JPH09277537A - インクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェットヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH09277537A JPH09277537A JP9694696A JP9694696A JPH09277537A JP H09277537 A JPH09277537 A JP H09277537A JP 9694696 A JP9694696 A JP 9694696A JP 9694696 A JP9694696 A JP 9694696A JP H09277537 A JPH09277537 A JP H09277537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- ptfe
- fine particles
- ink
- excimer laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 均一な撥水性が得られない。
【解決手段】 ノズル形成部材３１の吐出側面にＰＴＦ
Ｅ分散ニッケルメッキを施した後、メッキ表面にエキシ
マレーザーを照射して、ニッケルを除去してＰＴＦＥ微
粒子を露出させる。
Ｅ分散ニッケルメッキを施した後、メッキ表面にエキシ
マレーザーを照射して、ニッケルを除去してＰＴＦＥ微
粒子を露出させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェットヘ
ッドの製造方法に関し、特にノズル孔を形成するノズル
形成部材の吐出面側に撥水処理をするインクジェットヘ
ッドの製造方法に関する。
ッドの製造方法に関し、特にノズル孔を形成するノズル
形成部材の吐出面側に撥水処理をするインクジェットヘ
ッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】プリンタ、ファクシミリ、複写機等に用
いられるドロップオンディマンド（ＤＯＤ）型のインク
ジェット記録装置は、例えばインク滴を吐出する複数の
ノズル孔と、ノズル孔が連通する液室と、液室を加圧す
るための圧電素子等の電気機械変換素子或いは熱抵抗体
（ヒータ）等の熱機械変換素子からなるアクチュエータ
（駆動源）とを備えたインクジェットヘッドを用いて、
記録信号が入力されたときにのみノズル孔からインク滴
を吐出飛翔させて、高速、高解像度の記録を行なうもの
である。
いられるドロップオンディマンド（ＤＯＤ）型のインク
ジェット記録装置は、例えばインク滴を吐出する複数の
ノズル孔と、ノズル孔が連通する液室と、液室を加圧す
るための圧電素子等の電気機械変換素子或いは熱抵抗体
（ヒータ）等の熱機械変換素子からなるアクチュエータ
（駆動源）とを備えたインクジェットヘッドを用いて、
記録信号が入力されたときにのみノズル孔からインク滴
を吐出飛翔させて、高速、高解像度の記録を行なうもの
である。
【０００３】このようにインクジェット記録装置は、ヒ
ータ、圧電素子等のエネルギー発生手段（アクチュエー
タ）を駆動することによってノズル孔から液滴化したイ
ンク（インク滴）を吐出飛翔させて記録を行うため、ノ
ズル孔の形状、精度等がインク滴の噴射特性（インク滴
吐出性能）に影響を与えると共に、ノズル孔を形成して
いるノズル形成部材の表面の特性がインク滴の噴射特性
に影響を与える。例えば、ノズル形成部材表面のノズル
孔周辺部にインクが付着して不均一なインク溜り（所謂
濡れムラ）が発生すると、インク滴の吐出方向が曲げら
れたり、インク滴の大きさにバラツキが生じたり、イン
ク滴の飛翔速度が不安定になる等の不都合が生じること
が知られている。
ータ、圧電素子等のエネルギー発生手段（アクチュエー
タ）を駆動することによってノズル孔から液滴化したイ
ンク（インク滴）を吐出飛翔させて記録を行うため、ノ
ズル孔の形状、精度等がインク滴の噴射特性（インク滴
吐出性能）に影響を与えると共に、ノズル孔を形成して
いるノズル形成部材の表面の特性がインク滴の噴射特性
に影響を与える。例えば、ノズル形成部材表面のノズル
孔周辺部にインクが付着して不均一なインク溜り（所謂
濡れムラ）が発生すると、インク滴の吐出方向が曲げら
れたり、インク滴の大きさにバラツキが生じたり、イン
ク滴の飛翔速度が不安定になる等の不都合が生じること
が知られている。
【０００４】なお、ノズル孔は、ノズル、吐出口、オリ
フィス、ノズルオリフィス等とも称されるが、本明細書
においては、インク滴を吐出する孔を「ノズル孔」、ノ
