JPH08323984A - インクジェット用ノズルプレートの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 インク滴噴射特性に優れたインクジェット用
ノズルプレートを提供する。 【構成】 ノズルプレート形成部材の表面に親インク性
処理を施した後、液体フォトレジスト３２を塗布し、露
光、現像を行って吐出口周辺部にフォトレジストを用い
たマスキングを形成し、次いで撥インク性処理を施す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、インクジェットヘッド
において用いられるインクジェット用ノズルプレートの
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット記録方式は、記録プロセ
スが非常に単純であることやカラー記録にも適すること
などから注目されており、現在では、記録信号が入力さ
れたときにのみインクを吐出する所謂ドロップオンデマ
ンド（ＤＯＤ）方式が主流になっている。そして、ＤＯ
Ｄ方式の中には、ヒータによる熱エネルギーによってイ
ンク中に発生するバブルを利用する所謂バルブジェット
方式（特公昭６１−５９９１３号等参照）と圧電素子を
用いるピエゾアクチュエータ方式（特公昭６０−８９５
３号公報等参照）がある。

【０００３】ところで、インクジェット記録方式は、上
述のようにヒータ、圧電素子等のエネルギー発生手段
（アクチュエータ）を駆動することによって吐出口から
液滴化したインク（インク滴）を吐出飛翔させて記録を
行うため、吐出口の形状、精度等がインク滴の噴射特性
（インク滴吐出性能）に影響を与えると共に、吐出口を
形成している吐出口形成部材であるノズルプレートの表
面の少なくとも吐出口周辺部の特性がインク滴の噴射特
性に影響を与える。例えば、吐出口形成部材表面の吐出
口周辺部にインクが付着して不均一なインク溜り（所謂
濡れムラ）が発生すると、インク滴の吐出方向が曲げら
れたり、インク滴の大きさにバラツキが生じたり、イン
ク滴の飛翔速度が不安定になる等の不都合が生じること
が知られている。なお、吐出口は、ノズル、ノズル孔、
オリフィス、ノズルオリフィス等とも称されるので、本
明細書では、一応、「吐出口」と称することとし、適宜
その他の称呼を用いることとする。

【０００４】そこで、従来、ノズルプレートの表面の少
なくとも吐出口の周辺部に、特開昭６３−３９６３号公
報、特開平１−４２９３９号公報等に記載されているよ
うに、撥インク性（撥水性や撥油性）処理を施して、イ
ンクがノズルプレート表面の吐出口周辺部に付着するこ
と防止するようにしたもの、あるいは逆に、特開昭５５
−１０７４８１号公報、特開平２−６３８４０号公報等
に記載されているように、親インク性処理（インクに対
して親和性を持つ処理）を施して、インクがノズルプレ
ート表面の吐出口周辺部に均一に付着する、つまり均一
な濡れ性を得るようにしたもの、更に特開平５−１９３
１４１号公報に記載されているように親インク性処理と
撥インク性処理とを組合わせ、吐出口周辺部に親インク
性処理を施し、その他の部分に撥インク性処理を施した
ものなどがある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した吐
出口周辺部に親インク性処理を施し、その他の部分に撥
インク性処理を施したノズルプレートは、ノズルプレー
トの表面全面に親インク性処理を施した後、吐出口周辺
部をドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を使用してマス
キングし、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）微
粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ又は電解ニッケ
ルメッキ（以下「複合メッキ」と称する。）による撥イ
ンク性処理を施すことによって製造することができる。

【０００６】しかしながら、吐出口周辺部の親インク性
処理部分のマスキングにドライフィルムレジスト（ＤＦ
Ｒ）を使用すると、撥インク性処理のための複合メッキ
中に、ＤＦＲが剥離したり、メッキ処理後のＤＦＲ剥離
時に完全に剥離できずに段差として残ってしまうという
課題が生じる。

