、図２（ａ）は後述する流路形成
基板の平面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＸＸ線断面図
である。
【００１５】図において、１は面方位（１１０）面を有
する単結晶シリコン基板をエッチングして形成された流
路形成基板で、複数の圧力発生室４，４・・・と、これ
ら圧力発生室にインクを供給するリザーバ５と、これら
圧力発生室４，４・・・と、リザーバ５とを一定の流体
抵抗で連通させるインク供給路８とを形成するように構
成されている。この流路形成基板１の一方の面には圧力
発生室４，４・・・の一端側で連通する様にノズル開口
１０が穿設されたノズルプレート１２が固定され、また
裏面には振動板２、この振動板上の前記圧力発生室４，
４，・・・に対応する位置に薄膜形成方法で下電極６，
圧電体膜３，上電極７が形成されている。
【００１６】リザーバ５は、リザーバ５全域にわたって
インク供給路８と同じ深さを有する単一の凹部により形
成された共通インク室１１と、この共通インク室１１と
連通する複数の凹部９により構成されている。このリザ
ーバ５の凹部９は、壁面２１，２１及び壁面２２，２２
を有しており、この壁面２１は、（１１０）の面方位の
単結晶シリコンの異方性エッチングによって面方位（１
１０）と約３５度の角度で出現する（１１１）面であ
り、壁面２２，２２は面方位（１１０）とほぼ９０度の
角度を有する（１１１）面である。
【００１７】また各凹部９は格子状の壁２５，２６によ
り区画されるように配置されており、圧力発生室４の並
び方向でかつリザーバ中央の壁２５の前記共通インク室
１１の底面を形成する面２５ａの幅は、圧力発生室４と
同一ピッチに形成された壁２６の前記共通インク室１１
の底面を形成する面２６ａの幅よりも幅広に形成されて
おり、これによりリザーバの強度をより強くしている。
【００１８】この様なリザーバの構成にすることによ
り、リザーバ内の機械強度を高くすることができると共
に、リザーバを極端に大きくすることなくリザーバ内の
体積をインク供給不足を生じることない程度の大きさに
することができる。
【００１９】例えば、１ノズル開口あたり、インク吐出
重量２０μｃｃとして、１秒間に１４４００ドットを吐
出し、１０ノズル開口から同時にインクを吐出させた場
合、リザーバ５の体積が０．２７１ｍｍ3必要である
が、上述したように部分的に異方性エッチングによって
（１１０）面と約３５度の角度で出現する（１１１）面
で囲まれた凹部が形成されているため、インクリザーバ
５の体積を１．２ｍｍ3にする事が可能であり、充分な
インク容量が確保できる。
【００２０】リザーバ５の凹部の配列ピッチは、特に限
定されるものでは無いが、圧力発生室４と同一ピッチに
配列する事がより望ましい。これは、圧力発生室４に流
入するインク経路が各々の圧力発生室４に対して同様の
形状にする事ができるため、インクの流路抵抗にばらつ
きを生じさせることなく圧力発生室４にインクを供給す
ることができ、各圧力発生室４間でのインク供給量にば
らつきが生じることなく、吐出インク量を均一にできる
ためである。
【００２１】リザーバ５の凹部９は、本実施例では圧力
発生室配列方向に２列形成したが、１列や３列以上形成
することも可能である。
【００２２】また、圧力発生室４は、壁面２４，２４及
び壁面２３，２３により形成されており、壁面２４は、
（１１０）の面方位の単結晶シリコンの異方性エッチン
グによって面方位（１１０）と約３５度の角度で出現す
る（１１１）面であり、壁面２３，２３は面方位（１１
０）とほぼ９０度の角度を有する（１１１）面である。
【００２３】なお、図２中凹部２９及び流路２８は、リ
ザーバ５とインク供給路８を接続するための流路であ
る。リザーバ５とインク供給路８の幅が異なるため、単