ズル孔を形成している部材を「ノズル形成部材」と称す
ることとする。
フィス、ノズルオリフィス等とも称されるが、本明細書
においては、インク滴を吐出する孔を「ノズル孔」、ノ
ズル孔を形成している部材を「ノズル形成部材」と称す
ることとする。
【０００５】そこで、従来、ノズル形成部材の表面（ノ
ズル孔の吐出側面）に、撥水性（撥インク性）を有する
表面処理（撥水処理）を施すことで均一性を高めること
が知られている。この撥水処理としては、例えば特開平
４−２９４１４５号公報に記載されているように、イン
ク吐出面側にフッ素系高分子共析メッキ処理、例えばポ
リテトラフルオロエチレン（以下、「ＰＴＦＥ」とい
う。）微粒子を分散させたニッケルメッキを施した後、
３５０℃〜３８０℃で３０分間加熱して、ＰＴＦＥ粒子
を溶融させて皮膜を形成することが知られている。
ズル孔の吐出側面）に、撥水性（撥インク性）を有する
表面処理（撥水処理）を施すことで均一性を高めること
が知られている。この撥水処理としては、例えば特開平
４−２９４１４５号公報に記載されているように、イン
ク吐出面側にフッ素系高分子共析メッキ処理、例えばポ
リテトラフルオロエチレン（以下、「ＰＴＦＥ」とい
う。）微粒子を分散させたニッケルメッキを施した後、
３５０℃〜３８０℃で３０分間加熱して、ＰＴＦＥ粒子
を溶融させて皮膜を形成することが知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＰＴＦ
Ｅ等の粒子を分散させた共析メッキは、メッキ時の環境
条件やメッキ液の管理状態によってメッキ皮膜中のＰＴ
ＦＥ粒子の共析量が簡単に変化するため、常に均一な撥
水性を確保することが難しい。また、インクジェット記
録装置に用いるインクは、記録媒体との親和性を高める
ために、各種の界面活性剤が含まれているため、濡れ性
の高い液体となっているので、上述したようにして撥水
膜を形成しても、メッキ時の条件によってはインクをは
じかなくなり、インクの吐出方向に影響を及ぼすことに
なるという事態が発生する。
Ｅ等の粒子を分散させた共析メッキは、メッキ時の環境
条件やメッキ液の管理状態によってメッキ皮膜中のＰＴ
ＦＥ粒子の共析量が簡単に変化するため、常に均一な撥
水性を確保することが難しい。また、インクジェット記
録装置に用いるインクは、記録媒体との親和性を高める
ために、各種の界面活性剤が含まれているため、濡れ性
の高い液体となっているので、上述したようにして撥水
膜を形成しても、メッキ時の条件によってはインクをは
じかなくなり、インクの吐出方向に影響を及ぼすことに
なるという事態が発生する。
【０００７】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、メッキ時の条件に左右されることなく常に高い撥
水性を有する撥水膜を形成することを目的とする。
あり、メッキ時の条件に左右されることなく常に高い撥
水性を有する撥水膜を形成することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、請求項１のインクジェットヘッドの製造方法は、イ
ンクを吐出するノズル孔を形成するノズル形成部材の吐
出面側にポリテトラフルオロエチレン微粒子を分散させ
たニッケルメッキによって撥水処理を施すインクジェッ
トヘッドの製造方法において、メッキ後のメッキ表面に
エキシマレーザーを照射する構成とした。
め、請求項１のインクジェットヘッドの製造方法は、イ
ンクを吐出するノズル孔を形成するノズル形成部材の吐
出面側にポリテトラフルオロエチレン微粒子を分散させ
たニッケルメッキによって撥水処理を施すインクジェッ
トヘッドの製造方法において、メッキ後のメッキ表面に
エキシマレーザーを照射する構成とした。
【０００９】請求項２のインクジェットヘッドの製造方
法は、上記請求項１のインクジェットヘッドの製造方法
において、前記エキシマレーザー光の照射エネルギーを
１００ｍＪ／ｃｍ2〜２５０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内に設定
する構成とした。
法は、上記請求項１のインクジェットヘッドの製造方法
において、前記エキシマレーザー光の照射エネルギーを
１００ｍＪ／ｃｍ2〜２５０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内に設定
する構成とした。
【００１０】請求項３のインクジェットヘッドは、上記
請求項２のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記エキシマレーザー光を照射した後、前記メッキを３
