JP3235630B2

JP3235630B2 - インクジェット式記録ヘッド

Info

Publication number: JP3235630B2
Application number: JP30115093A
Authority: JP
Inventors: 薫百瀬; 孝浩片倉
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1993-11-05
Filing date: 1993-11-05
Publication date: 2001-12-04
Anticipated expiration: 2016-12-04
Also published as: JPH07125198A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、インクジェット式記録
ヘッドより詳細には、圧電振動子の伸縮により弾性変形
する振動板と、インク滴を噴射するノズル開口が穿設さ
れたノズルプレートとを一定の間隔に保持して圧力発生
室、リザーバ、及びこれらを連通させるインク供給口を
形成するスペーサをシリコン単結晶基板により構成した
インクジェット式記録ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット式記録ヘッドは、記録媒
体上のドットをインク滴により構成する関係上、インク
滴のサイズを小さくすることにより極めて高い解像度で
の印刷が可能であるものの、効率よく印刷するためには
ノズル開口の数を多くする必要があり、特に圧電振動子
をインク滴噴射源に使用するものにあっては、圧電振動
子のエネルギを効率よく使用するために圧力発生室を可
及的に大きくする必要があり、小型化の要請と相反する
ことになる。このような相反する問題を解消するた
め、通常、隣り合う圧力室を区画している壁を可及的に
薄くするとともに、圧力発生室の形状を長手方向に大き
くして容積を稼ぐことが行われている。

【０００３】このような圧力発生室やリザーバは、振動
板とノズルプレートの間隔を所定の値に保持する部材で
あるスペーサに通孔を穿設して形成されているが、上述
したように極めて小さく、しかも複雑な形状を備えた圧
力発生室に一致する通孔を形成する必要上、通常エッチ
ング技術が使用されている。このようなスペーサを構成
する材料としては、通常感光性樹脂膜が使用されている
が、これは機械的強度が低いため、クロストークやたわ
み等が生じ、高い解像度を実現しようとすると印字品質
が低下するという問題がある。

【０００４】このような問題を解消するために、結晶方
位（１１０）のシリコン単結晶基板をスペーサに適した
厚さに切り出し、これを圧力発生室やリザーバを構成す
るのに必要な形状に異方性エッチングを行うことが、米
国特許第4312008号に提案されている。このような単結
晶シリコンを使用したスペーサは、機械的合成が高いた
め、圧電振動子の変形の伴う記録ヘッド全体のたわみを
可及的に小さくすることができるとともに、エッチング
を受けた壁面が表面に対してほぼ垂直であるため、圧力
発生室を均一に構成することが可能であるという大きな
利点を備えている。しかしながら、エッチングが結晶方
位に依存するため、インクジェット式記録ヘッドの圧力
発生室として理想的な形状に加工することが困難で、圧
力発生室内にインクの淀みや気泡の停滞を招き易いとい
う不都合を抱えている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題に鑑みてなされたものであって、その目的とするとこ
ろは、インクの流れが滑らかなシリコン単結晶基板の異
方性エッチングにより加工した圧力発生室、インク供給
口、及びリザーバを備えたインクジェット式記録ヘッド
を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような課題を達成す
るために本発明のインクジェット式記録ヘッドは、外部
からインクの供給を受けるリザーバ、ノズル開口に連通
する圧力発生室、及び前記リザーバと圧力発生室とを接
続するインク供給口を形成する通孔を備えたスペーサ
と、前記スペーサの開口面を封止する蓋部材と、前記圧
力発生室のインクを加圧する圧力発生手段とを備えたイ
ンクジェット式記録ヘッドにおいて、前記スペーサは、
結晶方位（１１０）のシリコン単結晶基板を異方性エッ
チングすることにより形成され、前記圧力発生室を形成
する通孔のノズル開口近傍の端部が、相互に平行な２つ
の壁面と、前記平行な壁を閉じるように互いに鈍角で接
する３つの壁面とで形成されている。