結晶シリコン基板をエッチングするときにリザーバ５と
インク供給路８との接続部の形状が不安定になりやすい
が、リザーバ５とインク供給路８の間に流路を形成する
ことによりインク供給路８を精度良く形成することがで
きる。なお、製造上の精度があがればなくすことも可能
である。
【００２４】〔製造方法〕次に、本発明のインクジェッ
ト式記録ヘッドの他の製造方法について図面を用いて説
明する。
【００２５】まず、図３（ａ）に示すように、流路形成
基板１となる結晶面方位が（１１０）である厚み２２０
μｍの単結晶シリコン基板２０１を、水蒸気を含む酸素
雰囲気下で６０分間、摂氏１１００度に加熱し、１μｍ
の酸化シリコン膜２０７を熱酸化法により単結晶シリコ
ン基板１０２の両面に形成する。この酸化シリコン膜２
０７は、この上に形成される能動素子の絶縁膜として機
能すると共に、単結晶シリコン基板１０２のエッチング
加工時にエッチングマスクとして機能する。もちろん、
酸化シリコン膜に制限されるわけでなく、窒化シリコン
膜又は、金属膜など、シリコンエッチング液に対して耐
食性を示す膜（耐単結晶シリコンエッチング膜）であれ
ば何でも良い。
【００２６】次に、酸化シリコン膜２０７が形成された
単結晶シリコン基板２０１上に、ジルコニウムをスパッ
タ法を用い成膜し、その後熱酸化法で、０．８μｍ程度
の厚みの酸化ジルコニウムとし、振動板２となる膜２０
１を形成する。
【００２７】更に、白金をスパッタ法を用いて０．２μ
ｍの厚さで膜２０１上に成膜し、下電極６となる金属層
２０２を形成する。同様に、金属層２０２上に、１μｍ
の厚みのジルコン酸チタン酸鉛（ＰＺＴ）の圧電体膜２
０３、圧電体膜２０３上に、０．２μｍの厚みの上電極
となるアルミニウムの金属層２０４を成膜する。この際
各層間に各膜間の密着力を向上するためにチタン、酸化
チタン、クロム等の中間層を積層しても良い。
【００２８】次に、図３（ｂ）に示すように、金属層２
０４、圧電体膜２０３、金属層２０２に図示しないフォ
トレジストをスピンコート法によって全面に塗布し、フ
ォトリソグラフィー及びエッチングにより所望の形状の
上電極、圧電体膜、下電極になるように、ここでは圧力
発生室に対応する形状にパターニングした。この様なパ
ターンを形成する場合、金属層２０２、圧電体膜２０
３、金属層２０４についてそれぞれの膜の成膜後にパタ
ーニングを行い、積層を繰り返しても差し支えない。
【００２９】以下、圧電体膜２０３が成膜された側の単
結晶シリコン基板１０２の面を能動面、その反対の面を
非能動面という。
【００３０】次に、図３（ｃ）に示すように、能動面及
び非能動面に、それぞれ一般的なポジ型のフォトレジス
ト２０９、２０８をスピンコート法によって全面に塗布
する。この際、フォトレジスト塗布はロールコート法を
用いても良い。能動面のフォトレジスト２０９は、後述
の酸化シリコン膜２０７のエッチング保護として機能す
る。その後プレベーキングを摂氏８０度で１０分間行
う。
【００３１】次に、図３（ｄ）に示すように、所望のパ
ターンが形成されているガラスマスク２１０ではさみ、
紫外線を照射する。ガラスマスク２１０において、紫外
線の透過する部分を実線の細線で、又、紫外線の反射す
る部分は太線で示した。このガラスマスクの平面図は図
７（ａ）に示す。
【００３２】次に、図４（ａ）に示すように、ポジ型フ
ォトレジスト２０９，２０８の現像を行う。現像は、一
般的なアルカリ性の現像液に常温で１分３０秒程度攪
拌、揺動を実施しながら浸漬した。その後、ポストベー
キングを摂氏１２０度で１０分間行った。
【００３３】次に、図４（ｂ）に示すように、酸化シリ
コン膜２０７を緩衝弗酸を用いエッチングによりパター
ン加工する。この時、約１μｍの厚さで形成された酸化
シリコン膜２０７は１０分程度でパターンが形成でき