００℃〜４００℃で熱処理する構成とした。
請求項２のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記エキシマレーザー光を照射した後、前記メッキを３
００℃〜４００℃で熱処理する構成とした。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して説明する。図１は本発明を適用するイン
クジェットヘッドの一実施例の外観斜視図、図２は図１
のＡ−Ａ線に沿う要部拡大断面図、図３は図１のＢ−Ｂ
線に沿う要部拡大断面図である。
図面を参照して説明する。図１は本発明を適用するイン
クジェットヘッドの一実施例の外観斜視図、図２は図１
のＡ−Ａ線に沿う要部拡大断面図、図３は図１のＢ−Ｂ
線に沿う要部拡大断面図である。
【００１２】このインクジェットヘッドは、アクチュエ
ータユニット１と、このアクチュエータユニット１上に
接合した液室ユニット２とからなる。アクチュエータユ
ニット１は、絶縁基板３上に２つの積層型圧電素子４，
４と、これら２列の圧電素子４，４の周囲を取り囲むフ
レーム５を接着剤６によって接合している。圧電素子４
は、インクを液滴化して飛翔させるための駆動パルスが
与えられる複数のアクチュエータ素子となる駆動部７，
７…と、これらの駆動部７，７間に位置して、駆動パル
スが与えられない支柱部となる複数の非駆動部８，８…
とを交互に配置してなる。
ータユニット１と、このアクチュエータユニット１上に
接合した液室ユニット２とからなる。アクチュエータユ
ニット１は、絶縁基板３上に２つの積層型圧電素子４，
４と、これら２列の圧電素子４，４の周囲を取り囲むフ
レーム５を接着剤６によって接合している。圧電素子４
は、インクを液滴化して飛翔させるための駆動パルスが
与えられる複数のアクチュエータ素子となる駆動部７，
７…と、これらの駆動部７，７間に位置して、駆動パル
スが与えられない支柱部となる複数の非駆動部８，８…
とを交互に配置してなる。
【００１３】液室ユニット２は、ダイアフラム部１１を
有する振動板１２上に感光性樹脂フィルム（ドライフィ
ルムレジスト）で形成した流路形成部となる第１感光性
樹脂層１３、第２感光性樹脂層１４、第３感光性樹脂層
１５及びノズル孔１６を有するノズル形成部材であるノ
ズルプレート１７を順次積層して各駆動部７，７…に対
応するインク流路である複数の加圧液室１８，１８…、
各加圧液室１８，１８…にインクを供給するインク流路
である複数の共通液室（共通インク流路）１９，１９、
共通液室１９と加圧液室１８を連通するインク供給路を
なすインク流路である流体抵抗部２０，２０をそれぞれ
形成している。
有する振動板１２上に感光性樹脂フィルム（ドライフィ
ルムレジスト）で形成した流路形成部となる第１感光性
樹脂層１３、第２感光性樹脂層１４、第３感光性樹脂層
１５及びノズル孔１６を有するノズル形成部材であるノ
ズルプレート１７を順次積層して各駆動部７，７…に対
応するインク流路である複数の加圧液室１８，１８…、
各加圧液室１８，１８…にインクを供給するインク流路
である複数の共通液室（共通インク流路）１９，１９、
共通液室１９と加圧液室１８を連通するインク供給路を
なすインク流路である流体抵抗部２０，２０をそれぞれ
形成している。
【００１４】ここで、ノズルプレート１７にはインク滴
を飛翔させるための微細孔である多数のノズル孔１６を
形成しており、このノズル孔１６の径はインク滴出口側
の直径で３５μｍ以下に形成している。このノズルプレ
ート１７は、例えばエレクトロンフォーミング工法（電
鋳）によって製造したＮi（ニッケル）の金属プレート
を用いているが、Ｓi、その他の金属材料を用いること
もできる。
を飛翔させるための微細孔である多数のノズル孔１６を
形成しており、このノズル孔１６の径はインク滴出口側
の直径で３５μｍ以下に形成している。このノズルプレ
ート１７は、例えばエレクトロンフォーミング工法（電
鋳）によって製造したＮi（ニッケル）の金属プレート
を用いているが、Ｓi、その他の金属材料を用いること
もできる。
【００１５】そして、このノズルプレート１７のインク
吐出面側に撥水膜１７ａを形成している。この撥水膜１
７ａは、ＰＴＦＥ微粒子を分散させたニッケルメッキを
施した後、メッキ表面にエキシマレーザーを照射し、更
に、所定温度でＰＴＦＥ微粒子を溶融して形成したもの
である。
吐出面側に撥水膜１７ａを形成している。この撥水膜１
７ａは、ＰＴＦＥ微粒子を分散させたニッケルメッキを
施した後、メッキ表面にエキシマレーザーを照射し、更