【０００７】

【作用】インクが停滞しやすいノズル開口近傍が鈍角で
接する５つの壁面で形成されているため、滑らかな形状
となり、インクの流れをスムースにできてノズル開口近
傍の気泡の停滞を防止することができる。

【０００８】

【実施例】そこで以下に本発明の詳細を図示した実施例
に基づいて説明する。図１は本発明の一実施例を示すも
ので、図中符号１はノズルプレートで、所定のピッチ、
例えば１８０ＤＰＩとなるようにノズル開口２．２、２
‥‥が穿設された開口列が、３、３‥‥が形成されてい
る。

【０００９】４は、後述する振動板１０とノズルプレー
ト１の間に挟まれて配置されるスペーサで、図２に示し
たようにノズル列に対応するように圧力発生室、リザー
バ、これらを接続するインク供給口、インクタンクから
のインクを各リザーバに分配する流路等を形成する通孔
５、５、５‥‥、６、６、６‥‥７、７、７‥‥、８、
８、８‥‥が形成されている。

【００１０】１０は振動板で、スペーサ４を介してノズ
ルプレート１と対向して圧力発生室を形成するもので、
図３に示したように後述する圧電振動子ユニットの２
１、２１、２１‥‥の圧電振動子３０、３０の先端に当
接してこれの変位を可及的に広い面積に伝達するように
剛性を備えたアイランド部１１と、これのその周縁領域
に薄肉部１２とを形成して構成されている。このような
構成により圧電振動子３０、３０‥‥の圧電振動子３
０、３０の伸縮に応動して、圧力発生室を効率的に縮
小、膨張させることが可能となる。

【００１１】これら圧電振動子ユニット２１、２１、２
１‥‥は、図４に示したように圧電振動子３０、３０、
３０‥‥の一半を固定基板３１に一定ピッチで固定し
て、他半が縦振動モードでの振動が可能にまとめられて
いる。各振動子３０は、図５に示したように圧電振動材
料３２と駆動電極３３と共通電極３４とを交互にサンド
イッチ状に積層して構成されている。そして駆動電極３
３、３３、３３‥‥は、圧電振動子３０の後端側で端面
から露出していて、蒸着などで形成された駆動外部電極
３５により並列に接続され、また共通電極３４、３４、
３４‥‥は圧電振動子３０の自由端側に露出し、かつ側
方にまで延長されていて共通外部電極３６により並列に
接続されている。

【００１２】各圧電振動子３０の駆動外部電極３５は、
端面が固定基板３１とほぼ同一面となるように位置決め
されており、また各圧電振動子３０、３０、３０‥‥の
共通外部電極３６は、導電部材３８を介して振動子３
０、３０、３０‥‥の両側に位置するダミー振動子３９
の後端面の電極４０に導通関係を持つように接続されて
いる。ダミ−振動子３９の後端面には、駆動外部電極３
５と同様に電極４０が構成されていて、接続用回路基板
との接続が可能となっている。

【００１３】再び図１に戻って、図中符号４２は、基台
で、圧電振動子３０、３０、３０‥‥の自由端側が露出
するように振動子ユニット２１、２１、２１‥‥を収容
するユニット収容穴４３、４３、４３‥‥と、インクタ
ンクからのインクをリザーバに供給するためのインク供
給口４４が設けられており、表面に振動板１０、スペー
サ４、ノズルプレート１を位置決めして静電シールドを
兼ねる枠体４５により固定して記録ヘッド本体としてま
とめ上げている。なお、図中符号４６はインクタンクか
らのインクの流入口を示す。これにより図６に示したよ
うにスペーサの通孔５、５は、その開口がノズルプレー
ト１と振動板１０により封鎖されて圧力発生室を構成す
ることになる。圧力発生室４8は、圧電振動子３０の伸
縮をアイランド部１１により受ける振動板１０の薄肉部
１２の変形により収縮したときに、ここに存在するイン
クを圧縮して、ノズル開口２からインク滴として飛翔さ
せることになる。