【０００７】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
であり、インク滴噴射特性に優れたインクジェット用ノ
ズルプレートを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、請求項１のインクジェット用ノズルプレートの製造
方法は、インクを吐出する吐出口周辺部に親インク性領
域を形成し、この親インク性領域の周囲に撥インク領域
を形成したインクジェット用ノズルプレートの製造方法
において、ノズルプレート形成部材の表面に親インク性
処理を施した後、液体フォトレジストを塗布し、露光、
現像を行って前記吐出口周辺部に前記フォトレジストを
用いたマスキングを形成し、次いで撥インク性処理を施
す構成とした。

【０００９】請求項２のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１のノズルプレートの製造方法において、前
記液体フォトレジストの塗布膜厚を３μｍ〜１５μｍの
範囲内にする構成とした。

【００１０】請求項３のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１又は２のノズルプレートの製造方法におい
て、前記液体フォトレジストの粘度を３０ｃＰ〜９００
ｃＰの範囲内にする構成とした。

【００１１】請求項４のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１乃至３のいずれかのノズルプレートの製造
方法において、前記液体フォトレジストをディップコー
ト法で塗布する構成とした。

【００１２】請求項５のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項４のノズルプレートの製造方法において、前
記ノズルプレート形成部材を前記液体フォトレジストに
沈めた後引き上げるときの引き上げ速度を２mm／sec〜
１０mm／secの範囲内にする構成とした。

【００１３】請求項６のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項４又は５のノズルプレートの製造方法におい
て、前記ノズルプレート形成部材を前記液体フォトレジ
ストに沈めた後引き上げるときに、前記ノズルプレート
形成部材の下端部が前記液体フォトレジストの液面から
離れる直前に５sec〜１５sec間引き上げを一時停止した
後引き上げを再開する構成とした。

【００１４】請求項７のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１乃至６のいずれかのノズルプレートの製造
方法において、前記撥インク性処理をポリテトラフルオ
ロエチレン微粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ又
は電解ニッケルメッキで行う構成とした。

【００１５】請求項８のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項７のノズルプレートの製造方法において、前
記ポリテトラフルオロエチレン微粒子を分散させた無電
解ニッケルメッキ又は電解ニッケルメッキの膜厚を２μ
ｍ〜１０μｍの範囲内にする構成とした。

【００１６】

【作用】請求項１のノズルプレートの製造方法は、ノズ
ルプレート形成部材の表面に親インク性処理を施した
後、液体フォトレジストを塗布し、露光、現像を行って
前記吐出口周辺部に前記フォトレジストを用いたマスキ
ングを形成し、次いで撥インク性処理を施す構成とし
て、マスキングに液体フォトレジストを用いたので、撥
インク性処理中のレジストの剥離、撥インク性処理後の
段差の発生を低減することができ、インク滴噴射特性の
優れたインクジェット用ノズルプレートが得られる。

【００１７】請求項２のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１のノズルプレートの製造方法において、液
体フォトレジストの塗布膜厚を３μｍ〜１５μｍの範囲
内にするので、メッキ時の温度変化による膨張収縮も少
なく、剥離等が生じないため、撥インク性処理中のマス
キングをより確実に行うことができる。

【００１８】請求項３のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１又は２のノズルプレートの製造方法におい
て、液体フォトレジストの粘度を３０ｃＰ〜９００ｃＰ
の範囲内にするので、ディップコート法による液体レジ
ストの塗布を行うことができて、フォトレジストの膜厚
管理が容易になり、低コスト、高効率化を図れる。

【００１９】請求項４のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１乃至３のいずれかのノズルプレートの製造
方法において、液体フォトレジストをディップコート法
で塗布するので、低コスト、高効率化を図れる。

【００２０】請求項５のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項４のノズルプレートの製造方法において、ノ
ズルプレート形成部材を液体フォトレジストに沈めた後
引き上げるときの引き上げ速度を２mm／sec〜１０mm／s
ecの範囲内にするので、フォトレジストの膜厚管理が容
易になる。