る。
【００３４】次に、図４（ｃ）に示すように、リザーバ
５、インク供給路８に相当する形状にパターンが形成さ
れているガラスマスク２１１で、紫外線を照射する。ガ
ラスマスクの平面図は図７（ｂ）に示す。
【００３５】次に、図５（ａ）に示すように、ポジ型フ
ォトレジストの現像を行った。現像は前記と同じく一般
的な、アルカリ性の現像液に常温で１分３０秒程度攪
拌、揺動を実施しながら浸漬した。その後、ポストベー
キングを摂氏１４０度で１０分間行った。
【００３６】次に、図５（ｂ）に示すように、ポジ型フ
ォトレジスト現像剥離部の酸化シリコン膜２０７を緩衝
弗酸を用いハーフエッチングによりパターン加工した。
この時、エッチング時間は５分程度であり、約１μｍの
厚さである酸化シリコン膜２０７は、約０．５μｍにな
る。このように、既にパターニングした部分以外のフォ
トレジストを再度感光し、現像を行い、酸化シリコン膜
の厚みの異なる部分を形成する技術を多重露光法と称す
る。この工程を行うことにより、図６（ａ）の工程にお
いて酸化シリコン膜２０７を完全に除去することができ
る。
【００３７】次に、フォトレジスト２０８、２０９を剥
離液、又はアッシングにより除去した後、図５（ｃ）の
ように、アルカリ液による単結晶シリコン基板１０２の
異方性エッチングを行う。これにより、圧力発生室４、
リザーバ５を形成する凹部１０４及び１０１が形成され
る。これは、面方位（１１０）面の単結晶シリコン基板
１０２を、アルカリ液により、エッチングすると（１１
０）面に対し３５度の角度を持って（１１１）面が出現
し、それ以降は、エッチングが進まないためである。
【００３８】そこで、図５（ｃ）のように、エッチング
の最深部迄の長さ（イ）を決めれば、エッチングされる
両端面迄の長さ（ウ）が求まる。よって、前記エッチン
グされる両端面迄の長さ（ウ）を変更することにより、
自由に単結晶シリコン基板１０２の厚さを設計できる。
さらに、リザーバ５の深さは、図５（ｃ）の（ウ）の長
さで決まるため、リザーバ５の深さを確実に制御でき、
精度を確保する上でこのような構造にする事が良いので
ある。これにより、アルカリ液で単結晶シリコン基板１
０２の異方性エッチングを行うと、酸化シリコン膜２０
７も同じくエッチングされ、約０．４μｍ程度溶解す
る。従ってインク供給路８を形成する部分の酸化シリコ
ン膜２０７はパターンの厚さが０．１μｍ程度となり、
それ以外の酸化シリコン膜は０．６μｍ程度の厚さにな
る。
【００３９】次に、図６（ａ）に示すように、緩衝弗酸
液に１分程度浸漬し、酸化シリコン膜２０７のエッチン
グを行う。これにより、インク供給路８、リザーバー５
を形成する部分の酸化シリコン膜２０７は除去される
が、それ以外の酸化シリコン膜２０７は０．５μｍ程度
の厚さで残る。
【００４０】次に、図６（ｂ）に示すように、インク供
給路８、リザーバ５となる部位１０３，１０１を形成す
るために、アルカリ液に浸漬して単結晶シリコン基板１
０２をエッチングする。
【００４１】以上の工程はシリコンウエハに複数同時に
形成する方法が量産性に優れ、安価に提供できる。
【００４２】次に、図６（ｃ）に示すように、シリコン
ウエハで複数形成されている場合は各ユニットごとに分
割し、ノズル開口１０が穿設されたステンレス又はプラ
スチック製のノズルプレート１２を貼り合わせ、インク
ジェット式記録ヘッドを形成する。
【００４３】図６（ｂ）から図６（ｃ）の工程へ移る前
に、本実施例では非能動面に残されていた酸化シリコン
膜２０７及び圧力発生室４に対向する酸化シリコン膜２
０７を除去しているが、そのまま残しておき、図６
（ｃ）に示す如くノズルプレート１２を貼り合わせても
良い。
【００４４】また、本製造方法において、１回目の単結