に、所定温度でＰＴＦＥ微粒子を溶融して形成したもの
である。
【００１６】そこで、図５以降を参照して本発明に係る
撥水膜の形成について説明する。先ず、図５に示すよう
にノズル形成部材３１の表面にＰＴＦＥ分散ニッケルメ
ッキによってＰＴＦＥ微粒子３２が分散したニッケルメ
ッキ部３３を形成する。
撥水膜の形成について説明する。先ず、図５に示すよう
にノズル形成部材３１の表面にＰＴＦＥ分散ニッケルメ
ッキによってＰＴＦＥ微粒子３２が分散したニッケルメ
ッキ部３３を形成する。
【００１７】このＰＴＦＥ分散ニッケルメッキは、例え
ば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）微粒子を
分散させた無電解ニッケルメッキ（例えば、上村工業
（株）、商品名：ニムフロン）、ＰＴＦＥ微粒子を分散
させた電解ニッケルメッキ（例えば、上村工業（株）、
商品名：メタフロン）等で行なう。この場合、ＰＴＦＥ
分散無電解ニッケルメッキは、膜厚の均一性に優れてお
り、ＰＴＦＥ高分散タイプのもの（例えば、上村工業
（株）、商品名：ニムフロンＦＲＳ、分散率３０vol.％
以上）のものもある。
ば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）微粒子を
分散させた無電解ニッケルメッキ（例えば、上村工業
（株）、商品名：ニムフロン）、ＰＴＦＥ微粒子を分散
させた電解ニッケルメッキ（例えば、上村工業（株）、
商品名：メタフロン）等で行なう。この場合、ＰＴＦＥ
分散無電解ニッケルメッキは、膜厚の均一性に優れてお
り、ＰＴＦＥ高分散タイプのもの（例えば、上村工業
（株）、商品名：ニムフロンＦＲＳ、分散率３０vol.％
以上）のものもある。
【００１８】このＰＴＦＥ分散無電解ニッケルメッキ
は、メッキ速度の高速化が可能で、且つメッキ膜内ＰＴ
ＦＥ分散比率を容易に大きく（３０vol.％以上）できる
という利点がある。また、メッキ時にカソード側にメッ
キ抑制板、補助電極等を設けることにより、メッキ膜厚
をμｍオーダーの精度で均一化することができる。
は、メッキ速度の高速化が可能で、且つメッキ膜内ＰＴ
ＦＥ分散比率を容易に大きく（３０vol.％以上）できる
という利点がある。また、メッキ時にカソード側にメッ
キ抑制板、補助電極等を設けることにより、メッキ膜厚
をμｍオーダーの精度で均一化することができる。
【００１９】なお、撥水膜の膜厚については、薄すぎる
とワイピングに対する耐久性が劣り、厚くしすぎると膜
形成に時間と素材がかかりコストが高くなるので、１〜
１０μｍの範囲で形成するようにすれば、耐久性とコス
トの調和を図ることができる。
とワイピングに対する耐久性が劣り、厚くしすぎると膜
形成に時間と素材がかかりコストが高くなるので、１〜
１０μｍの範囲で形成するようにすれば、耐久性とコス
トの調和を図ることができる。
【００２０】ところで、ＰＴＦＥ分散メッキは、前述し
たようにメッキ時の環境条件やメッキ液の管理状態によ
って、メッキ皮膜中のＰＴＦＥ微粒子の共析量が簡単に
変化するために、常に均一な撥水性を保つことが困難で
ある。そこで、上述したようにしてＰＴＦＥ分散ニッケ
ルメッキを施した後、メッキ皮膜表面にエキシマレーザ
ーを照射する。
たようにメッキ時の環境条件やメッキ液の管理状態によ
って、メッキ皮膜中のＰＴＦＥ微粒子の共析量が簡単に
変化するために、常に均一な撥水性を保つことが困難で
ある。そこで、上述したようにしてＰＴＦＥ分散ニッケ
ルメッキを施した後、メッキ皮膜表面にエキシマレーザ
ーを照射する。
【００２１】エキシマレーザーの発振波長は、紫外域
（例えば発振用ガスがＡｒＦのとき：１９３ｎｍ、Ｋｒ
Ｆのとき：２４８ｎｍ）で、単パルス当りのエネルギー
が大きいため、単純に熱的な溶融蒸発加工だけでなく、
分子結合を切断しながら加工するいわゆるアブリケーシ
ョン加工が可能である。しかし、ＰＴＦＥの結合エネル
ギーは非常に高く、エキシマレーザーのエネルギーでも
分子結合を切断できないため、ＰＴＦＥのアブリケーシ
ョン加工はできない。そのため、ＰＴＦＥ分散ニッケル
メッキにエキシマレーザーを照射した場合、ニッケルの
みが消失してＰＴＦＥの微粒子はそのまま残存すること
になる。したがって、ニッケルメッキ表面にエキシマレ
ーザーを照射することで、メッキ表面にＰＴＦＥ微粒子
をリッチにすることができて、均一な撥水性を有する撥
水膜を得ることができる。
（例えば発振用ガスがＡｒＦのとき：１９３ｎｍ、Ｋｒ
Ｆのとき：２４８ｎｍ）で、単パルス当りのエネルギー
が大きいため、単純に熱的な溶融蒸発加工だけでなく、