【００１４】図７は、前述したスペーサ４の一実施例を
圧力発生室を構成する通孔５、５、５‥‥の近傍を拡大
して示すものであって、スペーサとして必要な厚み、例
えば２２０μｍを備えた結晶方位（１１０）のシリコン
単結晶基板に圧力発生室４８となる通孔５、リザーバと
なる通孔６、及びこれらを連通するインク供給口となる
通孔７が形成されている。

【００１５】インク供給口となる通孔７は、これを区画
する両側の壁面７ａ、７ｂの一方が圧力発生室を形成す
る通孔５の一方の壁５ａと一致するように、また他方の
壁面７ｂがインク供給口に適した流路抵抗を実現できる
程度に間隔をおいて形成されている。これら通孔の周囲
には、振動板１０、及びノズルプレート１との接着を接
着剤により行う場合には、一辺が１００μｍ程度の接着
剤吸収用の凹部５０、５０、５０‥‥がやはり異方性エ
ッチングにより形成されている。これら凹部５０、５
０、５０‥‥は、余分な接着剤を収容できる程度の容積
を備える最小限の深さとなるようにそのサイズが設定さ
れている。なお、共晶接合等のように接着剤を必要とし
ない場合にはこれら接着剤吸収用の孔は不要となる。

【００１６】図８は、圧力発生室を形成する通孔、イン
ク供給口を形成する通孔を形成する壁面のなす角度を示
すものであって、圧力発生室を形成している通孔５は、
詳細には壁面５ａ乃至５ｈの８つの壁面からなってい
て、ノズル開口２が対向する面５ｂ、５ｆ、５ｇ、５
ｈ、５ａは、それぞれが角度θ₃、θ₄、θ₅、θ₆で接し
ており、これら角度θ₃、θ₄、θ₅、θ₆はそれぞれ約１
５２度、１５４度、１２５度、１１０度なる鈍角となっ
ている。またインク供給口となる通孔７に連通する側に
おいては壁面５ｃ、５ｄ、５ｅが形成されていて、イン
ク供給口と圧力発生室とを圧力発生室側に広がるように
形成されている。

【００１７】さらにインク供給口を形成する通孔７の一
方の壁面７ａは、圧力発生室を形成する通孔５の一方の
壁面５ａと同一壁面となるように形成され、また他方の
壁面７ｂは、インク供給口として必要十分な流体抵抗と
なる程度の間隔を空けて壁面７ａに平行に形成されてい
る。圧力発生室からインク供給口に一直線で延びる壁面
７ａは、リザーバを形成する通孔６の壁面６ａと２つの
面６ｂ、６ｃにより形成された拡開部を経て接続されて
いる。なお、図中θ１で示す角度は、３０度前後であ
り、またθ２で示す角度は、約７０度前後の値である。

【００１８】図９は、ノズル開口２に対向する壁面５ｇ
の断面構造を示すものであって、それぞれ表面と角度θ
７＝約３５度をなす斜面５ｇ₁、５ｇ₂が形成されてい
る。この斜面５ｇ₁、５ｇ₂は、異方性エッチングに随伴
して生じる非対象形状に起因する圧力発生室のおけるノ
ズル開口２近傍の流れを可及的に均一にして、気泡等の
停滞を防止するのに寄与している。

【００１９】このように構成されたスペーサ４に接着剤
を塗布し、ノズルプレート１及び振動板１０を位置合わ
せして圧着する。この圧着により余剰となった接着剤
は、圧力発生室、インク供給口、及びリザーバとなる通
孔５、７、６を取り囲むように形成されている微細な凹
部５０、５０、５０‥‥に流れ込む。このため、圧力発
生室、インク供給口、及びリザーバの容積が接着剤の流
れ込みにより変化するのを防止される。接合が完了する
と、図７(ロ）に示したように圧力発生室を形成する通
孔５の中心線の先端近傍にノズルプレートのノズル開口
２が、またほぼ全域の及ぶように振動板４のアイランド
部１１が位置することになる。この状態で圧電振動子３
０を駆動すると、その変位がアイランド部１１を介して
圧力発生室全体に及ぶため、圧電振動子３０の変位を高
い効率で圧力発生室の容積変化に変換することができ
る。