晶シリコン基板１０２のエッチング液として、水酸化カ
リウム水溶液（水酸化カリウム濃度１０重量％、摂氏８
０度）、２回目の単結晶シリコン基板１０２のエッチン
グ液として水酸化カリウム水溶液（水酸化カリウム濃度
４０重量％、摂氏８０度）。酸化シリコン膜２０７のエ
ッチング液として緩衝弗酸（弗化水素酸濃度１６重量
％、常温）を用いた。前述の条件では、水酸化カリウム
溶液での単結晶シリコン基板１０２のエッチングレート
は２．３μｍ／分であり、酸化シリコン膜２０７のエッ
チングレートは０．１μｍ／分である。１回目のアルカ
リエッチングにより、２２０μｍのシリコンエッチング
で圧力発生室４の最深部が形成される。又、この時、イ
ンク供給路８は酸化シリコン膜２０７で覆われているた
め形成されない。さらに、リザーバ５は異方性エッチン
グのため、一部分が形成される。次に、前記未エッチン
グ部分の酸化シリコン膜２０７にフォトリソを行い、２
回目のアルカリハーフエッチングを行う事により単結晶
シリコンが１００μｍエッチングされる。即ち、図６
（ｂ）の工程に於いて、インクジェット式記録ヘッドの
インク供給路８とリザーバ５が形成される。
【００４５】このようにして得られたリザーバ５は、リ
ザーバ５に形成された凹部の深さを精密に制御する事が
可能である。さらに、後工程製造中、輸送中等の振動に
よりインクリザーバー１０１のシリコン基板１０２の機
械的な強度不足による不良の発生という問題が無い。
【００４６】次に本発明のインクジェット式記録ヘッド
を適用したインクジェット記録装置について説明する。
【００４７】図８は、本発明のインクジェット記録ヘッ
ドを搭載したインクジェット記録装置を説明するための
斜視図であり、図において、３０１は本発明の上述した
記録ヘッドであり、モータ３０５により駆動されるタイ
ミングベルト３０６と固定されたキャリッジ３０４に搭
載され、ガイド３０９にガイドされながらプラテン３０
８により搬送される記録用紙３０７の幅方向に往復動す
る様に構成されている。記録ヘッド３０１には、インク
組成物を収容したインクカートリッジ３０２からインク
供給チューブ３０３を介して吐出に必要なインクが供給
される。
【００４８】３１０はキャッピング装置であり、記録ヘ
ッド３０１が非印字状態の時にインク滴を吐出するノズ
ル開口の目詰まりを防止すべく封止するとともに、吸引
ポンプ３１１と接続しており、ノズル開口の目詰まり回
復のための記録ヘッド３０１からインクを排出させる機
能も備えている。吸引ポンプ３１１は、チューブ３１２
を介して廃インクタンク３１３に接続されている。
【００４９】その他、キャリッジ上にインクカートリッ
ジを搭載するタイプのインクジェット記録装置、記録ヘ
ッドとインクカートリッジが一体化されたインクジェッ
ト記録装置にもむろん適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のインクジェット式記録ヘッドの分解斜
視図である。
【図２】（ａ）は、本発明のインクジェット式記録ヘッ
ドの平面図、（ｂ）は、本発明のインクジェット式記録
ヘッドのＸＸ断面図である。
【図３】（ａ）乃至（ｄ）は、本発明のインクジェット
式記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図４】（ａ）乃至（ｃ）は、本発明のインクジェット
式記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図５】（ａ）乃至（ｃ）は、本発明のインクジェット
式記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図６】（ａ）乃至（ｃ）は、本発明のインクジェット