【００２１】請求項６のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項４又は５のノズルプレートの製造方法におい
て、ノズルプレート形成部材を液体フォトレジストに沈
めた後引き上げるときに、ノズルプレート形成部材の下
端部が液体フォトレジストの液面から離れる直前に５se
c〜１５sec間引き上げを一時停止した後引き上げを再開
するので、ノズルプレート形成部材の下端部でのフォト
レジスト溜りを少なくすることができ、フォトレジスト
の膜厚の均一化を図れる。

【００２２】請求項７のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項１乃至６のいずれかのノズルプレートの製造
方法において、撥インク性処理をポリテトラフルオロエ
チレン微粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ又は電
解ニッケルメッキで行うので、インク液滴に対するノズ
ル部分の濡れ性を一定にすることができて、インク液滴
の噴射方向を安定化できる。

【００２３】請求項８のノズルプレートの製造方法は、
上記請求項７のノズルプレートの製造方法において、ポ
リテトラフルオロエチレン微粒子を分散させた無電解ニ
ッケルメッキ又は電解ニッケルメッキの膜厚を２μｍ〜
１０μｍの範囲内にするので、耐久性に優れた撥インク
性領域を高効率で形成できる。

【００２４】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照して
説明する。図１は本発明を適用したインクジェットヘッ
ドの外観斜視図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿う要部拡大
断面図、図３は図１のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図４は図
１のノズルプレートの製造工程の内のフォトレジスト塗
布工程を説明する工程図、図５は同じくフォトレジスト
剥離工程までの工程図である。

【００２５】このインクジェットヘッドは、アクチュエ
ータユニット１と、このアクチュエータユニット１上に
接合された液室ユニット２とからなる。アクチュエータ
ユニット１は、絶縁基板３上に複数の積層型圧電素子を
列状に配置（列設）してなる２列の圧電素子列４，４及
びこれら２列の圧電素子列４，４の周囲を取り囲むフレ
ーム部材５を接着剤６によって接合している。圧電素子
列４は、インクを液滴化して飛翔させるための駆動パル
スが与えられる複数の圧電素子（これを「駆動部圧電素
子」という。）７，７…と、駆動部圧電素子７，７間に
位置し、駆動パルスが与えられずに単に液室ユニット固
定部材となる複数の圧電素子（これを「固定部圧電素
子」という。）８，８…とを交互に配置したバイピッチ
構造としている。

【００２６】液室ユニット２は、ダイアフラム部１１を
形成した振動板１２上に、加圧液室、共通インク流路等
を形成する感光性樹脂フィルム（ドライフィルムレジス
ト）からなる液室流路形成部材１３を接着し、この液室
流路形成部材１３上に複数のノズル１５を形成したノズ
ルプレート１６を接着してなり、これら振動板１２、液
室流路形成部材１３及びノズルプレート１６によって、
圧電素子列４の各駆動部圧電素子７，７…に対向するダ
イヤフラム部１１を有するそれぞれ略独立した複数の加
圧液室１７を形成し、かつノズル１５，１５…を圧電素
子列４の各駆動部圧電素子７，７…に対向して配列して
いる。そして、この液室ユニット２はその振動板１２が
接着剤１８によってアクチュエータユニット１上に接合
されている。

【００２７】ノズルプレート１６にはインク滴を飛翔さ
せるための微細孔である多数の吐出口であるノズル１５
が形成されており、表面側ではノズル１５の周辺部に親
インク性領域２１を形成し、この親インク性領域２１の
周囲に撥インク領域２２を形成している。

【００２８】このノズルプレート１６の製造方法につい
て説明する。先ず、図４を参照してフォトレジスト塗布
工程について説明する。同図（ａ）に示すように、予め
電鋳法によってノズル１５となる吐出口を形成したノズ
ルプレート形成部材３１の全面に酸などの薬品で表面粗
面化、又はＡｕメッキ、Ａｕスパッタによって親インク
性処理を施した後、ディップコート法によってフォトレ
ジストを塗布するため、このノズルプレート形成部材３
１を容器３３の液体フォトレジスト３２内に浸漬する。