【００２０】図１０は、上述したスペーサの製造工程を
示すものであって、図中符号６０は、スペーサとして機
能するに必要な厚み、例えば２２０μｍを有する結晶方
位（１１０）のシリコン単結晶基板で、これの表面には
熱酸化法により、異方性エッチングの保護膜として機能
できる程度の厚み、例えば１μｍ程度の二酸化珪素膜６
１が形成されている（図１０（ａ））。

【００２１】二酸化珪素膜６１が形成された基板６０の
表面及び裏面に前述した通孔５、６、７、及び必要に応
じて凹部５０に一致した窓６３、６４を備えたフッ化水
素保護膜６２をフォトリソグラフィにより形成する（図
１０（ｂ））。この状態でフッ化水素によりエッチング
を実行すると、通孔５、６、７、及び凹部５０を形成す
べき領域の窓６３、６４に一致して二酸化珪素膜６１が
除去される（図９（ｃ））。なお、表面、及び裏面に形
成される二酸化珪素膜のパターン６１ａ、及び６１ｂ
は、一方の面のパターン６１ａが他方の面のパターン６
１ｂを取り囲むように、サイズを若干異ならせて形成さ
れている。

【００２２】このようにして二酸化珪素のパターン形成
が終了した段階で、一定温度、例えば８０°Ｃに保温さ
れた濃度１７％程度の水酸化カリウムの水溶液を用いて
エッチングを実行すると、二酸化珪素膜のパターン６１
ａ、６１ｂを保護膜として窓６３、６４の部分だけが、
毎分２μｍ程度の速度で両面から表面に対して約３５度
の面、つまり結晶方位（１１１）の面に垂直にエッチン
グが進行する。

【００２３】ところで、前述したように基板６０の表
面、及び裏面に形成されているパターン６１ａ、６１ｂ
は、その一方が他方を取り囲むように大き目に設定され
ているため、エッチングが終了した段階では、窓のサイ
ズが大きなパターン６１ｂに一致するサイズの通孔６５
が形成される（図１０（ｄ））。この結果、表裏のパタ
ーンの若干の位置ずれが生じたとしても、少なくとも外
側に位置するパターンのエッジがエッチング面となるの
で、エッチング位置の管理を行うことが可能となる。

【００２４】すなわち、図１１に示したようにサイズが
等しいパターン７０、７１を基板７２の表裏に形成した
場合、これらパターンがずれていると、表裏で対向する
パターンの内の形成すべき通孔７３の外側に位置するパ
ターン７０ａ、７１ａの境界に一致して壁面７２ａ、７
２ｂが形成されるため、パターン７０、７１により規定
されるサイズとは異なるサイズの通孔７３が形成される
ことになり、通孔のサイズや、エッチング面の位置を管
理することが不可能となる。

【００２５】このようにして通孔６５が形成された段階
で、マスクとして使用した二酸化珪素膜６１ａ、６１ｂ
をフッ化水素により除去した後、再び熱酸化を行って露
出面、全面に保護膜として十分な厚み、例えば１μｍ程
度の二酸化珪素６６を形成して、インクに対する保護膜
とする（図１０（ｅ））。

【００２６】ところで、このような結晶方位（１１０）
の単結晶シリコン基板に対して異方性エッチングを実行
すると、目的のパターンに至る過程では、図１２に示し
たように結晶方位（１１０）に対して約３５度の角度、
つまり結晶方位（１１１）の面に一致してエッチングが
進行する。

【００２７】このような性質を積極的に利用するため、
図１３（イ）に示したように圧力発生室となる通孔５の
ノズル開口が対向する側の約１／２の領域は、その壁面
を規定するエッチングパターン８０の境界線８０ａを他
方の壁面５ａとなる側へ変移させて形成しておく。また
インク供給口となる通孔７を形成する壁面の内、圧力発
生室となる通孔５の壁面５ａと一直線上に位置する壁面
７ａに対向する側の壁面７ｂには、これから通孔５側に
延長された剣状のエッチング保護パターン８１を、さら
にリザーバとなる通孔６には、やはりインク供給口７を
形成している各壁面７ａ、７ｂに一致する剣状のエッチ
ング保護パターン８２、８３を形成しておく。