分子結合を切断しながら加工するいわゆるアブリケーシ
ョン加工が可能である。しかし、ＰＴＦＥの結合エネル
ギーは非常に高く、エキシマレーザーのエネルギーでも
分子結合を切断できないため、ＰＴＦＥのアブリケーシ
ョン加工はできない。そのため、ＰＴＦＥ分散ニッケル
メッキにエキシマレーザーを照射した場合、ニッケルの
みが消失してＰＴＦＥの微粒子はそのまま残存すること
になる。したがって、ニッケルメッキ表面にエキシマレ
ーザーを照射することで、メッキ表面にＰＴＦＥ微粒子
をリッチにすることができて、均一な撥水性を有する撥
水膜を得ることができる。
【００２２】この場合、エキシマレーザーの照射エネル
ギーの強弱によるＰＴＦＥ分散ニッケルメッキ表面の状
態を確認するため、発振用ガスにＫｒＦ（波長２４８ｎ
ｍ）を用いて、照射エネルギーを７０ｍＪ／ｃｍ2、
１５０ｍＪ／ｃｍ2、２８０ｍＪ／ｃｍ2の３段階に
変化して照射する実験を行なった。
ギーの強弱によるＰＴＦＥ分散ニッケルメッキ表面の状
態を確認するため、発振用ガスにＫｒＦ（波長２４８ｎ
ｍ）を用いて、照射エネルギーを７０ｍＪ／ｃｍ2、
１５０ｍＪ／ｃｍ2、２８０ｍＪ／ｃｍ2の３段階に
変化して照射する実験を行なった。
【００２３】この実験結果によれば、照射エネルギー
を７０ｍＪ／ｃｍ2にしたときには、図６に示すように
エキシマレーザー未照射時の状態（図５）に比べてわず
かにニッケルが消失しているが、それほど顕著な差は見
られなかった。照射エネルギーを１５０ｍＪ／ｃｍ2
としたときには、図７に示すようにエキシマレーザー未
照射時の状態（図５）に比べて、表面のニッケルメッキ
部３３がかなり消失して、ＰＴＦＥ微粒子３２が相当量
露出した。照射エネルギーを２８０ｍＪ／ｃｍ2とし
たときには、図８に示すようにエキシマレーザー未照射
時の状態（図５）に比べて、表面のＰＴＦＥ微粒子３２
が少なくなった。これは、照射エネルギー量が大きすぎ
て、ニッケルが蒸発するときの勢いでＰＴＦＥ微粒子も
吹き飛ばされたものと推測される。
を７０ｍＪ／ｃｍ2にしたときには、図６に示すように
エキシマレーザー未照射時の状態（図５）に比べてわず
かにニッケルが消失しているが、それほど顕著な差は見
られなかった。照射エネルギーを１５０ｍＪ／ｃｍ2
としたときには、図７に示すようにエキシマレーザー未
照射時の状態（図５）に比べて、表面のニッケルメッキ
部３３がかなり消失して、ＰＴＦＥ微粒子３２が相当量
露出した。照射エネルギーを２８０ｍＪ／ｃｍ2とし
たときには、図８に示すようにエキシマレーザー未照射
時の状態（図５）に比べて、表面のＰＴＦＥ微粒子３２
が少なくなった。これは、照射エネルギー量が大きすぎ
て、ニッケルが蒸発するときの勢いでＰＴＦＥ微粒子も
吹き飛ばされたものと推測される。
【００２４】この結果、エキシマレーザーの照射エネル
ギーとしては、１００ｍＪ／ｃｍ2〜２５０ｍＪ／ｃｍ2
の範囲内に設定することで、ニッケルメッキ表面のＰＴ
ＦＥ微粒子をリッチにすることができて、より撥水性に
富む撥水膜を得ることができる。
ギーとしては、１００ｍＪ／ｃｍ2〜２５０ｍＪ／ｃｍ2
の範囲内に設定することで、ニッケルメッキ表面のＰＴ
ＦＥ微粒子をリッチにすることができて、より撥水性に
富む撥水膜を得ることができる。
【００２５】さらに、上述したようにエキシマレーザー
を照射してニッケルを飛ばすことでＰＴＦＥ微粒子を露
出させた状態では、露出しているＰＴＦＥ微粒子がメッ
キ表面に乗っているだけに近い状態であるため、外力に
よってＰＴＦＥ微粒子が取れる可能性がある。
を照射してニッケルを飛ばすことでＰＴＦＥ微粒子を露
出させた状態では、露出しているＰＴＦＥ微粒子がメッ
キ表面に乗っているだけに近い状態であるため、外力に
よってＰＴＦＥ微粒子が取れる可能性がある。
【００２６】そこで、上述したようにエキシマレーザー
を照射した後、ＰＴＦＥ分散ニッケルメッキを３００℃
〜４００℃で３０分〜６０分間程度加熱して、ＰＴＦＥ
微粒子を溶融させることによって、図９に示すようにメ
ッキ表面をＰＴＦＥ微粒子の皮膜３４で完全に覆うこと
ができる。
を照射した後、ＰＴＦＥ分散ニッケルメッキを３００℃
〜４００℃で３０分〜６０分間程度加熱して、ＰＴＦＥ
微粒子を溶融させることによって、図９に示すようにメ
ッキ表面をＰＴＦＥ微粒子の皮膜３４で完全に覆うこと
ができる。
【００２７】このようにして、分散メッキ時の条件に左
右されることなく、インクジェット記録装置のインクの
ように濡れ性の高い液体でも常に安定してはじくことの
できる撥水性の高い強固な撥水膜を得ることができる。
右されることなく、インクジェット記録装置のインクの