【００２９】ここで、液体フォトレジスト３２として
は、後述する複合メッキの前処理段階においてアルカリ
脱脂、酸洗浄に晒されるため、酸、アルカリに対する耐
久性が必要となることから、耐薬品性の高いネガ型フォ
トレジスト（例えば、東京応化（株）製ＯＭＲ８５又は
ＯＭＲ８３等）を用いている。この種のフォトレジスト
はポジ型フォトレジストに比べて価格も数分の一であっ
てコスト的にも有利である。ただし、耐薬品性に優れた
ポジ型フォトレジスト（例えば、同社製ＰＭＥＲ−Ｐシ
リーズ）を用いることもできる。

【００３０】その後、同図（ｂ）に示すようにノズルプ
レート形成部材３１をフォトレジスト３２内から引き上
げることによって、ノズルプレート形成部材３１の両面
にフォトレジスト３２が塗布されてフォトレジスト膜３
４が形成される。このときのノズルプレート形成部材３
１の引き上げ速度を２mm／sec〜１０mm／secの範囲内に
し、フォトレジスト３２の粘度を３０ｃＰ〜９００ｃＰ
の範囲内にすることによって、膜厚管理が容易になり、
フォトレジスト膜３４の膜厚を３μｍ〜１５μｍの範囲
内にすることが容易にできる。フォトレジスト膜３４の
膜厚がこの範囲内にあれば、複合メッキを行うときに急
激な温度変化による膨張収縮も極めて少なくなって、剥
離等が発生しなくなる。

【００３１】そして、同図（ｃ）に示すようにノズルプ
レート形成部材３１の下端部がフォトレジスト３２の液
面から離れる直前に例えば５〜１５秒間引き上げを一時
停止した後、同図（ｄ）に示すように引き上げを再開す
る。このようにすることによって、ノズルプレート形成
部材３１の下端部でのフォトレジスト溜りを極力少なく
することができて、フォトレジスト膜３４の膜厚の均一
化を図ることができる。

【００３２】このように、液体フォトレジスト３２をデ
ィップコート法で塗布することによって、低コスト、高
効率でフォトレジストの塗布を行うことができる。

【００３３】次に、図５を参照してフォトレジストの露
光、現像から複合メッキ（ＰＴＦＥ分散メッキ）処理、
フォトレジスト剥離までの工程を説明する。同図（ａ）
に示すようにノズル１５となる吐出口３１ａを有するノ
ズルプレート形成部材３１の両面全面には上述のように
してフォトレジスト膜３４が形成されている。

【００３４】そこで、同図（ｂ）に示すようにノズルプ
レート形成部材３１の吐出口３１ａのインク吐出面側で
は、マスク３５によって吐出口３１ａ周辺部分をマスキ
ングした状態で紫外光を照射して露光し、次いで同図
（ｃ）に示すようにインク吐出面と反対面側では全面に
紫外光を照射して露光した後、現像を行って、同図
（ｄ）に示すように吐出口３１ａの周辺部分以外の部分
を露出させ、その他の部分をマスキングする。

【００３５】そこで、このノズルプレート形成部材３１
にＰＴＦＥ分散メッキ処理を施して、ノズルプレート形
成部材３１のフォトレジスト膜３４でマスキングされて
いない部分、すなわち、インク吐出面側の吐出口３１ａ
周辺部分を除く部分にメッキ膜３６を形成して撥インク
性処理をする。

【００３６】複合メッキとしては、例えば、上村工業の
ニムフロンメッキ（無電解）又はメタフロンメッキ（電
解）を用いる。ＰＴＦＥ分散メッキのメッキ膜３６の膜
厚は、インク吐出面側には清浄化の目的で時々ワイピン
グ操作が入るので、ある程度の厚さが必要であるが、他
方、あまり厚すぎると、メッキ処理時間がかかるために
不経済となり、内部応力によるノズルプレートの反りが
発生する。このような観点から、メッキ膜３６の膜厚は
２μｍ〜１０μｍの範囲内に設定することが好ましい。