【００２８】上述のように形成したエッチングパターン
を用いて異方性エッチングを実行すると、通孔５の形成
にあたってはパターン８０がエッジ部８０ｂを備えてい
るため、このエッジ部８０ｂのエッチングが壁面５ｂに
対して所定の角度θ、約３５度で進行する。このためノ
ズル開口に対向する領域までエッチングが進行すると、
先端の壁面５ｈに対して鈍角で接する壁面５ｆが形成さ
れることになる。この結果、ノズル開口２とこれに対向
する壁面５ａ、５ｂ、５ｆ、５ｇ、５ｈとの距離が可及
的に均等になる。またインク供給口と圧力発生室、及び
インク供給口とリザーバとの接続点におけるエッチング
の進行を、インクの流れに対して隘路となるインク供給
口の流入口、流出口でのインクの流れの停滞を防止でき
る程度に拡開させる程度で停止させ、インク供給口とし
て適正な流体抵抗を確保することができる。

【００２９】一方、インク供給口となる通孔７のエッチ
ング時には、その端部が壁面から延長して形成された剣
状のエッチング保護パターン８１、８２、８３の領域が
エッチングを受けるため（図１３（ロ））、最終段階、
つまり両面からのエッチングにより貫通孔が形成され、
さらに目的の形状までエッチングが進んだ段階では、図
８に示したようにインク供給口となる通孔７の圧力発生
室側には、壁面５ｃ、及び壁面７ｂに対して角度θ１＝
３０度前後の角度を持つ壁面５ｄ、５ｅが形成され、ま
たリザーバ側には壁面６ａ、７ａに対して角度θ１＝３
０度前後の角度を持つ壁面６ｂ、６ｃが形成されること
になる。この結果、インク供給口の流入口と排出口には
拡開した開口が形成されることになり、リザーバから圧
力発生室へのインクの流入がスムースに行なわれ、気泡
の停滞が防止される。

【００３０】図１４は、１つのリザーバにより２列の圧
力発生室にインクを供給する場合の、リザーバとなる通
孔６側のパターンを拡大して示すもので、各列に配置さ
れているノズルがそれぞれ若干位置をずらして構成され
ている関係上、各列の圧力発生室のインク供給口となる
通孔７、７、７‥‥、及び７’、７’、７’‥‥から延
長された剣状のパターン８２、８２、８２‥‥、８３、
８３、８３‥‥、及び８２’、８２’、８２’‥‥、８
３’、８３’、８３’‥‥が殆んどラップすることなく
形成できる。

【００３１】図１５（イ）は、異方性エッチングのパタ
ーンの他の実施例を示すものであって、この実施例にお
いては、インク供給口となる通孔７とリザーバとなる通
孔６との接続点を、細いパターンからなる連続部８５と
して形成し、ここから１本の剣状のエッチング保護パタ
ーン８６をインク供給口となる通孔７の軸線方向に延長
して形成したものである。この実施例のエッチングパタ
ーンによれば、インク供給口７とリザーバとなる通孔６
との接続点が連続部８５により阻止されるから、１本の
剣状部８６により無用なエッチングの進行を阻止するこ
とが可能となる。

【００３２】この実施例によれば、前述したような１つ
のリザーバにより２列の圧力発生室にインクを供給する
場合、図１６に示したようにリザーバとなる通孔６側に
形成するインク供給口を形成する通孔７、７、７‥‥、
及び７’、７’、７’‥‥の先端にそれぞれ連続部とな
るエッチング保護パターン８５、８５、８５‥‥、及び
８５’、８５’、８５’‥‥を形成し、ここから各イン
ク供給口となる通孔７、７、７‥‥、及び７’、７’、
７’‥‥に一致するようにそれぞれ１本の剣状のエッチ
ング保護パターン８６、８６、８６‥‥、８６’、８
６’、８６’‥‥を形成すればよく、このため各ノズル
列のノズルがずらされている場合には、剣状のエッチン
グ保護パターン８６、８６、８６‥‥、及び８６’、８
６’８６’をラップさせることなく、平面に展開して配
置することができる。