ように濡れ性の高い液体でも常に安定してはじくことの
できる撥水性の高い強固な撥水膜を得ることができる。
【００２８】なお、上記各実施例においては、本発明を
アクチュエータ素子として圧電素子を用いるピエゾアク
チュエータ方式のインクジェットヘッドに適用した例に
ついて説明したが、発熱抵抗体を用いるいわゆるバブル
ジェット方式のインクジェットヘッドにも適用すること
ができる。さらに、ノズル形成部材としては加圧液室を
形成する部材と別体にした構造のものに限らず、加圧液
室を形成する部材と一体構造のものにも適用することが
できる。
アクチュエータ素子として圧電素子を用いるピエゾアク
チュエータ方式のインクジェットヘッドに適用した例に
ついて説明したが、発熱抵抗体を用いるいわゆるバブル
ジェット方式のインクジェットヘッドにも適用すること
ができる。さらに、ノズル形成部材としては加圧液室を
形成する部材と別体にした構造のものに限らず、加圧液
室を形成する部材と一体構造のものにも適用することが
できる。
【００２９】さらに、上記実施例においては、ノズル形
成部材としてプレート状のものを用いた例について説明
したが、複数の部材（例えば溝を形成した部材とその溝
を覆う部材）を組合わせてノズル孔を形成するものであ
っても、本発明を同様に適用することができる。
成部材としてプレート状のものを用いた例について説明
したが、複数の部材（例えば溝を形成した部材とその溝
を覆う部材）を組合わせてノズル孔を形成するものであ
っても、本発明を同様に適用することができる。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１のインク
ジェットヘッドの製造方法によれば、ポリテトラフルオ
ロエチレン微粒子を分散させたニッケルメッキ後のメッ
キ表面にエキシマレーザーを照射する構成としたので、
ＰＴＦＥ微粒子を残してニッケルのみを除去することが
でき、メッキ時の条件に左右されることなく常に高い撥
水性を有する撥水膜を形成することができる。
ジェットヘッドの製造方法によれば、ポリテトラフルオ
ロエチレン微粒子を分散させたニッケルメッキ後のメッ
キ表面にエキシマレーザーを照射する構成としたので、
ＰＴＦＥ微粒子を残してニッケルのみを除去することが
でき、メッキ時の条件に左右されることなく常に高い撥
水性を有する撥水膜を形成することができる。
【００３１】請求項２のインクジェットヘッドの製造方
法によれば、上記請求項１のインクジェットヘッドの製
造方法において、エキシマレーザー光の照射エネルギー
を１００ｍＪ／ｃｍ2〜２５０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内に設
定する構成としたので、請求項１の効果に加えて、より
均一で撥水性の高い撥水膜を形成することができる。
法によれば、上記請求項１のインクジェットヘッドの製
造方法において、エキシマレーザー光の照射エネルギー
を１００ｍＪ／ｃｍ2〜２５０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内に設
定する構成としたので、請求項１の効果に加えて、より
均一で撥水性の高い撥水膜を形成することができる。
【００３２】請求項３のインクジェットヘッドによれ
ば、上記請求項２のインクジェットヘッドの製造方法に
おいて、エキシマレーザー光を照射した後、メッキを３
００℃〜４００℃で熱処理する構成としたので、請求項
１及び２の効果に加えて強固な撥水膜を形成することが
できる。
ば、上記請求項２のインクジェットヘッドの製造方法に
おいて、エキシマレーザー光を照射した後、メッキを３
００℃〜４００℃で熱処理する構成としたので、請求項
１及び２の効果に加えて強固な撥水膜を形成することが
できる。
【図１】本発明を適用したインクジェットヘッドの外観
斜視図
斜視図
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う要部拡大断面図
【図３】図１のＢ−Ｂ線に沿う要部拡大断面図
【図４】液室ユニットの製造工程のうちの振動板の製造
工程を説明する工程図
工程を説明する工程図
【図５】ノズル形成部材にＰＴＦＥ分散メッキを施した
状態の模式的断面図
状態の模式的断面図
【図６】図５のメッキ表面にエキシマレーザーを照射し
た後の状態の模式的断面図
た後の状態の模式的断面図
【図７】図５のメッキ表面に他のエネルギーのエキシマ
レーザーを照射した後の状態の模式的断面図
レーザーを照射した後の状態の模式的断面図
【図８】図５のメッキ表面に更に他のエキシマレーザー
を照射した後の状態の模式的断面図