【００３７】また、メッキ膜３６の膜厚は、フォトレジ
スト膜３４の膜厚より薄くなるように設定する。これ
は、メッキ膜３６の膜厚がフォトレジスト膜３４の膜厚
より厚くなると、フォトレジスト膜３４の上にメッキ膜
３６が乗り上げてしまって、フォトレジスト膜３４の剥
離時に剥離不良を引き起こすおそれがあるからである。

【００３８】以上のようにしてＰＴＦＥ分散メッキを施
した後、同図（ｆ）に示すようにフォトレジスト膜３４
を剥離する。これによって、インク吐出面側で吐出口３
１ａの周辺部分に親インク性処理が施され、その他の部
分に撥インク性処理が施されたノズルプレート形成部材
３１を得ることができ、これをノズルプレート１６とし
て用いる。

【００３９】このように、ノズルプレート形成部材３１
の表面に親インク性処理を施した後、液体フォトレジス
ト３２を塗布し、露光、現像を行って吐出口周辺部にフ
ォトレジストを用いたマスキングを形成し、次いで撥イ
ンク性処理を施すことによって、撥インク性処理中のレ
ジストの剥離、撥インク性処理後の段差の発生を低減す
ることができる。

【００４０】なお、上記実施例においてはアクチュエー
タとして圧電素子を用いるインクジェットヘッドのノズ
ルプレートに本発明を適用したが、アクチュエータとし
て発熱素子を用いるインクジェットヘッドのノズルプレ
ートにも同様に適用することができる。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように請求項１のノズルプ
レートの製造方法によれば、ノズルプレート形成部材の
表面に親インク性処理を施した後、液体フォトレジスト
を塗布し、露光、現像を行って前記吐出口周辺部にフォ
トレジストを用いたマスキングを形成し、次いで撥イン
ク性処理を施す構成として、マスキングに液体フォトレ
ジストを用いたので、撥インク性処理中のレジストの剥
離、撥インク性処理後の段差の発生を低減することがで
きてインク滴噴射特性の優れたインクジェット用ノズル
プレートが得られる。

【００４２】請求項２のノズルプレートの製造方法によ
れば、上記請求項１のノズルプレートの製造方法におい
て、液体フォトレジストの塗布膜厚を３μｍ〜１５μｍ
の範囲内にしたので、メッキ時の温度変化による膨張収
縮も少なく、剥離等が生じないため、撥インク性処理中
のマスキングをより確実に行うことができる。

【００４３】請求項３のノズルプレートの製造方法によ
れば、上記請求項１又は２のノズルプレートの製造方法
において、液体フォトレジストの粘度を３０ｃＰ〜９０
０ｃＰの範囲内にしたので、ディップコート法による液
体レジストの塗布を行うことができて、フォトレジスト
の膜厚管理が容易になり、低コスト、高効率化を図れ
る。

【００４４】請求項４のノズルプレートの製造方法によ
れば、上記請求項１乃至３のいずれかのノズルプレート
の製造方法において、液体フォトレジストをディップコ
ート法で塗布するようにしたので、低コスト、高効率化
を図れる。

【００４５】請求項５のノズルプレートの製造方法によ
れば、上記請求項４のノズルプレートの製造方法におい
て、ノズルプレート形成部材を液体フォトレジストに沈
めた後引き上げるときの引き上げ速度を２mm／sec〜１
０mm／secの範囲内にしたので、フォトレジストの膜厚
管理が容易になる。

【００４６】請求項６のノズルプレートの製造方法によ
れば、上記請求項４又は５のノズルプレートの製造方法
において、ノズルプレート形成部材を液体フォトレジス
トに沈めた後引き上げるときに、ノズルプレート形成部
材の下端部が液体フォトレジストの液面から離れる直前
に５sec〜１５sec間引き上げを一時停止した後引き上げ
を再開するようにしたので、ノズルプレート形成部材の
下端部でのフォトレジスト溜りを少なくすることがで
き、フォトレジストの膜厚の均一化を図れる。

【００４７】請求項７のノズルプレートの製造方法によ
れば、上記請求項１乃至６のいずれかのノズルプレート
の製造方法において、撥インク性処理をポリテトラフル
オロエチレン微粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ
又は電解ニッケルメッキで行うので、インク液滴に対す
るノズル部分の濡れ性を一定にすることができて、イン
ク液滴の噴射方向を安定化できる。

【００４８】請求項８のノズルプレートの製造方法によ
れば、上記請求項７のノズルプレートの製造方法におい
て、ポリテトラフルオロエチレン微粒子を分散させた無
電解ニッケルメッキ又は電解ニッケルメッキの膜厚を２
μｍ〜１０μｍの範囲内にしたので、耐久性に優れた撥
インク性領域を高効率で形成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用したインクジェットヘッドの外観
斜視図

【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う要部拡大断面図

【図３】図１のＢ−Ｂ線に沿う要部拡大断面図

【図４】ノズルプレート製造工程の内、フォトレジスト
塗布工程を説明する工程図

【図５】ノズルプレート製造工程の内、フォトレジスト
の露光から剥離までの工程を説明する工程図

【符号の説明】

１…アクチュエータユニット、２…液室ユニット、１５
…ノズル、１６…ノズルプレート、２１…親インク性領
域、２２…撥インク性領域、３１…ノズルプレート形成
部材、３２…フォトレジスト、３４…フォトレジスト
膜、３６…メッキ膜。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 インクを吐出する吐出口周辺部に親イン
   ク性領域を形成し、この親インク性領域の周囲に撥イン
   ク領域を形成したインクジェット用ノズルプレートの製
   造方法において、ノズルプレート形成部材の表面に親イ
   ンク性処理を施した後、液体フォトレジストを塗布し、
   露光、現像を行って前記吐出口周辺部に前記フォトレジ
   ストを用いたマスキングを形成し、次いで撥インク性処
   理を施すことを特徴とするインクジェット用ノズルプレ
   ートの製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のインクジェット用ノズ
   ルプレートの製造方法において、前記液体フォトレジス
   トの塗布膜厚を３μｍ〜１５μｍの範囲内にすることを
   特徴とするインクジェット用ノズルプレートの製造方
   法。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載のインクジェット
   用ノズルプレートの製造方法において、前記液体フォト
   レジストの粘度を３０ｃＰ〜９００ｃＰの範囲内にする
   ことを特徴とするインクジェット用ノズルプレートの製
   造方法。
4. 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれかに記載のイン
   クジェット用ノズルプレートの製造方法において、前記
   液体フォトレジストをディップコート法で塗布すること
   を特徴とするインクジェット用ノズルプレートの製造方
   法。
5. 【請求項５】 請求項４に記載のインクジェット用ノズ
   ルプレートの製造方法において、前記ノズルプレート形
   成部材を前記液体フォトレジストに沈めた後引き上げる
   ときの引き上げ速度を２mm／sec〜１０mm／secの範囲内
   にすることを特徴とするインクジェット用ノズルプレー
   トの製造方法。
6. 【請求項６】 請求項４又は５に記載のインクジェット
   用ノズルプレートの製造方法において、前記ノズルプレ
   ート形成部材を前記液体フォトレジストに沈めた後引き
   上げるときに、前記ノズルプレート形成部材の下端部が
   前記液体フォトレジストの液面から離れる直前に５sec
   〜１５sec間引き上げを一時停止した後引き上げを再開
   することを特徴とするインクジェット用ノズルプレート
   の製造方法。
7. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれかに記載のイン
   クジェット用ノズルプレートの製造方法において、前記
   撥インク性処理をポリテトラフルオロエチレン微粒子を
   分散させた無電解ニッケルメッキ又は電解ニッケルメッ
   キで行うことを特徴とするインクジェット用ノズルプレ
   ートの製造方法。
8. 【請求項８】 請求項７に記載のインクジェット用ノズ
   ルプレートの製造方法において、前記ポリテトラフルオ
   ロエチレン微粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ又
   は電解ニッケルメッキの膜厚を２μｍ〜１０μｍの範囲
   内にすることを特徴とするインクジェット用ノズルプレ
   ートの製造方法。