【００３３】図１７は、本発明のインクジェット式記録
ヘッドの第２の実施例をスペーサに形成する圧力発生室
とインク供給口の接続領域近傍の形状で示すものであっ
て、図中符号９０は、圧力発生室を形成する通孔で、こ
の実施例においては、リザーバを形成する通孔９１と接
続するインク供給口をなす通孔９２を、圧力発生室を区
画する長手方向の壁面９０ａ、９０ｂから斜めに延びる
壁面９０ｃ、９０ｄを形成し、圧力発生室のほぼ中心線
上で接続するように構成されている。この実施例によれ
ばリザーバからのインクを圧力発生室の端部中央で拡開
する壁面９０ｃ、及び９０ｄとエッチングの過程で形成
される結晶軸に沿って自然発生的に生じる壁面９０ｅ、
９０ｆから供給することができるため、インクの流れを
より一層円滑して、淀みを無くすることができる。

【００３４】

【発明の効果】以上、説明したように請求項１の発明に
よれば、スペーサは、結晶方位（１１０）のシリコン単
結晶基板を異方性エッチングすることにより形成され、
前記圧力発生室を形成する通孔のノズル開口近傍の端部
が、相互に平行な２つの壁面と、前記平行な壁を閉じる
ように互いに鈍角で接する３つの壁面とで形成されてい
るので、インクが停滞しやすいノズル開口近傍が鈍角の
壁面で区画されて滑らかな形状となり、インクの流れを
スムーズにできてノズル開口近傍の気胞の停滞を防止す
ることができる。また請求項７の発明によれば、スペー
サは、結晶方位（１１０）のシリコン単結晶異方性エッ
チングにより形成され、インク供給口を形成する通孔の
リザーバに接続する端面、及び圧力発生室に接続する端
部の一方の壁面がそれぞれ２つの壁面により拡開状態に
形成されているので、インクの流れに対して隘路となる
インク供給口の流入ロ、流出口でのインクの流れの停滞
を防止でき、インク供給口として適正な流体抵抗を確保
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のインクジェット式記録ヘッドの一実施
例を示す組み立て図である。

【図２】同上装置に使用するスペーサの一実施例を示す
平面図である。

【図３】同上装置に使用する振動板の一実施例を示す図
である。

【図４】同上装置に使用する圧電振動子ユニットの一実
施例を示す斜視図である。

【図５】同上圧電振動子の電極構造を示す図である。

【図６】本発明の記録ヘッドの一実施例を圧力発生室を
拡大して示す断面図である。

【図７】同図（イ）、（ロ）は、それぞれ同上スペーサ
の圧力発生室近傍を拡大して示す図、及びノズルプレー
ト、振動板、振動子を固定した場合におけるノズル開
口、アイランド部、及び圧電振動子の位置関係を示す図
である。。

【図８】通孔を形成する各壁面のなす角度を示す図であ
る。

【図９】圧力発生室を構成する通孔のノズル開口近傍の
断面形状を示す図である。

【図１０】結晶方位（１１０）を持つシリコン単結晶基
板を異方性エッチングしてスペーサを製造する工程を示
す説明図である。

【図１１】結晶方位（１１０）を異方性エッチングする
場合に使用する表裏両面に形成されたエッチングパター
ンの位置ずれによるエッチング状況を示す説明図であ
る。

【図１２】結晶方位（１１０）をもつシリコン単結晶基
板の異方性エッチングの進行過程を示す図である。

【図１３】同図（イ）、（ロ）は、それぞれシリコン単
結晶基板を異方性エッチングによりスペーサを形成する
場合のパターンの一実施例、及びエッチング終了間際の
状態を示す図である。