を照射した後の状態の模式的断面図
【図９】図８のメッキに加熱処理を施した後の状態の模
式的断面図
式的断面図
１…アクチュエータユニット、２…液室ユニット、７…
駆動部圧電素子、１２…振動板、１６…ノズル孔、１７
…ノズルプレート、１７ａ…撥水膜、１８…加圧液室、
３１…ノズル形成部材、３２…ＰＴＦＥ微粒子、３３…
ニッケルメッキ部、３４…ＰＴＦＥ皮膜。
駆動部圧電素子、１２…振動板、１６…ノズル孔、１７
…ノズルプレート、１７ａ…撥水膜、１８…加圧液室、
３１…ノズル形成部材、３２…ＰＴＦＥ微粒子、３３…
ニッケルメッキ部、３４…ＰＴＦＥ皮膜。
Claims (3)
- 【請求項１】 インクを吐出するノズル孔を形成するノ
ズル形成部材の吐出面側にポリテトラフルオロエチレン
微粒子を分散させたニッケルメッキによって撥水処理を
施すインクジェットヘッドの製造方法において、メッキ
後のメッキ表面にエキシマレーザーを照射することを特
徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載のインクジェットヘッド
の製造方法において、前記エキシマレーザー光の照射エ
ネルギーを１００ｍＪ／ｃｍ2〜２５０ｍＪ／ｃｍ2の範
囲内に設定することを特徴とするインクジェットヘッド
の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載のインクジェットヘッド
の製造方法において、前記エキシマレーザー光を照射し
た後、前記メッキを３００℃〜４００℃で熱処理するこ
とを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9694696A JPH09277537A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | インクジェットヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9694696A JPH09277537A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | インクジェットヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09277537A true JPH09277537A (ja) | 1997-10-28 |
Family
ID=14178480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9694696A Pending JPH09277537A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | インクジェットヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09277537A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1027993A1 (en) * | 1999-02-12 | 2000-08-16 | Eastman Kodak Company | A mandrel for forming a nozzle plate having a non-wetting surface of uniform thickness and an orifice wall of tapered contour, and method of making the mandrel |
| CN100351085C (zh) * | 2003-06-30 | 2007-11-28 | 兄弟工业株式会社 | 喷墨头及其制造方法和憎水膜形成方法 |
| US7325902B2 (en) | 2003-10-22 | 2008-02-05 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Ink-jet printer head and a manufacturing method thereof |
| WO2019058443A1 (ja) * | 2017-09-20 | 2019-03-28 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
-
1996