式記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図７】（ａ）、（ｂ）は、本発明のインクジェット式
記録ヘッドの製造方法で使用するガラスマスクの平面図
である。
【図８】本発明のインクジェット式記録ヘッドを適用し
たインクジェット記録装置を説明するための斜視図であ
る。
【図９】（ａ）は、従来のインクジェット式記録ヘッド
の斜視図、（ｂ）は、従来のインクジェット式記録ヘッ
ドのＡーＡ’断面図である。
【符号の説明】
１ 流路形成基板 ２ 振動板 ３ 圧電体膜 ４ 圧力発生室 ５ リザーバ ６ 下電極 ７ 上電極 ８ インク供給路 ９ リザーバ凹部 １０ ノズル開口 １２ ノズルプレート

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 インクを吐出する複数のノズル開口が形
    成されたノズルプレートと、前記ノズル開口に各々連通
    した複数の圧力発生室、前記圧力発生室にインクを供給
    するインク供給路及びこのインク供給路に連通するリザ
    ーバが形成された流路形成基板と、この流路形成基板上
    に形成された振動板と、この振動板上の前記圧力発生室
    に対応する位置に形成された電極と圧電体膜よりなる薄
    膜圧電体素子とを備えたインクジェット式記録ヘッドで
    あって、 前記リザーバが、共通インク室と、複数の凹部により形
    成されたインクジェット式記録ヘッド。
  2. 【請求項２】 前記流路形成基板が単結晶シリコンによ
    り形成されている請求項１記載のインクジェット式記録
    ヘッド。
  3. 【請求項３】 前記単結晶シリコン基板が（１１０）面
    方位であり、前記凹部を形成する壁面の少なくとも一面
    が面方位（１１１）面を有する請求項２記載のインクジ
    ェット式記録ヘッド。
  4. 【請求項４】 前記凹部が、圧力発生室の配列ピッチと
    同一ピッチで形成されている請求項１記載のインクジェ
    ット式記録ヘッド。
  5. 【請求項５】 前記凹部間の壁面が前記リザーバ中に格
    子状に形成されている請求項１記載のインクジェット式
    記録ヘッド。
  6. 【請求項６】 前記圧力発生室長手方向に凹部が複数形
    成されていると共に、前記リザーバの圧力発生室配列方
    向に延びる前記凹部間の壁面の間隔が、前記リザーバの
    圧力発生室長手方向に延びる前記凹部間の壁面の間隔よ
    りも広く形成されているインクジェット式記録ヘッド。
  7. 【請求項７】 前記共通インク室の深さが前記インク供
    給路の深さと同じである請求項１記載のインクジェット
    式記録ヘッド。
  8. 【請求項８】 請求項１乃至７記載のインクジェット式
    記録ヘッドの製造方法であって、 面方位（１１０）面の単結晶シリコン基板上に耐単結晶
    シリコンエッチング膜を形成する第１工程と、 前記耐単結晶シリコンエッチング膜をリザーバの凹部を
    形成するパターンにエッチングする第２工程と、 前記第２工程でエッチングしなかった部位をハーフエッ
    チングする第３工程と、 前記圧力発生室、インク供給路、リザーバとなる部位の
    単結晶シリコン基板をエッチングする第４工程と、 前記第３工程でハーフエッチングされた耐単結晶シリコ
    ンエッチング膜を全てエッチングする第５工程と、 前記第５工程で露出した単結晶シリコン基板を所定量エ
    ッチングする第６工程とを含むインクジェット式記録ヘ
    ッドの製造方法。
  9. 【請求項９】 請求項１乃至７記載のインクジェット式
    記録ヘッドを用いたインクジェット式記録装置。
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