【図１４】１つのリザーバにより２列の圧力発生室にイ
ンクを供給する場合のリザーバ側のエッチングパターン
の一実施例を拡大して示す図である。

【図１５】同図（イ）、（ロ）は、それぞれ異方性エッ
チングに用いるパターンの他の実施例、及びエッチング
終了間際の状態を示す図である。

【図１６】１つのリザーバにより２列の圧力発生室にイ
ンクを供給する場合のリザーバ側のエッチングパターン
の他の実施例を拡大して示す図である。

【図１７】本発明の他の実施例を通孔の形状で示す図で
ある。

【符号の説明】

１ノズルプレート２ノズル開口３ノズル開口列４振動板５圧力発生室形成用通孔５ａ〜５ｈ圧力発生室を形成する通孔を区画する壁面６リザーバ形成用通孔６ａ〜６ｃリザーバを形成する通孔を区画する壁面７インク供給口形成用通孔７ａ、７ｂ壁面１０振動板１１アイランド部２１圧電振動子ユニット３０圧電振動子

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41J 2/045 B41J 2/055 B41J 2/16

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】外部からインクの供給を受けるリザー
バ、ノズル開口に連通する圧力発生室、及び前記リザー
バと圧力発生室とを接続するインク供給口を形成する通
孔を備えたスペーサと、前記スペーサの開口面を封止す
る蓋部材と、前記圧力発生室のインクを加圧する圧力発
生手段とを備えたインクジェット式記録ヘッドにおい
て、前記スペーサは、結晶方位（１１０）のシリコン単結晶
基板を異方性エッチングすることにより形成され、前記圧力発生室を形成する通孔のノズル開口近傍の端部
が、相互に平行な２つの壁面と、前記平行な壁を閉じる
ように互いに鈍角で接する３つの壁面とで形成されてい
るインクジェット式記録ヘッド。
【請求項２】前記相互に平行な２つの壁面と、前記平
行な壁を閉じるように互いに鈍角で接する３つの壁面
は、前記シリコン単結晶基板の面に対して垂直に形成さ
れている請求項１に記載のインクジェット式記録ヘッ
ド。
【請求項３】前記平行な壁を閉じるように互いに鈍角
で接する３つの壁面のうち、１つの壁面には前記シリコ
ン単結晶基板の表面に対して斜めの壁が形成されている
請求項１に記載のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項４】前記圧力発生室を形成する通孔を区画す
る壁面の１つと、前記インク供給口を形成する通孔を区
画する壁面とが同一壁面として形成されている請求項１
乃至請求項３のいずれかに記載のインクジェット式記録
ヘッド。
【請求項５】前記インク供給口が、前記圧力室の幅方
向の略中心線上に形成されている請求項１乃至請求項３
のいずれかに記載のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項６】前記通孔の周囲には余剰の接着剤を収容
できる容積を備えた矩形状の凹部が複数形成されている
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のインクジェッ
ト式記録ヘッド。
【請求項７】外部からインクの供給を受けるリザー
バ、ノズル開口に連通する圧力発生室、及び前記リザー
バと圧力発生室とを接続するインク供給口を形成する通
孔を備えたスペーサと、前記スペーサの開口面を封止す
る蓋部材と、前記圧力発生室のインクを加圧する圧力発
生手段とを備えたインクジェット式記録ヘッドにおい
て、前記スペーサは、結晶方位（１１０）のシリコン単結晶
基板を異方性エッチングすることにより形成され、前記インク供給口を形成する通孔のリザーバに接続する
端面、及び前記圧力発生室に接続する端部の一方の壁面
がそれぞれ２つの壁面により拡開状態に形成されている
インクジェット式記録ヘッド。
【請求項８】前記圧力発生室を形成する通孔を区画す
る壁面の１つと、前記インク供給口を形成する通孔を区
画する壁面が同一壁面として形成されている請求項７に
記載のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項９】前記インク供給口が、前記圧力室の幅方
向の略中心線上に形成されている請求項７に記載のイン
クジェット式記録ヘッド。
【請求項１０】前記通孔の周囲には余剰の接着剤を収
容できる容積を備えた矩形状の凹部が複数形成されてい
る請求項７乃至請求項９のいずれかに記載のインクジェ
ット式記録ヘッド。