- 1996-04-18 JP JP9694696A patent/JPH09277537A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1027993A1 (en) * | 1999-02-12 | 2000-08-16 | Eastman Kodak Company | A mandrel for forming a nozzle plate having a non-wetting surface of uniform thickness and an orifice wall of tapered contour, and method of making the mandrel |
| CN100351085C (zh) * | 2003-06-30 | 2007-11-28 | 兄弟工业株式会社 | 喷墨头及其制造方法和憎水膜形成方法 |
| US7303783B2 (en) | 2003-06-30 | 2007-12-04 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Inkjet head, manufacturing method thereof and method of forming water repellent film |
| US7325902B2 (en) | 2003-10-22 | 2008-02-05 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Ink-jet printer head and a manufacturing method thereof |
| WO2019058443A1 (ja) * | 2017-09-20 | 2019-03-28 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3245193B2 (ja) | インクジェットプリンタの印字ヘッド | |
| JP3179834B2 (ja) | 液体飛翔記録装置 | |
| JP3106136B2 (ja) | マイクロインジェクティングデバイスのノズルプレート装置製造方法 | |
| JPH09277537A (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
| JP3803985B2 (ja) | インク噴射記録ヘッドの製造方法および記録装置 | |
| JP2000015820A (ja) | オリフィスプレートおよび液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP3495218B2 (ja) | ノズル形成部材の製造方法 | |
| JP3222180B2 (ja) | インクジェット記録方法及び記録ヘッド | |
| JPS634955A (ja) | 液体噴射記録ヘツド | |
| JPS62191156A (ja) | 液体噴射記録ヘツド | |
| JP2002001955A (ja) | インクジェットプリンタヘッドおよびその製造方法 | |
| US6637868B2 (en) | Inkjet head and method of manufacturing the same | |
| JPH11147316A (ja) | インクジェット記録ヘッド及びノズル板の製造方法 | |
| JP2002059551A (ja) | インクジェットノズル及びその製造方法 | |
| JP3554149B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP3989248B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
| JP3474368B2 (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法並びにインクジェット記録装置 | |
| JPH0952370A (ja) | インクジェット装置 | |
| JPH106494A (ja) | インクジェットヘッド | |
| JPH10119268A (ja) | インクジェットヘッド | |
| JPH11179921A (ja) | 液体噴射記録ヘッドの表面処理方法 | |
| JP2004001394A (ja) | マルチノズルプレート及び液体噴射装置 | |
| JPH08169113A (ja) | インクジェットヘッド | |
| JPH08323984A (ja) | インクジェット用ノズルプレートの製造方法 | |
| JPH09187944A (ja) | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |